專利名稱：光校準(zhǔn)和擴散膜以及制造該膜的系統(tǒng)的制作方法
背景技術(shù)：
已經(jīng)研發(fā)了用于接收光并擴散光的光擴散膜。該光擴散膜使用多個制造步驟制造。首先，在丙烯酸酯溶液中放置多個聚苯乙烯珠。接下來將該丙烯酸酯溶液涂敷到可塑膜的表面。其后，加熱可塑膜以烘培丙烯酸酯并且將聚苯乙烯珠附著到該可塑膜。這種光擴散膜制造工藝的主要缺點是其需要一些相對復(fù)雜的步驟來用丙烯酸酯溶液和聚苯乙烯珠涂敷該膜。此外，實施該制造工藝相對昂貴。
因此，需要使用簡化的工藝以制造光擴散膜，該工藝不利用丙烯酸酯溶液或聚苯乙烯珠。

發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)一個典型實施方案，提供了一種光校準(zhǔn)和擴散膜。該膜包括可塑層，該可塑層具有第一側(cè)和與第一側(cè)相對的第二側(cè)，以及至少一個第一外圍邊緣。該第一側(cè)具有第一紋理表面，其中緊鄰第一軸線的第一紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。第一軸線基本平行于第一外圍邊緣。該可塑層校準(zhǔn)經(jīng)過其傳播的光。
根據(jù)另一典型實施方案，提供了一種制造光校準(zhǔn)和擴散膜的方法。該方法包括經(jīng)過模具擠壓加熱的塑料以形成可塑層。該可塑層具有第一側(cè)和與第一側(cè)相對的第二側(cè)，以及至少一個第一外圍邊緣。該可塑層沿第一軸線和第二軸線延伸。該第一軸線基本平行于第一外圍邊緣。第二軸線基本垂直于第一軸線。該方法還包括冷卻第一和第二旋轉(zhuǎn)圓筒形滾柱中至少一個低于預(yù)定的溫度。該方法還包括在第一和第二旋轉(zhuǎn)圓筒形滾柱之間移動可塑層。第一圓筒形滾柱接觸可塑層的第一側(cè)，第二圓筒形滾柱接觸可塑層的第二側(cè)。第一圓筒形滾柱在可塑層的第一側(cè)上形成第一紋理表面，其中緊鄰第一軸線的第一紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
根據(jù)另一典型實施方案，提供了一種用于制造光校準(zhǔn)和擴散膜的系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括可操作地連接到模具的擠壓設(shè)備。該擠壓設(shè)備推進加熱的塑料經(jīng)過模具以形成可塑層。該可塑層具有第一側(cè)和與第一側(cè)相對的第二側(cè)，以及至少一個第一外圍邊緣。該可塑層沿第一軸線和第二軸線延伸。該第一軸線基本平行于第一外圍邊緣。第二軸線基本垂直于第一軸線。該系統(tǒng)還包括用于接收可塑層的，彼此緊鄰放置的第一和第二圓筒形滾柱。該系統(tǒng)還包括冷卻設(shè)備，設(shè)定該設(shè)備以冷卻第一和第二圓筒形滾柱中的至少一個低于預(yù)定的溫度。第一圓筒形滾柱接觸可塑層的第一側(cè)，并且在可塑層的第一側(cè)上形成第一紋理表面。第二圓筒形滾柱接觸可塑層的第二側(cè)，其中緊鄰第一軸線的第一紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
根據(jù)另一典型實施方案，提供了一種用于制造光校準(zhǔn)和擴散膜的方法。該方法包括加熱具有第一側(cè)和第二側(cè)可塑層。該可塑層具有第一側(cè)和與第一側(cè)相對的第二側(cè)，以及至少一個第一外圍邊緣。該可塑層沿第一軸線和第二軸線延伸。該第一軸線基本平行于第一外圍邊緣。第二軸線基本垂直于第一軸線。該方法還包括加熱第一和第二圓筒形滾柱中至少一個高于預(yù)定的溫度。該方法還包括在第一和第二旋轉(zhuǎn)圓筒形滾柱之間移動可塑層，其中第一圓筒形滾柱接觸可塑層的第一側(cè)，第二圓筒形滾柱接觸第二側(cè)。第一圓筒形滾柱在緊鄰可塑層的第一軸線的第一側(cè)上形成第一紋理表面，其中緊鄰第一軸線的第一紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
據(jù)另一典型實施方案，提供了一種用于制造光校準(zhǔn)和擴散膜的系統(tǒng)。該系統(tǒng)包括被設(shè)定來加熱可塑層的第一加熱設(shè)備。該可塑層具有第一側(cè)和與第一側(cè)相對的第二側(cè)，以及至少一個第一外圍邊緣。該可塑層沿第一軸線和第二軸線延伸。該第一軸線基本平行于第一外圍邊緣。第二軸線基本垂直于第一軸線。該系統(tǒng)還包括用于接收可塑層的，彼此緊鄰放置的第一和第二圓筒形滾柱。該系統(tǒng)還包括第二加熱設(shè)備，設(shè)定該設(shè)備以加熱第一和第二圓筒形滾柱中至少一個。第一圓筒形滾柱接觸可塑層的第一側(cè)，并且在可塑層的第一側(cè)上形成第一紋理表面，而第二圓筒形滾柱接觸可塑層的第二側(cè)，其中緊鄰第一軸線的第一紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
根據(jù)另一典型實施方案，提供了一種在光校準(zhǔn)和擴散膜上形成紋理表面的工具。該工具包括圍繞第一軸線放置的圓柱形部分，該部分具有外部紋理表面以及第一端和第二端。該圓柱形部分還包括基本垂直于第一端的第一線，該線緊鄰?fù)獠考y理表面設(shè)置，基本橫跨圓柱形部分延伸。該圓柱形部分還包括第二線，該線距離第一端預(yù)定的距離，基本繞圓柱形部分的圓周延伸。該外部紋理表面具有多個突出部分和多個凹陷部分，其中每個突出部分從至少一個緊鄰的凹陷部分向外延伸。多個突出部分和多個凹陷部分限定多個傾角，其中緊鄰第一線或第二線的外部紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
根據(jù)另一典型實施方案，提供了一種用于在圓筒形滾柱上形成紋理表面的方法。該圓筒形滾柱圍繞第一軸線放置，并且具有外部紋理表面以及第一端和第二端。該圓筒形滾柱還包括基本垂直于第一端的第一線，該線緊鄰?fù)獠考y理表面設(shè)置，基本橫跨圓筒形滾柱延伸。該圓筒形滾柱還包括第二線，該線距離第一端預(yù)定的距離，基本繞圓柱形部分的圓周延伸。該方法包括以預(yù)定的轉(zhuǎn)速圍繞第一軸線旋轉(zhuǎn)圓筒形滾柱。該方法還包括發(fā)射脈動能量束，該能量束以預(yù)定的強度接觸圓筒形滾柱的外表面，并且在圓筒形滾柱旋轉(zhuǎn)期間，把能量束從圓筒形滾柱的第一端移動到第二端。該能量束去除部分外表面以獲得紋理表面，其中緊鄰第一線或第二線的紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
根據(jù)另一典型實施方案，提供了一種用于在圓筒形滾柱上形成紋理表面的方法。該圓筒形滾柱圍繞第一軸線放置，并且具有外部紋理表面以及第一端和第二端。該圓筒形滾柱還包括第一線，該線緊鄰?fù)獠考y理表面設(shè)置。該第一線基本橫跨圓筒形滾柱延伸，基本垂直于第一端。該圓筒形滾柱還包括第二線，該線距離第一端預(yù)定的長度，基本繞圓柱形部分的圓周延伸。該方法包括以預(yù)定的轉(zhuǎn)速在電解液流體中圍繞第一軸線旋轉(zhuǎn)圓筒形滾柱。該圓筒形滾柱電氣接地。該方法還包括向電解液流體施加預(yù)定的電流密度，其中流體中的金屬離子附著到圓筒形滾柱的外表面以形成紋理表面，其中緊鄰第一線或第二線的紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
根據(jù)另一典型實施方案，提供了一種用于在圓筒形滾柱上形成紋理表面的方法。該圓筒形滾柱圍繞第一軸線放置，并且具有外部紋理表面以及第一端和第二端。該圓筒形滾柱還包括第一線，該線緊鄰?fù)獠考y理表面設(shè)置。該第一線基本橫跨圓筒形滾柱延伸，基本垂直于第一端。該圓筒形滾柱還包括第二線，該線距離第一端預(yù)定的長度，基本繞圓柱形部分的圓周延伸。該方法還包括以預(yù)定的轉(zhuǎn)速在包含金屬離子和非金屬粒子的流體中圍繞第一軸線旋轉(zhuǎn)圓筒形滾柱。該方法還包括化學(xué)鍵合金屬離子和非金屬粒子到圓筒形滾柱的外表面以形成紋理表面，其中緊鄰第一線或第二線的紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
根據(jù)另一典型實施方案，提供了一種用于在圓筒形滾柱上形成紋理表面的方法。該圓筒形滾柱圍繞第一軸線放置，并且具有外部紋理表面以及第一端和第二端。該圓筒形滾柱還包括第一線，該線緊鄰?fù)獠考y理表面設(shè)置。該第一線基本橫跨圓筒形滾柱延伸，基本垂直于第一端。該圓筒形滾柱還包括第二線，該線距離第一端預(yù)定的長度，基本繞圓柱形部分的圓周延伸。該方法包括以預(yù)定的轉(zhuǎn)速圍繞第一軸線旋轉(zhuǎn)圓筒形滾柱。該方法還包括將介電液涂到圓筒形滾柱上。該方法還包括從緊鄰圓筒形滾柱放置的一個或多個電極反復(fù)釋放電火花。該電火花接觸圓筒形滾柱的外表面，在圓筒形滾柱上加熱和熔化預(yù)定量的金屬以形成紋理表面。在圓筒形滾柱旋轉(zhuǎn)期間，移動電火花從圓筒形滾柱的第一端到第二端，其中緊鄰第一線或第二線的紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
根據(jù)另一典型實施方案，提供了一種用于在圓筒形滾柱上形成紋理表面的方法。該圓筒形滾柱圍繞第一軸線放置，并且具有外部紋理表面以及第一端和第二端。該圓筒形滾柱還包括第一線，該線緊鄰?fù)獠考y理表面設(shè)置。該第一線基本橫跨圓筒形滾柱延伸，基本垂直于第一端。該圓筒形滾柱還包括第二線，該線距離第一端預(yù)定的長度，基本繞圓柱形部分的圓周延伸。該方法包括以預(yù)定的轉(zhuǎn)速圍繞第一軸線旋轉(zhuǎn)圓筒形滾柱。該方法還包括使用切削工具以預(yù)定的頻率反復(fù)接觸圓筒形滾柱的外表面。在圓筒形滾柱旋轉(zhuǎn)期間，該切削工具從圓筒形滾柱的第一端移動到第二端。該切削工具去除部分外表面以獲得紋理表面，其中緊鄰第一線或第二線的紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
