專利名稱：半穿透半反射型顯示器及其制造方法、顯示器制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種顯示組件及其制造方法，特別地，涉及一種液晶顯示組件及其制造方法。
背景技術(shù)：
液晶顯示器(liquid crystal display，以下簡(jiǎn)稱LCD)是目前平面顯示器發(fā)展的主流，其顯示原理是利用液晶分子所具有的介電各向異性以及導(dǎo)電各向異性，于外加電場(chǎng)時(shí)使液晶分子的排列狀態(tài)轉(zhuǎn)換，造成液晶薄膜產(chǎn)生各種光電效應(yīng)。液晶顯示器的面板結(jié)構(gòu)一般為由兩片基板疊合而成，中間留有一定距離的空隙用以灌注液晶，而在上下兩基板上分別形成有對(duì)應(yīng)電極，用以控制液晶分子的轉(zhuǎn)向及排列。
請(qǐng)參照?qǐng)D1A，目前在液晶顯示面板中，除了三原色像素紅色像素R、綠色像素G、藍(lán)色像素B外，另加入白色像素W，以增加面板整體的穿透或反射亮度，進(jìn)而達(dá)到省電的功效，然而，RGBW四色混色的液晶顯示面板的工藝仍然存在許多問題需克服。
圖1B揭示公知技術(shù)半穿透半反射(transflective)液晶顯示組件的剖面圖，請(qǐng)參照?qǐng)D1B，首先，提供第一基板100，此第一基板100可以為陣列基板，第一基板100包括用以顯示畫面的像素區(qū)，而像素區(qū)還包括多個(gè)子像素區(qū)。
接下來，在第一基板100上形成多個(gè)薄膜晶體管108，第一基板100可為陣列基板，每一像素對(duì)應(yīng)一薄膜晶體管108，且每一薄膜晶體管108均包括柵極102、源極104和漏極106。
接著，提供相對(duì)于第一基板100的第二基板110，第二基板110可以為彩色濾光片基板，且第二基板110可以包括相對(duì)于子像素的紅色區(qū)、藍(lán)色區(qū)、綠色區(qū)及白色區(qū)，其中在紅色區(qū)形成有紅色光致抗蝕劑R、在綠色區(qū)形成有綠色光致抗蝕劑G、在藍(lán)色區(qū)形成有藍(lán)色光致抗蝕劑B，且在白色區(qū)形成有透明光致抗蝕劑W，以構(gòu)成具有RGBW四色混色的彩色濾光層。
透明光致抗蝕劑的制作方法為在綠色光致抗蝕劑、藍(lán)色光致抗蝕劑及紅色光致抗蝕劑形成之后，再毯式涂覆一層平坦化的另一覆蓋層112填入上述三原色光致抗蝕劑R、G、B間的空隙，以制作透明光致抗蝕劑W，此外，平坦化層還可以提供較平坦的表面，以便于進(jìn)行后續(xù)工藝。然而，因?yàn)榫G色光致抗蝕劑G、藍(lán)色光致抗蝕劑B和紅色光致抗蝕劑R對(duì)另一覆蓋層112的表面張力和力學(xué)關(guān)系的影響，導(dǎo)致另一覆蓋層112在白色區(qū)和其它區(qū)域產(chǎn)生斷差d，而使面板產(chǎn)生偏黃的色偏現(xiàn)象。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)上述問題，本發(fā)明的主要目的為提供一種顯示組件，具有良好的穿透和反射亮度，且可避免例如色偏的問題，以改進(jìn)面板的光學(xué)特性。
本發(fā)明提供一種半穿透半反射型顯示器。第一基板，其具有多個(gè)像素，各像素分為多個(gè)子像素，且各子像素具有至少一穿透區(qū)和至少一反射區(qū)。第二基板，其相對(duì)應(yīng)于該第一基板，該第二基板分為多個(gè)區(qū)域，且上述區(qū)域中的至少三個(gè)為彩色區(qū)域以及至少一個(gè)為第四區(qū)域，而區(qū)域相對(duì)應(yīng)于子像素。覆蓋層覆蓋在所述第一基板上，其中對(duì)應(yīng)于第四區(qū)域的穿透區(qū)的部分覆蓋層的厚度厚于其它部分覆蓋層的厚度，且對(duì)應(yīng)于第四區(qū)域的反射區(qū)的部分覆蓋層的厚度大體上相等于其它部分覆蓋層的厚度。液晶層設(shè)置于所述第一基板與所述第二基板之間。
本發(fā)明提供一種半穿透半反射顯示器的制造方法。首先，提供第一基板，其具有多個(gè)像素，各像素分為多個(gè)子像素，且各子像素具有至少一反射區(qū)以及至少一穿透區(qū)。其后，提供第二基板，其相對(duì)應(yīng)于所述第一基板，該第二基板分為多個(gè)區(qū)域，且所述區(qū)域中的至少三個(gè)為彩色區(qū)域以及至少一個(gè)為第四區(qū)域，而所述區(qū)域相對(duì)應(yīng)于子像素。接著，在所述第一基板上形成覆蓋層，對(duì)該覆蓋層進(jìn)行多次黃光工藝，其中對(duì)應(yīng)于第四區(qū)域的穿透區(qū)的部分覆蓋層的曝光次數(shù)與對(duì)應(yīng)于彩色區(qū)域的穿透區(qū)的部分覆蓋層的曝光次數(shù)相比更少。接著，在所述第一基板與所述第二基板之間施加液晶層。
