專利名稱：光學(xué)鄰近校正光掩模及彩色濾光片的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光學(xué)鄰近校正光掩模，尤其涉及一種用于制造彩色濾片的光學(xué)鄰近校正光掩模。
背景技術(shù)：
隨著計算機性能的大幅進步以及網(wǎng)際網(wǎng)路、多媒體技術(shù)的高度發(fā)展，目前影像資訊的傳遞大多已由類比轉(zhuǎn)為數(shù)位傳輸，而為了配合現(xiàn)代生活模式，視訊或影像裝置的體積也日漸趨于輕薄。傳統(tǒng)的陰極射線顯示器(CRT)，雖然仍有其優(yōu)點，但是由于內(nèi)部電子槍的結(jié)構(gòu)，使得顯示器體積龐大而占空間，且顯示時仍有輻射線傷眼等問題。因此，配合光電技術(shù)與半導(dǎo)體制造技術(shù)所發(fā)展的平板顯示器(Flat Panel Display)，例如液晶顯示器(LCD)、有機發(fā)光顯示器(OLED)或是等離子體顯示器(Plasma Display Panel，PDP)等，已逐漸成為顯示器產(chǎn)品的主流。
目前液晶顯示器皆朝向全彩化、大尺寸、高解析度以及低成本的方向發(fā)展，其中，液晶顯示器通常藉由彩色濾光片來達到彩色化顯示的效果。彩色濾光片通常是架構(gòu)于一透明的玻璃基板上，此透明玻璃基板上主要配置有用以遮光的黑矩陣(Black Matrix，BM)以及對應(yīng)于各個次像素排列的彩色濾光單元，例如紅色濾光單元、綠色濾光單元以及藍色濾光單元等。
圖1為依照現(xiàn)有彩色濾光片所繪示的上視圖。圖2為沿剖面線A-A’所繪示的剖面圖。請同時參照圖1及圖2，紅色濾光單元102(標示為R)、綠色濾光單元104(標示為G)及藍色濾光單元106(標示為B)以馬賽克型配置于基底100上，并以黑矩陣108隔離各彩色濾光單元。然而，可以清楚的看到，因為光學(xué)鄰近效應(yīng)的影響，所形成的紅色濾光單元102、綠色濾光單元104及藍色濾光單元106會出現(xiàn)圓角(rounding)，進而產(chǎn)生漏光區(qū)域110、112及114。
上述漏光區(qū)域110、112及114會導(dǎo)致漏光的情形產(chǎn)生，在大尺寸(4μm)的像素中，漏光區(qū)域110、112及114所產(chǎn)生的漏光現(xiàn)象并不會對色彩的顯示產(chǎn)生嚴重的影響。但是，隨著像素尺寸縮小，漏光區(qū)域110、112及114所產(chǎn)生的漏光現(xiàn)象，會對紅-綠-藍的顏色顯示造成很大的影響。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明的目的是提供一種光學(xué)鄰近校正光掩模，可有效改善光學(xué)鄰近效應(yīng)。
本發(fā)明的另一目的是提供一種彩色濾光片的制造方法，可解決從漏光區(qū)域產(chǎn)生漏光的問題。
本發(fā)明提出一種光學(xué)鄰近校正光掩模，適用于制作一彩色濾光片，彩色濾光片上具有一轉(zhuǎn)移圖案，光學(xué)鄰近校正光掩模包括基板、光掩模圖案及修補圖案。其中，光掩模圖案配置于基板上，光掩模圖案與轉(zhuǎn)移至彩色濾光片的轉(zhuǎn)移圖案不匹配，使得彩色濾光片具有漏光區(qū)域。修補圖案配置于與漏光區(qū)域相對應(yīng)的位置。
依照本發(fā)明的一優(yōu)選實施例所述，在上述的光學(xué)鄰近校正光掩模中，修補圖案包括配置于光掩模圖案邊角上的飾線(serif)，配置于基板上的光掩模圖案的周邊。
依照本發(fā)明的一優(yōu)選實施例所述，在上述的光學(xué)鄰近校正光掩模中，修補圖案包括配置于光掩模圖案內(nèi)的內(nèi)輔助線(internal assisted line)，配置于基板上的光掩模圖案的周邊。
