專利名稱：液晶板的試驗(yàn)方法以及試驗(yàn)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及為評(píng)價(jià)液晶板的耐光性的試驗(yàn)方法以及試驗(yàn)裝置。
背景技術(shù)：
歷來，作為液晶板的可靠性評(píng)價(jià)之一，進(jìn)行耐光性試驗(yàn)。例如，在液晶投影機(jī)(projector)中，作為光閥使用的液晶板由于會(huì)受到長時(shí)間的強(qiáng)光照射，在各構(gòu)成要素(部件、部材)上容易產(chǎn)生劣化，所以為了確保所要的品質(zhì)，耐光性試驗(yàn)變得重要。
關(guān)于這樣的液晶板的耐光性，有時(shí)需要長達(dá)幾個(gè)月的定制的試驗(yàn)期間。但是，在尋求產(chǎn)品開發(fā)期間的縮短化的情況下，如此長時(shí)間的試驗(yàn)是不容許的。與此相對(duì)應(yīng)，作為縮短評(píng)價(jià)期間的方法之一，可進(jìn)行所謂的加速試驗(yàn)，即，在比實(shí)際的使用狀況更加惡劣的條件的負(fù)荷下進(jìn)行試驗(yàn)，由其結(jié)果預(yù)測(cè)經(jīng)過長時(shí)間的使用后的劣化。與此種液晶板的耐光性評(píng)價(jià)相關(guān)的現(xiàn)有技術(shù)例如公開在特開2001-4526號(hào)公報(bào)(專利文獻(xiàn)1)中。
在上述的現(xiàn)有的耐光性評(píng)價(jià)的方法中，使用金屬氫燈(metal hydrolamp)、超高功率燈(ultra high power)或鹵素?zé)?halogen lamp)等的光源在液晶板上照射光。但是，由于通過這些光源得到的光的聚光性低、得不到高能量密度，所以在短時(shí)間內(nèi)很難發(fā)現(xiàn)劣化現(xiàn)象。因此，在液晶板的耐光性的評(píng)價(jià)上需要花很長時(shí)間，而這并不合適。像這樣評(píng)價(jià)時(shí)間變長阻礙了產(chǎn)品開發(fā)期間的縮短化，很不理想。
專利文獻(xiàn)1特開2001-4526號(hào)公報(bào)發(fā)明內(nèi)容所以，本發(fā)明的目的是提供一種能夠謀求液晶板的耐光性的評(píng)價(jià)所需時(shí)間的縮短的技術(shù)。
第一形態(tài)的本發(fā)明是一種為了試驗(yàn)包含一對(duì)基板和介于該基板間的液晶層的液晶板的耐光性的一種方法，其包含以下工序第1工序，將激光的波長、照射能量或者照射時(shí)間中至少一個(gè)作為可變參數(shù)設(shè)定，并將激光照向在所述液晶板的試驗(yàn)對(duì)象區(qū)域；第2工序，在所述液晶板上照射觀察光，并檢測(cè)通過該液晶板后的該觀察光的狀態(tài)；和第3工序，以與所述激光的所述可變參數(shù)的設(shè)定對(duì)應(yīng)的所述觀察光的狀態(tài)的差異為基礎(chǔ)，評(píng)價(jià)所述液晶板的耐光性。
在此方法中，由于作為為了調(diào)查液晶板的耐光性的光使用激光，其與使用鹵素?zé)舻茸鳛楣庠吹臅r(shí)候相比，可以進(jìn)行局部的高能量密度的光照射。由此，可以在極短的時(shí)間(例如幾分間～幾十分間左右)發(fā)現(xiàn)劣化現(xiàn)象，可以通過研究照射時(shí)的激光的照射條件與發(fā)現(xiàn)的劣化程度之間的相關(guān)關(guān)系評(píng)價(jià)液晶板的耐光性。所以，可以大大縮短液晶板的耐光性的評(píng)價(jià)所需的時(shí)間。