本發(fā)明提供一種顯示器的制造方法。首先，提供第一基板，其具有多個(gè)像素，各像素分為多個(gè)子像素。接著，提供第二基板，其相對(duì)于該第一基板，該第二基板分為多個(gè)區(qū)域，且所述區(qū)域中的至少三個(gè)為彩色區(qū)域以及至少一個(gè)為第四區(qū)域，而所述區(qū)域相對(duì)應(yīng)于所述子像素。后續(xù)，在所述第二基板上形成光致抗蝕劑圖案層，并分別在所述區(qū)域中的所述至少三個(gè)彩色區(qū)域中定義該光致抗蝕劑圖案層為彩色光致抗蝕劑圖案層且在所述至少一個(gè)第四區(qū)域中定義該光致抗蝕劑圖案層為第四光致抗蝕劑圖層。其后，在該光致抗蝕劑圖案層上形成覆蓋層，并在所述第一基板與所述第二基板之間施加液晶層。


圖1A揭示四色混色液晶顯示面板的示意圖。
圖1B揭示公知技術(shù)半穿透半反射液晶顯示組件的剖面圖。
圖2揭示本發(fā)明一實(shí)施例的單間距半穿透半反射液晶顯示組件的剖面圖。
圖3揭示本發(fā)明一實(shí)施例的雙間距半穿透半反射液晶顯示組件。
圖4A～4C揭示本發(fā)明一實(shí)施例的單間距半穿透半反射液晶顯示組件的覆蓋層的制造方法。
圖5A～5C揭示本發(fā)明另一實(shí)施例的單間距半穿透半反射液晶顯示組件的覆蓋層的制造方法。
圖6A～6C揭示本發(fā)明一實(shí)施例的雙間距半穿透半反射液晶顯示組件的覆蓋層的制造方法。
圖7A～7C揭示本發(fā)明另一實(shí)施例的雙間距半穿透半反射液晶顯示組件的覆蓋層的制造方法。
圖8揭示本發(fā)明一實(shí)施例的液晶顯示組件。
主要組件符號(hào)說明R～紅色區(qū)域； G～綠色區(qū)域；B～藍(lán)色區(qū)域； W～白色區(qū)域；R～反射區(qū)；T～穿透區(qū)；d～斷差； 200～第一基板；202～柵極；204～源極；206～漏極；208～薄膜晶體管；210～第二基板；212～另一覆蓋層；
214～覆蓋層； 216～凸出的覆蓋層；302～液晶層； 304～覆蓋層；306～凸塊； 402～開口區(qū)域；502～開口區(qū)域； 602～開口區(qū)域；800～第一基板；801～第二基板的相對(duì)于第一基板的表面；802～柵極； 803～平坦化層；804～源極； 805～平坦化層表面；806～漏極； 807～覆蓋層；808～薄膜晶體管； 810～第二基板；830～液晶層。
具體實(shí)施例方式
以下將以實(shí)施例詳細(xì)說明做為本發(fā)明的參考，且參照

本發(fā)明的實(shí)施例。在附圖或描述中，相似或相同的部分使用相同的附圖標(biāo)記。在附圖中，實(shí)施例的形狀或厚度可擴(kuò)大，以簡(jiǎn)化或方便標(biāo)示。圖式中各組件的部分將分別描述說明，值得注意的是，圖中未繪示或描述的組件，可以具有各種本領(lǐng)域技術(shù)人員公知的形式。此外，當(dāng)敘述一層位于一基板或另一層上時(shí)，此層可直接位于基板或另一層上，或是其間還可以有中介層。
第2圖揭示本發(fā)明一實(shí)施例的單間距(single gap)半穿透半反射液晶顯示組件的剖面圖，請(qǐng)參照第2圖，首先，提供第一基板200，此第一基板200可以為陣列基板，該基板的材質(zhì)包括透明性材質(zhì)(例如玻璃、低堿玻璃、無堿玻璃等)、可撓性材質(zhì)(例如塑料、聚碳酸酯、聚甲基丙醯酸甲酯等)、不透光材質(zhì)(例如陶瓷、晶圓等)等。第一基板200包括用以顯示畫面的像素區(qū)，而像素區(qū)還包括多個(gè)子像素區(qū)，子像素區(qū)包括反射區(qū)R及穿透區(qū)T，其中在反射區(qū)R中，液晶顯示組件可藉由外部光線的反射光做為光源，另外，在穿透區(qū)T中，液晶顯示組件可藉由背光源穿透的光線做為光源，如此，可達(dá)到較佳的使用效率及節(jié)省電源。