根據(jù)另一典型實施方案，提供了一種用于在圓筒形滾柱上形成紋理表面的方法。該圓筒形滾柱圍繞第一軸線放置，并且具有外部紋理表面以及第一端和第二端。該圓筒形滾柱還包括第一線，該線緊鄰?fù)獠考y理表面設(shè)置。該第一線基本橫跨圓筒形滾柱延伸，基本垂直于第一端。該圓筒形滾柱還包括第二線，該線距離第一端預(yù)定的長度，基本繞圓柱形部分的圓周延伸。該方法包括用耐化學(xué)層涂敷該圓筒形滾柱，其中去除在預(yù)定位置的耐化學(xué)層，以暴露其下的在預(yù)定位置的圓筒形滾柱表面。該方法還包括以預(yù)定的轉(zhuǎn)速在包含蝕刻溶液的容器中圍繞第一軸線旋轉(zhuǎn)圓筒形滾柱。該蝕刻溶液去除在預(yù)定位置的部分圓桶形滾柱以獲得紋理表面，其中緊鄰第一線或第二線的紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
根據(jù)另一典型實施方案，提供了一種背光照明設(shè)備。該背光照明設(shè)備包括光源。該背光照明設(shè)備還包括緊鄰光源放置用于接收來自光源的光的光導(dǎo)。該背光照明設(shè)備還包括至少一個可塑層，該可塑層具有第一側(cè)和與第一側(cè)相對的第二側(cè)以及至少一個第一外圍邊緣。該第一側(cè)具有第一紋理表面，其中緊鄰第一軸線的第一紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值，該第一軸線基本平行于第一外圍邊緣，其中可塑層校準(zhǔn)經(jīng)過其傳播的光。
根據(jù)另一典型實施方案，提供了一種光校準(zhǔn)和擴散膜。該膜包括單一層(unitary layer)，其中大于或者等于單一層總量的80％包括聚碳酸酯化合物。該單一層具有第一側(cè)和與第一側(cè)相對的第二側(cè)，以及至少一個第一外圍邊緣。該第一側(cè)具有第一紋理表面，其中緊鄰第一軸線的第一紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。該第一軸線基本平行于第一外圍邊緣?？伤軐有?zhǔn)經(jīng)過其傳播的光。
基于對下述附圖和詳細描述的回顧，根據(jù)實施方案的其它系統(tǒng)和/或方法將變得或為本領(lǐng)域的技術(shù)人員顯而易見。所有這樣的附加系統(tǒng)和方法旨在落在本發(fā)明的范圍內(nèi)，受所附權(quán)利要求的保護。


圖1是根據(jù)典型實施方案的背光照明設(shè)備的分解圖；圖2是圖1的背光照明設(shè)備的一部分的示意圖；圖3是根據(jù)另一典型實施方案，在圖1的背光照明設(shè)備中使用的光校準(zhǔn)和擴散膜的橫截面示意圖；圖4是表明光校準(zhǔn)和擴散膜的前表面上傾角分布的圖表；圖5是圓筒形滾柱的俯視圖，圖解用于確定傾角分布的典型軌跡；圖6是光校準(zhǔn)和擴散膜的俯視圖，圖解用于確定傾角分布的典型軌跡；圖7是圓筒形滾柱的俯視圖，圖解用于確定傾角分布的典型軌跡；圖8是光校準(zhǔn)和擴散膜的俯視圖，圖解用于確定傾角分布的典型軌跡；圖9是根據(jù)另一典型實施方案，用于制造光校準(zhǔn)和擴散膜的熔化壓延(calendaring)系統(tǒng)的示意圖；圖10是根據(jù)另一典型實施方案，用于制造光校準(zhǔn)和擴散膜的壓紋系統(tǒng)的示意圖；圖11是根據(jù)另一典型實施方案，用于在圓筒形滾柱上獲得紋理表面的能量束刻模系統(tǒng)的示意圖；圖12是使用圖11的能量束刻模系統(tǒng)獲得的圓筒形滾柱上紋理表面的示意圖；圖13是使用圖12的圓筒形滾柱獲得的光校準(zhǔn)和擴散膜上紋理表面的示意圖；圖14是根據(jù)另一典型實施方案，用于在圓筒形滾柱上獲得紋理表面的粒子和金屬離子聯(lián)合沉積系統(tǒng)的示意圖；圖15是使用圖14的粒子和金屬離子聯(lián)合沉積系統(tǒng)獲得的圓筒形滾柱上紋理表面的示意圖；圖16是使用圖15的圓筒形滾柱獲得的光校準(zhǔn)和擴散膜上紋理表面的示意圖；圖17是根據(jù)另一典型實施方案，用于在圓筒形滾柱上獲得紋理表面的金屬離子沉積系統(tǒng)的示意圖；圖18是根據(jù)另一典型實施方案，用于在圓筒形滾柱上獲得紋理表面的微機械刻模系統(tǒng)的示意圖；圖19是在圖18的系統(tǒng)中使用的切削工具的放大主視圖；圖20是在圖18的系統(tǒng)中使用的切削工具的放大側(cè)視圖；圖21是根據(jù)另一典型實施方案，用于在圓筒形滾柱上獲得紋理表面的化學(xué)侵蝕刻模系統(tǒng)的示意圖；圖22是圖21的系統(tǒng)所使用的圓筒形滾柱的一部分的放大的橫截面圖；以及圖23是根據(jù)另一典型實施方案，用于在圓筒形滾柱上獲得紋理表面的放電刻模系統(tǒng)的示意圖；具體實施方式
參考圖1和2，圖解了用于照射液晶顯示設(shè)備(未示出)的背光照明設(shè)備20。該背光照明設(shè)備20包括光源22，反射膜24，光導(dǎo)26，光校準(zhǔn)和擴散膜28，光校準(zhǔn)膜30，光校準(zhǔn)膜32，以及光擴散膜34。如示出的，光源22放置在光導(dǎo)26的第一端。此外，反射膜24緊鄰光導(dǎo)26的第一側(cè)放置。光校準(zhǔn)和擴散膜28的第一側(cè)緊鄰光導(dǎo)26的第二側(cè)放置，并且利用柱36，38與光導(dǎo)26分隔開。柱36，38形成光導(dǎo)26和膜28之間的空氣間隙40。光校準(zhǔn)膜30緊鄰膜28的第二側(cè)放置。最后，光校準(zhǔn)模32緊鄰光校準(zhǔn)膜30放置，并且光擴散膜34緊鄰光校準(zhǔn)膜32放置。
現(xiàn)在將解釋典型光束經(jīng)過光導(dǎo)26和光校準(zhǔn)和擴散膜28傳播的路徑。光源22發(fā)射光束42，該光束經(jīng)過光導(dǎo)26傳播，并且在那里折射向軸線44，所述軸線基本垂直于光導(dǎo)26的上表面。當(dāng)光束42離開光導(dǎo)26和空氣間隙40時，光束42被折射遠離軸線44近45度。當(dāng)光束42進入光校準(zhǔn)和擴散膜28時，膜28把光束42折射向軸線44。其后，當(dāng)光束42離開膜28時，光束被折射遠離軸線44近31度。其后，光束42以相對軸線44的31度角進入光校準(zhǔn)膜30的底側(cè)，并且傳播經(jīng)過膜30。膜30在其上表面折射光束到相對軸線44的零度角。因為光束以相對軸線44的零度角進入膜32，膜32沿軸線44具有相對高的亮度。
參考圖2和3，現(xiàn)在將更詳細地解釋光校準(zhǔn)和擴散膜28。利用膜28將光束折射向軸線44。膜28由單一可塑層構(gòu)成，該可塑層具有0.025-10毫米范圍內(nèi)的厚度。當(dāng)然，膜28可以構(gòu)成具有小于0.025毫米或者大于10毫米的厚度。膜28具有沉積在可塑層內(nèi)的光學(xué)增亮化合物，其中光學(xué)增亮化合物的量在可塑層總量的0.001％-1.0％范圍內(nèi)。膜28還包括沉積在可塑層內(nèi)諸如氟化磺化磷(fluorinatedphosphonium sulfonate)等的抗靜電化合物。氟化磺化磷的通式為{CF3(CF2)n(SO3)}θ{P(R1)(R2)(R3)(R4)}Φ。其中F是氟；n是1-12中的一個整數(shù)，S是硫；R1，R2和R3是相同元素，每個都具有含1-8個碳原子的脂肪烴基，或者含6-12個碳原子的芳香烴基；而R4是含1-18個碳原子的烴基。膜28還包括置于可塑層內(nèi)的紫外線(UV)吸收化合物，其中UV吸收化合物的量在可塑層總量的0.01％-1.0％的范圍內(nèi)。膜28包括具有多個突出部分52和多個凹陷部分54的紋理上表面46。多個突出部分52的平均高度在多個突出部分的平均寬度的25％-75％的范圍內(nèi)。此外，多個突出部分52的平均寬度在0.5-100微米的范圍內(nèi)。突出部分52和凹陷部分54分布在上表面46上，以獲得期望的傾角分布。
傾角分布是沿光校準(zhǔn)和擴散膜28上至少一個預(yù)定軌跡的多個傾角的分布。此外，各傾角(φ)用下式計算傾角φ＝arc tan|Δh/Δw|，其中(Δw)代表沿紋理表面46的預(yù)定寬度，比方例如0.5微米；(Δh)代表(i)紋理表面46上沿寬度(Δw)的最低位置和(ii)紋理表面46上沿寬度(Δw)的最高位置之間的高度差。
可以根據(jù)使用器械Surfcoder ET4000所生成的經(jīng)濾除的二維表面輪廓數(shù)據(jù)計算在本專利申請中報道的可塑膜的傾角，該器械由日本東京的Kosaka Laboratory Limited制造。器械Surfcoder ET4000的操作設(shè)置如下截止(cutoff)＝0.25mm，采樣長度和評測長度都設(shè)為10毫米。速度設(shè)為0.1毫米/秒，在8000個相等間隔的點獲得輪廓數(shù)據(jù)。
可以根據(jù)使用器械Surfcoder SE 1700α所生成的經(jīng)濾除的二維表面輪廓數(shù)據(jù)計算在本專利申請中報道的圓筒形滾柱的傾角，該器械也由日本東京的Kosaka Laboratory Limited制造。器械SurfcoderSE1700α器械的操作設(shè)置如下評測長度＝7.2毫米，截止Lc＝0.800毫米。速度設(shè)為0.500毫米/秒，在14400個點獲得輪廓數(shù)據(jù)。
可以沿可塑膜上的預(yù)定參考軌跡或線確定傾角分布。替代地，使用眾多參考軌跡或線可以確定可塑層的整個表面上的傾角分布。
例如，參考圖6和8，可以沿橫跨紋理表面46的預(yù)定軌跡計算多個傾角(φ)，諸如平行于膜28的邊緣61的軸線62，或者垂直于軸線62的軸線60。替代地，可以沿線80或線82計算多個傾角(φ)。在前述的一個或多個軌跡中，期望的傾角分布包括7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