上述的第1工序優(yōu)選所述激光的照射使所述試驗(yàn)對(duì)象區(qū)域內(nèi)的所述液晶層的取向性局部性降低。特別，優(yōu)選在試驗(yàn)對(duì)象區(qū)域內(nèi)的取向膜上產(chǎn)生變質(zhì)，使取向膜的取向限制力降低或者消失。
由此，可以評(píng)價(jià)由于光照的取向性的降低為起因的液晶板的劣化。
上述第2工序優(yōu)選至少在上述液晶板的光出射側(cè)設(shè)置偏光元件，作為該觀察光的狀態(tài)檢測(cè)通過該偏光元件后的上述觀察光的光強(qiáng)度。
通過使用偏光元件，作為透射光強(qiáng)度變化可以容易的檢測(cè)由液晶板的劣化導(dǎo)致的液晶層的取向狀態(tài)的變化。
而且，優(yōu)選兼用上述激光作為上述觀察光，上述第1工序以及第2工序同時(shí)進(jìn)行。
由此，可以謀求評(píng)價(jià)時(shí)間的進(jìn)一步縮短。而且，能夠使試驗(yàn)方法的實(shí)施所用的裝置、器具簡單化。
而且，作為上述激光優(yōu)選使用連續(xù)波。
由此，能夠向試驗(yàn)對(duì)象區(qū)域的整個(gè)區(qū)域提供高效率的能量使其產(chǎn)生劣化，并可以謀求進(jìn)一步地縮短評(píng)價(jià)時(shí)間。
上述第1工序優(yōu)選通過成像光學(xué)系統(tǒng)將激光照射在上述試驗(yàn)對(duì)象區(qū)域。
由此，對(duì)于試驗(yàn)對(duì)象區(qū)域的整個(gè)區(qū)域能夠提供均勻的能量，可以提高評(píng)價(jià)結(jié)果的信賴性。
而且，在上述第1工序中，優(yōu)選通過聚光光學(xué)系統(tǒng)將上述激光照射在上述試驗(yàn)對(duì)象區(qū)域。
此時(shí)，可以將試驗(yàn)對(duì)象區(qū)域縮小成更加微小的區(qū)域進(jìn)行評(píng)價(jià)。所以，例如，在液晶板的構(gòu)成要素中想對(duì)特定的要素選擇性地評(píng)價(jià)的時(shí)候(例如，只想評(píng)價(jià)像素電極內(nèi)的時(shí)候等)是有效的。
第2形態(tài)的本發(fā)明是關(guān)于一種上述第1形態(tài)中所提到的試驗(yàn)方法的實(shí)施所用適合的試驗(yàn)裝置。具體而言，本發(fā)明的液晶板的試驗(yàn)裝置是為了試驗(yàn)包含一對(duì)基板和介于該基板間的液晶層的液晶板的耐光性的一種裝置，其具有以下配置，具備激光振蕩器，對(duì)激光可以將其波長、照射能量或者照射時(shí)間中至少一個(gè)作為可變參數(shù)設(shè)定并能輸出；位置設(shè)定機(jī)構(gòu)，使由所述振蕩器輸出的所述激光能夠照射在所述液晶板的試驗(yàn)對(duì)象區(qū)域上的方式對(duì)該激光和所述液晶板間進(jìn)行相對(duì)位置設(shè)定；觀察光輸出機(jī)構(gòu)，將用于觀測(cè)所述液晶板的光透射狀態(tài)的觀察光照射在該液晶板上；和檢測(cè)機(jī)構(gòu)，檢測(cè)通過所述液晶板后的所述觀察光的狀態(tài)。
通過使用此構(gòu)成的實(shí)驗(yàn)裝置，能夠大大縮短液晶板的耐光性的評(píng)價(jià)所需要的時(shí)間。
而且，優(yōu)選至少也包含配置在上述液晶板的光出射側(cè)的偏光元件，作為該觀察光的狀態(tài)通過上述檢測(cè)機(jī)構(gòu)檢測(cè)通過上述偏光元件后的上述觀察光的光強(qiáng)度由此，可以容易地檢測(cè)觀察光的狀態(tài)。