接下來，在第一基板200上形成多個(gè)薄膜晶體管208，第一基板200可為陣列基板，在本發(fā)明一實(shí)施例中，每一像素對(duì)應(yīng)一薄膜晶體管208，且每一薄膜晶體管208均包括柵極202、溝道層(未繪示)、歐姆接觸層(未繪示)、源極204和漏極206，優(yōu)選地，薄膜晶體管208為底柵型(bottom-gate type)晶體管，當(dāng)然，也可使用其它類型的晶體管(例如頂柵型(top-gate type)、蝕刻終止型(etching-stop type)、或其它的晶體管)，且構(gòu)成每一薄膜晶體管208的材質(zhì)包括非晶硅、多晶硅、單晶硅、微晶硅或上述材質(zhì)的組合。也就是說，溝道層(未繪示)及歐姆接觸層(未繪示)的材質(zhì)包括非晶硅、多晶硅、單晶硅、微晶硅或上述材質(zhì)的組合，并且歐姆接觸層(未繪示)還摻雜有N型摻雜劑(例如磷、砷、或其它材質(zhì))或P型摻雜劑(例如硼或其它材質(zhì))，使其行為類似于歐姆特性。
然后，提供相對(duì)于第一基板200的第二基板210，第二基板210可以為彩色濾光片基板，且第二基板210可以包括相對(duì)于子像素的三個(gè)彩色區(qū)及第四區(qū)，其中三個(gè)彩色區(qū)可分別包括紅色區(qū)、藍(lán)色區(qū)、綠色區(qū)，而第四區(qū)可以為白色區(qū)(也稱為無色區(qū))，在紅色區(qū)形成有紅色光致抗蝕劑R、在綠色區(qū)形成有綠色光致抗蝕劑G、在藍(lán)色區(qū)形成有藍(lán)色光致抗蝕劑B，且在白色區(qū)形成有透明光致抗蝕劑W，以構(gòu)成具有RGBW四色混色的彩色濾光層。
在此需注意的是，本發(fā)明的實(shí)施例以三原色R、G、B描述本發(fā)明的顏色配置，然而，本發(fā)明不限于此，三原色R、G、B可以為任何可表現(xiàn)圖案彩色區(qū)域，也就是說，紅色光致抗蝕劑R、綠色光致抗蝕劑G、藍(lán)色光致抗蝕劑B可以為其它彩色光致抗蝕劑圖案(例如黃色、棕色、藍(lán)綠色、紫色等)。再者，本發(fā)明的彩色區(qū)域及白色區(qū)域的形狀以矩形為實(shí)施例，然而，也可以使用其它形狀(例如圓形、多邊形、三角形、六邊形、橢圓形等)。另外，本發(fā)明的第四區(qū)域以白色為實(shí)施例，然而，為了考量其它顏色的飽合度、對(duì)比度的情況下，第四區(qū)域也可為彩色區(qū)域的顏色或其它色彩。
在上述液晶顯示結(jié)構(gòu)中，透明光致抗蝕劑的制作方法為在形成例如包括綠色光致抗蝕劑、藍(lán)色光致抗蝕劑和紅色光致抗蝕劑的彩色光致抗蝕劑圖案層之后，再毯式涂覆一層平坦化的另一覆蓋層212填入上述例如三原色光致抗蝕劑R、G、B的彩色光致抗蝕劑圖案層間的空隙，以制作透明光致抗蝕劑W，此外，平坦化層亦可提供較平坦的表面，以利后續(xù)工藝進(jìn)行。因?yàn)榫G色光致抗蝕劑G、藍(lán)色光致抗蝕劑B和紅色光致抗蝕劑R對(duì)另一覆蓋層212的表面張力和力學(xué)關(guān)系的影響，導(dǎo)致另一覆蓋層212在第四區(qū)和彩色區(qū)域產(chǎn)生斷差d。
在本發(fā)明一實(shí)施例中，在第一基板200上形成覆蓋層214，覆蓋第一基板200及其上的薄膜晶體管組件208，其中在穿透區(qū)T中，對(duì)應(yīng)于第四區(qū)的部分覆蓋層216與彩色區(qū)的部分覆蓋層214相比有較厚的厚度，在反射區(qū)R中，對(duì)應(yīng)于第四區(qū)的部分覆蓋層和彩色區(qū)部分覆蓋層大體上具有相等的厚度，換言之，在穿透區(qū)T中，對(duì)應(yīng)于第四區(qū)(白色區(qū)W)的覆蓋層具有凸塊216。這樣，在穿透區(qū)T中，此較厚厚度的覆蓋層216可補(bǔ)償白色像素W的斷差，改善光學(xué)效率。
為了形成上述結(jié)構(gòu)形狀的覆蓋層，本發(fā)明一實(shí)施例采用下列方法首先，在第一基板上形成例如感光材料的覆蓋層214，其后，對(duì)覆蓋層214進(jìn)行多次曝光工藝，其中穿透區(qū)上T且對(duì)應(yīng)于白色區(qū)W的部分覆蓋層216的曝光次數(shù)與穿透區(qū)上且對(duì)應(yīng)于紅色區(qū)、藍(lán)色區(qū)、綠色區(qū)的部分的曝光次數(shù)相比更少，后續(xù)，對(duì)覆蓋層214進(jìn)行顯影。