依照本發(fā)明的一優(yōu)選實施例所述，在上述的光學(xué)鄰近校正光掩模中，光掩模圖案的形狀包括矩形。
依照本發(fā)明的一優(yōu)選實施例所述，在上述的光學(xué)鄰近校正光掩模中，基板的材質(zhì)包括透明玻璃。
本發(fā)明提出一種彩色濾光片的制造方法，適用于一基底的顯示區(qū)。首先，于基底上涂布第一彩色光致抗蝕劑，再以第一光掩模進行一第一曝光工藝。其中，第一光掩模包括第一基板、第一光掩模圖案及第一修補圖案。其中，第一光掩模圖案配置于第一基板上，第一光掩模圖案與轉(zhuǎn)移至第一彩色光致抗蝕劑的第一轉(zhuǎn)移圖案不匹配，使得彩色濾光片具有第一漏光區(qū)域。第一修補圖案配置于第一基板上的第一光掩模圖案的周邊，與第一漏光區(qū)域的位置相對應(yīng)。接著，進行一第一顯影工藝，以使第一彩色光致抗蝕劑轉(zhuǎn)為多個第一彩色濾光單元。然后，于基底上涂布第二彩色光致抗蝕劑，再以第二光掩模進行一第二曝光工藝。其中，第二光掩模包括第二基板、第二光掩模圖案及第二修補圖案。其中，第二光掩模圖案配置于第二基板上，第二光掩模圖案與轉(zhuǎn)移至第二彩色光致抗蝕劑的第二轉(zhuǎn)移圖案不匹配，使得彩色濾光片具有第二漏光區(qū)域。接下來，進行一第二顯影工藝，以使第二彩色光致抗蝕劑轉(zhuǎn)為多個第二彩色濾光單元。之后，于基底上涂布第三彩色光致抗蝕劑，再以第三光掩模進行一第三曝光工藝。其中，第三光掩模包括第三基板、第三光掩模圖案及第三修補圖案。其中，第三光掩模圖案配置于第三基板上，第三光掩模圖案與轉(zhuǎn)移至第三彩色光致抗蝕劑的第三轉(zhuǎn)移圖案不匹配，使得彩色濾光片具有第三漏光區(qū)域。隨后，進行一第三顯影工藝，以使第三彩色光致抗蝕劑轉(zhuǎn)為多個第三彩色濾光單元。
依照本發(fā)明的一優(yōu)選實施例所述，在上述的彩色濾光片的制造方法中，第一、二、三修補圖案分別包括配置于第一、二、三光掩模圖案邊角上的飾線。
依照本發(fā)明的一優(yōu)選實施例所述，在上述的彩色濾光片的制造方法中，第一、二、三修補圖案分別包括配置于第一、二、三光掩模圖案內(nèi)的內(nèi)輔助線。
依照本發(fā)明的一優(yōu)選實施例所述，在上述的彩色濾光片的制造方法中，第一光掩模圖案、第二光掩模圖案與第三光掩模圖案的形狀包括矩形。
依照本發(fā)明的一優(yōu)選實施例所述，在上述的彩色濾光片的制造方法中，第一彩色濾光單元、第二彩色濾光單元與第三彩色濾光單元的排列方式為馬賽克型、條紋型、四像素配置型或三角型。
依照本發(fā)明的一優(yōu)選實施例所述，在上述的彩色濾光片的制造方法中，第一彩色光致抗蝕劑、第二彩色光致抗蝕劑與第三彩色光致抗蝕劑分別為紅色光致抗蝕劑、綠色光致抗蝕劑、或藍色光致抗蝕劑，且互為不同顏色的光致抗蝕劑。
依照本發(fā)明的一優(yōu)選實施例所述，在上述的彩色濾光片的制造方法中，紅色光致抗蝕劑、綠色光致抗蝕劑與藍色光致抗蝕劑的材質(zhì)包括負光致抗蝕劑。
依照本發(fā)明的一優(yōu)選實施例所述，在上述的彩色濾光片的制造方法中，于基底上涂布第一彩色光致抗蝕劑之前，還包括于基底上形成一黑矩陣。
依照本發(fā)明的一優(yōu)選實施例所述，在上述的彩色濾光片的制造方法中，基底包括薄膜晶體管陣列基板。
依照本發(fā)明的一優(yōu)選實施例所述，在上述的彩色濾光片的制造方法中，其中基底的材質(zhì)包括透明玻璃。
依照本發(fā)明的一優(yōu)選實施例所述，在上述的彩色濾光片的制造方法中，第一基板、第二基板與第三基板的材質(zhì)包括透明玻璃。
