專利名稱：液晶顯示面板的制造裝置及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及液晶顯示面板的制造裝置及其制造方法，尤其涉及滴注貼合生產(chǎn)線上的液晶顯示面板的制造裝置及其制造方法。
背景技術(shù)：
對(duì)AV設(shè)備及OA設(shè)備的顯示裝置而言，由于液晶顯示裝置具有體積薄、重量輕及低電耗等長(zhǎng)處，因而得到廣泛應(yīng)用。該液晶顯示裝置由在矩陣狀地形成有TFT(Thin Film Transistor)等開(kāi)關(guān)元件的一方基板(以下稱陣列基板)與形成有濾色器(CF)及黑底(BM)等的另一方基板(以下稱CF基板)之間夾持液晶而成的液晶顯示面板、以及對(duì)該液晶顯示面板進(jìn)行照明的背燈單元等構(gòu)成，利用在液晶顯示面板的至少一方基板上設(shè)置的電極所涉及的電場(chǎng)，來(lái)控制液晶分子的取向方向，改變來(lái)自背燈單元的背投光透過(guò)率來(lái)顯示信息。
該液晶顯示面板的制造工序由下列工序等組成摩擦工序，其用于在陣列基板及CF基板的表面，利用印刷裝置等來(lái)涂布成為取向膜的材料的聚酰亞胺溶液，在燒結(jié)后，用卷繞于旋轉(zhuǎn)金屬輥上的拋光布等在一定方向擦拭取向膜表面，從而進(jìn)行摩擦處理；洗凈·干燥工序，其用于除去拋光布的纖維屑及取向膜的碎屑等摩擦處理的殘留物；密封描繪/Ag涂布工序，其利用分配描繪法等，在一方基板上描繪用于密封液晶的密封材料，并涂布Ag；隔離子撒布/粘著工序，其用于在另一方基板上撒布、粘著聚合物珠粒及硅珠粒等隔離子；液晶滴注工序，其用于在描繪有密封材料的基板上滴注液晶；以及貼合工序，其用于邊貼合、加壓兩個(gè)基板，邊使密封材料固化。
圖7簡(jiǎn)略表示ODF(One-Drop Fill滴注貼合)生產(chǎn)線的構(gòu)成，在ODF生產(chǎn)線中配置有用于執(zhí)行所述密封描繪/Ag涂布工序、隔離子撒布/粘著工序、液晶滴注工序及貼合工序的密封/Ag分配裝置、液晶滴注分配裝置、隔離子撒布/檢查裝置、隔離子粘著裝置、貼合裝置等各種裝置；以及用于從規(guī)定的裝置向其它裝置運(yùn)送陣列基板及CF基板的裝置運(yùn)送部、容納等待各種裝置處理的陣列基板及CF基板的緩沖部等。
在所述液晶顯示面板中，為提高顯示質(zhì)量及合格率，除去工序氛圍氣內(nèi)的污染物質(zhì)是重要的，因此，可采用比如下列方法在進(jìn)行摩擦洗凈·干燥工序后的各工序處理的裝置、裝置運(yùn)送部、緩沖部中，設(shè)置用于除去工序氛圍氣內(nèi)的污染物質(zhì)的HEPA(High EfficiencyParticulate Air)過(guò)濾器的方法；為避免污染而用惰性氣體在部分裝置內(nèi)進(jìn)行置換的方法等。比如，在特開(kāi)2001-242471號(hào)公報(bào)中，便公開(kāi)了一種具有可由用惰性氣體置換后的氛圍氣來(lái)保持的處理室的滴注貼合裝置。
專利文獻(xiàn)1特開(kāi)2001-242471號(hào)公報(bào)(第5-8頁(yè)，圖1)發(fā)明內(nèi)容在所述的現(xiàn)有ODF生產(chǎn)線中，因基板表面的污染影響，而頻繁發(fā)生斑點(diǎn)、不勻及氣泡等面板內(nèi)部不良，尤其是，當(dāng)?shù)却幚淼幕逋r(shí)，面板內(nèi)部不良的發(fā)生數(shù)量便增大，這是其問(wèn)題。以下參照?qǐng)D8至圖11，來(lái)具體說(shuō)明這一問(wèn)題。