圖4A～4C揭示本發(fā)明一實(shí)施例的單間距(single gap)半穿透半反射液晶顯示組件的覆蓋層的制造方法，首先，請(qǐng)參照?qǐng)D4A，在第一基板上(未繪示)毯式涂覆例如光致抗蝕劑的感光材料的覆蓋層，覆蓋第一基板及其上的薄膜晶體管組件，其中在此實(shí)施例中，覆蓋層為正光致抗蝕劑。接下來，以掩模遮住第一基板的穿透區(qū)T，而對(duì)反射區(qū)R覆蓋層進(jìn)行曝光(曝光的部位以斜線標(biāo)示)。
后續(xù)，請(qǐng)參照?qǐng)D4B，以掩模遮住穿透區(qū)T的對(duì)應(yīng)于第四區(qū)(白色區(qū)W)上的部分覆蓋層，而對(duì)穿透區(qū)T上的對(duì)應(yīng)于例如包括藍(lán)色區(qū)B、綠色區(qū)G及紅色區(qū)R的三個(gè)彩色區(qū)的覆蓋層及反射區(qū)R上所有顏色的覆蓋層進(jìn)行曝光。后續(xù)，請(qǐng)參照?qǐng)D4C，以掩模遮住穿透區(qū)T上所有顏色像素區(qū)的開口區(qū)域402以外的部分覆蓋層，而對(duì)開口區(qū)域402位置的覆蓋層進(jìn)行曝光。根據(jù)上述方法，由于穿透區(qū)T的第四區(qū)(白色區(qū)W)上的部分覆蓋層的曝光次數(shù)比三個(gè)彩色區(qū)的部分覆蓋層的曝光次數(shù)少一次，因此，穿透區(qū)T的第四區(qū)上的部分覆蓋層的厚度比其它區(qū)域的部分覆蓋層厚。
在本發(fā)明的一個(gè)較佳實(shí)施例中，涂覆的覆蓋層214厚度約為2.0μm，曝光劑量約可曝及正光致抗蝕劑的覆蓋層214約0.6μm～0.8μm的深度，上述方法形成的穿透區(qū)T的白色區(qū)W上的部分覆蓋層216的厚度可約為1.8～2.2μm，而其它區(qū)域的部分覆蓋層214的厚度約為1.2～1.6μm。對(duì)應(yīng)于該白色區(qū)W的部分覆蓋層216比其它部分覆蓋層214大體上厚0.1～0.3μm。
圖5A～5C揭示本發(fā)明另一實(shí)施例的單間距(single gap)半穿透半反射液晶顯示組件的覆蓋層的制造方法，請(qǐng)參照?qǐng)D5A，首先在第一基板上(未繪示)毯式涂覆例如光致抗蝕劑的感光材料的覆蓋層，覆蓋第一基板及其上的薄膜晶體管組件，其中在此實(shí)施例中，覆蓋層為正光致抗蝕劑。其后，用掩模遮住穿透區(qū)T的對(duì)應(yīng)于第四區(qū)(白色區(qū)W)上的部分覆蓋層，而對(duì)穿透區(qū)T上的對(duì)應(yīng)于例如包括藍(lán)色區(qū)B、綠色區(qū)G及紅色區(qū)R的三個(gè)彩色區(qū)的覆蓋層及反射區(qū)R上所有顏色的覆蓋層進(jìn)行曝光。
接下來，請(qǐng)參照?qǐng)D5B，以掩模遮住第一基板的穿透區(qū)T對(duì)應(yīng)于所有顏色像素的區(qū)域，而對(duì)反射區(qū)R覆蓋層進(jìn)行曝光。后續(xù)，請(qǐng)參照?qǐng)D5C，以掩模遮住穿透區(qū)T上對(duì)應(yīng)于所有顏色像素區(qū)的開口區(qū)域502外的部分覆蓋層，而對(duì)開口區(qū)域502位置的覆蓋層進(jìn)行曝光。根據(jù)上述方法，由于穿透區(qū)T的第四區(qū)上的部分覆蓋層的曝光次數(shù)比其它區(qū)域的部分覆蓋層的曝光次數(shù)少一次，因此，穿透區(qū)T的第四區(qū)上的部分覆蓋層的厚度比彩色區(qū)的部分覆蓋層厚。
圖3揭示本發(fā)明一實(shí)施例雙間距(dual gap)半穿透半反射液晶顯示組件，其結(jié)構(gòu)大體上和第2圖相似，為簡(jiǎn)潔，在此不詳加描述，兩者所不同的是，雙間距半穿透半反射液晶顯示組件在反射區(qū)R的液晶層302的厚度Tr比穿透區(qū)T的液晶層302的厚度Tt小，因此，如圖3所示，反射區(qū)R的覆蓋層304的整體厚度比穿透區(qū)T的覆蓋層304的厚度大，另外，為解決上述色偏現(xiàn)象，在穿透區(qū)T中，對(duì)應(yīng)于第四區(qū)(白色區(qū)W)的部分覆蓋層306比其它彩色區(qū)覆蓋層304有較厚的厚度，在反射區(qū)R中，對(duì)應(yīng)于第四區(qū)(白色區(qū)W)的部分覆蓋層304和彩色區(qū)部分覆蓋層304大體上具有相等的厚度，換言之，在穿透區(qū)T中，對(duì)應(yīng)于第四區(qū)(白色區(qū)W)的覆蓋層具有凸塊306。
