專利名稱：液晶顯示設備的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及液晶顯示(LCD)設備，更具體地，涉及橫向電場模式LCD設備，例如平面內切換模式(IPS-mode)LCD設備。
背景技術：
LCD設備可以分成兩種類型第一種類型是，其中LCD設備中的液晶(LC)層的朝向在與其間夾有LC層的基板的表面(基板表面)正交的平面內旋轉；第二種類型是，其中的LC層的朝向在與基板表面平行的平面內旋轉。第一種類型包括扭曲向列模式(TN-mode)LCD設備作為典型例子，而第二種類型包括IPS-mode LCD設備作為典型例子。
在TN-mode LCD設備中，由于LC層具有從與基板表面平行的平面偏離的朝向，因此更大的視角會導致透射光線的偏光角更大的偏離。結果，它使視角變窄。而另一方面，在IPS-mode LCD設備中，由于LC層具有在與基板表面平行的平面中的朝向，因此更大的視角不會導致偏光方向的偏離，因此能取得更寬的視角特性。這導致了近來大量使用橫向電場模式(LEF-mode)LCD設備的趨勢。然而，雖然LEF-modeLCD設備相比于TN-mode LCD設備取得了更寬的視角特性；但公知的，當在斜視方向(slanted viewing direction)上觀看時，LEF-mode LCD設備會產生更大程度的染色或顏色差問題。
總的來說，LCD設備設計來為在與基板表面正交的方向上由LC層所透射的光的RGB原色分量取得幾乎均一的光強。然而，如果入射光的角度(入射角度)偏離了與基板表面正交的方向，則LC層的延遲(retardation)會改變，并且由此會改變透射光的光強。
該延遲由折射指數(shù)各向異性與光程長度的乘積確定，而并不取決于透射光的波長。然而，透射光的RGB分量的光強彼此獨立地改變，由于透射光的光強隨該延遲與透射光波長的比率而變化，從而會導致在透射光的RGB分量間的光強中顯著的變化范圍。這樣，在斜視方向中觀察到的圖像會產生染色，其中透射光的RGB分量的一個或兩個會增強以改變原始的彩色圖像。該染色會降低原始畫面的圖像質量。
專利公開文本JP-3120751B描述了一種LCD設備，其中每個像素包含兩個具有施加到LC層的不同電場方向的子像素區(qū)域。更具體地，在保持子像素區(qū)域間的朝向的對稱關系的同時，LC層的朝向通過不同的電場方向而在子像素區(qū)域間在相反的旋轉方向中旋轉。在該公開文本中表述了，這樣的結構補償了其間的兩個子像素區(qū)域的光學特性以抑制染色。
在上述公開的結構中，只有當灰階電平表示明亮狀態(tài)(bright state)時才會抑制染色，其中在兩個子像素區(qū)域中的LC層的朝向彼此垂直。如果灰階電平表示灰暗狀態(tài)(dark state)或中間狀態(tài)，其中在兩個子像素區(qū)域間的LC層朝向的角度偏離90度，則光學特性的補償就不足，從而就不會將染色抑制到所需的程度。
圖8顯示了在專利公開文本JP-2828073B中描述的LCD設備，其描述了為LCD設備中的RGB像素的彩色濾光片提供不同厚度的技術。在圖8中，RGB像素101R、101G和101B包括具有不同厚度d”R、d”G和d”B的彩色濾光片23R、23G和23B，從而LC層30在RGB像素101R、101G和101B中分別具有不同厚度dR、dG和dB。在LC層30中的dR∶dG∶dB比率設定為等于λR∶λG∶λB，其中假定λR、λG和λB為各個RGB像素的彩色濾光片的代表性波長。代表性波長的每個都從在由RGB像素的各個彩色濾光片23R、23G和23B透過的光譜中具有峰值波長70％的波長范圍中選擇。
在JP-2828073B中描述的LCD設備中RGB彩色濾光片具有不同的厚度，其中dR∶dG∶dB＝λR∶λG∶λB的結構允許延遲與波長的比率在RGB像素間具有充分相同的值，而與相對基板表面的入射角度無關。這抑制了在透射光的RGB分量間光強的變化范圍，從而抑制了在斜視方向所觀察到的圖像染色。