圖8是表示氣泡發(fā)生率與基板放置時(shí)間的關(guān)系的圖，從中可看出，隨著基板放置時(shí)間的延長(zhǎng)，即隨著基板表面在雜質(zhì)中的暴露時(shí)間的延長(zhǎng)，基板貼合時(shí)所發(fā)生的面板內(nèi)氣泡便增加。還有，圖9是表示基板表面的接觸角增加量與基板放置時(shí)間的關(guān)系的圖，從中可看出，隨著基板放置時(shí)間的延長(zhǎng)，基板表面上的液晶滴的接觸角便增加，即玻璃基板的親水性降低，涂布性惡化。還有，圖10及圖11分別是表示基板表面部的正離子污染量或負(fù)離子污染量與基板放置時(shí)間的關(guān)系的圖，從中可看出，隨著基板放置時(shí)間的延長(zhǎng)，正離子量及負(fù)離子量均會(huì)增加。
對(duì)此，如上所述，盡管可以采用在進(jìn)行摩擦洗凈·干燥工序之后的各工序的處理的裝置、裝置運(yùn)送部及緩沖部中設(shè)置HEPA過(guò)濾器、或者在部分裝置內(nèi)用惰性氣體進(jìn)行置換等方法，但即使在設(shè)置了HEPA過(guò)濾器的情況下，也不能可靠地排除ODF生產(chǎn)線的污染物質(zhì)，因而不能持續(xù)維持清浄的基板表面狀態(tài)，此外，在部分裝置內(nèi)用惰性氣體進(jìn)行置換的情況下，即使能避免該裝置內(nèi)的污染，也無(wú)法避免其它裝置內(nèi)、基板運(yùn)送中等的污染。
本發(fā)明是鑒于所述問(wèn)題點(diǎn)而提出的，其主要目的在于，提供一種能可靠地除去工序氛圍氣內(nèi)的污染物質(zhì)，抑制顯示不良的發(fā)生，從而提高液晶顯示面板的顯示質(zhì)量及合格率的液晶顯示面板的制造裝置及其制造方法。
為達(dá)到所述目的，本發(fā)明是一種液晶顯示面板的制造裝置，進(jìn)行向?qū)嵤┝四Σ撂幚淼囊粚?duì)基板中的一方滴注液晶，用密封材料貼合所述一對(duì)基板的處理，其中，在進(jìn)行在所述摩擦處理后的洗凈·干燥之后所述一對(duì)基板貼合工序之前的各工序的處理的裝置、運(yùn)送所述基板的運(yùn)送部以及容納所述基板的緩沖部中的至少一個(gè)上，設(shè)置有氮清除單元或化學(xué)過(guò)濾單元中的至少一方。
本發(fā)明中優(yōu)選的是，所述氮清除單元將所述裝置內(nèi)部、所述運(yùn)送部?jī)?nèi)部或所述緩沖部?jī)?nèi)部的殘存氧濃度控制到約20％及以下。
還有，本發(fā)明中，所述化學(xué)過(guò)濾單元可具有除去使所述基板表面上的液晶滴的接觸角增大的有機(jī)物的功能。
還有，本發(fā)明是一種液晶顯示面板的制造方法，向?qū)嵤┝四Σ撂幚淼囊粚?duì)基板中的一方滴注液晶，用密封材料貼合所述一對(duì)基板，其中，在進(jìn)行在所述摩擦處理后的洗凈·干燥之后所述一對(duì)基板貼合工序之前的各工序的處理的裝置、運(yùn)送所述基板的運(yùn)送部以及容納所述基板的緩沖部中的至少一個(gè)上，設(shè)置氮清除單元或化學(xué)過(guò)濾單元中的至少一方，從而維持所述基板表面的潔凈度，而且，對(duì)所述基板表面上的液晶滴的接觸角或所述基板表面上殘存的雜質(zhì)的濃度進(jìn)行測(cè)定，基于所述接觸角或所述雜質(zhì)濃度，來(lái)確認(rèn)所述基板表面的潔凈度。
本發(fā)明中可構(gòu)成為，在將要貼合所述一對(duì)基板之前，進(jìn)行所述接觸角的測(cè)定，優(yōu)選的是，在所述接觸角為約13度及以下的情況下，執(zhí)行下道工序的處理。
還有，本發(fā)明中可構(gòu)成為，在對(duì)一方基板描繪所述密封材料之后，對(duì)另一方基板撒布/粘著隔離子之后，進(jìn)行所述雜質(zhì)濃度的測(cè)定，優(yōu)選的是，在所述基板表面上存在的正離子及負(fù)離子的總離子量為約1ng/cm2及以下的情況下，或者所述基板表面上存在的有機(jī)物量為約0.1ng/cm2及以下的情況下，執(zhí)行下道工序的處理。
這樣，本發(fā)明通過(guò)所述構(gòu)成，可以用氮清除單元或化學(xué)過(guò)濾單元來(lái)可靠地除去工序氛圍氣內(nèi)的污染物質(zhì)，抑制顯示不良的發(fā)生，從而可提高液晶顯示面板的顯示質(zhì)量及合格率。