為了形成上述結(jié)構(gòu)形狀的覆蓋層，本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施利采用下列方法首先，在第一基板上形成例如感光材料覆蓋層304，其后，對(duì)覆蓋層304進(jìn)行多次曝光工藝，其中穿透區(qū)T的覆蓋層304的整體曝光次數(shù)比反射區(qū)R的覆蓋層304多，另外，穿透區(qū)T上且對(duì)應(yīng)于該第四區(qū)(白色區(qū)W)的部分覆蓋層的曝光次數(shù)比穿透區(qū)T上且對(duì)應(yīng)于例如包括紅色區(qū)R、藍(lán)色區(qū)B、綠色區(qū)G的彩色區(qū)的部分的曝光次數(shù)少，后續(xù)，對(duì)覆蓋層304進(jìn)行顯影。
圖6A～6C揭示本發(fā)明一實(shí)施例的雙間距(dual gap)半穿透半反射液晶顯示組件的覆蓋層的制造方法，首先，請(qǐng)參照?qǐng)D6A，在第一基板上(未繪示)毯式涂覆例如光致抗蝕劑的感光材料的覆蓋層，覆蓋第一基板及其上的薄膜晶體管組件，其中在此實(shí)施例中，覆蓋層為正光致抗蝕劑。接下來，對(duì)所有的覆蓋層進(jìn)行全面性的曝光(曝光的區(qū)域以斜線標(biāo)示)。
后續(xù)，請(qǐng)參照?qǐng)D6B，再一次對(duì)所有覆蓋層進(jìn)行全面性的曝光。接著，請(qǐng)參照?qǐng)D6C，以掩模遮住穿透區(qū)T的對(duì)應(yīng)于第四區(qū)(白色區(qū)W)上開口區(qū)域602外的部分覆蓋層，并遮住反射區(qū)R上所有顏色的覆蓋層，而對(duì)穿透區(qū)T上的對(duì)應(yīng)于例如包括藍(lán)色區(qū)B、綠色區(qū)G及紅色區(qū)R的三個(gè)彩色區(qū)覆蓋層，及第四區(qū)開口區(qū)域602位置的覆蓋層進(jìn)行曝光。根據(jù)上述方法，由于穿透區(qū)T的第四區(qū)上的部分覆蓋層的曝光次數(shù)比其它區(qū)域的部分覆蓋層的曝光次數(shù)少一次，因此，穿透區(qū)T的第四區(qū)上的部分覆蓋層的厚度比彩色區(qū)的部分覆蓋層厚。
圖7A～7C揭示本發(fā)明另一實(shí)施例的雙間距(dual gap)半穿透半反射液晶顯示組件的覆蓋層的制造方法，首先，請(qǐng)參照?qǐng)D7A，在第一基板上(未繪示)毯式涂覆例如光致抗蝕劑的感光材料的覆蓋層，覆蓋第一基板及其上的薄膜晶體管組件，其中在此實(shí)施例中，覆蓋層為正光致抗蝕劑。接下來，以掩模遮住穿透區(qū)R上的部分覆蓋層，而對(duì)反射區(qū)T上的部分覆蓋層進(jìn)行曝光。
后續(xù)，請(qǐng)參照?qǐng)D7B，對(duì)所有覆蓋層進(jìn)行全面性的曝光。接著，請(qǐng)參照?qǐng)D7C，以掩模光罩遮住穿透區(qū)T的第四區(qū)(白色區(qū)W)上開口區(qū)域702外的部分覆蓋層，并遮住反射區(qū)R上所有顏色的覆蓋層，而對(duì)穿透區(qū)T上的例如包括藍(lán)色區(qū)B、綠色區(qū)G及紅色區(qū)R的三個(gè)彩色區(qū)的覆蓋層，及第四區(qū)開口區(qū)域602位置的覆蓋層進(jìn)行曝光。根據(jù)上述方法，由于穿透區(qū)T的第四區(qū)上的部分覆蓋層的曝光次數(shù)比其它區(qū)域的部分覆蓋層的曝光次數(shù)少一次，因此，穿透區(qū)的第四區(qū)上的部分覆蓋層的厚度比彩色區(qū)的部分覆蓋層厚。
圖8揭示本發(fā)明又另一實(shí)施例的液晶顯示組件及其制造方法。首先，提供第一基板800，此第一基板800可以為陣列基板，第一基板800的材質(zhì)包括透明性材質(zhì)(例如玻璃、低堿玻璃、無堿玻璃等)、可撓性材質(zhì)(例如塑料、聚碳酸酯、聚甲基丙醯酸甲酯等)、不透光材質(zhì)(例如陶瓷、晶圓等)等。第一基板800包括用以顯示畫面的像素區(qū)。
接下來，在基板上形成多個(gè)薄膜晶體管808，在本發(fā)明一實(shí)施例中，每一像素對(duì)應(yīng)一薄膜晶體管808，且每一薄膜晶體管808均包括柵極802、溝道層(未繪示)、歐姆接觸層(未繪示)、源極804和漏極806，較佳者，薄膜晶體管808為底柵型(bottom-gate type)晶體管，當(dāng)然，也可使用其它類型的晶體管(例如頂柵型(top-gate type)、蝕刻終止型(etching-stop type)、或其它的晶體管)，且構(gòu)成每一薄膜晶體管808的材質(zhì)系包括非晶硅、多晶硅、單晶硅、微晶硅或上述材質(zhì)的組合。也就是說，溝道層(未繪示)及歐姆接觸層(未繪示)的材質(zhì)包括非晶硅、多晶硅、單晶硅、微晶硅或上述材質(zhì)的組合，并且歐姆接觸層(未繪示)還摻雜有N型摻雜劑(例如磷、砷或其它材質(zhì))或P型摻雜劑(例如硼或其它材質(zhì))，使其行為類似于歐姆特性。后續(xù)，在薄膜晶體管808和基板800上形成覆蓋層807。
