專利名稱：基板處理裝置、使用狀況確認(rèn)方法、以及不當(dāng)使用防止方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明，是關(guān)于處理基板的基板處理裝置及其使用狀況確認(rèn)方法與不當(dāng)使用防止方法。
背景技術(shù)：
半導(dǎo)體元件、液晶顯示元件、攝影元件、薄膜磁頭、及其他元件，是使用基板處理裝置對半導(dǎo)體晶圓及玻璃板等的基板，施以各種處理來加以制造?；逄幚硌b置對基板所實施的處理，例如有涂布光阻-等感光劑的涂布處理、將光罩或標(biāo)線片(此等總稱為光罩)的圖案像投影曝光至涂有感光劑的基板上的曝光處理、以及對施有曝光處理的基板進(jìn)行顯影的顯影處理等。
上述曝光處理是通過設(shè)于基板處理裝置的曝光裝置來進(jìn)行，上述涂布處理及顯影處理是對曝光裝置例如以線上連接(in-line)的涂布/顯影裝置(coater/developer)來進(jìn)行。此外，于上述曝光裝置等的基板處理裝置，多設(shè)有評估裝置，是評估于實施上述各種處理后的基板上所形成的圖案均勻性或圖案重疊程度；以及檢查裝置，是檢測電子束照射在基板上時所產(chǎn)生的二次電子及后方散射電子，以檢查形成于基板上的圖案。又，本說明書中，所謂“基板處理裝置”，有時是單獨指上述曝光裝置、涂布裝置、顯影裝置、評估裝置、以及檢查裝置等各裝置，有時亦指該等2個以上的組合的全體。

發(fā)明內(nèi)容
惟，現(xiàn)有的基板處理裝置，用以控制裝置的控制程式、有助于使裝置動作的公用程式(Utility Program)等的各種程式，多被認(rèn)為是附隨于裝置，而免費提供給基板處理裝置的顧客。此外，由于上述考量已為主流，因此各種程式的版別更新亦多是免費提供。
因此，當(dāng)基板處理裝置的制造廠商一旦將基板處理裝置販賣(讓與)給顧客，該顧客將中古的基板處理裝置讓與第三者時，即會產(chǎn)生在完全未告知基板處理裝置制造廠商的情形下即將上述各種程式與基板處理裝置一起讓出的事態(tài)。由于上述各種程式本是一種著作物，其本身具有財產(chǎn)價值并非只是基板處理裝置的附屬品而已，因此最好是能與該使用者(受讓者)簽定一使用許可契約。通過此種契約的簽定，基板處理裝置的制造廠商可統(tǒng)一管理基板處理裝置的安裝、改造、支援、以及程式版本更新等等，且購買中古基板處理裝置的第三者亦能安心使用，因此對雙方而言皆是有利的。
但是，即使基板處理裝置的制造廠商與顧客之間有簽定該契約，但若將基板處理裝置讓給第三者的話，由于不受任何限制即能使用該控制程式等來使基板處理裝置動作，因此基板處理裝置的制造廠商必須以某種方法來確認(rèn)是否有出讓，且若有該控制程式等被不當(dāng)使用的情況時，必須有使其無法使用的保護(hù)對策。
本發(fā)明有鑒于上述情事，其目的在于，可以確認(rèn)基板處理裝置的使用者是否正確的使用該基板處理裝置，若認(rèn)定是不當(dāng)使用時，可以防止其使用。
以下的說明中，是對應(yīng)用以表示實施形態(tài)的圖式所示的構(gòu)件符號來說明本發(fā)明，但本發(fā)明的各構(gòu)成要件，并不限定于附有該等構(gòu)件符號的圖式所示的構(gòu)件。
本發(fā)明第1觀點的基板處理裝置11，是用以處理基板W，其特征在于，具備授權(quán)資訊記憶機(jī)構(gòu)LF，102，K1，M1，是儲存作為對該基板處理裝置的特定使用者的使用條件、含該基板處理裝置的停止時間的授權(quán)資訊L；以及確認(rèn)機(jī)構(gòu)P2，是根據(jù)該授權(quán)資訊記憶機(jī)構(gòu)中所儲存的該授權(quán)資訊與來自計時機(jī)構(gòu)K1，t1，T2的計時資訊CT，來確認(rèn)該基板處理裝置的使用狀況。本發(fā)明，由于是根據(jù)含有對特定使用者的使用條件的授權(quán)資訊、及計時機(jī)構(gòu)的計時資訊，來確認(rèn)基板處理裝置的使用狀況，因此能根據(jù)該確認(rèn)結(jié)果辨識或判斷該使用是否符合使用條件，若是不當(dāng)使用時，可以實施某種處置。
本發(fā)明第2觀點的基板處理裝置111，是用以處理基板W，其特征在于，具備記憶機(jī)構(gòu)，是儲存含有該基板處理裝置的可移動距離的授權(quán)資訊；位置檢測機(jī)構(gòu)112，113，是接受全球定位系統(tǒng)衛(wèi)星110所發(fā)出的電波，來檢測顯示該基板處理裝置的位置的位置資訊；以及確認(rèn)機(jī)構(gòu)，是根據(jù)儲存于該記憶機(jī)構(gòu)的該授權(quán)資訊、及該位置檢測機(jī)構(gòu)的檢測結(jié)果，來確認(rèn)該基板處理裝置的使用狀況。當(dāng)基板處理裝置被讓出時，該基板處理裝置的設(shè)置場所多產(chǎn)生移動。本發(fā)明，由于是檢測基板處理裝置的位置，故可以推測是否有遷移，并辨認(rèn)或判斷該遷移是否符合使用條件，若是不當(dāng)使用時，即能實施某種處置。
本發(fā)明第3觀點的使用狀況確認(rèn)方法，是確認(rèn)處理基板W的基板處理裝置11的使用狀況，其特征在于，包含授權(quán)檔案的作成步驟，該授權(quán)檔案LF是用以收納作為對該基板處理裝置特定使用者的使用條件、含該基板處理裝置的停止時間的授權(quán)資料L；計時資訊CT的取得步驟；以及使用狀況的確認(rèn)步驟，是根據(jù)該授權(quán)檔案中所收納的該授權(quán)資訊與該計時資訊，來確認(rèn)該基板處理裝置的使用狀況。此方法，能達(dá)成與上述第1觀點的發(fā)明同樣的作用效果。
本發(fā)明第4觀點的不當(dāng)使用防止方法，是防止處理基板W的基板處理裝置11的不當(dāng)使用，其特征在于，包含在通過上述本發(fā)明的使用狀況確認(rèn)方法所確認(rèn)的該基板處理裝置的使用狀況違反預(yù)先決定的該使用條件時，停止該板處理裝置直到實施既定處置為止的步驟。本發(fā)明，由于在使用狀況違反使用條件時，停止該基板處理裝置的動作，因此在該特定使用者或由該特定使用者受讓基板處理裝置者，欲繼續(xù)使用該基板處理裝置時，必需進(jìn)行該使用條件的更新、變更等的處置，其結(jié)果，能防止不當(dāng)使用。
根據(jù)本發(fā)明，由于能確認(rèn)基板處理裝置的使用者是否正當(dāng)?shù)氖褂迷摶逄幚硌b置，因此能有效防止基板處理裝置被不當(dāng)使用。


圖1是顯示本發(fā)明第1實施形態(tài)的基板處理裝置的概略構(gòu)成的俯視圖。
圖2是顯示本發(fā)明第1實施形態(tài)的基板處理裝置所具備的曝光裝置的構(gòu)成的圖。
圖3是用以說明本發(fā)明第1實施形態(tài)的基板處理裝置的使用狀況確認(rèn)方法及不當(dāng)使用防止方法的圖。
圖4是顯示本發(fā)明第2實施形態(tài)的基板處理裝置的概略構(gòu)成的俯視圖。
圖5是顯示本發(fā)明第3實施形態(tài)的基板處理裝置的概略構(gòu)成的俯視圖。
圖6是顯示本發(fā)明第4實施形態(tài)的基板處理裝置的概略構(gòu)成的俯視圖。
圖7a-7c是顯示本發(fā)明第5實施形態(tài)的基板處理裝置所使用的控制程式的使用許可內(nèi)容的顯示例的圖。
圖8是顯示元件的一制程例的流程圖。
11基板處理裝置 32控制電腦101控制部(竄改防止機(jī)構(gòu))102記憶部(記憶機(jī)構(gòu))110全球定位系統(tǒng)衛(wèi)星111基板處理裝置112天線(位置檢測機(jī)構(gòu)) 113GPS收訊器(位置檢測機(jī)構(gòu))CN單元處理室單元(控制單元) CT現(xiàn)在時刻(計時資訊)DI裝置資訊K1保護(hù)金鑰(記憶機(jī)構(gòu)，計時機(jī)構(gòu)，鑰匙機(jī)構(gòu))L授權(quán)資訊 LF授權(quán)檔案LN1網(wǎng)絡(luò)M1記憶體(記憶機(jī)構(gòu))N1網(wǎng)絡(luò)資訊 P2整合性確認(rèn)程式(確認(rèn)機(jī)構(gòu))P3控制程式(停止機(jī)構(gòu)) T1，T2計時器(計時機(jī)構(gòu))W晶圓(基板)
具體實施例方式
以下，參照圖式詳細(xì)說明本發(fā)明的實施形態(tài)。
圖1，是顯示本發(fā)明第1實施形態(tài)的基板處理裝置的概略構(gòu)成的俯視圖。如圖1所示，此基板處理裝置11是以線棒連接方式與圍繞曝光裝置30的處理室(Chamber)相接，設(shè)有涂布/顯影部(涂布顯影裝置)31，另設(shè)有統(tǒng)籌控制曝光裝置30及涂布/顯影部31的全體動作的控制電腦32。
此控制電腦32具備網(wǎng)絡(luò)連接卡32a，控制電腦32即通過此網(wǎng)絡(luò)連接卡32a連接于基板處理裝置11的設(shè)置工廠內(nèi)所鋪設(shè)的網(wǎng)絡(luò)LN1。網(wǎng)絡(luò)LN1若是Ethernet(乙太網(wǎng)絡(luò)，登錄商標(biāo))時，于網(wǎng)絡(luò)連接卡32a分配有單一定義的固有物理地址(MAC地址(Media Access Control address))?？刂齐娔X32，是根據(jù)由未圖示的主電腦透過網(wǎng)絡(luò)LN1送來訊號、以網(wǎng)絡(luò)連接卡32a接收的控制指令，來控制基板處理裝置11的動作。