在JP-2828073B所描述的LCD設備中，應當注意的是，無論厚度如何，具有不同厚度的彩色濾光片23R、23G和23B都必須為透射光的RGB分量而具備相同的色度(chromaticity)。這樣，在各個彩色濾光片中混和的色素(pigment)必須考慮到各個彩色濾光片的厚度而調整，以便為RGB分量取得相同的色度。
該色素調整使多種設計工作成為必需，包括吸收光譜的計算、色素濃度的確定、顏料膏的粘性、所得的RGB分量色度的測定、和基于該測定的色度的校正。也就是說，色素調整必須要包括復雜的設計工作并增加了LCD設備的成本。

發(fā)明內容
由于在傳統(tǒng)技術中的上述問題，本發(fā)明的一個目的是提供一種LCD設備，其能抑制斜視方向中所觀察到的圖像中的染色問題，而無論灰階電平如何，并無需復雜的設計工作。
本發(fā)明提供一種液晶顯示(LCD)設備，其包括液晶(LC)層、其間夾有LC層的TFT基板和彩色濾光片基板，LC層由TFT基板以橫向電場模式驅動并限定像素陣列，彩色濾光片基板上安置有為各個像素限定第一到第三原色的第一到第三原色濾光片，其中TFT基板具有相應于像素的第一到第三原色的三種不同厚度；在三種不同厚度間的關系是，三種不同厚度中相應于具有最長波長的第一原色的一個比三種不同厚度中相應于具有中間波長的第二原色的另一個要小，而三種厚度中的該另一個比三種不同厚度中相應于具有最短波長的第三原色的其余的一個要小。
本發(fā)明還提供了一種用來制造液晶顯示(LCD)設備的方法，該液晶顯示設備包括液晶(LC)層、和其間夾有LC層的TFT基板和彩色濾光片基板，該LC層由TFT基板以橫向電場模式驅動并限定了像素陣列，而彩色濾光片基板上安置有為各個像素限定第一到第三原色的第一到第三原色濾光片。該方法包括步驟在TFT基板和彩色濾光片基板中的一個上形成具有均一厚度的透明膜；通過具有相應于原色的不同光學透射因數(shù)的掩模將透明膜曝光；在相應于原色的每一種的不同區(qū)域中對曝光的透明膜顯影以具有不同的厚度。
替代地，曝光步驟可以是，通過掩模將透明膜曝光到具有相應于原色的不同光強的光中。
根據(jù)本發(fā)明，具有相應于像素三原色的不同厚度的透明膜提供了在具有不同原色的各個像素中的LC層的不同厚度，從而無需涉及復雜的設計工作就能抑制LC層的染色。
本發(fā)明的以上和其他的目的、特性和優(yōu)點將從以下參考附圖的描述中變得更加清楚。


圖1是根據(jù)本發(fā)明的第一實施例的LCD設備的截面圖。
圖2是在圖1中所示的TFT基板的頂視圖。
圖3是在對TFT基板中的光敏丙烯酸樹脂膜進行曝光中所使用的光掩模的頂視圖。
圖4是在對TFT基板中的光敏丙烯酸樹脂膜進行曝光中所使用的另一種光掩模的頂視圖。
圖5是在對TFT基板中的光敏丙烯酸樹脂膜進行曝光中所使用的另一種光掩模的頂視圖。
圖6是在對TFT基板中的光敏丙烯酸樹脂膜進行曝光中所使用的另一種光掩膜的頂視圖。
圖7是在根據(jù)本發(fā)明的第二實施例的LCD設備中所使用的TFT基板的頂視圖。
圖8是在公開文本中所描述的傳統(tǒng)的LCD設備的截面圖。
具體實施例方式
現(xiàn)在，將參考附圖更具體地描述本發(fā)明，其中在附圖中相同的組成元件用相同的參考數(shù)字表示。
圖1顯示了根據(jù)本發(fā)明的第一實施例的LCD設備。用數(shù)字100指示的LCD設備為有源矩陣全色透射式LCD設備，在發(fā)射白光45的背光源前布置有RGB像素陣列，該RGB像素陣列通過使用像素的光轉換功能而分別透過入射光的RGB分量。