后續(xù)，提供相對(duì)于第一基板800的第二基板810，第二基板810可以為彩色濾光片基板，第二基板810可以包括對(duì)應(yīng)于子像素例如包括紅色區(qū)、藍(lán)色區(qū)、綠色區(qū)的彩色區(qū)及例如白色區(qū)的第四區(qū)。接下來，在第二基板810上形成光致抗蝕劑圖案層，并分別在這些區(qū)域中的至少三個(gè)彩色區(qū)域中定義光致抗蝕劑圖案層為例如包括紅色光致抗蝕劑R、藍(lán)色光致抗蝕劑B和綠色光致抗蝕劑G的彩色光致抗蝕劑圖案層及在這些區(qū)域中的至少一個(gè)第四區(qū)域中定義光致抗蝕劑圖案層為例如透明光致抗蝕劑W的第四光致抗蝕劑圖層，舉例來說，以一般的微影工藝定義光致抗蝕劑，在第二基板810的相對(duì)于第一基板面801的紅色區(qū)上形成紅色光致抗蝕劑R，接著，以一般的微影工藝定義光致抗蝕劑，在第二基板的相對(duì)于第一基板面801的藍(lán)色區(qū)上形成藍(lán)色光致抗蝕劑B，以一般的微影工藝定義光致抗蝕劑，在第二基板810的相對(duì)于第一基板面801的綠色區(qū)上形成綠色光致抗蝕劑G，以一般的微影工藝定義光致抗蝕劑，在第二基板810的相對(duì)于第一基板面801的白色區(qū)上形成透明光致抗蝕劑W。
需注意的是，例如透明光致抗蝕劑W的第四光致抗蝕劑圖層填入第一基板上的第四區(qū)，而用微影方法移除位于例如包括紅色光致抗蝕劑R、藍(lán)色光致抗蝕劑B及綠色光致抗蝕劑G的彩色光致抗蝕劑圖案層上的透明光致抗蝕劑，這樣，例如透明光致抗蝕劑W的第四光致抗蝕劑圖層僅位于例如白色區(qū)的第四區(qū)上，可克服表面張力和力學(xué)影響，導(dǎo)致另一覆蓋層在白色像素和紅色、綠色、藍(lán)色像素產(chǎn)生斷差的問題。
接著，在例如包括紅色光致抗蝕劑W、藍(lán)色光致抗蝕劑B、綠色光致抗蝕劑G的彩色光致抗蝕劑圖案層及例如透明光致抗蝕劑W的第4光致抗蝕劑圖層上涂覆另一層覆蓋層803，這樣，可得到具有平坦且無斷差的覆蓋層表面805。后續(xù)，在第一基板800和第二基板810間填入液晶層830，以完成液晶顯示面板的制作。
根據(jù)上述實(shí)施例，本發(fā)明主要在單間距(single-gap)以及雙間距(dual-gap)半穿透半反射型顯示器中，針對(duì)穿透區(qū)曝光次數(shù)做調(diào)整，使得白色區(qū)的覆蓋層厚度大于其它顏色R、G、B區(qū)的覆蓋層厚度，反射區(qū)因?yàn)樾枰谱魍箟K，無法透過曝光來單獨(dú)提高反射區(qū)覆蓋層，因此反射區(qū)的覆蓋層保持均勻的厚度，其可藉由例如查表(Look-Up-Table)的電路控制改變反射特性以解決偏黃問題。
因此，根據(jù)上述實(shí)施例，本發(fā)明可解決白色區(qū)斷差過大所導(dǎo)致面板偏黃的色偏問題，以改進(jìn)面板的光學(xué)特性。
雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例揭露如上，但是其并非用以限定本發(fā)明，任何本領(lǐng)域技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，可以做出許多更動(dòng)與潤(rùn)飾，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)當(dāng)以所附權(quán)利要求定義的范圍為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種半穿透半反射型顯示器，包括第一基板，其具有多個(gè)像素，各個(gè)所述像素分為多個(gè)子像素，且各個(gè)所述子像素具有至少一穿透區(qū)和至少一反射區(qū)；第二基板，其相對(duì)應(yīng)于該第一基板，該第二基板分為多個(gè)區(qū)域，且所述區(qū)域中的至少三個(gè)為彩色區(qū)域以及至少一個(gè)為第四區(qū)域，而所述區(qū)域相對(duì)應(yīng)于所述子像素；覆蓋層，覆蓋在該第一基板上，其中對(duì)應(yīng)于該第四區(qū)域的該穿透區(qū)的部分覆蓋層的厚度厚于其它部分覆蓋層的厚度，且對(duì)應(yīng)于該第四區(qū)域的該反射區(qū)的部分覆蓋層的厚度大體上相等于其它部分覆蓋層的厚度；以及液晶層，其設(shè)置在該第一基板與該第二基板之間。