又，雖省略圖示，但復(fù)數(shù)個基板處理裝置11(具有與圖1所示的基板處理裝置11相同構(gòu)成)與網(wǎng)絡(luò)LN1相連接，于各個基板處理裝置11構(gòu)裝作為通訊協(xié)定的TCP/IP(Transmission Control Protocol/InternetProtocol)。又，于各基板處理裝置11分配有單一定義的IP地址以及閘道地址(Gate Way address)。此外，從確保安全的觀點，此網(wǎng)絡(luò)LN1并未連接于外部網(wǎng)絡(luò)(例如，網(wǎng)際網(wǎng)絡(luò))。
于上述涂布/顯影部31，以橫過其中央部的方式配置有用以搬送作為基板的晶圓W的搬送線33。于此搬送線33的一端，配置有用以收納未曝光的多數(shù)晶圓W的晶圓載具34，以及用以收納完成曝光處理及顯影處理的多數(shù)晶圓W的晶圓載具35，于搬送線33的另一端則設(shè)有曝光裝置30的處理室側(cè)面具有閘門的搬送口(未圖示)。
又，沿著設(shè)于涂布/顯影部31的搬送線33的一側(cè)面設(shè)有涂布部36，沿著另一側(cè)面設(shè)有顯影部37。涂布部36，從晶圓載具34往曝光裝置30，依序設(shè)有將光阻涂布于晶圓W的光阻涂布裝置36a，用以預(yù)先烘烤晶圓W上的光阻、由加熱板構(gòu)成的，預(yù)烘烤裝置36b，以及用以冷卻預(yù)先烘烤后晶圓W的冷卻裝置36c。
顯影部37，從曝光裝置30往晶圓載具30，設(shè)有烘烤曝光處理后晶圓W上的光阻、亦即用以進(jìn)行所謂PEB(Post-Exposure Bake)之后烘烤裝置37a，用以冷卻進(jìn)行PEB后的晶圓W的冷卻裝置37b，以及用以進(jìn)行晶圓W上光阻的顯影的顯影裝置37c。此外，本實施形態(tài)中，亦以線上連接方式設(shè)有用以測定以顯影裝置37c進(jìn)行顯影后的晶圓上所形成的光阻圖案形狀的測定裝置38。測定裝置38是用以測定形成于晶圓W上的光阻圖案的形狀(例如圖案線寬、圖案重疊誤差等)的檢查裝置。
又，雖省略圖示，但曝光裝置30、涂布部36及顯影部37、測定裝置38、以及控制電腦32，是以有線或無線方式連接，在此等裝置之間進(jìn)行顯示各處理開始或處理終了的指示訊號的送、收訊。此外，顯示此等裝置的裝置狀態(tài)的裝置資料及以測定裝置38測定的結(jié)果是輸出至控制電腦32，并記錄在設(shè)于控制電腦32內(nèi)的硬盤等的記憶裝置。
曝光裝置30，具備能在晶圓基座86(參照圖2)上2維移動的晶圓載臺85，曝光對像的晶圓W是透過晶圓保持具84保持于晶圓載臺85上。又，在曝光裝置30內(nèi)，在大致沿著設(shè)于涂布/顯影部31的搬送線33中心軸的延長線配置有第1導(dǎo)件39，以和第1導(dǎo)件39端部上方正交的方式配置有第2導(dǎo)件40。
于第1導(dǎo)件39，設(shè)有能沿第1導(dǎo)件39滑動的滑件41，于此滑件41設(shè)有將晶圓W保持成旋轉(zhuǎn)及上下移動自如的第1臂部42。又，于第2導(dǎo)件40，配置有能在保持晶圓W的狀態(tài)下沿第2導(dǎo)件40滑動的第2臂部43。第2導(dǎo)件40，其延伸至晶圓載臺85的晶圓裝載位置，于第2臂部43，亦具備能在與第2導(dǎo)件40正交的方向滑動的機(jī)構(gòu)。
又，在第1導(dǎo)件39與第2導(dǎo)件40的交叉位置附近，設(shè)有為進(jìn)行晶圓W的預(yù)對準(zhǔn)-而能旋轉(zhuǎn)及上下移動的頂銷44，于頂銷44周圍，設(shè)有用以檢測晶圓W外周部的缺口部(Notch)及2處邊緣部的位置、或形成于晶圓W外周部的定位平面(Orientation Flat)。由第1導(dǎo)件39、第2導(dǎo)件40、滑件41、第1臂部42、第2臂部43、及頂銷44構(gòu)成晶圓裝載系統(tǒng)。
曝光裝置30，具備用以控制裝置各部(例如，處理室、對準(zhǔn)系統(tǒng)、裝載系統(tǒng)等)的動作的復(fù)數(shù)個控制單元(例如，處理室單元、對準(zhǔn)單元、裝載單元)，于各控制單元設(shè)有用以計時的計時器、以及暫時儲存來自控制電腦32的控制訊號的記憶體。設(shè)于各控制單元的計時器的計時結(jié)果是輸出至控制電腦32，控制電腦32視各計時器的計時結(jié)果對各控制單元輸出控制訊號，來控制曝光裝置30的動作，并確認(rèn)包含曝光裝置30的基板處理裝置11的使用狀況。圖1中，為簡單化，僅顯示設(shè)于處理室單元的計時器T1及記憶體M1。
控制電腦32，除了當(dāng)然是通過控制基板處理裝置11的各部來進(jìn)行晶圓W的曝光處理外，并確認(rèn)基板處理裝置11的使用是否如預(yù)先儲存的授權(quán)檔案中的內(nèi)容，或是否未違反該內(nèi)容。通過此確認(rèn)動作，當(dāng)發(fā)現(xiàn)基板處理裝置11有違反授權(quán)檔案中內(nèi)容的不當(dāng)使用的情形時，控制電腦32即停止基板處理裝置11的動作，在實施既定處置(例如，取得新的授權(quán))之前，使基板處理裝置11無法使用。本實施形態(tài)中，控制電腦32，是使用設(shè)于處理室單元的計時器T1的計時結(jié)果及該授權(quán)檔案，來確認(rèn)基板處理裝置11是否被不當(dāng)使用。關(guān)于此處理的詳細(xì)內(nèi)容，留待后敘。
此處，所謂授權(quán)檔案，是指包含基板處理裝置11的制造商與基板處理裝置11的使用者(基板處理裝置11的購買者(受讓者))預(yù)先簽定、用以控制基板處理裝置11的動作的控制程式的使用許可契約內(nèi)容的至少一部分的授權(quán)資訊，收納作為確認(rèn)材料(用以確認(rèn)是否在未違反契約的情況下，使用基板處理裝置11)的資訊內(nèi)容的檔案。作為此授權(quán)資訊的具體例，包含基板處理裝置11的使用開始日、使用期限、使用時間及停止時間，設(shè)于控制電腦32的網(wǎng)絡(luò)連接卡32a的物理地址，以及分配給控制電腦32的IP地址及閘道地址等。
接著，簡單說明上述構(gòu)成中基板處理裝置11進(jìn)行對晶圓W的處理時的動作。首先，透過網(wǎng)絡(luò)LN1，從未圖示的主電腦將處理開始命令輸出至基板處理裝置11所具備的控制電腦32?？刂齐娔X32，根據(jù)此處理開始命令，將各種控制訊號輸出至曝光裝置30、涂布部36、顯影部37。輸出此控制訊號后，從晶圓載具34取出的1片晶圓，即經(jīng)過搬送線33被搬送至光阻涂布裝置36a進(jìn)行光阻的涂布，再沿搬送線33依序經(jīng)過預(yù)烘烤裝置36b及冷卻裝置36c，將其交至曝光裝置30的第1臂部42。
之后，當(dāng)滑件41沿第1導(dǎo)件39到達(dá)頂銷44的附近時，第1受臂部42即旋轉(zhuǎn)將涂有光阻的晶圓W從第1臂部42移至頂銷44上的位置A，在此，以晶圓的外形基準(zhǔn)進(jìn)行中心位置及旋轉(zhuǎn)角的調(diào)整(預(yù)對準(zhǔn)-)。之后，將晶圓W交至第2臂部43，沿第2導(dǎo)件40搬送到晶圓的裝載位置，于該處將其裝載至晶圓載臺85上的晶圓保持具84上。然后，對晶圓W上的各照射領(lǐng)域，通過作為光罩的標(biāo)線片的既定元件圖案進(jìn)行曝光。
完成曝光處理的晶圓W，沿第2導(dǎo)件40及第1導(dǎo)件39被搬送到涂布/顯影部31的搬送線33后，沿搬送線33依序經(jīng)過后烘烤裝置37a及冷卻裝置37b送到顯影裝置37c。之后，在顯影裝置37c進(jìn)行顯影后的晶圓W的各照射區(qū)域，形成對應(yīng)標(biāo)線片的元件圖案的凹凸光阻圖案。以此方式進(jìn)行顯影后的晶圓W，視需要，在測定裝置38檢查所形成圖案的線寬及重疊誤差等，再沿搬送線33搬送，收納于晶圓載具35。在此微影制程結(jié)束后，在晶圓載具35內(nèi)的1批晶圓，即被搬送至進(jìn)行例如蝕刻、或離子植入等的圖案形成制程，以及光阻剝離制程等的生產(chǎn)線。
接著，參照圖2說明曝光裝置30。本實施形態(tài)，是以步進(jìn)掃描(Step andScan)方式的曝光裝置為例來加以說明，除此方式的曝光裝置以外，亦可以是步進(jìn)重復(fù)(Step and Repeat)方式的曝光裝置(步進(jìn)器)。又，以下說明中，是設(shè)定圖中所示的XYZ正交座標(biāo)系統(tǒng)，一邊參照此XYZ正交座標(biāo)系統(tǒng)、一邊說明各構(gòu)件的位置關(guān)是。XYZ正交座標(biāo)系統(tǒng)，是設(shè)定為Y軸與Z軸相對紙面成平行、X軸則是相對紙面成垂直的方向。圖中的XYZ座標(biāo)系統(tǒng)，實際上，是將XY平面設(shè)定于與水平面平行的面，將Z軸設(shè)定于垂直方向。沿Y軸的方向為掃描方向。