LCD設備100包括LC層30，布置在LC層30的后側或光入射側的TFT基板10，和布置在LC層30的前側或光射出側的彩色濾光片基板20。TFT基板10包括包括成組的RGB像素101R、101G、101B的RGB像素101的陣列，和其中的每個均與像素101中相應的一個關聯(lián)的薄膜晶體管(TFT，在圖中未示出)陣列。彩色濾光片基板20上安置有相應于RGB像素101R、101G、101B的彩色濾光片23R、23G、23B。在陣列中的像素101形成多個組，其中每組都包括RGB像素101R、101G和101B。每個像素101都被光屏蔽區(qū)域102的相應部分所環(huán)繞。
TFT基板10包括玻璃基板體11，其上安置有多條掃描線(未示出)、多條公共線(未示出)、和覆蓋掃描線和公共線的氮化硅膜(未示出)。在氮化硅膜上，延伸多條數(shù)據(jù)線12用于像素101的每列。掃描線、公共線和數(shù)據(jù)線12在由TFT基板10的光屏蔽掩模102所覆蓋的區(qū)域(掩模區(qū)域)中延伸。氮化硅所構成的鈍化膜13覆蓋在氮化硅膜上的數(shù)據(jù)線12。鈍化膜13具有保護掃描線、公共線、數(shù)據(jù)線12等的功能。
在鈍化膜13上形成用如丙烯酸樹脂所構成的有機透明膜14，在其上的每個像素101中形成由透明導體所構成的像素電極15和公共電極16。LCD設備100控制在像素電極15和公共電極16之間的電壓以產生施加到LC層30的各個部分的橫向電場。公共線16具有比數(shù)據(jù)線12的寬度更大的寬度，并且為屏蔽由數(shù)據(jù)線12所產生的電場而與數(shù)據(jù)線12重疊。有機透明膜14具有足以降低在數(shù)據(jù)線12和公共電極16之間形成的寄生電容的相對大的厚度.
彩色濾光片基板20包括玻璃基板體21，其上形成有黑色矩陣22以構成光屏蔽區(qū)域102，用來環(huán)繞和分隔像素101。彩色濾光片23R、23G、23B形成在黑色矩陣22所暴露出的玻璃基板體21以及黑色矩陣22的一部分上。保護涂層膜(overcoat film)24覆蓋彩色濾光片22R、22G、22B。
配向膜41覆蓋了與LC層30接觸的TFT基板10的表面。在B像素101B附近的光屏蔽區(qū)域102中，在與LC層30接觸的彩色濾光片基板20上形成有多個柱狀隔離物(未示出)。配向膜42覆蓋包括柱狀隔離物的彩色濾光片基板20。柱狀隔離物的頂端與TFT基板10的表面接觸以限定在TFT基板10和彩色濾光片基板20間的固定間隙。配向膜41、42預先在彼此平行的方向上摩擦。
為了以透射模式操作LCD設備100，將白光45入射到LCD設備100上。偏光膜43和44分別形成在TFT基板10的光入射表面和彩色濾光片基板20的光射出表面，并以彼此正交偏振(crossed nicols)布置。在TFT基板10上的偏光膜43具有與LC層30的初始朝向對準的吸收軸。
在本實施例的LCD設備100中，對于在RGB像素101R、101G和101B中的LC層30的厚度dR、dG、dB和RGB彩色濾光片23R、23G、23B的代表性波長λR、λG、λB，存在以下的關系dR∶dG∶dB＝λR∶λG∶λB彩色濾光片23R、23G、23B的代表性波長λR、λG、λB中的每個從由彩色濾光片23R、23G、23B透射的光的相應分量的波長70％或更大的波長范圍中選擇。此外，在RGB像素101R、101G和101B中，LC層30的厚度dR、dG、dB和有機透明膜14的厚度dR’、dG’、dB’之和是恒定的，因此存在以下關系dR＜dG＜dB。
在以上實施例的一個實例中，RGB彩色濾光片23R、23G、23B的代表性波長λR、λG、λB確定為λR＝610nm、λG＝550nm、λB＝460nm。基于比率λR∶λG∶λB，在RGB像素中的LC層30的厚度確定為dR＝3.3μm、dG＝3.0μm、dB＝2.5μm，基于其，確定RGB像素中有機透明膜14的厚度dR’、dG’、dB’為dR’＝1.2μm、dG’＝1.5μm、dB’＝2.0μm。