參考圖4，圖解了根據(jù)一個典型實施方案的，說明膜28的第一側(cè)上的紋理表面46上的傾角分布的圖表。發(fā)明者在此已經(jīng)認識到當(dāng)紋理表面46上20％或更小比例的傾角，并且優(yōu)選表面46上7％至20％的傾角，具有零度至五度的值時，緊鄰的亮度增強膜(例如，膜30或32)關(guān)于軸線44具有增強的亮度。
參考圖1和2，紋理上表面46上零度至五度的傾角的比例控制離開膜28和進入光校準(zhǔn)膜30的光的角度。當(dāng)表面46上傾角的百分比是約16％時，光如所示出的以相對軸線44為31度角離開膜28。在一個替代實施方案中，如果期望光離開膜28的角度相對軸線44大于31度，則膜28應(yīng)當(dāng)構(gòu)造成大于16％的傾角具有零度至五度的值。在另一個實施方案中，如果期望光離開膜28的角度相對軸線44小于31度，則膜28應(yīng)當(dāng)構(gòu)造成小于16％的傾角具有零度至五度的值。
參考圖3，膜28還具有在膜28的第二側(cè)上的紋理表面48。該紋理表面48具有傾角分布，其中紋理表面48上大于或者等于70％的傾角具有零度至五度的值。
參考圖9，圖解了用于制造紋理可塑層106的熔化壓延系統(tǒng)100，該紋理可塑層隨后可被切割成預(yù)定的形狀以形成光校準(zhǔn)和擴散膜28。熔化壓延系統(tǒng)100包括擠壓設(shè)備102，模具104，圓筒形滾柱64、108，110，112，114，116，柱形套管118，滾柱冷卻系統(tǒng)120，膜厚掃描儀122，電動機124，126，128，以及控制計算機130。
提供擠壓設(shè)備102加熱塑料高于預(yù)定的溫度，以促使塑料成為液態(tài)?？刹僮鞯剡B接擠壓設(shè)備102到模具104和控制計算機130。響應(yīng)來自控制計算機130的控制信號(E)，擠壓設(shè)備102加熱在那里的塑料高于預(yù)定的溫度，并且推進塑料經(jīng)過模具104以形成可塑層106。
提供圓筒形滾柱64、108以在它們之間接收來自模具104的可塑層106，并且在可塑層106的至少一側(cè)上形成紋理表面。圓筒形滾柱64、108優(yōu)選由鋼構(gòu)造，并且可操作地連接到滾柱冷卻系統(tǒng)120。當(dāng)然，在一個替代實施方案中，圓筒形滾柱64、108可以由其它為本領(lǐng)域技術(shù)人員所公知的金屬的或非金屬的材料構(gòu)造。滾柱冷卻系統(tǒng)120維持圓筒形滾柱64、108的溫度低于預(yù)定溫度，以當(dāng)可塑層106從滾柱64、108之間通過時將其固化。圓筒形滾柱64具有紋理表面107，其中紋理表面107上或者沿紋理表面107上至少一個軌跡的7％至20％的傾角具有零度至五度的值。因而，當(dāng)圓筒形滾柱64接觸可塑層106的第一側(cè)時，圓筒形滾柱64在可塑層106上形成紋理表面，其中層106的表面46上或者沿紋理表面46上至少一個軌跡的7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
參考圖5和7，可以沿橫跨外表面107的預(yù)定軌跡確定圓筒形滾柱64的傾角(φ)，諸如基本垂直于端211的基本橫跨滾柱64延伸的線68，或者距離端211預(yù)定的長度，基本繞滾柱64的圓周延伸的線62。替代地，可以沿線84或線86確定圓筒形滾柱64的傾角(φ)。
在層106已經(jīng)從滾柱64、108之間通過之后，設(shè)定圓筒形滾柱110、112以接收可塑層106?？梢哉{(diào)整圓筒形滾柱110的位置，以改變接觸圓筒形滾柱108的可塑層106的表面面積的數(shù)量?？刹僮鞯剡B接圓筒形滾柱110到滾柱冷卻系統(tǒng)120，該冷卻系統(tǒng)維持滾柱110的溫度低于預(yù)定溫度以固化可塑層106。圓筒形滾柱112接收滾柱110下游的一部分可塑層106，并且向圓筒形滾柱114、116傳導(dǎo)可塑層106。
提供圓筒形滾柱114、116以在它們之間接收可塑層106，并且向柱形套管(cylindrical spool)118移動可塑層106。圓筒形滾柱114、116分別可操作地連接到電動機126、124?？刂朴嬎銠C130生成控制信號(M1)、(M2)，其分別促使電動機124、126按預(yù)定方向旋轉(zhuǎn)滾柱116、114以將可塑層106向套管118推進。
提供柱形套管118以接收紋理可塑層106，并且形成一卷可塑層106。可操作地連接柱形套管118到電動機128。控制計算機130生成控制信號(M3)，該控制信號促使電動機128按預(yù)定方向旋轉(zhuǎn)套管118以形成一卷可塑層106。
在圓筒形滾柱114、116接收層106之前，提供膜厚掃描儀122以測量可塑層106的厚度。膜厚掃描儀122生成表示可塑層106厚度的信號(T1)，該信號被傳輸?shù)娇刂朴嬎銠C130。
參考圖10，圖解了用于制造可塑層154的壓紋系統(tǒng)150，該可塑層隨后被切割成預(yù)定的形狀以形成膜28。壓紋系統(tǒng)150包括柱形套管152，膜加熱設(shè)備156，圓筒形滾柱64、160、162、164、166、168，柱形套管170，滾柱加熱系統(tǒng)172，膜厚掃描儀174，電動機176、178、180，以及控制計算機182。
提供柱形套管152以在那里保持可塑層150。當(dāng)柱形套管152旋轉(zhuǎn)時，從套管152解開一部分可塑層150，并且將其移向圓筒形滾柱64、160。
當(dāng)可塑層150從柱形套管152移向圓筒形滾柱64、160時，提供膜加熱設(shè)備156以加熱該可塑層150?？刂朴嬎銠C182生成傳輸?shù)侥ぜ訜嵩O(shè)備156的信號(H1)，該信號促使設(shè)備156加熱可塑層150高于預(yù)定溫度。
提供圓筒形滾柱64、160，以在它們之間接收來自柱形套管152的可塑層154，并且在可塑層154的至少一側(cè)上形成紋理表面。圓筒形滾柱64、160優(yōu)選由鋼構(gòu)造，并且可操作地連接到滾柱加熱系統(tǒng)172。當(dāng)然，在一個替代實施方案中，圓筒形滾柱64、160可以由其它為本領(lǐng)域技術(shù)人員所公知的金屬的或非金屬的材料構(gòu)造。滾柱加熱系統(tǒng)172維持滾柱64、160的溫度高于預(yù)定溫度，以當(dāng)可塑層154從滾柱64、160之間通過時至少熔化部分該可塑層。圓筒形滾柱64具有外部紋理表面107，其中紋理表面107上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。因而，當(dāng)圓筒形滾柱64接觸可塑層154的第一側(cè)時，圓筒形滾柱64在可塑層154上形成紋理表面，其中層154的上表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
在層154已經(jīng)從滾柱64、160之間通過之后，設(shè)定圓筒形滾柱162，164以接收可塑層154?？梢哉{(diào)整圓筒形滾柱162的位置，以改變接觸圓筒形滾柱160的可塑層154的表面面積的數(shù)量。圓筒形滾柱164接收滾柱162下游的一部分可塑層154，并且向圓筒形滾柱166、168傳導(dǎo)可塑層154。
提供圓筒形滾柱166、168以接收可塑層154，并且向柱形套管170移動可塑層154。圓筒形滾柱166、168分別可操作地連接到電動機178、176?？刂朴嬎銠C182生成控制信號(M4)、(M5)，該控制信號分別促使電動機176、178按預(yù)定方向旋轉(zhuǎn)滾柱168、166以將可塑層154向套管170推進。
提供柱形套管170以接收可塑層154，并且形成一卷可塑層154?？刹僮鞯剡B接柱形套管170到電動機180。控制計算機182生成控制信號(M6)，該控制信號促使電動機180按預(yù)定方向旋轉(zhuǎn)套管170以形成一卷可塑層154。
在圓筒形滾柱114、116接收層154之前，提供膜厚掃描儀174以測量可塑層154的厚度。膜厚掃描儀174生成表示可塑層154厚度的信號(T2)，該信號被傳輸?shù)娇刂朴嬎銠C182。
參考圖11，圖解了根據(jù)典型實施方案在圓筒形滾柱64上形成紋理表面的系統(tǒng)200。圓筒形滾柱64具有紋理表面，在熔融砑光系統(tǒng)100或壓紋系統(tǒng)150中使用該紋理表面以形成用來獲得膜28的紋理可塑層。該系統(tǒng)200包括激光器202，線性致動器204，電動機206，以及控制計算機208。
提供激光器202以發(fā)射脈動激光束，該激光束以預(yù)定的強度接觸外表面，去除部分外表面209，以在其上獲得紋理表面。激光器202發(fā)射的激光束在圓筒形滾柱64的外表面209的聚焦直徑在0.005-0.5毫米的范圍內(nèi)。此外，在0.1-100毫秒范圍內(nèi)的時間段，發(fā)射用于圓筒形滾柱64的預(yù)定面積的激光束具有0.05-1.0焦耳范圍內(nèi)的能量級?？刹僮鞯剡B接激光器202到控制計算機208，并且響應(yīng)從控制計算機208接收的控制信號(C1)生成激光束。激光器102包括釹(Nd)釔、鋁、石榴石(YAG)激光器，設(shè)定來發(fā)射具有1.06微米的波長的激光束。但是，應(yīng)當(dāng)理解，可以使用任何能夠在圓筒形滾柱上形成所期望的紋理表面的激光源。在一個替代實施方案中，可以用設(shè)定來在圓筒形滾柱上形成所期望的紋理表面的電子束發(fā)射設(shè)備代替激光器202。在另一個替代實施方案中，可以用設(shè)定來在圓筒形滾柱上形成所期望的紋理表面的離子束發(fā)射設(shè)備代替激光器202。