2.如權(quán)利要求1所述的半穿透半反射型顯示器，其中對(duì)應(yīng)于該第四區(qū)域的該穿透區(qū)的部分覆蓋層的厚度比其它部分覆蓋層的厚度大體上厚0.1微米至0.3微米。
3.如權(quán)利要求1所述的半穿透半反射型顯示器，其中該覆蓋層為感光材料所組成。
4.如權(quán)利要求1所述的半穿透半反射型顯示器，還包括另一覆蓋層，覆蓋在該第二基板上，該另一覆蓋層在該第四區(qū)域上的厚度大體上小于該另一覆蓋層在所述彩色區(qū)域上的厚度。
5.一種半穿透半反射型顯示器的制造方法，包括提供第一基板，其具有多個(gè)像素，各個(gè)所述像素分為多個(gè)子像素，且各個(gè)所述子像素具有至少一反射區(qū)及至少一穿透區(qū)；提供第二基板，相對(duì)應(yīng)于該第一基板，該第二基板分為多個(gè)區(qū)域，且所述區(qū)域中的至少三個(gè)為彩色區(qū)域以及至少一個(gè)為第四區(qū)域，而所述區(qū)域相對(duì)應(yīng)于所述子像素；在該第一基板上形成覆蓋層；對(duì)該覆蓋層進(jìn)行多次黃光工藝，其中對(duì)應(yīng)于該第四區(qū)域的該穿透區(qū)的該部分覆蓋層的曝光次數(shù)比對(duì)應(yīng)于所述彩色區(qū)域的該穿透區(qū)的該部分覆蓋層的曝光次數(shù)少；以及在該第一基板與該第二基板之間施加液晶層。
6.如權(quán)利要求5所述的半穿透半反射型顯示器的制造方法，其中該覆蓋層為感光材料所組成。
7.如權(quán)利要求5所述的半穿透半反射型顯示器的制造方法，其中對(duì)應(yīng)于該第四區(qū)域的該穿透區(qū)的部分覆蓋層的曝光次數(shù)比對(duì)應(yīng)于所述彩色區(qū)域的該穿透區(qū)的該部分覆蓋層的曝光次數(shù)少一次。
8.如權(quán)利要求5所述的半穿透半反射型顯示器的制造方法，對(duì)該覆蓋層進(jìn)行多次黃光工藝，包括下列步驟對(duì)與所述彩色區(qū)域及該第四區(qū)域的該反射區(qū)對(duì)應(yīng)的該覆蓋層進(jìn)行曝光；對(duì)與所述彩色區(qū)域的該穿透區(qū)對(duì)應(yīng)的覆蓋層以及與所述彩色區(qū)域及該第四區(qū)域的該反射區(qū)對(duì)應(yīng)的該覆蓋層進(jìn)行曝光，且不曝光與該第四區(qū)域的該穿透區(qū)對(duì)應(yīng)的部分該覆蓋層；對(duì)與所述彩色區(qū)域及該第四區(qū)域的該穿透區(qū)上的至少一開口區(qū)域?qū)?yīng)的部分該覆蓋層進(jìn)行曝光；以及對(duì)該覆蓋層進(jìn)行顯影。
9.如權(quán)利要求5所述的半穿透半反射型顯示器的制造方法，對(duì)該覆蓋層進(jìn)行多次黃光工藝，包括下列步驟對(duì)與所述彩色區(qū)域的該穿透區(qū)對(duì)應(yīng)的該覆蓋層以及與所述彩色區(qū)域及該第四區(qū)域的該反射區(qū)對(duì)應(yīng)的該覆蓋層進(jìn)行曝光，且不曝光與該第四區(qū)域的該穿透區(qū)對(duì)應(yīng)的部分該覆蓋層；對(duì)與所述彩色區(qū)域及該第四區(qū)域的該反射區(qū)對(duì)應(yīng)的該覆蓋層進(jìn)行曝光；對(duì)與所述彩色區(qū)域及該第四區(qū)域的該穿透區(qū)上的至少一開口區(qū)域?qū)?yīng)的部分該覆蓋層進(jìn)行曝光；以及對(duì)該覆蓋層進(jìn)行顯影。
10.如權(quán)利要求5所述的半穿透半反射型顯示器的制造方法，對(duì)該覆蓋層進(jìn)行多次黃光工藝，包括下列步驟對(duì)與所述彩色區(qū)域的該反射區(qū)和該穿透區(qū)對(duì)應(yīng)的該覆蓋層及與該第四區(qū)域的該反射區(qū)和該穿透區(qū)對(duì)應(yīng)的該覆蓋層進(jìn)行曝光；再一次對(duì)與所述彩色區(qū)域的該反射區(qū)和該穿透區(qū)對(duì)應(yīng)的該覆蓋層及與該第四區(qū)域的該反射區(qū)和該穿透區(qū)對(duì)應(yīng)的該覆蓋層進(jìn)行曝光；對(duì)與所述彩色區(qū)域的該穿透區(qū)對(duì)應(yīng)的部分該覆蓋層及與該第四區(qū)域的該穿透區(qū)上的至少一開口區(qū)域?qū)?yīng)的部份該覆蓋層進(jìn)行曝光；以及對(duì)該覆蓋層進(jìn)行顯影。