由上所述，在本發(fā)明所提出的光學(xué)鄰近修正光掩模，因?qū)庋谀D案進行光學(xué)鄰近修正，在進行彩色濾光片的制作時，可以有效改善光學(xué)鄰近效應(yīng)。
另一方面，在本發(fā)明所提出的彩色濾光片的制造方法中，因光掩模圖案正確的轉(zhuǎn)移至彩色光致抗蝕劑上，所形成的彩色濾光片的各彩色濾光單元之間不會存在漏光區(qū)域。如此一來，可有效抑制漏光的現(xiàn)象。
為讓本發(fā)明的上述和其他目的、特征和優(yōu)點能更明顯易懂，下文特舉優(yōu)選實施例，并配合附圖，作詳細說明如下。


圖1為依照現(xiàn)有彩色濾光片所繪示的上視圖；圖2為沿剖面線A-A’所繪示的剖面圖；圖3為依照本發(fā)明一實施例所繪示的光學(xué)鄰近校正光掩模的示意圖；圖4為依照本發(fā)明另一實施例所繪示的光學(xué)鄰近校正光掩模的示意圖；圖5為依照本發(fā)明一實施例所繪示的光掩模圖案及其轉(zhuǎn)移圖案的示意圖；圖6為依照本發(fā)明一實施例所繪示的彩色濾光片的上視圖；圖7A～圖7D為沿剖面線A-A’所繪示的制造流程剖面圖；圖8～圖10分別為依照本發(fā)明一優(yōu)選實施例的光掩模所繪示的上視圖。
主要元件符號說明100、400基底102紅色濾光單元104綠色濾光單元106藍色濾光單元108、408黑矩陣110、112、114漏光區(qū)域
300、502、602、702基板302、504、604、704光掩模圖案304、506、606、706修補圖案306轉(zhuǎn)移圖案308漏光圖案402、404、406彩色光致抗蝕劑402’、404’、406’彩色濾光單元500、600、700光掩模508、608、708不透光圖案具體實施方式
圖3為依照本發(fā)明一實施例所繪示的光學(xué)鄰近校正光掩模的示意圖。圖4為依照本發(fā)明另一實施例所繪示的光學(xué)鄰近校正光掩模的示意圖。圖5為依照本發(fā)明一實施例所繪示的光掩模圖案及其轉(zhuǎn)移圖案的示意圖。
首先，請同時參照圖3及圖4，本發(fā)明所提出的光學(xué)鄰近校正光掩模，適用于制作一彩色濾光片，此彩色濾光片上具有從光掩模圖案(如圖3及圖4中的標號304)轉(zhuǎn)移的一轉(zhuǎn)移圖案(如圖5中的標號306)，包括基板300、光掩模圖案302及修補圖案304。其中，光掩模圖案302與修補圖案304配置于基板300上，基板300的材質(zhì)例如是透明玻璃。
然后，請參照圖5，光掩模圖案302與轉(zhuǎn)移至彩色濾光片(未繪示)的一轉(zhuǎn)移圖案306不匹配，使得彩色濾光片具有漏光區(qū)域308。其中，光掩模圖案302的形狀例如是矩形，但并不用以限制本發(fā)明。
接著，請繼續(xù)參照圖3及圖4，修補圖案304例如是圖3中配置于光掩模圖案302邊角上的飾線，或是圖4中配置于光掩模圖案302內(nèi)的內(nèi)輔助線，且這些修補圖案304的位置例如是與漏光區(qū)域308(見圖5)的位置相對應(yīng)。上述光掩模圖案302與修補圖案304的尺寸大小及修補圖案304的個數(shù)，是配合所欲形成的圖案而進行調(diào)整，此為本領(lǐng)域普通技術(shù)人員所熟知，而此不再贅述。
由以上可知，因為對光掩模圖案302進行光學(xué)鄰近修正，于光掩模圖案上加上修補圖案304，因此可以有效抑制光學(xué)鄰近效應(yīng)，在光刻工藝中，有助于圖案的正確轉(zhuǎn)移。
接下來，將詳細說明利用上述光學(xué)鄰近校正光掩模，制造彩色濾光片的方法，適用于一基底的顯示區(qū)。
圖6為依照本發(fā)明一實施例所繪示的彩色濾光片的上視圖。
請參照圖6，彩色濾光單元402’(例如是紅色，標示為R)、彩色濾光單元404’(例如是綠色，標示為G)及彩色濾光單元406’(例如是藍色，標示為B)例如是以馬賽克型配置于基底400上。其中，基底400例如是薄膜晶體管陣列基底或是透明玻璃基底。