可操作地連接線性致動器204到激光器202，用于沿軸線203移動激光器202。軸線203基本平行于圓筒形滾柱64的外表面209。線性致動器204相對圓筒形滾柱64以在0.001-0.1毫米每秒范圍內(nèi)的速度移動激光器202。在一個替代實施方案中，可以連接線性致動器204到圓筒形滾柱64，按相對靜止的激光器的軸線方向移動滾柱64。
在線性操作機構(gòu)204沿軸線203移動激光器202從滾柱64的端211到端213時，可操作地連接電動機206到圓筒形滾柱64以旋轉(zhuǎn)滾柱64?？刂朴嬎銠C200生成信號(M7)，該信號促使電動機206以預(yù)定的速度旋轉(zhuǎn)圓筒形滾柱64。尤其是，電動機206旋轉(zhuǎn)圓筒形滾柱64，以便外表面209的線速度在25-2500毫米每秒的范圍內(nèi)。
參考圖12，圖解了圓筒形滾柱64的部分紋理表面209的橫截面圖。使用能量束刻模系統(tǒng)200獲得紋理表面209。紋理表面209具有傾角分布，其中紋理表面209上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
參考圖13，圖解了由圓筒形滾柱64形成的紋理可塑層切割而來的光校準(zhǔn)和擴散膜28的部分紋理表面215的橫截面圖。膜28具有傾角分布，其中膜28上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
參考圖14，圖解了根據(jù)另一典型實施方案的用于在圓筒形滾柱251上形成紋理表面的系統(tǒng)230?？梢栽谌刍瘔貉酉到y(tǒng)100中或者壓紋系統(tǒng)150中使用圓筒形滾柱251，以形成紋理可塑層，隨后可切割該可塑層為預(yù)定的形狀以獲得具有上述的膜28的物理特性的膜。系統(tǒng)230包括外殼232，電動機242，泵244，溫控儀246，粒子和金屬離子補充器248，以及控制計算機250。
外殼232限定用于接收圓筒形滾柱251的內(nèi)部區(qū)域234。外殼232容納包含多個金屬離子236和多個非金屬粒子238的流體。非金屬粒子的尺寸或直徑在1-100微米范圍內(nèi)。非金屬粒子包括硅粒子(silicaparticle)。該硅粒子可以是實心硅粒子，中空硅粒子或多孔硅粒子。在一個替代實施方案中，非金屬粒子包括氧化鋁粒子。該氧化鋁粒子可以是實心氧化鋁粒子，中空氧化鋁粒子或多孔氧化鋁粒子。在另一個替代實施方案中，非金屬粒子包括金剛石粒子。金屬離子包括鎳離子和鎳合金離子。當(dāng)外殼232內(nèi)的流體維持在期望的溫度時，流體中的非金屬粒子和金屬離子化學(xué)鍵合到圓筒形滾柱251的外表面253以形成紋理表面。在流體中旋轉(zhuǎn)圓筒形滾柱251以獲得紋理表面，其中紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
可操作地連接電動機242到圓筒形滾柱251，并且以預(yù)定的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)圓筒形滾柱251。在外殼232內(nèi)放置電動機242。在一個替代實施方案中，電動機242放置在外殼232外部，其軸(未示出)經(jīng)過外殼232延伸，連接到圓筒形滾柱251以旋轉(zhuǎn)滾柱251。控制計算機250生成信號(M8)，該信號促使電動機242以預(yù)定的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)圓筒形滾柱251。
提供泵244以從外殼232經(jīng)過溫控儀246與粒子和金屬離子補充器248抽取包含非金屬粒子和金屬離子的流體。具體而言，控制計算機250生產(chǎn)信號(P1)，該信號促使泵244從外殼232經(jīng)過儀器246和儀器248抽取流體，并且返回內(nèi)部區(qū)域234。
可操作地連接溫控儀246到泵244并且從泵244接收包含非金屬粒子和金屬離子的流體。提供溫控儀246以控制經(jīng)過那里被抽取的流體的溫度在允許非金屬粒子和金屬離子聯(lián)合沉積到圓筒形滾柱251的外表面253上的期望溫度。溫控儀246監(jiān)測泵中經(jīng)過那里的流體溫度，并且升高或者降低流體的溫度到期望的溫度。
可操作地連接粒子和金屬離子補充器248到溫控儀246，并且從儀器246接收包含非金屬粒子和金屬離子的流體。在非金屬粒子和金屬離子聯(lián)合沉積到表面253上的期間，儀器248監(jiān)測非金屬粒子和金屬離子的濃度。應(yīng)當(dāng)理解，由于非金屬粒子和金屬離子鍵合到滾柱251的外表面253，流體中非金屬粒子和金屬離子的濃度將降低。儀器248測量經(jīng)過那里被抽取的流體中非金屬粒子和金屬離子的濃度，并且增加額外量的非金屬粒子和金屬離子到流體中以維持各物質(zhì)期望的濃度。在通過儀器248調(diào)節(jié)流體后，傳送流體到外殼232的內(nèi)部區(qū)域234。
參考圖15，圖解了圓筒形滾柱251的部分紋理表面253的橫截面圖。使用粒子和金屬粒子聯(lián)合沉積系統(tǒng)230獲得紋理表面253。紋理表面253具有傾角分布，其中紋理表面253上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
參考圖16，圖解了由圓筒形滾柱251形成的紋理可塑層切割而來的光校準(zhǔn)和擴散膜的部分紋理表面254的橫截面圖。紋理表面254具有傾角分布，其中紋理表面254上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
參考圖17，圖解了根據(jù)另一典型實施方案的用于在圓筒形滾柱278上形成紋理表面的系統(tǒng)270?？梢栽谌刍瘔貉酉到y(tǒng)100中或者壓紋系統(tǒng)150中使用圓筒形滾柱278以形成紋理可塑層，使用該可塑層以獲得具有基本類似上述膜28的物理特性的膜。系統(tǒng)270包括外殼272，電動機280，電流源282，以及控制計算機284。
外殼272限定用于接收圓筒形滾柱278的內(nèi)部區(qū)域274。外殼272容納包含多個金屬離子276的電解液。在一個實施方案中，多個金屬離子276包括鉻離子。當(dāng)施加預(yù)定的電流密度到電解液時，金屬離子276附著到圓筒形滾柱278的外表面279，以形成紋理表面。在電解液中旋轉(zhuǎn)圓筒形滾柱278以獲得紋理表面，其中紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
可操作地連接電動機280到圓筒形滾柱278，并且提供來在預(yù)定的時間段以預(yù)定的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)圓筒形滾柱278。例如，電動機280能夠在時間段為0.5-50小時范圍內(nèi)，以1-10轉(zhuǎn)每分范圍內(nèi)的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)圓筒形滾柱278。電動機280放置在外殼272內(nèi)部。在一個替代的實施方案中，電動機280放置在外殼272外部，其軸(未示出)經(jīng)過外殼272延伸，連接到圓筒形滾柱278以旋轉(zhuǎn)滾柱278。尤其是，控制計算機284生成信號(M9)，該信號促使電動機280以期望的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)圓筒形滾柱278。
提供電流源282施加預(yù)定的電流密度經(jīng)過電解液，以促使電解液中的金屬離子粘附到圓筒形滾柱278的外表面279。電流源280電耦聯(lián)在浸沒于電解液中的金屬棒275和圓筒形滾柱278之間。電流源280還可操作地連接到控制計算機284?？刂朴嬎銠C284生成控制信號(I1)，該信號促使電流源282產(chǎn)生電流經(jīng)過電解液。在一個實施方案中，電流源280在電解液中產(chǎn)生0.001-0.1安培每平方毫米范圍內(nèi)的電流密度以促使液體中的金屬離子粘附到圓筒形滾柱278。
參考圖18，圖解了根據(jù)另一典型實施方案的，用于在圓筒形滾柱318上形成紋理表面的系統(tǒng)300。可以在熔化壓延系統(tǒng)100中或者壓紋系統(tǒng)150中使用圓筒形滾柱318，以形成紋理可塑層，隨后切割該可塑層為預(yù)定的形狀以獲得具有基本類似上述膜28的物理特性的膜。系統(tǒng)300包括刻模設(shè)備302，線性致動器312，電動機314，以及控制計算機316。
提供刻模設(shè)備302以預(yù)定的頻率反復(fù)接觸圓筒形滾柱318的外表面319，去除部分外表面319以獲得紋理表面。具體而言，預(yù)定頻率優(yōu)選在1000-1500千赫茲的范圍內(nèi)。刻模設(shè)備302包括壓電轉(zhuǎn)換器304，往復(fù)件306，切削工具夾具308，以及切削工具310。
提供壓電轉(zhuǎn)換器304響應(yīng)從控制計算機316接收的控制信號(P)，以預(yù)定的頻率沿軸線307上下反復(fù)移動往復(fù)件306。往復(fù)件306還可操作地連接到保持切削工具310的切削工具夾具308的第一端。
參考圖19和20，提供切削工具310以去除圓筒形滾柱318的部分外表面319。切削工具310由輪緣直徑(D1)在2-30微米范圍內(nèi)的金剛石構(gòu)造。切削工具310具有繞刀具310的中心點延伸160度的切削面311。當(dāng)以預(yù)定的速度旋轉(zhuǎn)外表面319時，工具310的切削面311反復(fù)接觸外表面319。
可操作地連接線性致動器312到刻模設(shè)備302，用于沿軸線303移動刻模設(shè)備302。軸線303基本平行于圓筒形滾柱318的外表面319。線性操作機構(gòu)312相對圓筒形滾柱318以預(yù)定的軸速度移動刻模設(shè)備302從圓筒形滾柱318的第一端321到第二端323。在一個替代實施方案中，可以連接線性致動器312到圓筒形滾柱318，相對靜止的刻模設(shè)備沿軸線方向移動滾柱318。
