專利名稱：一種光罩座的制作方法
技術領域：
本發(fā)明關于可應用于曝光機中的一種光罩座，尤其是一種具有轉換套件可自由組裝于固定件的光罩座。
背景技術：
黃光制作工藝(Lithography)是一種用來將光罩上的電路圖案轉移至光阻層，以在基板上定義出特定光阻圖案的圖案轉移技術，一般被廣泛應用于半導體或LCD及PDP等平面顯示器的制作工藝中，用以制備蝕刻屏蔽或者是離子布植屏蔽。
而掃描式曝光機(scan exposure apparatus)即為目前黃光制作工藝常用的曝光機。在進行曝光制作工藝時，掃描式曝光機的光源產(chǎn)生器會產(chǎn)生曝光光線，例如i-line、KrF激光或ArF激光等，并且當曝光光線依序通過光罩以及投射鏡組(projection lens)而投射于諸如半導體芯片或玻璃等基板表面的光阻層時，光罩上的圖案即被轉移至基板上，接著掃描式曝光機的基板平臺或光罩平臺再分別朝不同方向移動，快速到達下一定位并進行上述相同的曝光步驟，以漸進地將光罩上的圖案轉移至基板表面的光阻層中。
一般而言，光罩是利用一平坦且透明的石英當作基板，并以一層厚度約1000埃()的鉻膜覆蓋于光罩的表面上，然后再利用一蝕刻制作工藝對該鉻膜進行蝕刻，以使該光罩表面形成一包括可透光區(qū)及不透光區(qū)的圖案，以應用于微影制作工藝進行圖案轉移。而曝光制作工藝中，光罩會被放置在掃描式曝光機的光罩座上，隨后再利用光罩座作為覆載光罩的裝置以進行曝光制作工藝。
然而近年來平面顯示器不斷隨著世代變大，這也使得玻璃基板的尺寸也越來越來大。就目前掃瞄式曝光機而言，通常透鏡是以1比1的比例，將光罩圖案轉移到玻璃基板上，所以光罩亦隨著世代演變而越來越大。由于現(xiàn)行曝光機的光罩座僅能接受特定大小的光罩，故使得每個世代的光罩彼此之間不能共享于曝光機中，造成設備上的浪費及光罩成本的提高。因此如何借由光罩座的改良，進而能使得曝光機能通用于各世代的光罩，便是一項重要的課題。

發(fā)明內容
本發(fā)明提供可應用于曝光機中的一種光罩座，以解決上述傳統(tǒng)技術中的問題。
本發(fā)明提供一種光罩座用于曝光機上，此光罩座包括一固定件，用以固定第一尺寸的光罩于該光罩座上，以及一轉換套件，以可拆卸的方式裝設在該固定件上，用以固定第二尺寸的光罩在轉換套件上。
由于本發(fā)明的光罩座可利用轉換套件自由組裝于固定件，所以適用于各種不同大小的光罩，解決了過去必須因為光罩大小不同而更換不同曝光機的窘境，使得制作工藝設備成本下降。另外，當大光罩僅有某處有光罩圖案其余為空白時，則可將光罩制作成僅具有光罩圖案的小尺寸光罩，并利用本發(fā)明覆載此光罩，使得光罩成本亦可下降。


圖1為本發(fā)明光罩座的俯視圖。
圖2為本發(fā)明圖1沿I至I’切線方向的剖面示意圖。
圖3為本發(fā)明固定件組裝轉換套件的光罩座俯視圖。
圖4為本發(fā)明圖3由II至II’切線方向的剖面示意圖。
圖5為本發(fā)明應用于曝光機的位置示意圖。
主要組件符號說明100、400 光罩座101 載板102 固定件 103 第一部分104 延伸部 106 第一墊片112 第一光罩 114 第一抽氣管線300 轉換套件 303 第二部分308 支架 310 第二墊片312 第二光罩 314 第二抽氣管線402 燈源 404、410 透鏡組406 光罩 412 基板
414 基板座臺 450 曝光機具體實施方式
請參考圖1和圖2，圖1為本發(fā)明光罩座的俯視圖，而圖2為本發(fā)明圖1沿I至I’切線方向的剖面示意圖。如圖1所示，本發(fā)明的光罩座100為一中空設計的載板101，包括用以放置一第一光罩112的第一部分103，而鄰近第一部分103的載板101，則設置有多個采取對稱配置的固定件102，用以固定第一光罩112。