圖2中，51是曝光光源，作為此曝光光源51是射出截面為大致長方形平行光束的曝光用光IL的ArF準(zhǔn)分子激光光源(波長193nm)。作為此曝光光源51，除此之外，例如亦可使用射出g線(波長436nm)、i線(波長365nm)的超高壓水銀燈，或是KrF準(zhǔn)分子激光(波長248nm)、F2激光(波長157nm)、Kr2激光(波長146nm)、YAG激光的高頻產(chǎn)生裝置，或是半導(dǎo)體激光的高頻產(chǎn)生裝置。
來自曝光光源51、由波長193nm的紫外脈沖形成的曝光用光IL(曝光光束)，通過光束匹配單元(MBU)52，射入作為光衰減器的可變減光器53。用以控制對晶圓W上光阻的曝光量的曝光控制單元73，是控制曝光光源51的發(fā)光開始及停止、以及輸出(振蕩頻率、脈沖能量)，并階段性的或連續(xù)的調(diào)整可變減光器53的減光率。
通過可變減光器53的曝光用光IL，經(jīng)過由透鏡系統(tǒng)54a，54b構(gòu)成的光束成形系統(tǒng)55，射入作為第1段光學(xué)積分器的第1復(fù)眼透鏡56。由第1復(fù)眼透鏡56射出的曝光用光IL，透過第1透鏡系統(tǒng)57a、光路彎折用反射鏡58、及第2透鏡系統(tǒng)57b，射入作為第2段光學(xué)積分器的第2復(fù)眼透鏡59。
于第2復(fù)眼透鏡59的射出面，亦即在對曝光對像的標(biāo)線片R的圖案面的光學(xué)傅立葉變換面(照明系統(tǒng)的光瞳面)，配置有孔徑光闌板60，其能藉驅(qū)動馬達(dá)60a旋轉(zhuǎn)自如。于孔徑光闌板60，配置有能切換自如的一般照明用的圓形孔徑光闌、輪帶照明用的孔徑光闌、以及由復(fù)數(shù)個(例如4極)偏心小孔構(gòu)成的變形照明用的孔徑光闌、以及小相干因數(shù)(CoherenceFactor)(σ值)用的小圓形孔徑光闌等。統(tǒng)籌控制曝光裝置30的全體動作的主控制系統(tǒng)74，透過驅(qū)動馬達(dá)60a使孔徑光闌板60旋轉(zhuǎn)，來設(shè)定照明條件。
從第2復(fù)眼透鏡59射出、通過形成于孔徑光闌板60的一孔徑光闌的曝光用光IL，射入透射率高、反射率低的分束器61。于分束器61反射的曝光用光，透過聚光用的透鏡71射入由光電檢測器構(gòu)成的積分感測器72，積分感測器72的檢測訊號是供應(yīng)至曝光控制單元73。積分感測器72的檢測訊號、與在曝光用光IL在晶圓上的照度的關(guān)是，是預(yù)先以高精度加以量測，并儲存在曝光控制單元73內(nèi)的記憶體。曝光控制單元73，能通過積分感測器72的檢測訊號，間接的監(jiān)測對晶圓W的曝光用光IL的照度(平均值)、及其積分值。
透射過分束器61的曝光用光IL，沿光軸IAX依序經(jīng)過透鏡系統(tǒng)62，63，射入固定遮簾(固定照明視野光闌)64及可動遮簾(可動照明視野光闌)65。后者的可動遮簾65是設(shè)于對標(biāo)線片面的共軛面，前者的固定遮簾64，則是配置在從該共軛面散焦既定量的面。固定遮簾64具有開口部，此開口部是在投影光學(xué)是PL的圓形視野內(nèi)的中央，配置成往與掃描曝光方向成正交的方向延伸成直線狹縫狀、或矩形狀(以下，統(tǒng)稱為“狹縫狀”)。
通過固定遮簾64及可動遮簾65的曝光用光IL，透過光路彎折用仮反射鏡66、成像用透鏡系統(tǒng)67、聚光透鏡68、及主聚光透鏡系統(tǒng)69，來照明作為光罩的標(biāo)線片R的圖案面(下面)的照明區(qū)域(照明視野區(qū)域)IA。又，由上述BMU52～主聚光透鏡是69構(gòu)成照明光學(xué)系統(tǒng)IS。在曝光用光IL的照射下，將標(biāo)線片R的照明區(qū)域IA內(nèi)的電路圖案像，透過兩側(cè)遠(yuǎn)心的投影光學(xué)是PL以既定投影倍率α(α例如是1/4或1/5等)，轉(zhuǎn)印至配置在投影光學(xué)是PL成像面的晶圓W上光阻層的狹縫狀曝光區(qū)域。
標(biāo)線片R，是被吸附保持在標(biāo)線片載臺81上，標(biāo)線片載臺81被裝載成能在標(biāo)線片基座82上于Y方向等速移動，且能在X方向、Y方向、旋轉(zhuǎn)方向傾斜。標(biāo)線片載臺81(標(biāo)線片R)的2維位置及旋轉(zhuǎn)角，是以驅(qū)動控制單元83內(nèi)的激光干涉儀即時加以測量。根據(jù)此測量結(jié)果、及來自主控制是74的控制資訊，驅(qū)動控制單元83內(nèi)的驅(qū)動馬達(dá)(線性馬達(dá)與音圈馬達(dá)等)即進(jìn)行標(biāo)線片載臺81的掃描速度及位置的控制。
另一方面，晶圓W是透過晶圓保持具84被吸附保持在晶圓載臺85上，晶圓載臺85在晶圓基座86上沿與投影光學(xué)是PL的像面平行的XY面進(jìn)行2維移動。亦即，晶圓載臺85，是在晶圓基座86上于Y方向以一定速度移動，且在X方向、Y方向步進(jìn)移動。進(jìn)一步的，于晶圓載臺85，亦組裝有控制晶圓W的Z方向位置(聚焦位置)、以及繞X軸及Y軸的傾斜角的Z調(diào)平機(jī)構(gòu)。
晶圓載臺85的X方向、Y方向位置，以及繞X軸、Y軸、Z軸的旋轉(zhuǎn)角，是以驅(qū)動控制單元87內(nèi)的激光干涉儀即時加以測量。根據(jù)此測量結(jié)果及來自主控制系統(tǒng)74的控制資訊，驅(qū)動控制單元87內(nèi)的驅(qū)動馬達(dá)(線性馬達(dá)等)，來進(jìn)行晶圓載臺85的掃描速度及位置控制。此外，于晶圓載臺85上的一端，固定有照度感測器88，其是用來檢測透過投影光學(xué)是PL照射于晶圓W上曝光區(qū)域的曝光用光IL的照度(光量)。
此照度感測器88，例如是具有形成針孔的框體、在針孔的形成位置配置受光元件的受光面的感測器，檢測透過針孔射入的曝光用光IL的照度(光量)。照度感測器88的檢測訊號是供應(yīng)至曝光控制單元73。在曝光用光IL照射于晶圓載臺85上的狀態(tài)下，通過在曝光領(lǐng)域內(nèi)移動照度感測器88，即能測量出曝光用光IL的照度不均(光量不均)及累計光量不均。再者，一邊使照度感測器88往Z方向移動、一邊檢測曝光用光IL的照度，亦可以求出投影光學(xué)是PL的像面位置(最佳聚焦位置)。使用照度感測器88的照度、此照度的不均、及累計光量不均的測定，以及最佳聚焦位置的測定，是定期或不定期的實施。
再者，于晶圓載臺85上的一端，設(shè)有決定晶圓載臺85的基準(zhǔn)位置的基準(zhǔn)構(gòu)件89。基準(zhǔn)構(gòu)件89，是用來測量對晶圓載臺85座標(biāo)是的標(biāo)線片R的相對位置及基礎(chǔ)線量。此處，所謂基礎(chǔ)線量，是指例如形成于標(biāo)線片R的圖案經(jīng)投影光學(xué)是PL投影后的投影像的中心位置、與后述晶圓對準(zhǔn)感測器92的測量視野中心的距離。于基準(zhǔn)構(gòu)件89，作為基準(zhǔn)標(biāo)記，設(shè)有例如由光透射性的5組L字形圖案所構(gòu)成的狹縫圖案、以及以光反射性鉻所形成的2組基準(zhǔn)圖案(占空比1∶1)。
又，于投影光學(xué)是PL的側(cè)面，亦設(shè)有多點的自動聚焦感應(yīng)器，該等的聚焦訊號是供應(yīng)至主控制系統(tǒng)74。該自動對焦感應(yīng)器，是由對晶圓W表面(被檢測面)的復(fù)數(shù)個測量點斜向投影狹縫像的投射光學(xué)系統(tǒng)90a，與接收來自該被檢測面的反射光以生成對應(yīng)該等復(fù)數(shù)個測量點的聚焦位置的聚焦訊號的受光光學(xué)是90b所形成。晶圓W對投影光學(xué)是PL像面的位置偏移的聚焦誤差，是從使用上述照度感應(yīng)器88測定的最佳聚焦位置、與通過自動聚焦感測器所測良的像面位置的差來加以求出。
也就是說，自動聚焦感測器，是將在投影光學(xué)是PL的像面與晶圓W表面一致的狀態(tài)下所得的檢測結(jié)果設(shè)定為零。因此，投影光學(xué)系統(tǒng)PL的像面位置、或設(shè)于自動聚焦感測器內(nèi)的光學(xué)零件、或保持此零件的機(jī)械結(jié)構(gòu)受到環(huán)境變動的影響時，實際上，即使晶圓W表面是配置于投影光學(xué)是PL像面，自動聚焦感測器的檢測結(jié)果亦不會與零點一致，而成為產(chǎn)生量測誤差的狀態(tài)。由于晶圓W的Z方向位置是根據(jù)自動聚焦感測器的檢測結(jié)果來加以控制，因此自動聚焦感測器的量測誤差就成為曝光時聚焦誤差的原因。因此，若求出使用該照度感應(yīng)器88測定的最佳聚焦位置、與通過自動聚焦感測器所測量的像面位置的差的話，即能求出聚焦誤差。
