專利名稱：一種提高光強探測器測量精度的方法
技術領域：
本發(fā)明涉及光刻設備的校準測試，涉及工件臺上的光強探測器位置的標定，具體地說，是一種提高光強探測器測量精度的方法。
背景技術：
在光刻設備的校準測試中，有這樣一個測試光強探測器位置的標定。光強探測器位于工件臺上，用于測量硅片上接收到的光強值。為了提高光強探測器的光強檢測精度，必須精確測量光強探測器相對于光軸的位置，即相對于工件臺中心的位置。
目前這種測試通用的做法是，利用一塊設有方形通孔的掩模。照明光通過通孔投影到工件臺上產生方形光區(qū)域。
此測試的前提條件是1掩模預對準；2工件臺被粗調；3焦平面被確定；4可變狹縫子系統(tǒng)工作正常；5能用掩模傳輸系統(tǒng)控制掩模；6照明機器常數必須包含光強探測器的位置，光敏直徑以及測試掩模的數據信息。
如圖1所示，目前通用的測試方法是光強探測器找到掩模方孔投影在工件臺上的光區(qū)域后，沿X方向掃描，找到左右兩條邊的50％參考光強值的點的位置，坐標(x3，y3)，(x4，y4)。再沿Y方向掃描，找到上下兩條邊50％光強值的點的位置(x1，y1)，(x2，y2)，那么光區(qū)域的中心坐標則為X=x3+x42,Y=y1+y22...(1)]]>則光強探測器的位置被確定。這個測試的前提條件之一是，要執(zhí)行掩模預對準，保證了在工件臺上的投影光區(qū)域的定位精度。再可利用公式(1)處理數據。但是掩模的預對準是一項復雜的校準測試，需要一些時間。
本發(fā)明通過改變掃描測量的方法和數據處理的算法，則可以在掩模不執(zhí)行預對準的條件下執(zhí)行光強探測器位置測試，這樣可使操作工藝更簡單，用時更少，提高工作效率；并且測試后得到掩模的對準狀態(tài)相關信息，為其他測試提供參考。

發(fā)明內容
發(fā)明的目的在于提供一種提高光強探測器測量精度的方法，解決光強探測器位置測量精度的測試受到掩模預對準制約的狀況，以簡化測試工序，同時，進一步提高光強探測器的位置測量精度。
本發(fā)明的目的是這樣實現(xiàn)的一種提高光強探測器測量精度的方法，其實質性特點在于將測試的前提條件掩模的預對準省略，在X、Y兩個相互垂直的方向設置至少8個光強采樣點數進行掃描，光強的取值范圍設定在參考光強的＞0％且＜100％之間。
上述的一種提高光強探測器測量精度的方法，其中，所述光強的取值點為50％；具體的操作方法為(1)分別在X，Y兩個垂直方向進行掃描，找到至少8個50％的光強采樣點。
(2)記錄8個點的坐標(x1，y1)，(x2，y2)，(x3，y3)，(x4，y4)，(x5，y5)，(x6，y6)，(x7，y7)，(x8，y8)。
(3)精確計算上述八個點的坐標中心； (4)利用上述八個點的坐標計算掩模四條邊的傾斜量，從而得到掩模的傾斜狀態(tài)。
上述的一種提高光強探測器測量精度的方法，其中，可按照以下步驟進行操作(1)裝載掩模；(2)根據機器常數文件讀取數據設定光強探測器的位置，此數據是前一次測量時光強探測器在光區(qū)域中心的坐標，光強探測器放置在這個位置時，接收到的光強是最大光強，作為下面測試的參考光強；(3)光強探測器在暗區(qū)域中的某一位置開始螺旋掃描；掃描的步進值為機器常數中光強探測器光敏直徑的1/4；(4)當光強探測器檢測到的光強值超過參考光強的60％時，即認為找到了掩模方孔投影光區(qū)域；(5)光強探測器在光區(qū)域內分別在X、Y兩個垂直方向進行掃描，找到8個50％的光強采樣點(x1，y1)，(x2，y2)，(x3，y3)，(x4，y4)，(x5，y5)，(x6，y6)，(x7，y7)，(x8，y8)；(6)數據計算，分析；得到光區(qū)域中心坐標，四個邊的旋轉值；該旋轉量可以作為其它測試的參考數據。
本發(fā)明一種提高光強探測器測量精度的方法由于采用了上述的技術方案，使之與現(xiàn)有技術相比，具有以下的優(yōu)點和積極效果1、由于本發(fā)明在不執(zhí)行掩模預對準的前提下即執(zhí)行光強探測器位置的測試，根據測試的結果判斷目前的對準狀態(tài)，因而大大簡化了測試工序，提高了工作效率；2、通過改變掃描測量的方法和數據處理的算法，不僅可以得到光強探測器的位置(x，y)，還可以計算出光區(qū)域視場的傾斜量，給出掩模的傾斜信息，為其它測試提供參考依據。
從而，有效地解決了光強探測器位置測量精度的測試受到掩模預對準的制約狀況，進一步提高了光強探測器的位置測量精度。使光強探測器位置測試工序更加簡化，也節(jié)省了測試時間，提高了工作效率。


通過以下對本發(fā)明一種提高光強探測器測量精度的方法的一實施例結合其附圖的描述，可以進一步理解其發(fā)明的目的、具體結構特征和優(yōu)點。