然而，可以清楚的看到，本發(fā)明的彩色濾光單元402’、彩色濾光單元404’及彩色濾光單元406’不會出現(xiàn)圓角，所以不會因為產(chǎn)生漏光區(qū)域而造成漏光的現(xiàn)象。在本實施例中，雖然是以馬賽克型配置的彩色濾光片為例，但是本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可輕易得知，本發(fā)明可應(yīng)用于其它配置方式的彩色濾光片制造方法中，例如是條紋型、四像素配置型或三角型。
圖7A～圖7D為沿剖面線A-A’所繪示的制造流程剖面圖。圖8～圖10分別為依照本發(fā)明一優(yōu)選實施例的光掩模所繪示的上視圖。
首先，請參照圖7A，于基底400上形成一黑矩陣408，形成方法例如是在基底400上涂布黑樹脂等不透光材料，并通過曝光及顯影等工藝形成黑矩陣408。接著，于基底400上涂布彩色光致抗蝕劑402，再以光掩模500進行一曝光工藝。其中，彩色光致抗蝕劑402例如是紅色負光致抗蝕劑。
請同時參照圖6及圖8，上述的光掩模500包括基板502、光掩模圖案504、修補圖案506及不透光圖案508。其中，基板502的材質(zhì)例如是透明玻璃。光掩模圖案504例如是矩形的透光圖案，而不透光圖案508的材質(zhì)例如是鉻，是用以形成如圖6中的彩色濾光片上的彩色濾光單元402’(標示為R)。此外，修補圖案506例如是配置于光掩模圖案504邊角上的飾線，配置于基板502上的光掩模圖案504的周邊。在另一實施例中，修補圖案506例如是配置于光掩模圖案504內(nèi)的內(nèi)輔助線(可參照圖4中的修補圖案304)。
接著，請參照圖7B進行一顯影工藝，以使彩色光致抗蝕劑402轉(zhuǎn)為彩色濾光單元402’。然后，于基底400上涂布彩色光致抗蝕劑404，再以光掩模600進行一曝光工藝。其中，彩色光致抗蝕劑404例如是綠色負光致抗蝕劑。
請同時參照圖6及圖9，上述的光掩模600包括基板602、光掩模圖案604、修補圖案606及不透光圖案608。其中，基板602的材質(zhì)例如是透明玻璃。光掩模圖案604例如是矩形的透光圖案，而不透光圖案608的材質(zhì)例如是鉻，是用以形成如圖6中的彩色濾光片上的彩色濾光單元404’(標示為G)。此外，修補圖案606例如是配置于光掩模圖案604邊角上的飾線，配置于基板602上的光掩模圖案604的周邊。在另一實施例中，修補圖案606例如是配置于光掩模圖案604內(nèi)的內(nèi)輔助線(可參照圖4中的修補圖案304)。
接著，請參照圖7C進行一顯影工藝，以使彩色光致抗蝕劑404轉(zhuǎn)為彩色濾光單元404’。接下來于基底400上涂布彩色光致抗蝕劑406，再以光掩模700進行一曝光工藝。其中，彩色光致抗蝕劑406例如是藍色負光致抗蝕劑。
請同時參照圖6及圖10，上述的光掩模700包括基板702、光掩模圖案704、修補圖案706及不透光圖案708。其中，基板702的材質(zhì)例如是透明玻璃。光掩模圖案704例如是矩形的透光圖案，而不透光圖案708的材質(zhì)例如是鉻，是用以形成如圖6中的彩色濾光片上的彩色濾光單元406’(標示為B)。此外，修補圖案706例如是配置于光掩模圖案704邊角上的飾線，配置于基板702上的光掩模圖案704的周邊。在另一實施例中，修補圖案706例如是配置于光掩模圖案704內(nèi)的內(nèi)輔助線(可參照圖4中的修補圖案304)。
接著，請參照圖7D進行一顯影工藝，以使彩色光致抗蝕劑406轉(zhuǎn)為彩色濾光單元406’。因為在光掩模500、600及700上具有修補圖案506、606及706，因此可以有效抑制光學(xué)鄰近效應(yīng)，在光刻工藝中，有助于圖案的正確轉(zhuǎn)移，所以在各彩色濾光單元402’、404’、406’之間不會產(chǎn)生空隙，所以能有效抑制彩色濾光片漏光的情形。