而且，也優(yōu)選上述的激光兼做觀察光。
由此，裝置構(gòu)成能夠簡單化。
而且，也優(yōu)選上述激光為連續(xù)波。
由此，能夠向試驗(yàn)對(duì)象區(qū)域提供高效率的能量使其產(chǎn)生劣化，可以謀求評(píng)價(jià)時(shí)間的進(jìn)一步縮短。
而且，優(yōu)選也包含上述激光在上述試驗(yàn)對(duì)象區(qū)域成像的成像光學(xué)系統(tǒng)。
由此，對(duì)于試驗(yàn)對(duì)象區(qū)域的全部區(qū)域能夠提供均勻的能量，可以提高評(píng)價(jià)結(jié)果的可靠性。
而且，也優(yōu)選包含上述激光在上述試驗(yàn)對(duì)象區(qū)域聚光的聚光光學(xué)系統(tǒng)。
此時(shí)，可以將試驗(yàn)對(duì)象區(qū)域縮小成更加微小的區(qū)域進(jìn)行評(píng)價(jià)。所以，例如，在液晶板的構(gòu)成要素中想對(duì)特定的要素選擇性地評(píng)價(jià)的時(shí)候是有效。


圖1是液晶板的試驗(yàn)方法的概略說明圖。
圖2是為了說明作為試驗(yàn)對(duì)象的液晶板的構(gòu)成例子的截面圖。
圖3是對(duì)于在液晶板上照射觀察光，并檢測(cè)該觀察光的光強(qiáng)度的方法的一個(gè)例子的說明圖。
圖4是液晶板的試驗(yàn)裝置的構(gòu)成例子的說明圖。
圖5是對(duì)于通過成像光學(xué)系統(tǒng)后的激光的狀態(tài)的說明圖。
圖6是液晶板的試驗(yàn)裝置的其他的構(gòu)成例子的說明圖。
圖7是對(duì)于通過聚光光學(xué)系統(tǒng)后的激光的狀態(tài)的說明圖。
圖中，10-激光振蕩器，12-觀察光輸出機(jī)構(gòu)，13-工作臺(tái)，14-檢測(cè)機(jī)構(gòu)，15-均化器、16-擋板(mask)、17-成像透鏡，22、24-偏光元件，100-液晶板，LB-激光，OB-觀察光。
具體實(shí)施例方式
下面，一邊參照?qǐng)D一邊對(duì)本發(fā)明的實(shí)施的形態(tài)進(jìn)行說明。
圖1是對(duì)液晶板的試驗(yàn)方法的概略的說明圖。本實(shí)施方式的試驗(yàn)方法是關(guān)于包含一對(duì)基板和在介于該基板間的液晶層的液晶板的耐光性的實(shí)驗(yàn)方法，通過激光的照射使在液晶板上產(chǎn)生劣化，其后，在液晶板上照射觀察光，進(jìn)行光學(xué)性觀察，評(píng)價(jià)該液晶板的劣化程度。
具體而言，首先如圖1(A)所示，激光LB的波長、照射能量或者照射時(shí)間中至少1個(gè)作為可變參數(shù)設(shè)定，將其照射在液晶板100的試驗(yàn)對(duì)象區(qū)域AR上(第1工序)。使用激光振蕩器10發(fā)射激光LB。試驗(yàn)對(duì)象區(qū)域AR能夠任意設(shè)定，例如可以設(shè)定與液晶板100的1像素對(duì)應(yīng)的區(qū)域。由于使用激光LB提供的比較高的能量，在液晶板100的試驗(yàn)對(duì)象區(qū)域AR所包含的各部材(例如取向膜、液晶分子等)上產(chǎn)生劣化。此時(shí)，液晶板100的劣化程度根據(jù)激光LB的可變參數(shù)的設(shè)定內(nèi)容而不同。在本實(shí)施方式中，主要考慮通過激光LB的照射使試驗(yàn)對(duì)象區(qū)域AR內(nèi)的取向膜變質(zhì)，使液晶層的取向性局部降低的形態(tài)。