當(dāng)線性致動器312沿軸線303移動刻模設(shè)備302從端321到端323時，可操作地連接電動機314到圓筒形滾柱318以旋轉(zhuǎn)滾柱318?？刂朴嬎銠C316生成信號(M10)，該信號促使電動機314以預(yù)定的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)圓筒形滾柱318。具體而言，電動機310以10-200轉(zhuǎn)每分范圍內(nèi)的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)圓筒形滾柱318。
參考圖21，圖解了根據(jù)另一典型實施方案的用于在圓筒形滾柱340上形成紋理表面的系統(tǒng)330?？梢栽谌刍瘔貉酉到y(tǒng)100中或者壓紋系統(tǒng)150中使用圓筒形滾柱340以形成紋理可塑層，隨后切割該可塑層為預(yù)定的形狀，以獲得具有基本類似上述膜28的物理特性的膜。系統(tǒng)330包括外殼332，電動機336，以及控制計算機338。
在解釋系統(tǒng)330的工作之前，將提供圓筒形滾柱340結(jié)構(gòu)的簡述。參考圖22，圓筒形滾柱340具有基本為圓柱形的內(nèi)部部分342，該部分涂敷有耐化學(xué)層343。該耐化學(xué)層343包括可塑層。在一個替代的實施方案中，該耐化學(xué)層343包括蠟層。在另一個替代實施方案中，該耐化學(xué)層343包括光阻層。在已經(jīng)用耐化學(xué)層343涂敷圓筒形滾柱340后，去除層343在預(yù)定位置(例如位置346)的部分。使用諸如激光等的能量束去除在預(yù)定位置的層343的部分。在一個替代的實施方案中，使用硬度大于耐化學(xué)層343的硬度，但小于圓柱形的內(nèi)部部分342的硬度的工具(未示出)去除層343在預(yù)定位置的部分。在另一個替代實施方案中，使用為本領(lǐng)域技術(shù)人員所熟知的光刻工藝去除在預(yù)定位置的耐化學(xué)層343。
外殼332限定用于接收圓筒形滾柱340的內(nèi)部區(qū)域334。外殼332容納用于去除圓筒形滾柱340的內(nèi)部部分342的暴露部分的蝕刻溶液。該蝕刻溶液包括硝酸，其中蝕刻溶液量的5％-25％為硝酸。在一個替代實施方案中，該蝕刻溶液包括鹽酸，其中蝕刻溶液量的5％-25％為鹽酸。當(dāng)圓筒形滾柱340在蝕刻液體中轉(zhuǎn)動時，蝕刻液體去除圓筒形滾柱340緊鄰位置346的部分，以形成紋理表面，其中紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
可操作地連接電動機336到圓筒形滾柱340，并且以預(yù)定的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)圓筒形滾柱340。在外殼332內(nèi)放置電動機336。在一個替代實施方案中，電動機336放置在外殼332外部，其軸(未示出)經(jīng)過外殼332延伸，連接到圓筒形滾柱340，以旋轉(zhuǎn)滾柱340?？刂朴嬎銠C338生成信號(M11)，該信號促使電動機336以預(yù)定的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)圓筒形滾柱340。具體而言，電動機336以1-50轉(zhuǎn)每分范圍內(nèi)的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)圓筒形滾柱340。
參考圖23，圖解了根據(jù)另一典型實施方案的，用于在圓筒形滾柱390上形成紋理表面的系統(tǒng)370。可以在熔化壓延系統(tǒng)100中或者壓紋系統(tǒng)150中使用圓筒形滾柱390，以形成紋理可塑層，隨后切割該可塑層為預(yù)定的形狀，以獲得具有基本類似上述膜28的物理特性的膜。系統(tǒng)370包括電極或者電極陣列372，電壓源374，線性致動器376，電動機378，泵382，過濾器384，介電液源386，以及控制計算機388。
提供電極372反復(fù)釋放電火花，該電火花接觸外表面391，去除部分表面391以獲得紋理表面?？刹僮鞯剡B接電極372到電壓源374，并且從電壓源374接收電壓，以生成具有100-1000伏特范圍內(nèi)電壓的電火花。可操作地連接電壓源374到控制計算機388?？刂朴嬎銠C388生成信號(V2)，該信號促使電壓源374向電極372施加預(yù)定的電壓。電極372還可操作地連接到線性致動器376。當(dāng)旋轉(zhuǎn)圓筒形滾柱390時，電極372沿軸線373移動，并且反復(fù)釋放電火花去除圓筒形滾柱390的部分，以形成紋理表面，其中紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
提供泵382從介電液池386抽取介電液體，經(jīng)過過濾器384并且最終經(jīng)過噴嘴380。噴嘴380導(dǎo)引介電液到圓筒形滾柱390的外表面391上。使用介電液經(jīng)過那里傳導(dǎo)電火花到圓筒形滾柱390的外表面391。噴嘴380還可操作地連接到線性致動器376。
可操作地連接線性致動器376到電極372和噴嘴380。線性致動器376沿軸線373移動電極372和噴嘴380，該軸線基本平行于圓筒形滾柱390的外表面。具體而言，線性致動器376沿軸線373從圓筒形滾柱390的第一端393移動電極372和噴嘴380到圓筒形滾柱390的第二端395。
當(dāng)線性致動器376沿軸線373從端393移動電極372和噴嘴380到端395時，可操作地連接電動機378到圓筒形滾柱390以旋轉(zhuǎn)滾柱390。控制計算機388生成信號(M12)，該信號促使電動機378以預(yù)定的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)圓筒形滾柱390。
該光校準(zhǔn)和擴散膜以及制造該膜的方法具有優(yōu)于其它系統(tǒng)和方法的主要優(yōu)勢。具體而言，該系統(tǒng)和方法具有不添加任何諸如聚苯乙烯珠或丙烯酸酯溶液等的附加物質(zhì)到可塑層，提供易于制造的具有可擴散光的紋理表面的可塑層的技術(shù)效果。
雖然參考典型實施方案描述本發(fā)明，本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解可以進行沒有脫離本發(fā)明范圍的各種改動和用等價物替代其元件。此外，可以進行沒有脫離本發(fā)明范圍的對本發(fā)明教導(dǎo)的多種修改，以適應(yīng)具體的情況。因此，本發(fā)明旨在不受執(zhí)行本發(fā)明所公開的實施方案的限制，但是本發(fā)明包括落在指定權(quán)利要求范圍內(nèi)的所有實施方案。此外，術(shù)語的第一，第二等的使用不表示任何重要性的順序，而是使用術(shù)語的第一，第二等以區(qū)分一個元件和另一個。
權(quán)利要求
1.一種光校準(zhǔn)和擴散膜，其特征在于具有第一側(cè)(46)和與第一側(cè)(46)相對的第二側(cè)(48)，以及至少一個第一外圍邊緣(61)的可塑層(28)，該第一側(cè)(46)具有第一紋理表面，其中緊鄰第一軸線(62)的第一紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值，第一軸線(62)基本平行于第一外圍邊緣(61)，其中可塑層(28)校準(zhǔn)經(jīng)過其傳播的光。
2.如權(quán)利要求1所述的光校準(zhǔn)和擴散膜，其特征在于緊鄰第二軸線(60)的第一紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值，所述第二軸線(60)基本垂直于第一軸線(62)。
3.如權(quán)利要求1所述的光校準(zhǔn)和擴散膜，其特征在于所述第一紋理表面包括多個突出部分(52)和多個凹陷部分(54)，其中每個突出部分(52)從至少一個緊鄰的凹陷部分(54)向外延伸。
4.如權(quán)利要求3所述的光校準(zhǔn)和擴散膜，其特征在于所述多個突出部分(52)的平均高度在所述多個突出部分(52)的平均寬度的25％-75％的范圍內(nèi)。
5.如權(quán)利要求3所述的光校準(zhǔn)和擴散膜，其特征在于所述多個突出部分(52)的平均寬度在0.5-100微米的范圍內(nèi)。
6.如權(quán)利要求1所述的光校準(zhǔn)和擴散膜，其特征在于所述可塑層(28)校準(zhǔn)穿過可塑層(28)從第二側(cè)(48)傳播到第一側(cè)(46)的光。
7.如權(quán)利要求6所述的光校準(zhǔn)和擴散膜，其特征在于所述可塑層(28)校準(zhǔn)穿過那里的光朝向垂直于可塑層(28)的軸線。
8.如權(quán)利要求1所述的光校準(zhǔn)和擴散膜，其特征在于所述第二側(cè)(48)包括第二紋理表面，其中第二紋理表面上大于或者等于70％的傾角具有零度至五度的值。
9.如權(quán)利要求1所述的光校準(zhǔn)和擴散膜，其特征在于所述可塑層(28)包括其量在層總量的0.001％-1.0％范圍內(nèi)的光學(xué)增亮劑。
10.如權(quán)利要求1所述的光校準(zhǔn)和擴散膜，其特征在于所述可塑層(28)包括在其內(nèi)部的抗靜電化合物。
11.如權(quán)利要求10所述的光校準(zhǔn)和擴散膜，其特征在于所述抗靜電化合物包括氟化磺化磷。
12.如權(quán)利要求1所述的光校準(zhǔn)和擴散膜，其特征在于所述可塑層(28)包括其量在可塑層總量的0.01％-1.0％的范圍內(nèi)的UV吸收化合物。
13.如權(quán)利要求1所述的光校準(zhǔn)和擴散膜，其特征在于所述可塑層(28)具有0.025-10毫米范圍內(nèi)的厚度。