根據(jù)本發(fā)明的液晶顯示面板的制造裝置及其制造方法，可以充分排除ODF生產(chǎn)線內(nèi)的污染物質(zhì)，減少因基板表面污染的影響而頻繁發(fā)生的斑點(diǎn)、不勻及氣泡等面板內(nèi)部不良，以高合格率來(lái)制造顯示質(zhì)量高的液晶顯示面板。
其理由在于，在摩擦洗凈·干燥后的ODF生產(chǎn)線的進(jìn)行各工序的處理的裝置、用于運(yùn)送基板的裝置運(yùn)送部及用于容納基板的緩沖部中的至少一個(gè)上，設(shè)置氮清除單元或化學(xué)過(guò)濾單元中的至少一方，從而維持了基板表面的潔凈度。還在于，是在ODF生產(chǎn)線的規(guī)定工序之后，測(cè)定接觸角或雜質(zhì)濃度，基于接觸角或雜質(zhì)濃度，來(lái)確認(rèn)基板表面的潔凈度。


圖1是簡(jiǎn)單表示本發(fā)明第1實(shí)施例涉及的ODF生產(chǎn)線構(gòu)成的圖。
圖2是示意地表示本發(fā)明第1實(shí)施例涉及的ODF生產(chǎn)線上的裝置及裝置運(yùn)送部的具體構(gòu)造的圖。
圖3是示意地表示本發(fā)明第1實(shí)施例涉及的ODF生產(chǎn)線上的緩沖部的具體構(gòu)造的圖。
圖4是表示工序內(nèi)氛圍氣的氮清除單元設(shè)置前后的無(wú)機(jī)離子量的圖。
圖5是表示工序內(nèi)氛圍氣的氮清除單元設(shè)置前后的有機(jī)物量的圖。
圖6是簡(jiǎn)單表示制造本發(fā)明第1實(shí)施例涉及的液晶顯示面板的ODF生產(chǎn)線的其它構(gòu)成的圖。
圖7是簡(jiǎn)單表示現(xiàn)有ODF生產(chǎn)線的構(gòu)成的圖。
圖8是表示氣泡發(fā)生率與基板放置時(shí)間的關(guān)系的圖。
圖9是表示基板表面部的接觸角增加量與基板放置時(shí)間的關(guān)系的圖。
圖10是表示基板表面部的正離子污染量與基板放置時(shí)間的關(guān)系的圖。
圖11是表示基板表面部的負(fù)離子污染量與基板放置時(shí)間的關(guān)系的圖。
具體實(shí)施例方式
如現(xiàn)有技術(shù)所示，在液晶顯示面板的制造中，為了提高顯示質(zhì)量及合格率，除去工序氛圍氣內(nèi)的污染物質(zhì)是重要的，采用了在ODF生產(chǎn)線的處理各工序的裝置、用于運(yùn)送基板的裝置運(yùn)送部、容納基板的緩沖部等中，設(shè)置HEPA過(guò)濾器，或者在部分裝置內(nèi)用惰性氣體進(jìn)行置換的方法等，然而即使在設(shè)置了HEPA過(guò)濾器的情況下，也不能可靠地排除ODF生產(chǎn)線的污染物質(zhì)，此外，即使在用惰性氣體在部分裝置內(nèi)進(jìn)行了置換的情況下，也不能避免其它裝置內(nèi)、基板運(yùn)送中等的污染，這是存在的問(wèn)題。
對(duì)該問(wèn)題而言，盡管也可以考慮提高ODF生產(chǎn)線的整體清潔度的方法等，但如果設(shè)置有效的清潔功能，則會(huì)加大制造設(shè)備的成本，從而造成液晶顯示面板的價(jià)格劇增，這是產(chǎn)生的問(wèn)題。為此，根據(jù)基板表面上的液晶滴接觸角、基板表面上殘存雜質(zhì)的濃度會(huì)隨著基板放置時(shí)間的延長(zhǎng)而增大這一實(shí)驗(yàn)結(jié)果，本發(fā)明者開(kāi)發(fā)出一種用于有效維持基板表面的潔凈度的方法。
具體而言，是在摩擦洗凈·干燥后的ODF生產(chǎn)線的進(jìn)行各工序的處理的裝置、用于運(yùn)送陣列基板、CF基板的裝置運(yùn)送部及用于容納陣列基板及CF基板的緩沖部中的至少一個(gè)上，設(shè)置氮清除單元或化學(xué)過(guò)濾單元中的至少一方，從而維持基板表面于清潔的狀態(tài)，而且在ODF生產(chǎn)線的規(guī)定工序之后，測(cè)定接觸角或雜質(zhì)濃度，從而可基于接觸角或雜質(zhì)濃度，來(lái)確認(rèn)基板表面的潔凈度。這樣，便可充分排除ODF生產(chǎn)線內(nèi)的污染物質(zhì)，以高合格率來(lái)制造顯示質(zhì)量高的液晶顯示面板。