其次，如圖1(B)所示，觀察光OB在液晶板100上照射，并檢測(cè)通過該液晶板100的該觀察光OB的狀態(tài)(第2工序)。在此，作為檢測(cè)對(duì)象的觀察光OB的狀態(tài)(光學(xué)特性)，考慮到光強(qiáng)度、偏光狀態(tài)、分光特性等各種參數(shù)。由此，作為觀察光OB的狀態(tài)，可適宜選擇與想檢測(cè)的內(nèi)容對(duì)應(yīng)的觀察光輸出機(jī)構(gòu)12以及檢測(cè)機(jī)構(gòu)14。此時(shí)，若在液晶板100的試驗(yàn)對(duì)象區(qū)域AR上產(chǎn)生劣化，則在多數(shù)情況下，能夠檢測(cè)該區(qū)域AR與該區(qū)域AR以外的區(qū)域不同的光學(xué)特性。
其后，根據(jù)與激光LB的可變參數(shù)的設(shè)定內(nèi)容對(duì)應(yīng)的觀察光OB的狀態(tài)的差異，評(píng)價(jià)液晶板的耐光性(第3工序)。例如，可以通過比較由于激光LB的照射時(shí)間的長短而導(dǎo)致的觀察光OB的狀態(tài)的差異，評(píng)價(jià)時(shí)效劣化。而且，通過比較由于激光LB的照射能量的大小而導(dǎo)致的觀察光OB的狀態(tài)的差異，可以評(píng)價(jià)光強(qiáng)度的耐性。
而且，還可以將激光LB兼用作觀察光OB，并一并進(jìn)行上述第1工序以及第2工序。而且，由于激光LB為連續(xù)波(CW)，能夠提供更為高效率的能量。
本發(fā)明的液晶板的試驗(yàn)方法的概略如上所述，下面，對(duì)更具體的實(shí)施方式進(jìn)行說明。以下，采用將取向模式設(shè)置成TN(扭轉(zhuǎn)向列(twistednematic))型的液晶板，對(duì)作為觀察光OB的狀態(tài)檢測(cè)該觀察光OB的光強(qiáng)度的情況的實(shí)施方式進(jìn)行詳細(xì)地說明。
圖2為用于說明試驗(yàn)對(duì)象的液晶板100的構(gòu)成例子的截面圖。圖2(A)為劣化產(chǎn)生前的液晶板100的構(gòu)成的概略表示圖，圖2(B)為劣化產(chǎn)生后的液晶板100的構(gòu)成的概略表示圖。
圖2(A)以及圖2(B)中所示的液晶板100的構(gòu)成包含基板101、102，取向膜103、104，液晶層105，像素電極106、對(duì)向電極107、黑擋板108。在圖2中，顯示了液晶板100的一部，具體顯示了包含3個(gè)像素p1、p2、p3的范圍，但作為整體為呈矩陣狀多數(shù)配置此像素的構(gòu)成。
各基板101、102是由玻璃、塑料等透明的部材制成，夾著沒有圖示的隔板按給定間隔(例如，3μm左右)分離并呈面對(duì)配置。
各取向膜103、104是用于限制介于各基板101、102的相互間的液晶層105內(nèi)的液晶分子的取向。在本例中，作為這些取向膜103、104，使用對(duì)聚酰亞胺膜進(jìn)行研磨(rubbing)處理后的膜。各取向膜103、104在各自膜表面上具有使液晶分子沿同一方向平行取向的取向限制力。通過以此取向限制力的作用方向呈大致垂直的方式配置各取向膜103、104，使液晶層105內(nèi)的液晶分子進(jìn)行TN取向。
液晶層105是由向列的液晶得到的層，并介于基板101、102之間。如圖2(A)所示，此液晶層105所包含的液晶分子呈從基板101朝向基板102側(cè)連續(xù)扭轉(zhuǎn)90度的取向狀態(tài)。而且，在液晶板100的一部(例如與像素P2對(duì)應(yīng)的部分)中，由于取向膜103以及/或者104的取向限制力的降低或者消失等原因?qū)е庐a(chǎn)生劣化的時(shí)候，如圖2(B)所示該部分的液晶分子的取向性降低狀況。