又，在進(jìn)行掃描曝光時，必須預(yù)先進(jìn)行標(biāo)線片R與晶圓W的對準(zhǔn)。因此，在標(biāo)線片載臺81上方設(shè)有用以測量標(biāo)線片R的對準(zhǔn)標(biāo)記(標(biāo)線片標(biāo)記)位置的VRA(Visual Reticle Alignment)方式的標(biāo)線片對準(zhǔn)感測器91。進(jìn)一步的，為了測量晶圓W上的對準(zhǔn)標(biāo)記(晶圓標(biāo)記)的位置，在投影光學(xué)是PL側(cè)面設(shè)有離軸的影像處理方式(FIA方式)的晶圓對準(zhǔn)感測器92。晶圓對準(zhǔn)感測器92，例如是以鹵素?zé)舻容^寬波長帶的照明光來照明晶圓W上的對準(zhǔn)標(biāo)記，并以CCD(Charge Coupled Device)等攝影元件來拍攝該影像者。以晶圓對準(zhǔn)感測器92所得的影像訊號是供應(yīng)至主控制是74并施以影像處理，來測量位置資訊。
主控制是74，是設(shè)于圖1所示的控制電腦32，為了以當(dāng)曝光量來對晶圓W上各照射區(qū)域的光阻進(jìn)行掃描曝光，而從曝光資料檔案讀出各種曝光條件，且與曝光控制單元73連動，實施最適當(dāng)?shù)钠毓獬绦?。在曝光處理之前，主控制?4根據(jù)自動聚焦感測器的檢測結(jié)果調(diào)整晶圓W的光軸AX方向的位置與姿勢后，使用晶圓對準(zhǔn)感測器92從形成于晶圓W上的對準(zhǔn)標(biāo)記中預(yù)先決定的既定數(shù)(3～9個)的對準(zhǔn)標(biāo)記的位置資訊。接著，使用所測量的位置資訊進(jìn)行稱為EGA(Enhance Global Alignment，加強(qiáng)型全晶圓對準(zhǔn))運算的統(tǒng)計運算，來求出設(shè)定于晶圓W上的所有照射區(qū)域的排列。
當(dāng)曝光處理開始時，主控制是74分別將標(biāo)線片載臺81及晶圓載臺85的移動位置、移動速度、移動加速度、位置偏置等各種資訊送至驅(qū)動控制單元83，87。據(jù)此，開始標(biāo)線片載臺81及晶圓載臺85的加速。又，主控制是74亦對曝光控制單元73發(fā)出掃描曝光開始的指令。當(dāng)標(biāo)線片載臺81及晶圓載臺85的加速結(jié)束其速度成為一定時，曝光控制單元73即開始曝光光源51的發(fā)光，且透過積分感測器72算出曝光用光IL對晶圓W的照度(每單位時間的脈沖能量的和)的積分值。此積分值在掃描曝光開始時，是被重新設(shè)定為0。
于掃描曝光中，透過標(biāo)線片載臺81對曝光用光IL的照明區(qū)域IA，以速度Vr往+Y方向(或-Y方向)掃描標(biāo)線片R，與此同步，透過晶圓載臺85對標(biāo)線片R的圖案像的曝光領(lǐng)域，以速度α·Vr(α是從標(biāo)線片R到晶圓W的投影倍率)往-Y方向(或+Y方向)掃描晶圓W。標(biāo)線片R與晶圓W的移動方向相反的理由，是因本例的投影光學(xué)是PL實施反轉(zhuǎn)投影。又，于掃描曝光中，亦是根據(jù)自動聚焦感測器的檢測結(jié)果，實施晶圓W的姿勢控制。
又，于掃描曝光中，曝光控制單元73逐次算出曝光用光IL的照度積分值，視此結(jié)果，控制曝光光源51的輸出(振蕩頻率、及脈沖能量)及可變減光器53的減光率，俾在掃描曝光后晶圓W上的光阻的各點獲得適當(dāng)?shù)钠毓饬?。在對該照射區(qū)域的掃描曝光結(jié)束后，即停止曝光光源51的發(fā)光。通過重復(fù)進(jìn)行此動作，對設(shè)定于晶圓W上的復(fù)數(shù)個照射區(qū)域進(jìn)行曝光處理。
其次，說明以設(shè)于基板處理裝置11的控制電腦32進(jìn)行的處理。如前所述，基板處理裝置11，是通過設(shè)于處理室單元的計時器T1的計時結(jié)果與授權(quán)檔案中所儲存的內(nèi)容，來確認(rèn)基板處理裝置11是否有被不當(dāng)使用，作為該確認(rèn)方法，有“使用期限檢查”、“使用時間檢查”、及“停止時間檢查”等。
此處，所謂“使用期限檢查”，是通過確認(rèn)從契約所定的使用開始日(控制基板處理裝置11的控制程式的使用開始日)起是否以超過了契約所定的使用許可期間，來確認(rèn)基板處理裝置11的使用狀況的處理。又，所謂“使用時間檢查”，是通過確認(rèn)從契約所定的使用開始日起的基板處理裝置11的運轉(zhuǎn)時間，是否已超過了契約所定的累積使用期間，來確認(rèn)基板處理裝置11的使用狀況的處理。以上的處理，是用以確認(rèn)是否有按照契約來使用基板處理裝置11。
又，所有“停止時間檢查”，是指通過確認(rèn)基板處理裝置11停止動作的時間是否有超過所定的基準(zhǔn)值，來確認(rèn)是否有基板處理裝置11被移設(shè)的情形。欲恢復(fù)基板處理裝置11產(chǎn)生的動作不良的作業(yè)，通常2～3日左右即能完成，而基板處理裝置11的移設(shè)作業(yè)則需7～10日左右。因此，用以判斷基板處理裝置11是否有被移設(shè)的基準(zhǔn)值，是設(shè)定為4～5日左右。
此處，欲使上述確認(rèn)動作確實，須正確的得到現(xiàn)在時刻，因此必須進(jìn)行時間管理。由于基板處理裝置11的控制電腦32a是連接于網(wǎng)絡(luò)LN1，因此，例如構(gòu)筑NTP(Network Time Protocol)伺服器，并使設(shè)于基板處理裝置11的各控制電腦32參照NTP伺服器的話，即能實施時間管理。不過，如前所述，為確保安全，網(wǎng)絡(luò)LN1并未與網(wǎng)際網(wǎng)絡(luò)等外部網(wǎng)絡(luò)連接，因此無法進(jìn)行在基板處理裝置11的制造廠商管理下的時間管理。因此，本實施形態(tài)，必須在工廠內(nèi)的封閉環(huán)境下進(jìn)行時間管理。
于基板處理裝置11設(shè)有各種計時器，若能利用此計時器的計時結(jié)果的話即能進(jìn)行時間管理。然而，設(shè)于基板處理裝置11的計時器的計時結(jié)果有被竄改的可能，若計時器的計時結(jié)果有被竄改的話，基板處理裝置11即會被不當(dāng)使用。此處，由于作業(yè)員欲對處理室單元進(jìn)行存取時需要密碼，故設(shè)于處理室單元的計時器T1的內(nèi)容被竄改的可能性低。因此，本實施形態(tài)，是利用被竄改可能性較低的處理室單元內(nèi)所設(shè)的計時器T1的計時結(jié)果，來進(jìn)行時間管理。
使用前述授權(quán)檔案中所儲存的內(nèi)容與計時器的計時結(jié)果來定期進(jìn)行“使用期限檢查”、“使用時間檢查”、及“停止時間檢查”，即能確認(rèn)基板處理裝置11是否有被不當(dāng)使用。除此之外，本實施形態(tài)，亦通過判斷網(wǎng)絡(luò)連接卡32a的物理地址、分配給控制電腦32的IP地址、及閘道地址等是否與授權(quán)檔案中所含者一致，來更為確實的確認(rèn)有無移設(shè)。以下，詳細(xì)說明確認(rèn)方法及不當(dāng)使用防止方法。
圖3，是用以說明本發(fā)明第1實施形態(tài)的基板處理裝置的使用狀況確認(rèn)方法及不當(dāng)使用防止方法的圖。圖3中，與圖1、圖2所示構(gòu)成相當(dāng)?shù)臉?gòu)造是賦予相同符號，圖3中的CN代表設(shè)于曝光裝置30的處理室單元(圖1、圖2中省略圖示)、NM代表網(wǎng)絡(luò)設(shè)定資訊檔案，是用以儲存設(shè)于控制電腦32內(nèi)的網(wǎng)絡(luò)設(shè)定資訊。此處，網(wǎng)絡(luò)設(shè)定資訊，是指包含分配給控制電腦32的IP地址及閘道地址的資訊。又，控制部101及記憶部102是設(shè)在控制電腦32。
首先，基板處理裝置11的制造廠商與基板處理裝置11的使用者(基板處理裝置11的購入者(受讓人))，簽定控制基板處理裝置11動作的控制程式的使用許可契約，在基板處理裝置11的制造廠商側(cè)決定授權(quán)資訊L。此處，授權(quán)資訊L，包含基板處理裝置11的使用開始日(授權(quán)日)，使用期限或使用時間、及停止時間，設(shè)置于控制電腦32的網(wǎng)絡(luò)連接卡32a的物理地址，及分配給控制電腦32的IP地址、閘道地址、以及控制電腦32的連接對象網(wǎng)絡(luò)地址等。此外，為防止授權(quán)資訊的泄漏及竄改，設(shè)定對授權(quán)資訊的密碼PW。此密碼PW由基板處理裝置11的制造廠商來管理。
當(dāng)決定該授權(quán)資訊L、且設(shè)定密碼PW時，接著，使用設(shè)于基板處理裝置11制造廠商側(cè)的加密裝置100，來制作以密碼PW將授權(quán)資訊L予以加密的授權(quán)檔案LF。又，此處所使用的加密方法，無論是DES、RC4等加密與解密的金鑰(key)相同的共用金鑰方式、以及RSA等加密與解密的金鑰不同的公開金鑰方式皆可。
又，如以下所述，亦可使用MD5、SHA-A等的Hash(散列)函數(shù)(無法解密的函數(shù))，不進(jìn)行授權(quán)資訊L的加密，而確認(rèn)沒有竄改的情形。
此處，可就各資料使用加密的處理時間快的共用金鑰方式、處理時間慢但加密強(qiáng)度高的公開鍵方式、以及對防止竄改檢查優(yōu)越的散列函數(shù)方式中的任一種或復(fù)數(shù)種。