實(shí)施例1為詳細(xì)說(shuō)明所述實(shí)施方式，參照?qǐng)D1至圖6來(lái)說(shuō)明本發(fā)明第1實(shí)施例涉及的液晶顯示面板的制造裝置及其制造方法。圖1是簡(jiǎn)單表示用于制造本實(shí)施例涉及的液晶顯示面板的ODF生產(chǎn)線的構(gòu)成的圖，圖2及圖3是示意地表示ODF生產(chǎn)線中所設(shè)置的裝置的具體構(gòu)成的圖。還有，圖4及圖5是用于說(shuō)明本實(shí)施例的效果的圖，圖6是簡(jiǎn)單表示本實(shí)施例的ODF生產(chǎn)線的另一構(gòu)成的圖。
一般而言，液晶顯示面板具有矩陣狀地形成有TFT等開(kāi)關(guān)元件的陣列基板、以及形成有濾色器(CF)及黑底(BM)等的CF基板，在這些基板的對(duì)置面上，形成有被實(shí)施了取向處理的取向膜。并且，在兩基板之間，配置規(guī)定形狀的聚合物珠粒及硅珠粒等絕緣性隔離子，形成了規(guī)定的間隙，通過(guò)在至少一方基板上形成的電極所涉及的電場(chǎng)來(lái)控制被密封于該間隙內(nèi)的液晶的取向方向，由此來(lái)顯示信息。
因此，為提高液晶顯示面板的顯示質(zhì)量及合格率，有必要使得在基板之間不混入污染物質(zhì)，而如果不設(shè)置有效的清潔功能，則會(huì)導(dǎo)致液晶顯示面板價(jià)格劇增。為此，在本實(shí)施例中，如圖1所示，在使從投入前基板洗凈·干燥工序經(jīng)過(guò)了摩擦洗凈·干燥工序的陣列基板及CF基板在ODF生產(chǎn)線上流動(dòng)的情況下，在ODF生產(chǎn)線上所設(shè)置的裝置、用于運(yùn)送這些基板的裝置運(yùn)送部以及緩沖部中的至少一個(gè)上，設(shè)置具有將內(nèi)部空氣置換成潔凈的氮?dú)獾墓δ艿脑O(shè)備(以下稱氮清除單元1)。
具體而言，如圖2所示，在具有密封/Ag分配裝置、液晶滴注分配裝置、隔離子檢查裝置等各種裝置和運(yùn)送基板3的機(jī)械手4等裝置運(yùn)送部的設(shè)備的頂棚部及側(cè)面部等中，配置氮清除單元1，或者如圖3所示，在將基板3容納于基板盒5等內(nèi)的緩沖部的頂棚部及側(cè)面部等中，配置氮清除單元1。此外，在隔離子散布裝置、隔離子粘著裝置、貼合裝置等，在裝置的構(gòu)造·規(guī)格上未在裝置內(nèi)安裝氮清除單元1的情況下，在基板出入口的裝入部等中，配置氮清除單元1。
另外，圖2及圖3的構(gòu)成是一種示例，可以在ODF生產(chǎn)線的處理各種工序的裝置、裝置運(yùn)送部、緩沖部中的至少一個(gè)的規(guī)定位置上，配置氮清除單元1，也可以在各個(gè)裝置、裝置運(yùn)送部及緩沖部中，設(shè)置氮清除單元1，還可以在復(fù)合有多個(gè)裝置、裝置運(yùn)送部及緩沖部的設(shè)備中，設(shè)置氮清除單元1。還有，此處設(shè)置的是在內(nèi)部置換為潔凈的氮?dú)獾牡宄龁卧?，但也可以采用置換為氮?dú)怏w之外的潔凈惰性氣體的單元。另外，優(yōu)選的是，在設(shè)置氮清除單元1的情況下，用氧濃度計(jì)來(lái)管理各種裝置內(nèi)部、裝置運(yùn)送部?jī)?nèi)部及緩沖部?jī)?nèi)部的氧濃度，如果能將氧濃度控制到約20％及以下，則可充分抑制污染物質(zhì)的混入。
如此構(gòu)筑具有氮清除單元1的ODF生產(chǎn)線，可以減少液晶顯示面板內(nèi)部所發(fā)生的斑點(diǎn)及不勻。此外發(fā)現(xiàn)，對(duì)因基板表面污染的影響而在基板貼合時(shí)發(fā)生的面板內(nèi)氣泡也具有較大的效果。以下參照?qǐng)D4及圖5來(lái)說(shuō)明該效果。