像素電極106是用于向每個(gè)像素的液晶層105施加電壓的電極，并在基板102上的與各像素P1～P3對(duì)應(yīng)的位置上各自形成。這些像素電極106是用例如ITO(Indium-Tin-Oxide)等的透明導(dǎo)電膜在基板101上成膜，并且通過形成圖案(patterning)形成。而且，在各像素電極106中，沒有圖示的薄膜晶體管(TFT)等的開關(guān)元件與其相連，通過該開關(guān)元件可以控制電壓施加。各開關(guān)元件通過信號(hào)線以及通過外部回路使其驅(qū)動(dòng)。
對(duì)向電極107是用于向上述各像素電極106及液晶層105中施加電壓的電極，并在基板102上的大致整個(gè)平面上形成。此對(duì)向電極107為各像素共用的共用電極，并與接地電位等的給定電位連接。作為對(duì)向電極107，使用ITO等的透明導(dǎo)電膜。
黑擋板108覆蓋各像素的邊界，是用于遮斷從該區(qū)域漏掉的光的擋板，其在基板102上形成。此黑擋板108是使用光透射率極低的鉻等的部材，并形成為開口有與各像素對(duì)應(yīng)的區(qū)域的格子狀。
圖3是對(duì)于在上述圖2所示的液晶板100上照射觀察光，檢測(cè)該觀察光的光強(qiáng)度的方法的一個(gè)例子的說明圖。更詳細(xì)地說，圖3(A)是對(duì)于上述圖2(A)所示的產(chǎn)生劣化前的液晶板100的說明圖，圖3(B)是關(guān)于上述圖2(B)所示的產(chǎn)生劣化后的液晶板100的說明圖。
如圖3(A)所示，在液晶板100的光入射側(cè)以及光出射側(cè)分別配置偏光元件22、24。偏光元件22和偏光元件24的光學(xué)主軸相互大致垂直配置。而且，偏光元件22其光學(xué)主軸(偏光軸)與液晶板100的基板101側(cè)的液晶分子的平均的取向方向(director)大致平行配置。而且偏光元件24其光學(xué)主軸(偏光軸)與液晶板100的基板102側(cè)的取向方向大致平行配置。在偏光元件22上入射的觀察光OB僅有沿該偏光元件22的光學(xué)主軸振動(dòng)的成分通過，觀察光OB變成直線偏光。變成直線偏光的觀察光OB在液晶板100的一面(基板101側(cè))入射后，其偏光方向沿液晶分子的扭曲轉(zhuǎn)動(dòng)90度，并從液晶板100的另一面(基板102側(cè))射出。而且，由于從液晶板100射出的觀察光OB的偏光方向與偏光元件24的光學(xué)主軸大致平行，所以能通過該偏光元件24。
另一方面，在圖3(B)所示的例子中，液晶板100與各偏光元件22、24的相對(duì)位置的配置和上述圖3(A)的情況相同。但是，如圖2(B)所示，由于像素P2中的液晶層105的液晶分子的取向性降低，由此伴隨著使入射光的偏光方向的旋轉(zhuǎn)能力(旋光性)降低。而且，液晶分子的取向性多少降低的時(shí)候，如圖3(B)所示，觀察光OB的偏光方向幾乎不旋轉(zhuǎn)并從液晶板100的其他面射出。由此，由于從液晶板100射出的觀察光OB的偏光方向與偏光元件的光學(xué)主軸大致垂直，觀察光OB不能通過偏光元件24。
如此，通過使用各偏光22、24，可以檢測(cè)通過液晶板100的觀察光OB的光強(qiáng)度。而且，在將激光LB兼用做觀察光OB等情況下，在觀察光OB自身的偏光狀態(tài)為直線偏光的時(shí)候，不需要在液晶板100的光入射側(cè)配置偏光元件22。
下面，對(duì)在上述本實(shí)施方式的液晶板的試驗(yàn)方法的實(shí)施中使用的試驗(yàn)裝置的合適的構(gòu)成例子說明。