作成的授權(quán)檔案LF是儲存在基板處理裝置11的控制電腦32的記憶部102。又，圖3中，是為了方便而顯示為將授權(quán)檔案LF直接輸入設(shè)于控制電腦32的控制部101。此外，進(jìn)行授權(quán)資訊L的加密時所使用的密碼PW亦與授權(quán)檔案LF一起儲存在記憶部102。
當(dāng)結(jié)束以上作業(yè)并起動基板處理裝置11時，儲存于記憶部102的授權(quán)檔案LF及密碼PW即被讀出，通過設(shè)于控制部101的解密程式P1將授權(quán)檔案LF予以解密。又，從設(shè)于控制電腦32的網(wǎng)絡(luò)連接卡32a讀出乙太網(wǎng)絡(luò)(Ethernet，登錄商標(biāo))物理地址，且從處理室單元CN讀出單元識別件(單元ID)，并將此等作為裝置資訊DI儲存于記憶部102。此外，從網(wǎng)絡(luò)設(shè)定資訊檔案NM讀出分配給控制電腦32的IP地址及閘道地址，將此等作為網(wǎng)絡(luò)資訊NI儲存于記憶部102。進(jìn)一步的，從設(shè)于處理室單元CN的計時器T1讀出現(xiàn)在時刻CT，將其儲存于記憶部102。
接著，設(shè)于控制部101的整合性確認(rèn)程式P2，是確認(rèn)由解密程式P1解密后的授權(quán)檔案LF的內(nèi)容，與儲存于記憶部102的裝置資訊DI、網(wǎng)絡(luò)資訊NI及現(xiàn)在時刻CT的整合性。具體而言，是確認(rèn)裝置資訊DI中所含的乙太網(wǎng)絡(luò)(登錄商標(biāo))物理地址及單元ID、以及網(wǎng)絡(luò)資訊NI中所含的IP地址、閘道地址、及控制電腦的連接對象網(wǎng)絡(luò)地址的各個，是否與儲存于授權(quán)檔案LF的內(nèi)容一致。藉此，即能確認(rèn)例如是否有因移設(shè)而使得基板處理裝置11的裝置構(gòu)成及網(wǎng)絡(luò)環(huán)境產(chǎn)生變化。
又，整合性確認(rèn)程式P2，使用儲存于記憶部102的現(xiàn)在時刻CT、及已解密的授權(quán)檔案LF中所儲存的基板處理裝置11的使用開始日(授權(quán)日)、使用期限或使用時間、及停止時間，來進(jìn)行“使用期限檢查”、“使用時間檢查”、及“停止時間檢查”，以確認(rèn)基板處理裝置11是否有依照契約使用。具體而言，在“使用期限檢查”中確認(rèn)現(xiàn)在時刻CT是否在使用期限內(nèi)、在“使用時間檢查”中確認(rèn)累計現(xiàn)在時刻CT的經(jīng)過時間所求出的使用累積時間PT是否在基板處理裝置11的契約所定的使用時間內(nèi)。
此外，在“停止時間檢查”中，則是在裝置運轉(zhuǎn)結(jié)束時將現(xiàn)在時刻CT作為前次時刻PT寫入設(shè)于處理室單元的記憶體M1，在下一次起動時讀出寫入記憶體M1之前次時刻PT，以確認(rèn)從前次時刻PT到現(xiàn)在時刻CT所經(jīng)過的時間是否在該停止時間內(nèi)。又，有無執(zhí)行「使用期限檢查」、「使用時間檢查」、及「停止時間檢查」的設(shè)定，是予以加密后收納至儲存于記憶部102的授權(quán)檔案LF，寫入記憶體M1的內(nèi)容通過密碼來加以保護(hù)。
以上確認(rèn)的結(jié)果，在基板處理裝置11未依照契約使用時，即從整合性確認(rèn)程式P2將此資訊輸出至控制基板處理裝置11各部動作的控制程式P3，根據(jù)此資訊，控制程式P3使基板處理裝置11的動作停止。當(dāng)控制程式P3根據(jù)來自整合性確認(rèn)程式P2的資訊使基板處理裝置11的動作停止時，僅有使基板處理裝置11再起動的動作，是無法是基板處理裝置11再起動的，在進(jìn)行既定處置(例如，取得新的授權(quán))之前，基板處理裝置11的動作會一直停止。
當(dāng)取得新的授權(quán)后，即作成新的授權(quán)檔案LF，并在將此授權(quán)檔案LF與授權(quán)檔案LF作成時所使用的密碼PW儲存至控制電腦32的記憶部102后，藉基板處理裝置11的再起動動作，使基板處理裝置11再開始動作。此處，亦可不進(jìn)行密碼PW的變更，而使用與先前相同者。又，當(dāng)確認(rèn)基板處理裝置11有依照契約使用時，即不會停止基板處理裝置11的動作，而持續(xù)平常時的動作。
根據(jù)本實施形態(tài)，由于是從儲存授權(quán)資訊(包含用以控制基板處理裝置的制造廠商與顧客所簽定的基板處理裝置11動作的控制程式的使用許可契約內(nèi)容的一部分或全部)的檔案內(nèi)容與計時器T1的計時結(jié)果，來進(jìn)行“使用期限檢查”、“使用時間檢查”、及“停止時間檢查”等的各種檢查，因此能確認(rèn)基板處理裝置11是否有被不當(dāng)使用。。又，當(dāng)有不當(dāng)使用的事實時，會在實施既定處置之前停止基板處理裝置11的動作，因此可以防止基板處理裝置11不斷的被不當(dāng)使用。
此外，以上說明中，雖是在基板處理裝置11的起動時確認(rèn)基板處理裝置11是否有依照契約來使用，但確認(rèn)的進(jìn)行，亦可以是在晶圓W的交換時、晶圓W或標(biāo)線片R的對準(zhǔn)時、曝光開始時、以及曝光完成時等，于曝光處理程序中，以既定時序進(jìn)行。此外，關(guān)于上述“停止時間檢查”，若是在以一定的時間間隔(例如，每一分鐘)送至處理室單元CN的處理室狀況檢查等的指令送出結(jié)束時進(jìn)行的話，由于能確實確認(rèn)基板處理裝置11的停止，因此是非常有效的。
又，上述實施形態(tài)中的計時器T1，雖是以一般電腦等所使用的用來計算現(xiàn)在時刻(年月日時分秒)的裝置為前提而作了說明，但并不限于此，例如，亦可使用計算從授權(quán)日起的經(jīng)過日數(shù)的日計數(shù)器。
此外，當(dāng)確認(rèn)基板處理裝置11未依契約使用時，停止基板處理裝置11的動作的方法，亦可以是上述使用軟體以外的方法。例如，通常處理室單元CN會設(shè)有緊急停止用的按鈕，利用此電路，在確認(rèn)不當(dāng)使用時，從內(nèi)部使此按鈕成為on狀態(tài)，來使包含處理室單元CN的基板處理裝置11的動作停止。欲使以此方法停止動作的基板處理裝置11再復(fù)元時，最好是能設(shè)定為由作業(yè)員使用基板處理裝置11制造商所擁有的專用鑰匙，以手動方式進(jìn)行復(fù)元，除此以外的方法則無法復(fù)元。進(jìn)一步的，此專用鑰匙最好是依各基板處理裝置11而不同。
又，亦可在圖2所示設(shè)于曝光裝置30的晶圓裝載系統(tǒng)(圖示省略)、標(biāo)線片載臺81、晶圓載臺85、及照明光學(xué)是IS設(shè)置機(jī)械性的停止器，在確認(rèn)基板處理裝置11未依契約使用時，通過此等停止器來機(jī)械性的停止曝光裝置30的動作。例如，在裝載系統(tǒng)可以是搬送臂的鎖止、在載臺系統(tǒng)是干涉儀光路的遮蔽、而在照明光學(xué)系統(tǒng)則是遮簾的關(guān)閉等。若將停止器設(shè)置在第三者無法操作的地方將更為有效。
上述實施形態(tài)中，是將密碼PW及授權(quán)檔案LF儲存于控制電腦32的記憶部102。由于儲存授權(quán)資訊的授權(quán)檔案已被加密，因此可防止授權(quán)資訊的泄漏及竄改。然而，在授權(quán)后將加密后的授權(quán)檔案及密碼PW備份保存起來，在需要時將此授權(quán)檔案LF寫回到記憶部102的話，即能回避“使用期限檢查”、“使用時間檢查”、及“停止時間檢查”。因此，最好是能將此等儲存至以密碼保護(hù)的處理室單元CN內(nèi)的記憶體M1，再由解密程式P1從記憶體M1讀出。
“第2實施形態(tài)”圖4，是顯示本發(fā)明第2實施形態(tài)的基板處理裝置的概略構(gòu)成的俯視圖。圖4所示的本發(fā)明第2實施形態(tài)的基板處理裝置11與圖1所示的本發(fā)明第1實施形態(tài)的基板處理裝置11的不同點在于，用以插入保護(hù)金鑰K1(具有使基板處理裝置11動作所須的鑰匙的功能)的埠(圖示省略)是設(shè)于控制電腦32。此處，所謂保護(hù)金鑰，是一般稱為Dongle的硬體保護(hù)，是插入電腦的USB埠或平行埠來使用。又，前述第1實施形態(tài)中，雖是使用設(shè)于處理室單元的計時器T1來確認(rèn)基板處理裝置11的使用狀況，但本實施形態(tài)的不同處在于，不使用計時器T1來確認(rèn)基板處理裝置11的使用狀況。再者，本實施形態(tài)中，雖然亦可將計時器T1及記憶體M1設(shè)于處理室單元，但圖4中為了使不同處更為明確，故省略該等的圖示。
本實施形態(tài)中，若不將保護(hù)金鑰K1插入設(shè)于電腦32的埠即無法使基板處理裝置11動作。此保護(hù)金鑰K1具有計時器及記憶體，且以密碼來保護(hù)來自外部的存取。因此，若使用設(shè)于保護(hù)金鑰K1的計時器來取代前述第1實施形態(tài)的計時器T1(參照圖1、圖3)的話，即能進(jìn)行“使用期限檢查”、“使用時間檢查”、及“停止時間檢查”。此外，由于保護(hù)金鑰K1是被密碼所保護(hù)，因此可取代前述第1實施形態(tài)的記憶體M1(參照圖1、圖3)，而使用保護(hù)金鑰K1內(nèi)的記憶體。