在本實施例中的LC層30包括具有0.100的折射指數(shù)各向異性(Δn)和為10的介電指數(shù)各向異性(Δε)的LC材料。在光屏蔽區(qū)域102中形成的有機透明膜14具有例如等于在G像素101G中的有機透明膜14的厚度dG’的厚度。
圖2顯示了圖1中的TFT基板10以及LC層30的初始朝向，其相應于在圖2中沿線I-I截取的截面圖。每條掃描線51和每條公共線52沿像素101的兩個相鄰行間的像素101的行方向延伸。每條數(shù)據(jù)線12沿像素101的兩個相鄰列間的像素101的列方向延伸。
在每條掃描線51和每條數(shù)據(jù)線12間的相交處附近，為驅動相應的像素101而提供TFT 53。TFT 53包括源電極54、漏電極55和由掃描線51的部分所構成的柵電極。源電極54直接連接到數(shù)據(jù)線12，而漏電極55通過將插塞填充到分別形成在有機透明膜14和鈍化膜13中的通孔56、57中而連接到上覆的像素電極15。
公共線52通過將插塞填充到分別形成在有機透明膜14和鈍化膜13中的通孔58、59而連接到上覆的公共電極16。像素電極15和公共電極16為梳齒型的，其中像素電極15的梳齒與公共電極16的梳齒平行且交替地在像素列方向上延伸。
配向膜41和42都具有摩擦方向32，根據(jù)其來校準在LC層30中的LC分子的初始朝向。該摩擦方向32與像素電極15和公共電極16的梳齒的延伸方向偏離5到25度。
在像素電極15和公共電極16間沒有施加電壓的情況下，在LC層30中的LC分子31具有與在TFT基板10上的偏光膜41的吸收軸平行的朝向，從而入射到并穿過TFT基板10的光不會穿透彩色濾光片基板20。
在像素電極15和公共電極16間由于TFT 53的導通而施加有電壓的情況下，LC層30施加有橫向電場，從而LC分子31在與基板表面平行的平面中旋轉。入射到并穿過TFT基板10的光穿透LC層30，并由于LC層30的雙折射而穿過彩色濾光片基板20。施加的電壓的控制控制了LC分子31的旋轉角度，從而控制了透射光的光強。
在本實施例的LCD設備中，由于等式dR∶dG∶dB＝λR∶λG∶λB，因此LC層30的延遲與波長的比率對于透射光的RGB分量來說是充分保持恒定的，而無論相對于基板表面的入射角度如何。這樣，光強就在取決于相對于基板表面的入射角度的RGB分量間以均一量變化，從而抑制了在斜視角度中觀察到的圖像的染色或顏色變化。在全色RGBLCD設備100中對染色的抑制改善了LCD設備的圖像質量，并在表現(xiàn)出顏色的輕微漸變的同時再現(xiàn)了原始畫面。
在本實施例的LCD設備中，基于以上等式的有機透明膜14的厚度滿足不等式dR’＜dG’＜dB’，從而使得彩色濾光片23R、23G、23B具有均一的厚度。這樣，不需要色素濃度的控制，從而排除了為使用彩色濾光片23R、23G、23B的不同厚度的復雜的設計。
在本實施例的LCD設備100中，排除色素濃度的控制允許更容易地采用LC層30的厚度設計改變。例如，如果在作為參考厚度使用的G像素中的LC層10的厚度變?yōu)?μm或2μm，則有機透明膜14的厚度可以很容易地確定而無需額外的設計工作。
彩色濾光片23R、23G、23B的代表性波長λR、λG、λB并不限于在以上的實施例中所表述的610nm、550nm、460nm，而可以根據(jù)需要選擇，只要所選擇的代表性波長具有由各個彩色濾色片所透過的光的峰值波長的70％或更長的波長就行。LC層30的厚度dR、dG、dB并不限于以上在實施例中所使用的值，而可以根據(jù)需要選擇，只要其間的比率對應各個波長之間的比率就行。LC層30的厚度dR、dG、dB間的比率并不需要等于波長λR、λG、λB間的比率，其中也可以使用dR＞dG＞dB的結構，以在一定程度上獲取本發(fā)明的益處。