11.如權(quán)利要求5所述的半穿透半反射型顯示器的制造方法，對(duì)該覆蓋層進(jìn)行多次黃光工藝，包括下列步驟對(duì)與所述彩色區(qū)域及該第四區(qū)域的該反射區(qū)對(duì)應(yīng)的該覆蓋層進(jìn)行曝光；對(duì)與所述彩色區(qū)域的該反射區(qū)和該穿透區(qū)對(duì)應(yīng)的該覆蓋層以及與該第四區(qū)域的該反射區(qū)和該穿透區(qū)對(duì)應(yīng)的該覆蓋層進(jìn)行曝光；對(duì)與所述彩色區(qū)域的該穿透區(qū)對(duì)應(yīng)的部分該覆蓋層以及與該第四區(qū)域的該穿透區(qū)上的至少一開口區(qū)域?qū)?yīng)的部份該覆蓋層進(jìn)行曝光；以及對(duì)該覆蓋層進(jìn)行顯影。
12.如權(quán)利要求5所述的半穿透半反射型顯示器的制造方法，還包括在該第二基板上形成另一覆蓋層，該另一覆蓋層在該第四區(qū)域上的厚度大體上小于該另一覆蓋層在所述彩色區(qū)域上的厚度。
13.一種顯示器的制造方法，包括提供第一基板，其具有多個(gè)像素，各個(gè)所述像素分為多個(gè)子像素；提供第二基板，其相對(duì)于該第一基板，該第二基板分為多個(gè)區(qū)域，且所述區(qū)域中的至少三個(gè)為彩色區(qū)域以及至少一個(gè)為第四區(qū)域，而所述區(qū)域相對(duì)應(yīng)于所述子像素；在該第二基板上形成光致抗蝕劑圖案層，并分別定義該光致抗蝕劑圖案層在所述區(qū)域中的至少三個(gè)彩色區(qū)域中為彩色光致抗蝕劑圖案層以及在所述至少一個(gè)第四區(qū)域中為第四光致抗蝕劑圖層；在所述光致抗蝕劑圖案層上形成覆蓋層；以及在該第一基板與該第二基板之間施加液晶層。
14.如權(quán)利要求13所述的顯示器的制造方法，其中該覆蓋層大體上具有平坦的表面。
15.如權(quán)利要求13所述的顯示器的制造方法，還包括在該第一基板上形成另一覆蓋層。
16.如權(quán)利要求15所述的顯示器的制造方法，其中該另一覆蓋層大體上具有平坦的表面。
17.如權(quán)利要求15所述的顯示器的制造方法，其中在該第一基板及該第二基板上的所述這些覆蓋層大體上具有平坦的表面。
18.如權(quán)利要求13所述的顯示器的制造方法，其中該光致抗蝕劑圖案層大體上具有平坦的表面。
19.如權(quán)利要求13所述的顯示器的制造方法，其中在該第二基板上形成光致抗蝕劑圖案層，并分別定義該光致抗蝕劑圖案層在所述區(qū)域中的至少三個(gè)彩色區(qū)域?yàn)椴噬庵驴刮g劑圖案層及在所述至少一個(gè)第四區(qū)域中為第四光致抗蝕劑圖層的步驟包括在該第二基板上涂覆光致抗蝕劑層；以及圖案化該光致抗蝕劑層，用以依序定義所述區(qū)域中的至少三個(gè)彩色區(qū)域?yàn)椴噬庵驴刮g劑圖案層及所述至少一個(gè)第四區(qū)域?yàn)榈谒墓庵驴刮g劑圖層。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種半穿透半反射型顯示器。第一基板，其具有多個(gè)像素，各個(gè)像素分為多個(gè)子像素，且各子像素具有至少一穿透區(qū)和至少一反射區(qū)。第二基板，其相對(duì)應(yīng)于該第一基板，該第二基板分為多個(gè)區(qū)域，且上述區(qū)域中的至少三個(gè)為彩色區(qū)域以及至少一個(gè)為第四區(qū)域，而所述區(qū)域相對(duì)應(yīng)于所述子像素。覆蓋層覆蓋在該第一基板上，其中對(duì)應(yīng)于第四區(qū)域的穿透區(qū)的部分覆蓋層的厚度厚于其它部分覆蓋層的厚度，且對(duì)應(yīng)于第四區(qū)域的反射區(qū)的部分覆蓋層的厚度大體上相等于其它部分覆蓋層的厚度。液晶層設(shè)置在該第一基板與該第二基板之間。
文檔編號(hào)G02F1/133GK1844983SQ200610082729
公開日2006年10月11日 申請(qǐng)日期2006年5月15日 優(yōu)先權(quán)日2006年5月15日
發(fā)明者洪國(guó)永, 張志明, 胡至仁, 貝志駿 申請(qǐng)人:友達(dá)光電股份有限公司