本實施形態(tài)，若于圖3中分別取代處理室單元而讀取保護(hù)金鑰K1、取代單元ID而讀取保護(hù)金鑰ID、取代計時器T1、記憶體M1而讀取保護(hù)金鑰K1內(nèi)的計時器、記憶體的話，即能使用和第1實施形態(tài)相同的方法，進(jìn)行基板處理裝置11不當(dāng)使用的確認(rèn)與不當(dāng)使用的防止。又，亦可于前述第1實施形態(tài)的構(gòu)成中加入本實施形態(tài)的構(gòu)成，將授權(quán)檔案LF及密碼PW等儲存至處理室單元CN及保護(hù)金鑰K1的雙方。此外，通過上述構(gòu)成亦能因應(yīng)硬體故障的意外。又，亦可定期地、或視需要將儲存于復(fù)數(shù)處的授權(quán)檔案LF等加以互相對照，通過確認(rèn)沒有不相同，來檢查有無竄改。
“第3實施形態(tài)”圖5，是顯示本發(fā)明第3實施形態(tài)的基板處理裝置的概略構(gòu)成的俯視圖。圖5所示的本發(fā)明第3實施形態(tài)的基板處理裝置11與圖1所示的本發(fā)明第1實施形態(tài)的基板處理裝置11的不同點在于，是使用設(shè)于控制電腦32的計時器T2來確認(rèn)基板處理裝置11的使用狀況。又，本實施形態(tài)中，雖然亦可將計時器T1及記憶體M1設(shè)于處理室單元，于控制電腦11設(shè)置用以插入保護(hù)金鑰K1的埠，但為了使不同點更為明確，圖5中省略圖示。
在第1實施形態(tài)中說明的處理室單元CN及第2實施形態(tài)中說明的保護(hù)金鑰K1，設(shè)有即使曝光裝置的動作停止時亦能使計時器動作的電池，據(jù)此，即使是在基板處理裝置11停止的情形下，處理室單元CN的計時器及保護(hù)金鑰K1的計時器亦能持續(xù)動作若干年。
然而，通過電池的可持續(xù)動作時間只有幾年左右，當(dāng)電池使用完而計時器停止的情形時，亦有可能在其后被不當(dāng)使用，為了防止此種情形發(fā)生，必須有安裝長壽命的電池、或定期實施電池更換管理等的對策。此外，上述第1實施形態(tài)、第2實施形態(tài)中，必須新設(shè)用以讀取計時器T1的計時結(jié)果或保護(hù)金鑰K1的計時結(jié)果的指令，有可能須需大幅度改變控制電腦32。
因此，本實施形態(tài)，是使用設(shè)于控制電腦32的計時器T2的計時結(jié)果來確認(rèn)基板處理裝置11的使用狀況。雖然針對此計時器T2亦設(shè)有備份電池，但平時是由主電源供給電力，而幾乎不使用此電池。因此，即使來自主電源的電力供應(yīng)暫時停止，計時器T2亦能通過電池而實質(zhì)上持續(xù)動作達(dá)數(shù)十年程度。但是，設(shè)于控制電腦32的計時器T2，其計時結(jié)果被竄改的可能性高。因此，本實施形態(tài)中，是將以下(1)～(3)所示的竄改防止措施(例如，竄改防止程式)設(shè)于控制電腦32。
(1)將基板處理裝置11的使用開始日(授權(quán)日)與日數(shù)計算的資訊予以加密后記錄在已加密的授權(quán)檔案LF，以確認(rèn)該等的和所示的日時與計時器T2計時結(jié)果的日時是否一致，并檢查確認(rèn)用的日時是否在計時器T2計時結(jié)果之前。假如，該確認(rèn)用的日時在計時器T2計時結(jié)果之后的話，即代表計時器T2被竄改為顯示較前的時日。此時，可將計時器T2的日時修正為確認(rèn)用日時，之后，通過確認(rèn)前述基板處理裝置11的使用狀況，來確認(rèn)基板處理裝置11是否有依照契約使用。
又，在進(jìn)行“使用期限檢查”的情形下，當(dāng)該確認(rèn)用日時在計時器T3計時結(jié)果的日時前時，最好是能自動進(jìn)行使確認(rèn)用日時與現(xiàn)在日時一致的修正，俾使其與現(xiàn)在日時一致。此是由于在因維修而使基板處理裝置11的動作停止數(shù)天時，確認(rèn)用日時會與實際日時不同，而必須加以修正的故。又，在進(jìn)行“使用時間檢查”時，必進(jìn)行此修正。
(2)在整合確認(rèn)程式P2的起動時、或預(yù)先設(shè)定的時間間隔或任意的時機(jī)，將現(xiàn)在時刻記錄至已加密的授權(quán)檔案LF，重新將現(xiàn)在時刻記錄于授權(quán)檔案LF時確認(rèn)前次記錄的時刻在現(xiàn)在時刻之前。若前次記錄的時刻在現(xiàn)在時刻之后的話，即代表計時器T2已被竄改。
(3)設(shè)于控制部101的各種程式，是一邊在記憶部制作檔案夾及檔案一邊實施各種處理。因此，以預(yù)先設(shè)定的時間間隔或任意的時機(jī)，來確認(rèn)特定檔案夾或檔案的制作日，是否在計時器T2計時結(jié)果所示的現(xiàn)在時刻之前。若檔案夾或檔案的制作日時在現(xiàn)在時刻之后的話，即代表計時器T2已被竄改。
又，藉上述(2)、(3)的方法確認(rèn)計時器T2的竄改時，最好是能以控制程式P3使基板處理裝置11的動作停止，并停止基板處理裝置11的動作直到進(jìn)行處置(例如，取得新的授權(quán))為止。又，若是能使用前述第1實施形態(tài)中說明的計時器T1或第2實施形態(tài)中說明的保護(hù)金鑰K1內(nèi)所設(shè)的計時器的構(gòu)成的話，亦可使用該等計時器的計時結(jié)果來修正計時器T2。
確認(rèn)計時器T2的竄改的方法，可單獨使用該(1)～(3)中的任一者，亦可組合(1)與(3)、或組合(2)與(3)來使用。又，上述(2)的竄改防止對策中，若是具備計時器T1及保護(hù)金鑰K1中至少一種的構(gòu)成的話，亦可不將現(xiàn)在時刻記錄于授權(quán)檔案LF，而將其記錄于計時器T1或保護(hù)金鑰K1。此外，本實施形態(tài)，于圖3中，若取代計時器T1而讀取計時器T2、取代記憶體M1而使用設(shè)于記憶部102的記憶體的話，即能以和第1實施形態(tài)相同的方法，進(jìn)行基板處理裝置11不當(dāng)使用的確認(rèn)與不當(dāng)使用的防止。
“第4實施形態(tài)”
圖6，，是顯示本發(fā)明第4實施形態(tài)的基板處理裝置的概略構(gòu)成的圖。如圖6所示，本實施形態(tài)的基板處理裝置111，包含用以接收GPS(GlobalPositioning System全球定位系統(tǒng))衛(wèi)星所發(fā)射的電波的天線112、GPS收訊器113、以及控制電腦114。此外，于此基板處理裝置111，亦設(shè)有圖1所示的涂布顯影部31及圖2所示的曝光裝置30。
GPS收訊器113，是以天線112接收GPS衛(wèi)星所發(fā)射的電波，據(jù)此，來檢測設(shè)置基板處理裝置111的位置，將其輸出至控制電腦114?？刂齐娔X114，與圖1所示的控制電腦32同樣的，當(dāng)然是通過控制基板處理裝置111的各部來進(jìn)行晶圓W的曝光處理，并根據(jù)GPS收訊器113輸出的位置檢測結(jié)果來確認(rèn)基板處理裝置111是否有移設(shè)。通過此確認(rèn)，當(dāng)判斷基板處理裝置111被移設(shè)時，控制電腦114即使用與前述第1實施形態(tài)相同的不當(dāng)使用防止方法，來使基板處理裝置111的動作停止，并在進(jìn)行既定處置(例如，取得新的授權(quán))之前，使基板處理裝置111無法使用。
此處，基板處理裝置111的使用者(基板處理裝置111的購入者(受讓者))，有可能因配置變更而在自有工廠內(nèi)進(jìn)行基板處理裝置111的移設(shè)，亦有可能將基板處理裝置111移設(shè)至自有的其它工廠的情形。由于此等基板處理裝置111的移設(shè)都是正當(dāng)?shù)模虼?，并不希望會因移設(shè)而產(chǎn)生基板處理裝置111無法動作的情形。不過，若無限制的承認(rèn)移設(shè)的話，很可能控制基板處理裝置111的動作的控制程式會被不當(dāng)使用。
因此，基板處理裝置111的制造廠商與基板處理裝置111的使用者(基板處理裝置111的購入者(受讓者))之間，在簽定控制基板處理裝置111動作的控制程式的使用授權(quán)契約時，最好是能檢討有無基板處理裝置111的移設(shè)，并設(shè)定用以判斷基板處理裝置111是否有被移設(shè)的合理的基準(zhǔn)值(移動可能距離)。例如，若沒有在使用者擁有的工廠間進(jìn)行移設(shè)的預(yù)定的話，則最好是將基準(zhǔn)值設(shè)定為例如數(shù)百公尺，以認(rèn)可基板處理裝置111僅能在最初設(shè)置的工廠內(nèi)進(jìn)行移設(shè)。通過此外基準(zhǔn)值的設(shè)定，即能進(jìn)行例如認(rèn)可在日本國內(nèi)的移設(shè)，但不認(rèn)可往海外的移設(shè)等的控制。若將該基準(zhǔn)值作為授權(quán)資訊的一包含在授權(quán)檔案LF，并將此基準(zhǔn)值與GPS收訊器113的檢測結(jié)果加以比較的話，即能確認(rèn)基板處理裝置111有無被移設(shè)。本實施形態(tài)中，最好是將授權(quán)檔案LF予以加密。