14.如權(quán)利要求1所述的光校準(zhǔn)和擴散膜，其特征在于所述可塑層(28)具有0.025-0.5毫米范圍內(nèi)的厚度。
15.如權(quán)利要求1所述的光校準(zhǔn)和擴散膜，其特征在于所述第一紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
16.一種制造光校準(zhǔn)和擴散膜的方法，所述方法包括經(jīng)過模具(104)擠壓加熱的塑料以形成可塑層(106)，所述可塑層(106)具有第一側(cè)和與第一側(cè)相對的第二側(cè)，以及至少一個第一外圍邊緣，所述可塑層(106)沿第一軸線和第二軸線延伸，該第一軸線基本平行于第一外圍邊緣，第二軸線基本垂直于第一軸線，該方法的特征在于冷卻第一和第二旋轉(zhuǎn)圓筒形滾柱(64、108)中至少一個低于預(yù)定的溫度；以及在第一和第二旋轉(zhuǎn)圓筒形滾柱(64、108)之間移動可塑層(106)，第一圓筒形滾柱(64)接觸可塑層(106)的第一側(cè)而第二圓筒形滾柱(108)接觸第二側(cè)，第一圓筒形滾柱(64)在可塑層(106)的第一側(cè)上形成第一紋理表面，其中緊鄰第一軸線的第一紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
17.如權(quán)利要求16所述的方法，其特征在于其中緊鄰第二軸線的第一紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
18.如權(quán)利要求16所述的方法，其特征還在于圍繞接收套管(118)卷繞冷卻的可塑層。
19.如權(quán)利要求16所述的方法，其特征在于所述第一紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
20.一種用于制造光校準(zhǔn)和擴散膜的系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括可操作地連接到模具(104)的擠壓設(shè)備(102)，該擠壓設(shè)備(102)推進加熱的塑料(106)經(jīng)過模具(104)以形成可塑層(106)；該可塑層具有第一側(cè)和與第一側(cè)相對的第二側(cè)，以及至少一個第一外圍邊緣；該可塑層(106)沿第一軸線和第二軸線延伸，該第一軸線基本平行于第一外圍邊緣，第二軸線基本垂直于第一軸線；該系統(tǒng)的特征在于彼此緊鄰放置的第一和第二圓筒形滾柱(64、108)，用于接收可塑層(106)；以及冷卻設(shè)備(120)，設(shè)定該設(shè)備以冷卻第一和第二圓筒形滾柱(64、108)中的至少一個低于預(yù)定的溫度，其中第一圓筒形滾柱(64)接觸可塑層(106)的第一側(cè)，并且在可塑層(106)的第一側(cè)上形成第一紋理表面，第二圓筒形滾柱(108)接觸可塑層(106)的第二側(cè)，其中緊鄰第一軸線的第一紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
21.如權(quán)利要求20所述的系統(tǒng)，其特征在于緊鄰第二軸線的第一紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
22.如權(quán)利要求20所述的系統(tǒng)，其特征在于所述第二圓筒形滾柱(108)在可塑層(106)上形成第二紋理表面，其中第二紋理表面上大于或者等于70％的傾角具有零度至五度的值。
23.如權(quán)利要求20所述的系統(tǒng)，其特征還在于彼此緊鄰放置的第三和第四圓筒形滾柱(114，116)，用于從第一和第二滾柱(64、108)接收冷卻的可塑層，設(shè)定第三和第四圓筒形滾柱(114，116)旋轉(zhuǎn)以向卷繞設(shè)備(128)推進可塑層，所述卷繞設(shè)備(128)接收可塑層并且圍繞接收套管(118)卷繞可塑層。
24.如權(quán)利要求20所述的系統(tǒng)，其特征在于第一紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
25.一種用于制造光校準(zhǔn)和擴散膜的方法，所述方法包括加熱可塑層(154)，所述可塑層(154)具有第一側(cè)和與第一側(cè)相對的第二側(cè)，以及至少一個第一外圍邊緣，所述可塑層(154)沿第一軸線和第二軸線延伸，該第一軸線基本平行于第一外圍邊緣，第二軸線基本垂直于第一軸線，該方法的特征在于加熱第一和第二圓筒形滾柱(64、160)中的至少一個高于預(yù)定的溫度；以及在第一和第二旋轉(zhuǎn)圓筒形滾柱(64、160)之間移動可塑層(154)，其中第一圓筒形滾柱(64)接觸可塑層(154)的第一側(cè)而第二圓筒形滾(160)柱接觸第二側(cè)，第一圓筒形滾柱(64)在緊鄰可塑層(154)的第一軸線的第一側(cè)上形成第一紋理表面，其中緊鄰第一軸線的第一紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
26.如權(quán)利要求25所述的方法，其特征在于緊鄰第二軸線的第一紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
27.如權(quán)利要求25所述的方法，其特征在于圍繞接收套管(170)卷繞可塑層(154)。
28.如權(quán)利要求25所述的方法，其特征在于所述第一紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
29.一種用于制造光校準(zhǔn)和擴散膜的系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括設(shè)定來加熱可塑層(154)的第一加熱設(shè)備(156)，該可塑層(154)具有第一側(cè)和與第一側(cè)相對的第二側(cè)，以及至少一個第一外圍邊緣，該可塑層(154)沿第一軸線和第二軸線延伸，所述第一軸線基本平行于第一外圍邊緣，所述第二軸線基本垂直于第一軸線，該系統(tǒng)的特征在于彼此緊鄰放置的第一和第二圓筒形滾柱(64、160)，用于接收可塑層(154)；以及第二加熱設(shè)備(172)，設(shè)定來加熱第一和第二圓筒形滾柱(64、160)中的至少一個，其中第一圓筒形滾柱(64)接觸可塑層(154)的第一側(cè)，并且在第一側(cè)上形成第一紋理表面，而第二圓筒形滾柱(160)接觸可塑層(154)的第二側(cè)，其中緊鄰第一軸線的第一紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
30.如權(quán)利要求29所述的系統(tǒng)，其特征在于緊鄰第二軸線的第一紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
31.如權(quán)利要求29所述的系統(tǒng)，其特征在于所述第二圓筒形滾柱(160)在第二側(cè)上形成第二紋理表面，其中第二紋理表面上大于或者等于70％的傾角具有零度至五度的值。
32.如權(quán)利要求29所述的系統(tǒng)，其特征還在于彼此緊鄰放置的第三和第四圓筒形滾柱(166、168)，用于從第一和第二圓筒形滾柱(64、160)接收冷卻的可塑層，設(shè)定第三和第四圓筒形滾柱(166、168)旋轉(zhuǎn)以向卷繞設(shè)備(180)推進可塑層，所述卷繞設(shè)備(180)接收可塑層并且圍繞接收套管(170)卷繞可塑層。
33.如權(quán)利要求29所述的方法，其特征在于所述第一紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
34.一種在光校準(zhǔn)和擴散膜上形成紋理表面的工具，其特征在于圍繞第一軸線(66)放置的圓柱形部分(64)，該部分具有外部紋理表面以及第一端和第二端(211，213)，該圓柱形部分(64)還具有基本垂直于第一端(211)的第一線(68)，該線緊鄰?fù)獠考y理表面，基本橫跨圓柱形部分(64)延伸，該圓柱形部分(64)還具有第二線(70)，該線距離第一端(211)預(yù)定的長度，基本繞圓柱形部分(64)的圓周延伸，該外部紋理表面具有多個突出部分和多個凹陷部分，其中每個突出部分從至少一個緊鄰的凹陷部分向外延伸，其中多個突出部分和多個凹陷部分限定多個傾角，其中緊鄰第一線(68)或第二線(70)的外部紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
35.如權(quán)利要求34所述的工具，其特征在于緊鄰第一線(68)和第二線(70)的外部紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
36.如權(quán)利要求34所述的工具，其特征在于所述外部紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
37.一種用于在圓筒形滾柱(64)上形成紋理表面的方法，所述圓筒形滾柱(64)圍繞第一軸線放置，并且具有外部紋理表面以及第一端和第二端(211，213)，該圓筒形滾柱(64)還具有基本垂直于第一端的第一線，該線緊鄰?fù)獠考y理表面，基本橫跨圓筒形滾柱延伸，該圓筒形滾柱(64)還具有第二線，該線距離第一端預(yù)定的長度，基本繞圓筒形滾柱(64)的圓周延伸，該方法包括以預(yù)定的轉(zhuǎn)速圍繞第一軸線旋轉(zhuǎn)圓筒形滾柱(64)，該方法的特征在于發(fā)射脈動能量束，該能量束以預(yù)定的強度接觸圓筒形滾柱(64)的外表面，并且在圓筒形滾柱(64)旋轉(zhuǎn)期間，把能量束從圓筒形滾柱(64)的第一端(211)移動到第二端(213)，其中能量束去除部分外表面以獲得紋理表面，其中緊鄰第一線或第二線的紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