圖4及圖5是比較在液晶滴注工序至貼合工序之間，在氮清除單元1設(shè)置前后工序內(nèi)氛圍氣的無(wú)機(jī)離子量與有機(jī)物量的圖表。在本測(cè)定中，采用TENAX吸著管捕集法來(lái)實(shí)施無(wú)機(jī)離子及有機(jī)物提取。還有，此后對(duì)無(wú)機(jī)離子中的正離子采用原子吸光光度法來(lái)進(jìn)行測(cè)定，對(duì)負(fù)離子采用離子色譜圖表法來(lái)進(jìn)行測(cè)定，而對(duì)有機(jī)物則采用GC-MS來(lái)進(jìn)行測(cè)定。從圖4及圖5可知，由于設(shè)置氮清除單元1，工序內(nèi)的無(wú)機(jī)離子量及有機(jī)物量減少了。
還有，在本實(shí)施例的液晶面板制造方法中，可在液晶顯示面板的制造中途階段，實(shí)施接觸角測(cè)定或雜質(zhì)濃度測(cè)定，基于接觸角或雜質(zhì)濃度來(lái)確認(rèn)基板表面是否被維持在潔凈狀態(tài)，根據(jù)其結(jié)果來(lái)判斷是否執(zhí)行下道工序的處理。
優(yōu)選的是，在比如CF基板及陣列基板貼合之前，進(jìn)行該接觸角測(cè)定?？梢哉f(shuō)該接觸角(規(guī)定的Lead Time內(nèi)的接觸角)越小，基板表面的潔凈度便越高，不過(guò)據(jù)本發(fā)明者所知，如果接觸角為約13度及以下，則顯示面板內(nèi)部所發(fā)生的斑點(diǎn)、不勻及氣泡便可被抑制到不成問(wèn)題的程度。
還有，優(yōu)選的是，在比如CF基板上進(jìn)行隔離子撒布/粘著之后，在陣列基板上進(jìn)行密封/Ag分配之后，進(jìn)行雜質(zhì)濃度測(cè)定。該雜質(zhì)濃度越小，基板表面的潔凈度便越高，不過(guò)據(jù)本發(fā)明者所知，如果在無(wú)機(jī)離子濃度中，正離子、負(fù)離子的總離子量為約1ng/cm2及以下，在有機(jī)物量中約為0.1ng/cm2及以下，則顯示面板內(nèi)部所發(fā)生的斑點(diǎn)、不勻及氣泡便可被抑制到不成問(wèn)題的程度。
這樣，在構(gòu)成ODF生產(chǎn)線的各裝置、用于運(yùn)送基板的裝置運(yùn)送部、用于容納基板的緩沖部中的至少一個(gè)的規(guī)定位置上，設(shè)置氮清除單元1，將氧濃度控制到約20％及以下，由此可以維持基板表面的潔凈度。此外，在任意工序之后實(shí)施接觸角測(cè)定或雜質(zhì)濃度測(cè)定，如果在接觸角測(cè)定中接觸角為約13度及以下，在雜質(zhì)濃度測(cè)定中無(wú)機(jī)離子濃度中正離子、負(fù)離子的總離子量為約1ng/cm2及以下，在有機(jī)物量中為約0.1ng/cm2及以下，則可判斷為基板表面被維持在潔凈的狀態(tài)，這樣，便可將顯示面板內(nèi)部中所發(fā)生的斑點(diǎn)、不勻及氣泡抑制到不成問(wèn)題的程度，以高合格率來(lái)制造顯示質(zhì)量高的液晶顯示面板。
另外，在圖1中，以為了形成間隙而撒布、粘著隔離子這一情況為例來(lái)進(jìn)行了說(shuō)明，但本發(fā)明不限于圖1的構(gòu)成，在比如使用為了形成間隙而配備柱的CF基板的情況下，如圖6所示，對(duì)代替隔離子撒布裝置、隔離子檢查裝置及隔離子粘著裝置而配有CF柱測(cè)定裝置的ODF生產(chǎn)線，也可同樣適用，這種構(gòu)成也能獲得同樣效果。
實(shí)施例2接下來(lái)，對(duì)本發(fā)明第2實(shí)施例涉及的液晶顯示面板的制造裝置及其制造方法進(jìn)行說(shuō)明。在所述第1實(shí)施例中，在構(gòu)成ODF生產(chǎn)線的各種裝置、裝置運(yùn)送部及緩沖部中的至少一個(gè)上，設(shè)置氮清除單元，然而也可以代替氮清除單元，而設(shè)置具有通過(guò)化學(xué)作用來(lái)除去特定污染物質(zhì)的功能的設(shè)備(以下稱化學(xué)過(guò)濾單元)。