如圖2所示，每個固定件102還包括一延伸部104、一第一墊片106和一設于載板101內部并貫通延伸部104與第一墊片106的第一抽氣管線114。其中，固定件102的延伸部104及位于延伸部104上方的第一墊片106用來承載第一光罩112，而且第一墊片106更結合設于載板101內部的第一抽氣管線114，并利用其開口端來吸附并固定第一光罩112。因此當曝光機使用第一光罩112進行曝光制作工藝時，即可利用一抽氣裝置將第一抽氣管線114中的空氣抽走，形成壓差，使得第一光罩112被緊密吸附在第一墊片106上，以在光罩座100上固定住第一光罩112，而第一光罩112位于該曝光機的第一墊片106的水平高度，以進行透鏡對焦和曝光。
本發(fā)明的光罩座100除了可曝光大尺寸的光罩之外，當光罩大小不同時，另可借由組裝一轉換套件300在固定件102上，來達到對較小尺寸光罩進行曝光的目的，此外，本發(fā)明更可借由大小不同的轉換套件300來對應不同大小的光罩需求。
請參考圖3和圖4，圖3為本發(fā)明固定件組裝轉換套件的光罩座俯視圖。圖4為本發(fā)明圖3由II至II’切線方向的剖面示意圖。如圖3所示，光罩座100的載板101與固定件102等的結構和功用均與圖1相同，而轉換套件300包括一中空設計的支架308、多個第二墊片310以及一設于支架308內部并貫通各第二墊片310的第二抽氣管線314。其中，支架308的中空處包括一用以容納一第二光罩312的第二部分303。當光罩座100因應產(chǎn)品設計或生產(chǎn)線的產(chǎn)品調度的靈活性的考慮而需要承載第二光罩312時，本發(fā)明便可將轉換套件300的支架308直接組裝第二光罩312于固定件102上。此外，支架308另可再借由螺絲鎖附于固定件102上，或可利用轉換套件300和固定件102上的卡槽相互卡合組裝，以增加轉換套件300和固定件102組裝的穩(wěn)固性。
如圖4所示，當轉換套件300組裝于固定件102時，固定件102的第一抽氣管線114會和轉換套件300的第二抽氣管線314相連通，并利用第二墊片310的開口端來吸附并固定第二光罩312，所以當抽氣裝置不停將第一抽氣管線114的空氣抽走時，第二抽氣管線314中的空氣亦被抽走，而于第二光罩312表面形成壓差來吸附并固定第二光罩312。在此需特別強調，如圖4所示，由于第二墊片310和第一墊片106均貼附于支架308的底面，因此第二墊片310頂面的水平高度和第一墊片106頂面的水平高度是相同的，所以第一光罩112曝光時的聚焦狀況，和第二光罩312所需要的聚焦狀況相同，亦即本發(fā)明的光罩座100應用于曝光制作工藝時，不同尺寸的光罩均會位于曝光機的相同高度處進行曝光，所以不會發(fā)生聚焦對準上的問題。再者，本發(fā)明可更進一步考慮到置于轉換套件300上的小尺寸光罩可能無法借由曝光機的光罩對準系統(tǒng)來校正小尺寸光罩的位置，因此本發(fā)明另外可借由軟件來設定支架308、第二墊片310及第二光罩312的長、寬度等參數(shù)以補正置于轉換套件300上的光罩曝光圖案的正確位置。
請參考圖5，圖5為本發(fā)明應用于曝光機的位置示意圖。曝光機450為一掃瞄式曝光機，其具有燈源402、透鏡組404、光罩座400、透鏡組410和基板座臺414。要進行曝光制作工藝時，基板412即被放入基板座臺414上，而光罩406則被放在光罩座400上，而當燈源402打出光源后，曝光光源會透過透鏡組404再導入光罩406，其中透鏡組404可以幫助燈源402的光更均勻，讓光罩406圖案曝光更完全，而透鏡組410則具又有倍率縮放的功用，以目前掃瞄式曝光機的應用情況而言，通常透鏡組410是以1比1的比率投射光罩圖案于基板412上。