圖4是液晶板的試驗(yàn)裝置的構(gòu)成例子的說明圖。圖4所示的液晶板的試驗(yàn)裝置1是為了根據(jù)上述試驗(yàn)方法對(duì)液晶板的耐光性試驗(yàn)的試驗(yàn)裝置，其構(gòu)成包含激光振蕩器10、反射鏡11、工作臺(tái)13、功率計(jì)(檢測(cè)機(jī)構(gòu))14、均化器15、擋板16、成像透鏡17和偏光元件22、24。
激光振蕩器10是將激光的波長、照射能量或者照射時(shí)間中至少一個(gè)作為可變參數(shù)設(shè)定并能夠輸出此種激光的光源。作為此激光振蕩器10，對(duì)于液晶板100只要在所期望的短時(shí)間內(nèi)使劣化產(chǎn)生，可以采用任何的激光振蕩器。例如，在本實(shí)施方式中使用輸出波長405nm的連續(xù)波的激光的半導(dǎo)體激光。而且，本實(shí)施方式的激光振蕩器還具備向該液晶板100照射觀察光的輸出機(jī)構(gòu)的功能，其中，所述觀察光用于觀測(cè)液晶板100的光透射狀態(tài)。
反射鏡11將從激光振蕩器10輸出的激光LB反射，并使其前進(jìn)方向向液晶板100所安置在的工作臺(tái)13的方向變更。
工作臺(tái)13安置作為試驗(yàn)對(duì)象的液晶板100，并設(shè)定激光LB和液晶板100的相對(duì)位置，使激光LB能照向該液晶板100的試驗(yàn)對(duì)象區(qū)域。此工作臺(tái)13通過折疊機(jī)(folder)保持液晶板100和偏光元件22、24，并能在三維方向上自由地移動(dòng)它們，而且具有作為設(shè)定液晶板100和激光LB的相對(duì)位置的位置設(shè)定機(jī)構(gòu)的功能。
功率計(jì)14是作為通過液晶板100后的觀察光(在本例中用激光LB兼做觀察光)的狀態(tài)，檢測(cè)光強(qiáng)度的裝置。在本實(shí)施方式中，由于使用偏光元件22、24，從透射光強(qiáng)度的變化可以觀察液晶板100內(nèi)的劣化。
均化器15使從激光振蕩器10輸出的激光LB的強(qiáng)度分布呈幾乎均勻的狀態(tài)變換。
擋板16使通過均化器15后的激光LB的光束形狀變換成呈大致矩形。
成像透鏡17通過均化器15以及擋板16，并使強(qiáng)度分布以及光束形狀整形后的激光LB在液晶板100的試驗(yàn)對(duì)象區(qū)域成像。圖5是對(duì)于通過上述的成像光學(xué)系統(tǒng)后的激光LB的狀態(tài)的說明圖。激光LB的光束形狀是如圖5(A)所示的大致矩形，對(duì)于強(qiáng)度分布如圖5(B)所示的從光束中央到光束端部大致均勻。
偏光元件22配置在液晶板100的光入射側(cè)，并僅通過入射光中的與偏光軸同方向的振動(dòng)成分。同樣，偏光元件24配置在液晶板100的光出射側(cè)上，并僅通過從液晶板100射出的出射光中的與偏光軸同方向的振動(dòng)成分。對(duì)于這些偏光元件22、24的相互間，以及這些和液晶板100的相對(duì)配置能夠任意設(shè)定，在本實(shí)施方式中如上述圖3所示的配置。通過使用這些偏光元件22、24，作為該觀察光的狀態(tài)可以檢測(cè)通過液晶板100后的觀察光的光強(qiáng)度。
另外，在液晶板100上入射的激光LB成為原有的直線偏光等時(shí)候，不需要光入射側(cè)的偏光元件22。而且，對(duì)于處于安裝有偏光元件的狀態(tài)(成為最終產(chǎn)品狀態(tài)等)的液晶板100作為試驗(yàn)對(duì)象的時(shí)候，同樣不需要各偏光元件。