38.如權(quán)利要求37所述的方法，其特征在于緊鄰第一線和第二線的紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
39.如權(quán)利要求37所述的方法，其特征在于所述紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
40.如權(quán)利要求37所述的方法，其特征在于所述圓筒形滾柱(64)的外表面的線速度在25-2500毫米每秒的范圍內(nèi)。
41.如權(quán)利要求37所述的方法，其特征在于相對圓筒形滾柱(64)以在0.001-0.1毫米每秒的范圍內(nèi)的速度移動能量束。
42.如權(quán)利要求37所述的方法，其特征在于所述能量束在圓筒形滾柱(64)的外表面的聚焦直徑在0.005-0.5毫米的范圍內(nèi)。
43.如權(quán)利要求42所述的方法，其特征在于在0.1-100毫秒范圍內(nèi)的時間段，發(fā)射用于圓筒形滾柱的預(yù)定面積的接觸圓筒形滾柱(64)的能量束具有0.05-1.0焦耳范圍內(nèi)的能量級。
44.如權(quán)利要求37所述的方法，其特征在于所述能量束包括激光束。
45.如權(quán)利要求44所述的方法，其特征在于所述激光束具有1.06微米的波長。
46.如權(quán)利要求44所述的方法，其特征在于所述激光束包括Nd:YAG激光束。
47.如權(quán)利要求37所述的方法，其特征在于所述能量束包括電子束。
48.如權(quán)利要求37所述的方法，其特征在于所述束包括離子束。
49.如權(quán)利要求37所述的方法，其特征在于所述紋理表面包括多個突出部分和多個凹陷部分，其中每個突出部分從至少一個緊鄰的凹陷部分向外延伸。
50.如權(quán)利要求49所述的方法，其特征在于所述多個突出部分的平均高度在所述多個突出部分的平均寬度的25％-100％的范圍內(nèi)。
51.如權(quán)利要求49所述的方法，其特征在于所述多個突出部分的平均寬度在0.5-100微米的范圍內(nèi)。
52.一種在圓筒形滾柱(278)上形成紋理表面的方法，所述圓筒形滾柱(278)圍繞第一軸線放置，并且具有外部紋理表面以及第一端和第二端，該圓筒形滾柱(278)還包括第一線，該線緊鄰?fù)獠考y理表面設(shè)置，所述第一線基本橫跨圓筒形滾柱延伸，基本垂直于第一端，該圓筒形滾柱還包括第二線，該線距離第一端預(yù)定的長度，基本繞圓筒形滾柱的圓周延伸，該方法的特征在于以預(yù)定的轉(zhuǎn)速在電解液中圍繞第一軸線旋轉(zhuǎn)圓筒形滾柱(278)，該圓筒形滾柱(278)電氣接地；以及向電解液施加預(yù)定的電流密度，其中液體中的金屬離子(276)附著到圓筒形滾柱(278)的外表面以形成紋理表面，其中緊鄰第一線或第二線的紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
53.如權(quán)利要求52所述的方法，其特征在于緊鄰第一線和第二線的紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
54.如權(quán)利要求52所述的方法，其特征在于紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
55.如權(quán)利要求52所述的方法，其特征在于在時間段為0.5-50小時范圍內(nèi)，以1-10轉(zhuǎn)每分范圍內(nèi)的轉(zhuǎn)速在電解液中旋轉(zhuǎn)圓筒形滾柱(278)。
56.如權(quán)利要求52所述的方法，其特征在于所述金屬離子(276)包括鉻離子。
57.如權(quán)利要求52所述的方法，其特征在于所述預(yù)定的電流密度在0.001-0.1安培每平方毫米范圍內(nèi)。
58.如權(quán)利要求52所述的方法，其特征在于所述紋理表面包括多個突出部分和多個凹陷部分，其中每個突出部分從至少一個緊鄰的凹陷部分向外延伸。
59.如權(quán)利要求58所述的方法，其特征在于所述多個突出部分的平均高度在所述多個突出部分的平均寬度的25％-100％的范圍內(nèi)。
60.如權(quán)利要求58所述的方法，其特征在于所述多個突出部分的平均寬度在0.5-100微米的范圍內(nèi)。
61.一種在圓筒形滾柱(253)上形成紋理表面的方法，所述圓筒形滾柱(253)圍繞第一軸線放置，并且具有外部紋理表面以及第一端和第二端，該圓筒形滾柱(253)還包括第一線，該線緊鄰?fù)獠考y理表面設(shè)置，所述第一線基本橫跨圓筒形滾柱(253)延伸，基本垂直于第一端，所述圓筒形滾柱(253)還包括第二線，該線距離第一端預(yù)定的長度，基本繞圓筒形滾柱(253)的圓周延伸，該方法的特征在于以預(yù)定的轉(zhuǎn)速在包含金屬離子(236)和非金屬粒子(238)的流體中圍繞第一軸線旋轉(zhuǎn)圓筒形滾柱(253)；以及化學(xué)鍵合金屬離子(236)和非金屬粒子(238)到圓筒形滾柱(253)的外表面以形成紋理表面，其中緊鄰第一線或第二線的紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
62.如權(quán)利要求61所述的方法，其特征在于緊鄰第一線和第二線的紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
63.如權(quán)利要求61所述的方法，其特征在于紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
64.如權(quán)利要求61所述的方法，其特征在于非金屬粒子(238)包括尺寸在1-100微米范圍內(nèi)的硅粒子。
65.如權(quán)利要求64所述的方法，其特征在于所述硅粒子包括實心硅粒子。
66.如權(quán)利要求64所述的方法，其特征在于所述硅粒子包括中空硅粒子。
67.如權(quán)利要求64所述的方法，其特征在于所述硅粒子包括多孔硅粒子。
68.如權(quán)利要求61所述的方法，其特征在于所述非金屬粒子(238)包括尺寸在1-100微米范圍內(nèi)的氧化鋁粒子。
69.如權(quán)利要求68所述的方法，其特征在于所述氧化鋁粒子包括實心氧化鋁粒子。
70.如權(quán)利要求68所述的方法，其特征在于所述氧化鋁粒子包括多孔氧化鋁粒子。
71.如權(quán)利要求61所述的方法，其特征在于所述金屬離子包括鎳離子和鎳合金離子之一。
72.如權(quán)利要求61所述的方法，其特征在于所述紋理表面包括多個突出部分和多個凹陷部分，其中每個突出部分從至少一個緊鄰的凹陷部分向外延伸。
73.如權(quán)利要求72所述的方法，其特征在于所述多個突出部分的平均高度在所述多個突出部分的平均寬度的25％-100％的范圍內(nèi)。
74.如權(quán)利要求72所述的方法，其特征在于所述多個突出部分的平均寬度在0.5-100微米的范圍內(nèi)。
75.如權(quán)利要求61所述的方法，其特征在于所述非金屬粒子(238)包括尺寸在1-100微米范圍內(nèi)的金剛石粒子。
76.一種在圓筒形滾柱(390)上形成紋理表面的方法，所述圓筒形滾柱(390)圍繞第一軸線放置，并且具有外部紋理表面以及第一端和第二端(393，395)，該圓筒形滾柱(390)還包括第一線，該線緊鄰?fù)獠考y理表面設(shè)置，所述第一線基本橫跨圓筒形滾柱(390)延伸，基本垂直于第一端(393)，該圓筒形滾柱(390)還包括第二線，該線距離第一端(393)預(yù)定的長度，基本繞圓筒形滾柱(390)的圓周延伸，該方法包括以預(yù)定的轉(zhuǎn)速圍繞第一軸線旋轉(zhuǎn)圓筒形滾柱(390)，該方法的特征在于將介電液施加到圓筒形滾柱(390)上；以及從緊鄰圓筒形滾柱(390)放置的一個或多個電極(372)反復(fù)釋放電火花，該電火花接觸圓筒形滾柱(390)的外表面，在圓筒形滾柱(390)上加熱和熔化預(yù)定量的金屬，以形成紋理表面，在圓筒形滾柱(390)旋轉(zhuǎn)期間，移動電火花從圓筒形滾柱(390)的第一端(393)到第二端(395)，其中緊鄰第一線或第二線的紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
77.如權(quán)利要求76所述的方法，其特征在于緊鄰第一線和第二線的紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
78.如權(quán)利要求76所述的方法，其特征在于紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
79.如權(quán)利要求76所述的方法，其特征在于所述電火花具有100-1000伏特的電壓。
80.如權(quán)利要求76所述的方法，其特征在于所述紋理表面包括多個突出部分和多個凹陷部分，其中每個突出部分從至少一個緊鄰的凹陷部分向外延伸。
81.如權(quán)利要求80所述的方法，其特征在于所述多個突出部分的平均高度在所述多個突出部分的平均寬度的25％-100％的范圍內(nèi)。
82.如權(quán)利要求80所述的方法，其特征在于所述多個突出部分的平均寬度在0.5-100微米的范圍內(nèi)。
83.一種在圓筒形滾柱(318)上形成紋理表面的方法，該圓筒形滾柱(318)圍繞第一軸線放置，并且具有外部紋理表面以及第一端和第二端，該圓筒形滾柱(318)還包括第一線，該線緊鄰?fù)獠考y理表面設(shè)置，所述第一線基本橫跨圓筒形滾柱(318)延伸，基本垂直于第一端，該圓筒形滾柱(318)還包括第二線，該線距離第一端(321)預(yù)定的長度，基本繞圓筒形滾柱的圓周延伸，該方法包括以預(yù)定的轉(zhuǎn)速圍繞第一軸線旋轉(zhuǎn)圓筒形滾柱(318)，該方法的特征在于使用切削工具(310)以預(yù)定的頻率反復(fù)接觸圓筒形滾柱(318)的外表面，在圓筒形滾柱(318)旋轉(zhuǎn)期間，該切削工具(310)從圓筒形滾柱(318)的第一端(321)移動到第二端(323)，其中切削工具(310)去除部分外表面以獲得紋理表面，其中緊鄰第一線或第二線的紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