在采用該化學(xué)過(guò)濾單元的情況下，可除去各種污染物質(zhì)，尤其可有效減少硅氧烷類及酞酸酯類等會(huì)增大接觸角的有機(jī)物。這樣，便可排除污染物質(zhì)對(duì)基板表面部的附著，可降低面板內(nèi)部的斑點(diǎn)、不勻及氣泡的發(fā)生，以高合格率來(lái)制造顯示質(zhì)量高的液晶顯示面板。
實(shí)施例3接下來(lái)，對(duì)本發(fā)明第3實(shí)施例涉及的液晶顯示面板的制造裝置及其制造方法作以說(shuō)明。在所述第1實(shí)施例中，在構(gòu)成ODF生產(chǎn)線的各種裝置、裝置運(yùn)送部及緩沖部中的至少一個(gè)上，設(shè)置氮清除單元，在第2實(shí)施例中，在各種裝置、裝置運(yùn)送部及緩沖部中的至少一個(gè)上，設(shè)置化學(xué)過(guò)濾器，不過(guò)也可以對(duì)它們進(jìn)行組合，比如，也可以使氮清除單元具備化學(xué)過(guò)濾器。在如此構(gòu)成的情況下，對(duì)無(wú)機(jī)離子及有機(jī)物的降低更有效，可以進(jìn)一步減少面板內(nèi)部的斑點(diǎn)、不勻及氣泡，以高合格率來(lái)制造顯示質(zhì)量高的液晶顯示面板。
另外，在所述各實(shí)施例中，將本發(fā)明的液晶顯示面板的制造裝置及其制造方法用于了ODF生產(chǎn)線，但本發(fā)明不限于所述實(shí)施例，除了滴注貼合方法之外，對(duì)于采用下列方法的制造生產(chǎn)線也同樣適用除了成為液晶注入孔的區(qū)域之外，用密封材料來(lái)貼合對(duì)置基板，然后將所貼合了的基板置入真空容器內(nèi)，置于減壓狀態(tài)，將液晶注入孔浸入液晶，在這一狀態(tài)下，使真空容器回到大氣壓，從而利用壓力差來(lái)注入液晶的方法；除了成為液晶注入孔和排氣口的區(qū)域之外，用密封材料來(lái)貼合對(duì)置基板，然后將液晶注入孔浸入液晶，從排氣口排氣，由此來(lái)吸引液晶的方法等。
工業(yè)利用性本發(fā)明可適用于液晶顯示面板以及基板表面上的污染物質(zhì)附著成為問(wèn)題的任意基板的制造裝置及其制造方法。
權(quán)利要求
1.一種用于制造包括一對(duì)對(duì)置的基板的顯示面板的裝置，包括執(zhí)行制造所述顯示面板的工序的單元，所述工序在所述基板互相貼合之前執(zhí)行；運(yùn)送所述基板的基板運(yùn)送部；其中容納所述基板的緩沖部；以及在各個(gè)所述單元、所述基板運(yùn)送部以及所述緩沖部中的至少一個(gè)上設(shè)置的用于以惰性氣體取代內(nèi)部氣體的單元和化學(xué)過(guò)濾單元中的至少一個(gè)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述用于以惰性氣體取代內(nèi)部氣體的單元包括用于以氮?dú)馊〈鷥?nèi)部氣體的單元。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述用于以惰性氣體取代內(nèi)部氣體的單元維持所述單元、所述基板運(yùn)送部或所述緩沖部中的氧濃度小于等于約20％。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述顯示面板包括液晶顯示面板。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其中，所述化學(xué)過(guò)濾單元除去使所述基板表面上的液晶滴的接觸角增大的有機(jī)物。