現(xiàn)在，將在以下描述用于制造圖1的LCD設備100的方法。首先準備好玻璃基板體11，并在其上通過濺射法沉積金屬膜。接著使用公知的光刻和蝕刻技術對該金屬膜構圖，以形成掃描線和公共線。金屬膜可以由例如鉻構成。
之后，使用等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)技術，連續(xù)地沉積出400nm厚度的氮化硅膜、200nm厚度的無摻雜非晶硅膜和30nm厚度的n型非晶硅膜。接著進行干刻蝕處理以對無摻雜非晶硅膜和n型非晶硅膜構圖，從而形成數(shù)據(jù)線12。接著在數(shù)據(jù)線12和氮化硅膜上沉積200nm厚度的鈍化膜13，然后通過使用涂覆技術在鈍化膜13上形成具有均一厚度的光敏丙烯酸樹脂膜14。
隨后，通過使用光掩模將光敏丙烯酸樹脂膜14曝光，并顯影。圖3顯示了用來為相應于圖2中所示的像素的部分曝光光敏丙烯酸樹脂所使用的光掩模。光掩模60包括用來曝光通孔56、58部分的第一圖案61，用來曝光R和G像素101R、101G區(qū)域的第二圖案62R、62G，和用來曝光光屏蔽區(qū)域102的第三圖案63。光掩模60還具有相應于B像素101B的光屏蔽圖案64。
第一圖案61具有100％的光學透射比，而用于R和G像素的第二圖案62R、62G的光學透射比TR、TG為TR＞TG。第三圖案63具有與用于G像素的第二圖案62G的光學透射比相等的光學透射比。
在光敏丙烯酸樹脂膜的曝光和顯影中，曝光量越大，則根據(jù)顯影液提供的樹脂膜的溶解速度就越高。也就是說，在圖3中所示的光掩模60，在光掩模60中較高光學透射比的區(qū)域中提供的樹脂膜厚度較大，而在較低光學透射比的區(qū)域中的厚度較小。這樣，所得到的RGB像素中的有機透明膜14的厚度dR’、dG’、dB’為dR’＜dG’＜dB’，并且在光屏蔽區(qū)域102中的有機透明膜14的厚度等于在G像素101G中的有機透明膜14的厚度dG’。
使用第一圖案61來為通孔曝光允許光敏丙烯酸樹脂膜的整個厚度形成樹脂膜中的通孔56、58。相應于密封樹脂區(qū)域和外部區(qū)域的光敏丙烯酸樹脂膜的部分也從整個厚度中除去。隨后對光敏丙烯酸樹脂的烘焙處理提供了有機透明膜的最終結構。
在對光敏丙烯酸樹脂膜的涂覆和曝光步驟中，設計在第二圖案62R、62B中涂層膜的厚度、曝光的強度和光掩模的光學透射比，使得最終的有機透明膜14在RGB像素中具有厚度dR’＝1.2μm、dG’＝1.5μm、dB’＝2.0μm。用于有機透明膜14的材料并不限于光敏丙烯酸樹脂，也可以是光敏聚酰亞胺或其他具有較高光學透射比和適當?shù)墓饷粜缘牟牧稀?br> 隨后，進行干刻蝕處理來去除從通孔56、58的底部暴露出的鈍化膜13的部分，從而形成通孔57、59，其藉此暴露出漏電極和公共線的部分。接著，在填充通孔56到59的同時在有機透明膜14上形成ITO(氧化銦錫)膜。接著，對ITO膜構圖，從而得到連接到漏電極和公共線的插塞以及在插塞的頂部形成的像素電極15和公共電極16，從而完成TFT基板10的結構。
接著，在與彩色濾光片基板20相對的TFT基板10上形成配向膜41，并對其沿特定的方向進行摩擦處理。彩色濾光片基板20使用公知的處理來制造，并在與TFT基板10相對的彩色濾光片基板20的表面上形成柱狀隔離物。隨后，在包括了柱狀隔離物的整個表面上形成配向膜42，并對其在特定的方向上進行摩擦處理。
將TFT基板10和彩色濾光片基板20重疊在一起，使得在其間形成由柱狀隔離物所限定的間隙，配向膜41、42夾在TFT基板10和彩色濾光片基板20之間。兩個基板10、20的外圍密封，隨后通過注入口在間隙中注入LC并密封該注入口。