至此，其它完成彩色濾光片的后續(xù)工藝，為于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員所熟知，于此不再贅述。
在上述彩色濾光片的制造方法中，本發(fā)明中彩色濾光單元402’、404’、406’的顏色僅用以作為說明，并不用以限制本發(fā)明。另一方面，光掩模500、600及700上的光掩模圖案504、604、704的排列方式，也會因為彩色濾光單元的配置方式(如馬賽克型、條紋型、四像素配置型或三角型)而有所不同。本領(lǐng)域普通技術(shù)人員，可依照各種不同的條件需求，對彩色濾光單元的顏色形成順序及光掩模圖案等進行調(diào)整。
由上述可知，因為利用本發(fā)明所提出的光學(xué)鄰近校正光掩模，可以有效抑制光學(xué)鄰近效應(yīng)，所以在以此光掩模制造彩色濾光片時，各彩色濾光單元402’、404’、406’之間不會出現(xiàn)漏光區(qū)域，進而可抑制彩色濾光片漏光的現(xiàn)象。
綜上所述，本發(fā)明至少具有下列優(yōu)點1.利用本發(fā)明所提出的光學(xué)鄰近校正光掩模，可以有效減少光學(xué)鄰近效應(yīng)并提高光刻工藝的解析度，以進行更精確的圖案轉(zhuǎn)移。
2.在本發(fā)明所提出的彩色濾光片的制造方法中，因為各彩色濾光單元之間不會存在漏光區(qū)域，可有效抑制漏光的現(xiàn)象，而具有更佳的顯示效果。
雖然本發(fā)明已以優(yōu)選實施例揭露如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何本領(lǐng)域技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的前提下，可作些許的更動與潤飾，因此本發(fā)明的保護范圍當視所附權(quán)利要求所界定者為準。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)鄰近校正光掩模，適用于制作一彩色濾光片，該彩色濾光片上具有一轉(zhuǎn)移圖案，該光學(xué)鄰近校正光掩模包括一基板；一光掩模圖案，配置于該基板上，該光掩模圖案與轉(zhuǎn)移至該彩色濾光片的該轉(zhuǎn)移圖案不匹配，使得該彩色濾光片具有一漏光區(qū)域；以及一修補圖案，配置于與該漏光區(qū)域相對應(yīng)的位置。
2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)鄰近校正光掩模，其中該修補圖案包括配置于該光掩模圖案邊角上的一飾線，配置于該基板上的該光掩模圖案的周邊。
3.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)鄰近校正光掩模，其中該修補圖案包括配置于該光掩模圖案內(nèi)的一內(nèi)輔助線，配置于該基板上的該光掩模圖案的周邊。
4.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)鄰近校正光掩模，其中該光掩模圖案的形狀包括矩形。
5.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)鄰近校正光掩模，其中該基板的材質(zhì)包括透明玻璃。