綜合上述說明，本發(fā)明的光罩座400適用于目前業(yè)界的各式曝光機450中，可用以覆載大小不同尺寸的光罩以進行曝光制作工藝，因為本發(fā)明的光罩座400可借由固定件覆載大尺寸的光罩，又可借由轉換套件300組裝于固定件上來覆載其它小尺寸的光罩。
相較于傳統(tǒng)技術，由于本發(fā)明的光罩座可利用轉換套件自由組裝于固定件，所以可適用于各種不同大小的光罩，解決了過去必須因為光罩大小不同而更換不同曝光機的窘境，大幅降低制作工藝設備的建置成本。另外，因為光罩造價隨著尺寸增大而增加，且越新的制作工藝世代則光罩越大，以目前第五代基板而言，其光罩成本已達上百萬元，但當?shù)谖宕庹钟袝r僅有某處有光罩圖案其余為空白時，在過去還是必須制造成第五代光罩尺寸的大光罩，但使用本發(fā)明的話，則可將光罩制作成僅具有光罩圖案的小尺寸光罩，并利用本發(fā)明覆載此光罩，降低光罩成本。所以本發(fā)明可解決傳統(tǒng)技術中，單一曝光機僅適用于同尺寸大小光罩的問題，有效使制作工藝設備成本下降，而且本發(fā)明更可將大尺寸面板改制成小尺寸面板而下降光罩成本，提高生產(chǎn)線的產(chǎn)品調度的靈活性。
以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例，凡依本發(fā)明所做的均等變化與修飾，均應屬本發(fā)明的涵蓋范圍。
權利要求
1.一種光罩座，包括一中空載板，包括一第一部分，用以放置一第一光罩；至少一固定件，設置于該載板上，用以固定該第一光罩；以及一轉換套件，以可拆卸的方式連接該固定件且設置于該第一部分內，該轉換套件包括一第二部分，用以容納一第二光罩。
2.根據(jù)權利要求1所述的光罩座，其特征在于，該光罩座應用于一曝光機中，且該第一光罩位于該固定件的位置與該第二光罩位于該轉換套件的位置，是位于該曝光機相同的水平高度上。
3.根據(jù)權利要求2所述的光罩座，其特征在于，該固定件包括一延伸部，用以承載該第一光罩；一第一墊片，設置于該延伸部上；以及一第一抽氣管線，設于該載板內部并貫通該延伸部與該第一墊片。
4.根據(jù)權利要求3所述的光罩座，其特征在于，該第一抽氣管線連接于一抽氣裝置，借由該抽氣裝置的作用，使得該第一光罩被吸附在該第一墊片上。
5.根據(jù)權利要求4所述的光罩座，其特征在于，該轉換套件包括一支架，包括該第二部分；多個第二墊片，設于該支架上，用以承載該第二光罩；以及一第二抽氣管線，設于該支架內部并貫通各該第二墊片。
6.根據(jù)權利要求5所述的光罩座，其特征在于，該第二抽氣管線與該第一抽氣管線相連通。
7.根據(jù)權利要求6所述的光罩座，其特征在于，該第二抽氣管線與該第一抽氣管線借由該抽氣裝置的作用，使得該第二光罩被吸附在該第二墊片上。
8.根據(jù)權利要求5所述的光罩座，其特征在于，該支架利用螺絲鎖附組裝于該固定件。
9.根據(jù)權利要求5所述的光罩座，其特征在于，該支架利用卡槽卡合于該固定件。
10.根據(jù)權利要求2所述的光罩座，其特征在于，該曝光機為一掃瞄式曝光機。
全文摘要
本發(fā)明提供一種光罩座，用于曝光機上，此光罩座包括固定件，用以固定第一光罩在該光罩座上，而轉換套件可拆卸得裝設在固定件上，用以固定第二光罩在轉換套件上。
文檔編號G03F1/66GK101030039SQ20061005495
公開日2007年9月5日 申請日期2006年2月27日 優(yōu)先權日2006年2月27日
發(fā)明者吳恒忠, 吳英明 申請人:中華映管股份有限公司