接著，將偏光膜43、44粘合在TFT基板10的光入射側和彩色濾光片基板20的光射出側。在TFT基板10上的偏光膜43具有與LC分子31的初始朝向對準的光學吸收軸，并且偏光膜43、44的偏光軸彼此正交偏振。驅動器IC和信號處理板區(qū)域附著在LCD設備100上，從而得到LCD設備100的最終結構。
在用來制造LCD設備100的處理中，通過為滿足關系TR＞TG＞TB的RGB像素使用具有光學透射比TR、TG、TB的光掩模來對光敏丙烯酸樹脂膜曝光，以簡單的處理提供了具有滿足關系dR’＜dG’＜dB’的厚度dR’、dG’、dB’的有機透明膜。
在以上實施例的替換實施例中，在保護涂層膜24可以提供具有滿足關系dR’＜dG’＜dB’的厚度dR’、dG’、dB’的另一種膜。在這種情況下，該另一種膜應當具有更大的厚度，以便得到接近代表性波長間的比率λR∶λG∶λB的厚度間的比率dR∶dG∶dB。有機透明膜14一般具有在TFT基板10上的膜中最大的厚度。因此，更優(yōu)選地調整有機透明膜14的厚度。
圖4到6顯示了用來制造圖1的LCD設備的另一種處理中用于曝光光敏丙烯酸樹脂膜的光掩模。圖4到6中所示的光掩模部分相應于圖2中所示的區(qū)域。在圖4到6中所示的光掩模70到72包括圖案開口73到75，它們具有100％的光學透射比并形成在具有0％的光學透射比的光屏蔽區(qū)域76中。
為了曝光光敏丙烯酸樹脂膜，首先使用圖4中所示的光掩模70來暴露出穿透有機透明膜14的通孔56、58的區(qū)域。接著，使用圖5中所示的光掩模71來在相對于光掩模71移動TFT基板的同時曝光R像素101R區(qū)域，然后是G像素101G區(qū)域。在該曝光中，R像素101R的區(qū)域曝露到具有比曝光G像素101G區(qū)域的光的光強IG要高的光強IR的光中。也就是說，光強的關系是IR＞IG。該曝光在有機透明膜中提供的厚度是dB＞dG＞dR。
隨后，使用在圖6中所示的光掩模72來曝光光屏蔽區(qū)域102。在該曝光中的光強與用來曝光G像素101G的光的光強相等。這樣，在光屏蔽區(qū)域102中的有機透明膜14具有與在G像素101G中的有機透明膜14的厚度dG’相等的厚度。
圖7顯示了在根據(jù)本發(fā)明的第二實施例的LCD設備中的TFT基板。TFT基板17包括具有摩擦方向33的配向膜41、42，和包括初始朝向與掃描線51和公共線52的延伸方向正交的LC分子31的LC層。像素電極15和公共電極16具有沿與摩擦方向33輕微偏離的方向延伸的梳齒。此外，梳齒關于布置在TFT 53附近的第一半區(qū)(第一子像素區(qū)域)103和遠離TFT 53布置的第二半區(qū)(第二子像素區(qū)域)104之間的邊界對稱。
在第二實施例的LCD設備的結構中，當在像素電極15和公共電極16之間施加電壓時，LC分子31在第一子像素區(qū)域103和第二子像素區(qū)域104之間在相反的旋轉方向上旋轉。相反的旋轉方向補償了在第一子像素區(qū)域103和第二子像素區(qū)域104之間的LC層的光學特性，從而在灰階電平的明亮狀態(tài)下顯示時，能抑制在斜視方向上所觀察到的圖像的染色。除了在本實施例中的像素101和光屏蔽區(qū)域102的平面形狀與第一實施例中的不同外，本實施例的LCD設備能使用類似于形成第一實施例的LCD設備100的處理方法來制造。
在第一和第二實施例中，具有相應于像素的三原色的不同厚度的有機透明膜在各個具有不同原色的像素中提供了不同的LC層厚度，從而抑制了LC層的染色而無需像傳統(tǒng)技術一樣需要復雜的設計工作。
雖然在本發(fā)明中優(yōu)選地是dR∶dG∶dBλR∶λG∶λB，但其中dR＞dG＞dB的結構也可以提供本發(fā)明的益處。優(yōu)選地，dR+dR’dG+dG’dB+dB’，從而可以使彩色濾光片23R、23G、23B具有均一的厚度。三原色系統(tǒng)也可以是不同于紅、綠和藍的其他顏色系統(tǒng)。