84.如權(quán)利要求83所述的方法，其特征在于緊鄰第一線和第二線的紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
85.如權(quán)利要求83所述的方法，其特征在于紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
86.如權(quán)利要求83所述的方法，其特征在于所述圓筒形滾柱(318)的預(yù)定轉(zhuǎn)速在10-200轉(zhuǎn)每分范圍內(nèi)。
87.如權(quán)利要求83所述的方法，其特征在于預(yù)定頻率在1000-1500千赫茲的范圍內(nèi)。
88.如權(quán)利要求83所述的方法，其特征在于所述紋理表面包括多個突出部分和多個凹陷部分，其中每個突出部分從至少一個緊鄰的凹陷部分向外延伸。
89.如權(quán)利要求88所述的方法，其特征在于所述多個突出部分的平均高度在所述多個突出部分的平均寬度的25％-100％的范圍內(nèi)。
90.如權(quán)利要求88所述的方法，其特征在于所述多個突出部分的平均寬度在0.5-100微米的范圍內(nèi)。
91.一種在圓筒形滾柱(340)上形成紋理表面的方法，所述圓筒形滾柱(340)圍繞第一軸線放置，并且具有外部紋理表面以及第一端和第二端，該圓筒形滾柱(340)還包括第一線，該線緊鄰?fù)獠考y理表面設(shè)置，所述第一線基本橫跨圓筒形滾柱(340)延伸，基本垂直于第一端，該圓筒形滾柱(340)還包括第二線，該線距離第一端預(yù)定的長度，基本繞圓筒形滾柱(340)的圓周延伸，其特征在于用耐化學(xué)層(343)涂敷該圓筒形滾柱(340)，其中去除在預(yù)定位置(346)的耐化學(xué)層(343)，以在預(yù)定位置暴露其下的圓筒形滾柱表面；以及以預(yù)定的轉(zhuǎn)速在包含蝕刻溶液的容器(332)中圍繞第一軸線旋轉(zhuǎn)圓筒形滾柱(340)，其中該蝕刻溶液去除在預(yù)定位置(346)的部分圓桶形滾柱(340)以獲得紋理表面，其中緊鄰第一線或第二線的紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
92.如權(quán)利要求91所述的方法，其特征在于緊鄰第一線和第二線的紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
93.如權(quán)利要求91所述的方法，其特征在于紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
94.如權(quán)利要求91所述的方法，其特征在于所述圓筒形滾柱(340)以1-50轉(zhuǎn)每分范圍內(nèi)的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)。
95.如權(quán)利要求91所述的方法，其特征在于所述蝕刻溶液量的5％-25％為硝酸。
96.如權(quán)利要求91所述的方法，其特征在于所述蝕刻溶液量的5％-25％為鹽酸。
97.如權(quán)利要求91所述的方法，其特征在于使用光刻工藝去除在預(yù)定位置的所述耐化學(xué)層(343)。
98.如權(quán)利要求91所述的方法，其特征在于使用能量束去除在預(yù)定位置的所述耐化學(xué)層(343)。
99.如權(quán)利要求91所述的方法，其特征在于使用工具接觸圓筒形滾柱(340)去除在預(yù)定位置的所述耐化學(xué)層，所述工具的硬度大于耐化學(xué)層的硬度，但小于圓筒形滾柱的硬度。
100.如權(quán)利要求91所述的方法，其特征在于所述耐化學(xué)層(343)包括光阻層。
101.如權(quán)利要求91所述的方法，其特征在于所述耐化學(xué)層(343)包括蠟層。
102.如權(quán)利要求91所述的方法，其特征在于所述耐化學(xué)層(343)包括可塑層。
103.如權(quán)利要求91所述的方法，其特征在于所述紋理表面包括多個突出部分和多個凹陷部分，其中每個突出部分從至少一個緊鄰的凹陷部分向外延伸。
104.如權(quán)利要求103所述的方法，其特征在于所述多個突出部分的平均高度在所述多個突出部分的平均寬度的25％-100％的范圍內(nèi)。
105.如權(quán)利要求103所述的方法，其特征在于所述多個突出部分的平均寬度在0.5-100微米的范圍內(nèi)。
106.一種背光照明設(shè)備，所述設(shè)備包括光源(22)以及緊鄰光源(22)放置以用來接收來自光源(22)的光的光導(dǎo)(26)，所述設(shè)備的特征在于至少一個可塑層(28)，所述可塑層具有第一側(cè)(46)和與第一側(cè)(46)相對的第二側(cè)(48)，以及至少一個第一外圍邊緣，該第一側(cè)(46)具有第一紋理表面，其中緊鄰第一軸線的第一紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值，該第一軸線基本平行于第一外圍邊緣，其中可塑層(28)校準(zhǔn)經(jīng)過其傳播的光。
107.如權(quán)利要求106所述的背光照明設(shè)備，其特征在于緊鄰第二軸線的第一紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值，所述第二軸線基本垂直于所述第一軸線。
108.如權(quán)利要求106所述的背光照明設(shè)備，其特征還在于至少一個光導(dǎo)向膜(30)緊鄰第一紋理表面放置。
109.如權(quán)利要求106所述的背光照明設(shè)備，其特征在于第一紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
110.如權(quán)利要求106所述的背光照明設(shè)備，其特征在于所述可塑層(28)具有其量在可塑層(28)總量的0.01％-1.0％的范圍內(nèi)的UV吸收化合物。
111.如權(quán)利要求106所述的背光照明設(shè)備，其特征在于大于或者等于可塑層(28)總量的80％包括聚碳酸酯化合物。
112.如權(quán)利要求106所述的背光照明設(shè)備，其特征在于所述可塑層(28)包括其量在可塑層(28)總量的0.001％-1.0％范圍內(nèi)的光學(xué)增亮劑。
113.如權(quán)利要求106所述的背光照明設(shè)備，其特征在于所述可塑層(28)包括在其內(nèi)部的抗靜電化合物。
114.如權(quán)利要求113所述的背光照明設(shè)備，其特征在于所述抗靜電化合物包括氟化磺化磷。
115.一種光校準(zhǔn)和擴散膜，其特征在于單一層(28)，其中大于或者等于單一層(28)總量的80％包括聚碳酸酯化合物，該單一層具有第一側(cè)(46)和與第一側(cè)(46)相對的第二側(cè)(48)，以及至少一個第一外圍邊緣(61)，該第一側(cè)(46)具有第一紋理表面，其中緊鄰第一軸線(62)的第一紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值，該第一軸線(62)基本平行于第一外圍邊緣(61)，其中可塑層(28)校準(zhǔn)經(jīng)過其傳播的光。
116.如權(quán)利要求115所述的光校準(zhǔn)和擴散膜，其特征在于緊鄰第二軸線(60)的第一紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值，所述第二軸線(60)基本垂直于第一軸線(62)。
117.如權(quán)利要求115所述的光校準(zhǔn)和擴散膜，其特征在于所述第一紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。
118.如權(quán)利要求115所述的光校準(zhǔn)和擴散膜，其特征在于所述單一層(28)還包括基本均勻地分布在其內(nèi)部的抗靜電化合物。
119.如權(quán)利要求115所述的光校準(zhǔn)和擴散膜，其特征在于所述抗靜電化合物包括氟化磺化磷。
120.如權(quán)利要求115所述的光校準(zhǔn)和擴散膜，其特征在于所述單一層(28)具有其量在單一層總量的0.01％-1.0％范圍內(nèi)的UV吸收化合物。
121.如權(quán)利要求115所述的光校準(zhǔn)和擴散膜，其特征在于所述單一層(28)包括其量在層(28)總量的0.001％-1.0％范圍內(nèi)的光學(xué)增亮劑。
全文摘要
提供了一種光校準(zhǔn)和擴散膜以及制造該膜的方法。所述膜包括可塑層，該可塑層具有第一側(cè)和與第一側(cè)相對的第二側(cè)，以及至少一個第一外圍邊緣。該第一側(cè)具有第一紋理表面，其中緊鄰第一軸線的第一紋理表面上7％至20％的傾角具有零度至五度的值。所述第一軸線基本平行于第一外圍邊緣。所述可塑層校準(zhǔn)經(jīng)過其傳播的光。
文檔編號G02F1/1335GK101023378SQ200580031789
公開日2007年8月22日 申請日期2005年7月20日 優(yōu)先權(quán)日2004年7月22日
發(fā)明者A·F·巴斯陶洛斯, K·P·卡帕爾多, G·科約卡里烏, A·迪亞斯, J·格雷夫, E·E·古雷爾, G·海, M·G·瓊斯, K·A·庫馬, T·M·勒爾, S·A·泰舍, M·亞馬達 申請人:通用電氣公司