其中，附圖為圖1為現(xiàn)有技術中光強探測器位置測試方法的原理示意圖；圖2為本發(fā)明的測試原理圖；圖3為沒有執(zhí)行掩模預對準時，投影的光區(qū)域存在繞Z軸方向的旋轉量時掃描測量的軌跡示意圖。
具體實施例方式
本發(fā)明一種提高光強探測器測量精度的方法的主要思想是將測試的前提條件掩模的預對準省略，增加掃描的50％光強的采樣點數。
圖2的測試原理圖中，光強探測器對于掩模上通光孔在工件臺上的投影光區(qū)域的掃描采樣采用了八個點的分布布局，即將測試的前提條件掩模的預對準省略，在X、Y兩個相互垂直的方向設置至少8個光強采樣點數進行掃描，光強的取值范圍設定在＞0％且＜100％參考光強之間。
具體的操作方法為(1)分別在X、Y兩個垂直方向進行掃描，找到至少8個50％的光強采樣點；(2)記錄8個點的坐標(x1，y1)，(x2，y2)，(x3，y3)，(x4，y4)，(x5，y5)，(x6，y6)，(x7，y7)，(x8，y8)；(3)精確計算上述八個點的坐標中心； (4)利用上述八個點的坐標計算掩模四條邊的傾斜量，從而得到掩模的傾斜狀態(tài)；
具體按照以下步驟進行操作(1)裝載掩模；(2)根據機器常數文件讀取數據設定光強探測器的位置，此數據是前一次測量時光強探測器在光區(qū)域中心的坐標，光強探測器放置在這個位置時，接收到的光強是最大光強，作為下面測試的參考光強；(3)光強探測器在暗區(qū)域中的某一位置開始螺旋掃描；掃描的步進值為機器常數中光強探測器光敏直徑的1/4；(4)當光強探測器檢測到的光強值超過參考光強的60％時，即認為找到了掩模方孔投影光區(qū)域；(5)光強探測器在光區(qū)域內分別在X、Y兩個垂直方向進行掃描，找到8個50％的光強采樣點(x1，y1)，(x2，y2)，(x3，y3)，(x4，y4)，(x5，y5)，(x6，y6)，(x7，y7)，(x8，y8)；(6)數據計算，分析；得到光區(qū)域中心坐標，四個邊的旋轉值；該旋轉量可以作為其它測試的參考數據。
如圖3所示，在沒有執(zhí)行掩模預對準時，投影的光區(qū)域存在一定的繞Z軸方向旋轉量時，本發(fā)明的測試方法仍可照常使用。
權利要求
1.一種提高光強探測器測量精度的方法，其特征在于將測試的前提條件掩模的預對準省略，在X、Y兩個相互垂直的方向設置至少8個光強采樣點數進行掃描，光強的取值范圍設定在參考光強的＞0％且＜100％之間。
2.如權利要求1所述的一種提高光強探測器測量精度的方法，其特征在于所述取值點為50％參考光強，具體的操作方法為(1)分別在X、Y兩個垂直方向進行掃描，找到至少8個50％的光強采樣點；(2)記錄8個點的坐標(x1，y1)，(x2，y2)，(x3，y3)，(x4，y4)，(x5，y5)，(x6，y6)，(x7，y7)，(x8，y8)；(3)精確計算上述八個點的坐標中心； (4)利用上述八個點的坐標計算掩模四條邊的傾斜量，從而得到掩模的傾斜狀態(tài)；
3.如權利要求1或2所述的一種提高光強探測器測量精度的方法，其特征在于可按照以下步驟進行操作(1)裝載掩模；(2)根據機器常數文件讀取數據設定光強探測器的位置，此數據是前一次測量時光強探測器在光區(qū)域中心的坐標，光強探測器放置在這個位置時，接收到的光強是最大光強，作為下面測試的參考光強；(3)光強探測器在暗區(qū)域中的某一位置開始螺旋掃描；掃描的步進值為機器常數中光強探測器光敏直徑的1/4；(4)當光強探測器檢測到的光強值超過參考光強的60％時，即認為找到了掩模方孔投影光區(qū)域；(5)光強探測器在光區(qū)域內分別在X、Y兩個垂直方向進行掃描，找到8個50％的光強采樣點(x1，y1)，(x2，y2)，(x3，y3)，(x4，y4)，(x5，y5)，(x6，y6)，(x7，y7)，(x8，y8)；(6)數據計算，分析；得到光區(qū)域中心坐標，四個邊的旋轉值；該旋轉量可以作為其它測試的參考數據。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種提高光強探測器測量精度的方法，其特點是將測試的前提條件掩模的預對準省略，在X、Y兩個相互垂直的方向設置至少8個光強采樣點數進行掃描，光強的取值范圍設定在參考光強的＞0％且＜100％之間。本發(fā)明有效地解決了光強探測器位置測量精度的測試受到掩模預對準的制約狀況，進一步提高了光強探測器的位置測量精度，使光強探測器位置測試工序更加簡化，也節(jié)省了測試時間，提高了工作效率。
文檔編號G03F7/20GK1900825SQ20061002927
公開日2007年1月24日 申請日期2006年7月21日 優(yōu)先權日2006年7月21日
發(fā)明者孫紅梅 申請人:上海微電子裝備有限公司