由于上述的實施例僅僅是示例性地描述，因此本發(fā)明并不限于以上的實施例，本領域的技術人員可以在不背離本發(fā)明范圍的情況下輕易地作出修改或變更。
權利要求
1.一種液晶顯示(LCD)設備，其包括液晶(LC)層，和其間夾有所述LC層的TFT基板和彩色濾光片基板，所述LC層由所述TFT基板以橫向電場模式驅動并限定像素陣列，所述彩色濾光片基板上安置有為各個所述像素限定第一到第三原色的第一到第三原色濾光片，其中所述TFT基板具有相應于所述像素的所述第一到第三原色的三種不同厚度；和在所述三種不同厚度間的關系是，所述三種不同厚度中相應于具有最長波長的所述第一原色的一個比所述三種不同厚度中相應于具有中間波長的所述第二原色的另一個要小，而所述的三種厚度中的該另一個比所述三種不同厚度中相應于具有最短波長的所述第三原色的其余一個要小。
2.根據(jù)權利要求1的LCD設備，其中所述三種不同厚度由所述TFT基板上形成的分別相應于所述像素的所述第一到第三原色的具有第一到第三厚度dR’、dG’、dB’的透明膜產生；并滿足關系dR’＜dG’＜dB’。
3.根據(jù)權利要求2的LCD設備，其中所述LC層具有分別相應于所述像素的所述第一到第三原色的第一到第三厚度dR、dG、dB，并滿足以下關系dR∶dG∶dBλR∶λG∶λB給定的λR、λG和λB分別表示不小于由所述第一到第三彩色濾光片透過的光譜中峰值波長的70％的波長。
4.根據(jù)權利要求3的LCD設備，其中滿足以下關系dR+dR’dG+dG’dB+dB’。
5.根據(jù)權利要求4的LCD設備，其中所述透明膜由有機材料構成。
6.根據(jù)權利要求4的LCD設備，其中向所述像素施加公共電勢的公共電極線與將像素數(shù)據(jù)信號提供給所述像素的列的數(shù)據(jù)線重疊。
7.根據(jù)權利要求1的LCD設備，其中，所述像素中的每一個包括對所述LC層中的LC分子具有相同的初始朝向方向的第一和第二子像素區(qū)域，并且當施加橫向電場時，所述LC分子在所述第一子像素區(qū)域和所述第二子像素區(qū)域間沿相反的旋轉方向旋轉。
8.根據(jù)權利要求1的LCD設備，其中所述三原色包括紅、綠和藍色。
9.一種用來制造液晶顯示(LCD)設備的方法，其中該液晶顯示設備包括液晶(LC)層，和其間夾有所述LC層的TFT基板和彩色濾光片基板，所述LC層由所述TFT基板以橫向電場模式驅動并限定像素陣列，所述彩色濾光片基板上安置有為各個所述像素限定第一到第三原色的第一到第三原色濾光片，所述方法包括步驟在所述TFT基板和所述彩色濾光片基板中的一個上形成具有均一厚度的透明膜；通過具有相應于所述原色的不同光學透射因數(shù)的掩模將所述透明膜曝光；和顯影所述曝光的透明膜，以在相應于所述三原色的每一種的不同區(qū)域中形成三種不同厚度。
10.一種用來制造液晶顯示(LCD)設備的方法，其中該液晶顯示設備包括液晶(LC)層，和其間夾有所述LC層的TFT基板和彩色濾光片基板，所述LC層由所述TFT基板以橫向電場模式驅動并限定像素陣列，所述彩色濾光片基板上安置有為各個所述像素限定第一到第三原色的第一到第三原色濾光片，所述方法包括步驟在所述TFT基板和所述彩色濾光片基板中的一個上形成具有均一厚度的透明膜；通過掩膜將所述透明膜曝光到具有相應于所述原色的不同光強的光中；和顯影所述曝光的透明膜，以在相應于所述三原色的不同區(qū)域中形成三種不同厚度。
全文摘要
一種全色橫向電場LCD設備，其具有有機透明膜，該有機透明膜為具有RGB顏色的像素而具有三種不同厚度。有機透明膜的厚度d
文檔編號G03F7/20GK1896855SQ200610105840
公開日2007年1月17日 申請日期2006年7月13日 優(yōu)先權日2005年7月13日
發(fā)明者西田真一 申請人:Nec液晶技術株式會社