“第5實施形態(tài)”為了防止基板處理裝置的不當(dāng)使用，若將基板處理裝置的制造廠商與基板處理裝置的使用者(基板處理裝置的購入者(受讓者))簽定的控制程式的使用許可契約內(nèi)容的一部(例如，使用期限)，顯示在基板處理裝置所具備的控制電腦的顯示面板的話，亦能預(yù)防不當(dāng)使用。若進(jìn)行此種顯示的話，出入該被不當(dāng)使用的基板處理裝置的業(yè)者(例如，基板處理裝置的維修業(yè)者)可以容易的掌握不當(dāng)使用的事實。再者，通過明示上述內(nèi)容，在發(fā)生訴訟的情況時，基板處理裝置的制造廠商亦可證明該不當(dāng)使用是明知而為的不法行為。
圖7，是顯示基板處理裝置所使用的控制程式使用許可內(nèi)容的顯示例的圖。圖7(a)所示的例中，顯示欄D1中顯示了基板處理裝置的制造廠商“Nikon”與“○○○公司”之間已簽定使用許可的訊息m1，作為契約內(nèi)容則顯示指示使用期限的訊息m2、與指示使用時間的訊息m3。圖7(a)所示例中，從顯示欄D1所顯示的訊息m2的內(nèi)容，一眼即可知控制基板處理裝置的控制程式的使用期限是設(shè)定為“2006年12月31日”，使用時間則是設(shè)定為“2年”。
又，圖7(b)所示例中，在比圖7(a)所示的顯示欄D1的顯示面積還小的顯示欄D2中，顯示用以指示基板處理裝置的制造廠商「Nikon」的訊息m11、與指示現(xiàn)在時刻的訊息m12的第1顯示，或顯示用以指示基板處理裝置的使用者“○○○公司”的訊息m21、與指示部分契約內(nèi)容的使用期限的訊息m22的第2顯示。該此等第1顯示與第2顯示，是以既定時間間隔(例如，10分或30分間隔)交互顯示。通過此顯示，即使顯示面積小亦能顯示出基板處理裝置的制造廠商、基板處理裝置的使用者以及契約內(nèi)容。
圖7所示的顯示，可適用于前述第1～第4實施形態(tài)的任一者。此時，可將圖7的顯示隨時顯示于設(shè)在控制電腦的顯示面板，亦可以既定時間間隔顯示、或以任意時序顯示。又，顯示面板的顯示，并不限于圖7示的例，可使用任意顯示方法。例如，可將顯示欄的顯示內(nèi)容設(shè)定為依序僅顯示基板處理裝置的制造廠商、僅顯示基板處理裝置的使用者、以及僅顯示契約內(nèi)容。此外，若顯示面板是兼作為用以輸入作業(yè)者指示內(nèi)容的輸入面板的話，則以不妨礙作業(yè)者操作的顯示為佳。
以上說明的實施形態(tài)，是為了易于理解本發(fā)明所記載者，并非用以限定本發(fā)明所為的記載。因此，上述實施形態(tài)所說明的各要素，包含屬于本發(fā)明技術(shù)范圍的所有設(shè)計變更及均等物。
例如，上述實施形態(tài)中，在進(jìn)行授權(quán)資訊的加密時是使用基板處理裝置11的制造廠商所定的密碼PW，但為了防止此密碼PW被解讀且易于管理，最好是能使用組合基板處理裝置111的各號機(jī)所固有的資訊，例如組合登錄于授權(quán)檔案LF內(nèi)的網(wǎng)絡(luò)連接卡32a的物理地址、各保護(hù)金鑰K1的固有的保護(hù)金鑰ID，或授權(quán)日時等資訊的密碼PW。
又，上述實施形態(tài)中，雖進(jìn)行了授權(quán)檔案LF的加密及復(fù)合，但亦可取代此該等處理，而使用前述在竄改防止上非常優(yōu)異的無法解密的函數(shù)(例如，散列函數(shù))，從授權(quán)資訊制作文字列(固有資訊)，將其散列后的內(nèi)容(散列值)與授權(quán)資訊一起(成組)登錄至授權(quán)檔案LF?；逄幚硌b置是否有依照契約使用的判斷、或有無資訊竄改的判斷，是通過登錄于授權(quán)檔案LF的散列值、與將裝置資訊DI及網(wǎng)絡(luò)資訊NI等加以散列化后的值的對照來進(jìn)行。再者，設(shè)于圖3所示的控制部101的解密程式P1、整合性確認(rèn)程式P2、及控制程式P3，可以是以軟體方式安裝、亦可以硬體方式安裝。
又，上述實施形態(tài)中，在確認(rèn)基板處理裝置的使用時間時是使用計時既的計時結(jié)果，但除此以外，亦可裝備一計算基板處理量(用以表示曝光處理照射數(shù)、曝光處理晶圓數(shù)、曝光處理批數(shù)等基板的處理量)的機(jī)構(gòu)，使用此基板處理量來確認(rèn)基板處理裝置的使用狀況。又，為了防止此等資訊被竄改，最好是能將此等資訊儲存于第1實施形態(tài)所示的處理室單元CN所具備的記憶體M1、或第2實施形態(tài)所示的保護(hù)金鑰K1所具備的記憶體，或予以加密后儲存于記憶部102。
接著，說明使用基板處理裝置的元件制造。圖8，是顯示元件(IC及LSI等半導(dǎo)體晶片、液晶面板、CCD、薄膜磁頭、微機(jī)器等)的一制程例的流程圖。如圖8所示，首先，在步驟S10(設(shè)計步驟)，進(jìn)行元件的功能設(shè)計(例如，半導(dǎo)體元件的電路設(shè)計等)，進(jìn)行用以實現(xiàn)該功能的圖案設(shè)計。接著，在步驟S11(光罩制作步驟)，制作形成有所設(shè)計的電路圖案的光罩。另一方面，在步驟S12(晶圓制造步驟)，使用硅等材料來制造晶圓。
其次，在步驟S13(晶圓處理步驟)，使用步驟S10～步驟S12中準(zhǔn)備的光罩與晶圓，進(jìn)行以微影技術(shù)將形成于光罩的圖樣轉(zhuǎn)印至晶圓上的曝光處理、將完成曝光處理的晶圓予以顯影的顯影處理、對完成顯影處理的晶圓例如進(jìn)行蝕刻的基板處理等處理，來于晶圓上形成實際的電路。其次，在步驟S14(組裝步驟)，使用步驟S13中所處理的晶圓進(jìn)行晶片化。于此步驟S14中，包含組裝步驟(切割、接合)、封裝步驟(晶片封裝)等步驟。最后，在步驟S15(檢查步驟)，進(jìn)行以步驟S14所制作的元件的動作確認(rèn)測試、耐久性測試等檢查。經(jīng)過上述步驟后完成元件，加以出貨。
又，上述實施形態(tài)中，曝光裝置30雖是使用使ArF準(zhǔn)分子激光等所射出的激光來作為曝光用光IL，然而亦可使用從激光等離子光源、或SOR產(chǎn)生的軟X線區(qū)域，如波長13.4nm、或11.5nm的EUV(Extreme Ultra Violet)光。此外，亦可使用電子束或離子束等的帶電粒子束。又，投影光學(xué)系統(tǒng)PL可使用反射光學(xué)系統(tǒng)、折射光學(xué)系統(tǒng)、及折反射光學(xué)系統(tǒng)的任一者。
又，亦可使用將從DFB半導(dǎo)體激光或光纖激光所射出的紅外線帶、或可視帶的單一波長激光，例如以摻雜鉺(Erbium)(或鉺及釔的兩者)光纖放大器來加以放大，使用非線性光學(xué)結(jié)晶將其轉(zhuǎn)換為紫外光的高次諧波。
再者，基板處理裝置11，111，不僅僅是具備將半導(dǎo)體元件制造時所使用的元件圖案轉(zhuǎn)印至晶圓W上的曝光裝置，亦可以是具備將顯示器(含液晶顯示元件)的制造時所使用的元件圖案轉(zhuǎn)印至玻璃板上的曝光裝置、將薄膜磁頭的制造時所使用的元件圖案轉(zhuǎn)印至陶瓷基板上的曝光裝置、或制造攝影元件(CCD等)、微機(jī)器、及DNA晶片等時所使用的曝光裝置。
權(quán)利要求
1.一種基板處理裝置，用以處理基板，其特征在于，具備授權(quán)資訊記憶機(jī)構(gòu)，是儲存作為對該基板處理裝置的特定使用者的使用條件(含該基板處理裝置的停止時間)的授權(quán)資訊；以及確認(rèn)機(jī)構(gòu)，是根據(jù)該授權(quán)資訊記憶機(jī)構(gòu)中所儲存的該授權(quán)資訊與來自計時機(jī)構(gòu)的計時資訊，來確認(rèn)該基板處理裝置的使用狀況；該確認(rèn)機(jī)構(gòu)，是根據(jù)該授權(quán)資訊與來自該計時機(jī)構(gòu)的計時資訊，依據(jù)該基板處理裝置的停止時間是否有超過該停止期間，來確認(rèn)該基板處理裝置的使用狀況。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的基板處理裝置，其中，該授權(quán)資訊，進(jìn)一步包含該基板處理裝置的使用期限與使用時間的至少一個，以及該基板處理裝置的使用開始日；該確認(rèn)機(jī)構(gòu)，進(jìn)一步的，是根據(jù)該基板處理裝置從該使用開始日起的使用期間是否已超過該使用期限、以及該基板處理裝置從該使用開始日起的累積使用時間是否已超過該使用時間中的至少一個，來確認(rèn)該基板處理裝置的使用狀況。