6.一種制造包括一對(duì)對(duì)置的基板的顯示面板的方法，包括(a)在所述基板互相貼合之前執(zhí)行制造所述顯示面板的工序的區(qū)域，設(shè)置用于以惰性氣體取代內(nèi)部氣體的單元和化學(xué)過(guò)濾單元中的至少一個(gè)，并且，(b)測(cè)定在所述基板表面上的液晶滴的接觸角和在所述基板表面上殘存的雜質(zhì)的濃度中的一個(gè)，基于所測(cè)定的接觸角或雜質(zhì)濃度來(lái)確認(rèn)所述基板的所述表面的潔凈度。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，還包括(c)摩擦所述基板；(d)向所述基板中的一方滴注液晶；(e)用密封材料使所述基板互相貼合，使所述密封材料夾在其間；并且(f)在(c)和(d)之前和期間執(zhí)行(a)，先于(e)而執(zhí)行(b)。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中，所述惰性氣體包括氮?dú)狻?br> 9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中，所述用于以惰性氣體取代內(nèi)部氣體的單元維持所述區(qū)域的氧濃度小于等于約20％。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中，所述化學(xué)過(guò)濾單元除去使所述基板表面上的液晶滴的接觸角增大的有機(jī)物。
11.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中，在將要使所述基板互相貼合之前，測(cè)定所述接觸角。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中，當(dāng)所述接觸角小于等于約13度時(shí)，執(zhí)行下道工序。
13.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中，在對(duì)一方所述基板描繪所述密封材料之后并且再對(duì)另一方撒布隔離子之后，測(cè)定所述雜質(zhì)濃度。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其中，當(dāng)所述基板的表面上存在的正離子及負(fù)離子的總量小于等于約1ng/cm2時(shí)，執(zhí)行下道工序。
15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的方法，其中，當(dāng)所述基板表面上存在的有機(jī)物的總量小于等于約0.1ng/cm2時(shí)，執(zhí)行下道工序。
16.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其中，所述顯示面板包括液晶顯示面板。
全文摘要
本發(fā)明提供一種能可靠地消除工序氛圍氣中的污染物質(zhì)，抑制顯示不良，提高液晶顯示面板的顯示質(zhì)量及合格率的液晶顯示面板的制造裝置及其制造方法。在密封/Ag分配裝置及液晶滴注分配裝置、隔離子撒布裝置、隔離子檢查裝置、隔離子粘著裝置、貼合裝置等ODF生產(chǎn)線的各種裝置、用于運(yùn)送基板的機(jī)械手等裝置運(yùn)送部以及將基板容納到基板盒等內(nèi)的緩沖部中的至少一個(gè)上，設(shè)置用于以惰性氣體代替內(nèi)部氣體的單元或化學(xué)過(guò)濾單元(1)中的至少一方，從而能維持基板表面的潔凈度，而且在任意一道工序之后，測(cè)定基板表面上的液晶滴接觸角或基板表面上殘存雜質(zhì)的濃度，基于接觸角或雜質(zhì)濃度來(lái)確認(rèn)基板表面的潔凈度。
文檔編號(hào)G02F1/1333GK1881021SQ20061009279
公開(kāi)日2006年12月20日 申請(qǐng)日期2006年6月14日 優(yōu)先權(quán)日2005年6月15日
發(fā)明者元松俊彥 申請(qǐng)人:Nec液晶技術(shù)株式會(huì)社