6.一種彩色濾光片的制造方法，適用于一基底上的一顯示區(qū)，包括于該基底上涂布一第一彩色光致抗蝕劑；以一第一光掩模進行一第一曝光工藝，其中該第一光掩模包括一第一基板；一第一光掩模圖案，配置于該第一基板上，該第一光掩模圖案與轉(zhuǎn)移至該第一彩色光致抗蝕劑的一第一轉(zhuǎn)移圖案不匹配，使得該彩色濾光片具有一第一漏光區(qū)域；以及一第一修補圖案，配置于該第一基板上的該第一光掩模圖案的周邊，與該第一漏光區(qū)域的位置相對應(yīng)；進行一第一顯影工藝，以使該第一彩色光致抗蝕劑轉(zhuǎn)為多個第一彩色濾光單元；于該基底上涂布一第二彩色光致抗蝕劑；以一第二光掩模進行一第二曝光工藝，其中該第二光掩模包括一第二基板；一第二光掩模圖案，配置于該第二基板上，該第二光掩模圖案與轉(zhuǎn)移至該第二彩色光致抗蝕劑的一第二轉(zhuǎn)移圖案不匹配，使得該彩色濾光片具有一第二漏光區(qū)域；以及一第二修補圖案，配置于該第二基板上的該第二光掩模圖案的周邊，與該第二漏光區(qū)域的位置相對應(yīng)；進行一第二顯影工藝，以使該第二彩色光致抗蝕劑轉(zhuǎn)為多個第二彩色濾光單元；于該基底上涂布一第三彩色光致抗蝕劑；以一第三光掩模進行一第三曝光工藝，其中該第三光掩模包括一第三基板；一第三光掩模圖案，配置于該第三基板上，該第三光掩模圖案與轉(zhuǎn)移至該第三彩色光致抗蝕劑的一第三轉(zhuǎn)移圖案不匹配，使得該彩色濾光片具有一第三漏光區(qū)域；以及一第三修補圖案，配置于該第三基板上的該第三光掩模圖案的周邊，與該第三漏光區(qū)域的位置相對應(yīng)；以及進行一第三顯影工藝，以使該第三彩色光致抗蝕劑轉(zhuǎn)為多個第三彩色濾光單元。
7.如權(quán)利要求6所述的彩色濾光片的制造方法，其中該第一、二、三修補圖案分別包括配置于該第一、二、三光掩模圖案邊角上的一飾線。
8.如權(quán)利要求6所述的彩色濾光片的制造方法，其中該第一、二、三修補圖案分別包括配置于該第一、二、三光掩模圖案內(nèi)的一內(nèi)輔助線。
9.如權(quán)利要求6所述的彩色濾光片的制造方法，其中該第一光掩模圖案、該第二光掩模圖案與該第三光掩模圖案的形狀包括矩形。
10.如權(quán)利要求6所述的彩色濾光片的制造方法，其中該第一彩色濾光單元、該第二彩色濾光單元與該第三彩色濾光單元的排列方式為馬賽克型、條紋型、四像素配置型或三角型。
11.如權(quán)利要求6所述的彩色濾光片的制造方法，其中該第一彩色光致抗蝕劑、該第二彩色光致抗蝕劑與該第三彩色光致抗蝕劑分別為一紅色光致抗蝕劑、一綠色光致抗蝕劑或一藍色光致抗蝕劑，且互為不同顏色的光致抗蝕劑。
12.如權(quán)利要求11所述的彩色濾光片的制造方法，其中該紅色光致抗蝕劑、該綠色光致抗蝕劑與該藍色光致抗蝕劑的材質(zhì)包括負光致抗蝕劑。
13.如權(quán)利要求6所述的彩色濾光片的制造方法，于該基底上涂布該第一彩色光致抗蝕劑之前，還包括于該基底上形成一黑矩陣。
14.如權(quán)利要求6所述的彩色濾光片的制造方法，其中該基底包括薄膜晶體管陣列基板。
15.如權(quán)利要求6所述的彩色濾光片的制造方法，其中該基底的材質(zhì)包括透明玻璃。
16.如權(quán)利要求6所述的彩色濾光片的制造方法，其中該第一基板、該第二基板與該第三基板的材質(zhì)包括透明玻璃。
全文摘要
一種光學(xué)鄰近校正光掩模，適用于制作一彩色濾光片，包括基板、光掩模圖案及修補圖案。其中，光掩模圖案配置于基板上，光掩模圖案與轉(zhuǎn)移至彩色濾光片的一轉(zhuǎn)移圖案不匹配，使得彩色濾光片具有漏光區(qū)域。修補圖案配置于基板上的光掩模圖案的周邊，與漏光區(qū)域的位置相對應(yīng)。
文檔編號G03F1/36GK1936702SQ20051010376
公開日2007年3月28日 申請日期2005年9月23日 優(yōu)先權(quán)日2005年9月23日
發(fā)明者吳心平, 林家輝 申請人:聯(lián)華電子股份有限公司