3.根據(jù)權(quán)利要求2的基板處理裝置，其中，該授權(quán)資訊，至少包含與該基板處理裝置相關(guān)的裝置資訊、以及與該基板處理裝置所連接的網(wǎng)絡(luò)相關(guān)的網(wǎng)絡(luò)資訊中的至少一個；該確認(rèn)機(jī)構(gòu)，是從該基板處理裝置所得到的裝置資訊及網(wǎng)絡(luò)資訊的至少一個，與該網(wǎng)絡(luò)資訊所包含的裝置資訊及網(wǎng)絡(luò)資訊的至少一個實施對照，來確認(rèn)該基板處理裝置的使用狀況。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3項中任一的基板處理裝置，其中，該授權(quán)資訊，是與固有資訊成為一組而儲存于該授權(quán)資訊記憶機(jī)構(gòu)、或予以加密后儲存于該授權(quán)資訊記憶機(jī)構(gòu)，該固有資訊是使用無法根據(jù)該授權(quán)資訊解密的函數(shù)所產(chǎn)生者。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4項中任一的基板處理裝置，其中，該授權(quán)資訊記憶機(jī)構(gòu)及/或該計時機(jī)構(gòu)，是設(shè)于用以控制該基板處理裝置各部動作而設(shè)的復(fù)數(shù)個控制單元的其中一個，或?qū)υ摶逄幚硌b置可自由拆裝、具有用以使該基板處理裝置起動的鑰匙功能的鑰匙機(jī)構(gòu)，或統(tǒng)籌控制該基板處理裝置動作的控制電腦。
6.根據(jù)權(quán)利要求5的基板處理裝置，其中，該計時機(jī)構(gòu)的計時資訊，是儲存于設(shè)于該控制單元單元、該鑰匙機(jī)構(gòu)、及該控制電腦中的至少一個的計時資訊記憶機(jī)構(gòu)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6的基板處理裝置，其中，該計時機(jī)構(gòu)的計時資訊，是予以加密后儲存于該計時資訊記憶機(jī)構(gòu)。
8.根據(jù)權(quán)利要求6的基板處理裝置，其進(jìn)一步具備竄改判定機(jī)構(gòu)，是判定儲存于該計時資訊記憶機(jī)構(gòu)的計時資訊的有無竄改。
9.根據(jù)權(quán)利要求8的基板處理裝置，其中，該竄改判定機(jī)構(gòu)，是根據(jù)該授權(quán)資訊中所含的該基板處理裝置的使用開始日與從該使用開始的經(jīng)過日數(shù)的和所示的確認(rèn)日時、與該計時機(jī)構(gòu)的計時資訊所示之日時是否一致，或該確認(rèn)用日時是否較該計時機(jī)構(gòu)的計時資訊所示的日時為前，來判定該竄改的有無。
10.根據(jù)權(quán)利要求9的基板處理裝置，其中，該竄改判定機(jī)構(gòu)，在該確認(rèn)用日時較該計時機(jī)構(gòu)的計時資訊所示的日時為前時，是將該確認(rèn)用日時修正至該計時資訊所示的日時。
11.根據(jù)權(quán)利要求8的基板處理裝置，其中，該計時機(jī)構(gòu)的計時資訊對該計時資訊記憶機(jī)構(gòu)的儲存，是以預(yù)先決定的既定時點周期性的進(jìn)行；該竄改判定機(jī)構(gòu)，是根據(jù)儲存于該計時資訊記憶機(jī)構(gòu)的計時資訊是否較該計時機(jī)構(gòu)的現(xiàn)在的計時資訊為前，來判定該竄改的有無。
12.根據(jù)權(quán)利要求8的基板處理裝置，其中，該竄改判定機(jī)構(gòu)，是根據(jù)自動作成的特定資訊的作成日時是否較該計時機(jī)構(gòu)的現(xiàn)在的計時資訊為前，來判定該竄改的有無。
13.一種基板處理裝置，是用以處理基板，其特征在于，具備授權(quán)資訊記憶機(jī)構(gòu)，是儲存作為對該基板處理裝置的特定使用者的使用條件，含與該基板處理裝置的裝置資訊、以及與該基板處理裝置所連接的網(wǎng)絡(luò)相關(guān)的網(wǎng)絡(luò)資訊的至少一個的授權(quán)資訊；確認(rèn)機(jī)構(gòu)，是對從該基板處理裝置所得的裝置資訊及該網(wǎng)絡(luò)資訊的至少一個、與該授權(quán)資訊中所含的裝置資訊及網(wǎng)絡(luò)資訊的至少一個進(jìn)行對照，以確認(rèn)該基板處理裝置的使用狀況。
14.根據(jù)權(quán)利要求13的基板處理裝置，其中，該授權(quán)資訊，包含分配于該基板處理裝置內(nèi)的控制裝置的物理地址、IP地址、閘道地址、以及該控制裝置的連接對象網(wǎng)絡(luò)地址中的至少一個。
15.一種基板處理裝置，是用以處理基板，其特征在于，具備授權(quán)資訊記憶機(jī)構(gòu)，是儲存包含對該基板處理裝置的特定使用者的使用條件的授權(quán)資訊；計數(shù)機(jī)構(gòu)，是計數(shù)該基板處理裝置的基板處理量；以及確認(rèn)機(jī)構(gòu)，是根據(jù)儲存于該授權(quán)資訊記憶機(jī)構(gòu)的該授權(quán)資訊與該計數(shù)機(jī)構(gòu)的計數(shù)資訊，來確認(rèn)該基板處理裝置的使用狀況。
16.根據(jù)權(quán)利要求1-15項中任一的基板處理裝置，其中，該授權(quán)資訊，包含該基板處理裝置的移動距離；并進(jìn)一步具備可接收從全球定位系統(tǒng)衛(wèi)星發(fā)出的電波而檢測位置資訊的位置檢測機(jī)構(gòu)，該位置資訊是顯示該基板處理裝置的位置；該確認(rèn)機(jī)構(gòu)，是根據(jù)儲存于該記憶機(jī)構(gòu)的該移動距離與該位置檢測機(jī)構(gòu)的檢查結(jié)果，來確認(rèn)該基板處理裝置的使用狀況。
17.根據(jù)權(quán)利要求1-16項中任一的基板處理裝置，其進(jìn)一步具備停止機(jī)構(gòu)，是在根據(jù)該確認(rèn)機(jī)構(gòu)所確認(rèn)的該基板處理裝置的使用狀況，違反預(yù)先決定的該使用條件時，停止該基板處理裝置的動作，直到實施既定處置為止。
18.根據(jù)權(quán)利要求17的基板處理裝置，其中，該既定處置，是將該基板處理裝置使用條件新定的授權(quán)資訊儲存于該記憶機(jī)構(gòu)。
19.根據(jù)權(quán)利要求4的基板處理裝置，其中，該無法解密的函數(shù)包含散列函數(shù)。
20.根據(jù)權(quán)利要求1-19項中任一的基板處理裝置，其進(jìn)一步具備顯示機(jī)構(gòu)，是至少顯示該基板處理裝置的制造者、被賦予該授權(quán)資訊的使用者、以及賦予該授權(quán)資訊時與該使用者間簽定的契約內(nèi)容至少一部分的任一者。
21.一種使用狀況確認(rèn)方法，是確認(rèn)處理基板的基板處理裝置的使用狀況，其特征在于，包含授權(quán)檔案的作成步驟，該授權(quán)檔案是用以收納作為對該基板處理裝置特定使用者的使用條件(含該基板處理裝置的停止時間)的授權(quán)資料；計時資訊的取得步驟；使用狀況的確認(rèn)步驟，是根據(jù)該授權(quán)檔案中所收納的該授權(quán)資訊與該計時資訊，通過判斷該基板處理裝置的停止時間是否超過該停止期間，來確認(rèn)該基板處理裝置的使用狀況。
22.一種使用狀況確認(rèn)方法，是確認(rèn)處理基板的基板處理裝置的使用狀況，其特征在于，包含授權(quán)檔案作成步驟，該授權(quán)檔案是用以收納作為對該基板處理裝置的特定使用者的使用條件(含與該基板處理裝置相關(guān)的裝置資訊、以及與該基板處理裝置所連接的網(wǎng)絡(luò)相關(guān)的網(wǎng)絡(luò)資訊的至少一個)的授權(quán)資訊；使用狀況確認(rèn)步驟，是對從該基板處理裝置所得的裝置資訊及該網(wǎng)絡(luò)資訊的至少一個、與儲存于該授權(quán)檔案的該授權(quán)資訊進(jìn)行對照，以確認(rèn)該基板處理裝置的使用狀況。
23.一種不當(dāng)使用防止方法，是防止處理基板的基板處理裝置的不當(dāng)使用，其特征在于，包含在通過權(quán)利要求21或22的使用狀況確認(rèn)方法所確認(rèn)的該基板處理裝置的使用狀況違反預(yù)先決定的該使用條件時，停止該板處理裝置直到實施既定處置為止的步驟。
24.根據(jù)權(quán)利要求21或22的使用狀況確認(rèn)方法，其進(jìn)一步包含顯示步驟，是至少顯示該基板處理裝置的制造者、被賦予該授權(quán)資訊的使用者、以及賦予該授權(quán)資訊時與該使用者間簽定的契約內(nèi)容至少一部分的任一者。
全文摘要
能確認(rèn)基板處理裝置是否被不當(dāng)使用，若有不當(dāng)使用的事實時，能防止該不當(dāng)使用。授權(quán)檔案LF，是將授權(quán)資訊L予以加密的檔案，授權(quán)資訊L包含對基板處理裝置的特定使用者的使用條件。整合性確認(rèn)程式P2，是確認(rèn)以解密程式P1解密后的授權(quán)檔案LF的內(nèi)容，與從基板處理裝置所得的裝置資訊DI、網(wǎng)絡(luò)資訊NI、及現(xiàn)在時刻CT的整合性，來確認(rèn)有無不當(dāng)使用的事實。若有不當(dāng)使用時，根據(jù)整合性確認(rèn)程式P2的資訊，由控制程式P3停止基板處理裝置的動作，直到實施既定處置為止。
文檔編號G03F7/20GK101019207SQ20058002705
公開日2007年8月15日 申請日期2005年8月10日 優(yōu)先權(quán)日2004年8月12日
發(fā)明者鈴木博之, 沖田晉一, 山口正志 申請人:尼康股份有限公司, 尼康制度股份有限公司