使用這樣的液晶板的試驗(yàn)裝置1，對(duì)于液晶板100，對(duì)波長、照射時(shí)間等的條件進(jìn)行種種設(shè)定，并照射激光使之產(chǎn)生劣化，同時(shí)，使用該激光作為觀察光并監(jiān)控透射光，通過如上步驟可以評(píng)價(jià)液晶板100的耐光性。例如，通過繪制將激光的照射時(shí)間作為橫軸，將通過液晶板100的光的強(qiáng)度(透射率)作為縱軸的曲線圖(graph)，可以評(píng)價(jià)液晶板100的耐光性。而且，通過由此評(píng)價(jià)結(jié)果算出的加速系數(shù)，可以推定液晶板100的耐用時(shí)間。
圖6是液晶板的試驗(yàn)裝置的其他的構(gòu)成例子的說明圖。圖6所示的液晶板的試驗(yàn)裝置1a具有與以上述試驗(yàn)裝置1(參照?qǐng)D4)基本同樣的構(gòu)成，對(duì)于共同的構(gòu)成要素標(biāo)記相同的符號(hào)并省略說明。
圖6所示的本例的試驗(yàn)裝置1a在將上述的試驗(yàn)裝置1中的聚光光學(xué)系統(tǒng)變更為成像光學(xué)系統(tǒng)的這一點(diǎn)上不同。更具體地說，省略均化器15、擋板16，且將成像透鏡17變更為聚光透鏡18。
聚光透鏡18通過反射鏡11使前進(jìn)路徑變更后的激光LB入射，并聚光該激光LB。如此在圖6所示的本實(shí)施方式的試驗(yàn)裝置中，采用了通過使用聚光透鏡18的聚光光學(xué)系統(tǒng)將激光LB在液晶板100的試驗(yàn)對(duì)象區(qū)域上照射的機(jī)構(gòu)。圖7是對(duì)于通過聚光光學(xué)系統(tǒng)后的激光LB的狀態(tài)的說明圖。激光LB的光束形狀為如圖7(A)所示的大致圓形，強(qiáng)度分布是圖7(B)所示的光束中央附近的能量高的狀態(tài)。
通過這樣的本實(shí)施方式，由于作為用于調(diào)查液晶板的耐光性的光使用激光，與使用鹵素?zé)舻茸鳛楣庠聪啾龋梢赃M(jìn)行局部的高能量密度的光照射。由此，可以在極短的時(shí)間(例如幾分間或幾十分間)內(nèi)發(fā)現(xiàn)劣化現(xiàn)象，通過研究此時(shí)的激光的照射條件和發(fā)現(xiàn)的劣化程度的相互關(guān)系可以評(píng)價(jià)液晶板的耐光性。所以，可以大大縮短液晶板的耐光性的評(píng)價(jià)所需的時(shí)間。
而且，通過使用激光，對(duì)于想作為在液晶板內(nèi)評(píng)價(jià)對(duì)象的構(gòu)成要素，可以在局部進(jìn)行光照，使其劣化產(chǎn)生。由此，能夠極力排除對(duì)想作為評(píng)價(jià)對(duì)象的要素以外的要素的影響，能夠得到更高精度的評(píng)價(jià)結(jié)構(gòu)。而且，容易在一個(gè)液晶板中的多處進(jìn)行試驗(yàn)。
而且，通過使用激光，容易使在試驗(yàn)對(duì)象區(qū)域上照射的光的能量密度均勻，并且容易得到作為加速試驗(yàn)機(jī)的正確的評(píng)價(jià)。
另外，本發(fā)明并非僅限于上述實(shí)施方式的內(nèi)容，在本發(fā)明的要旨的范圍內(nèi)可以有各種的變形實(shí)施。
例如，在上述的實(shí)施方式中作為觀察光的狀態(tài)采用了光強(qiáng)度，但是在此以外可以采用偏光狀態(tài)、分光特性、延遲等的各種參數(shù)。此時(shí)，使用與作為檢測(cè)對(duì)象的狀態(tài)合適的檢測(cè)機(jī)構(gòu)即可。例如，若檢測(cè)偏光狀態(tài)的變化作為檢測(cè)機(jī)構(gòu)可以使用偏光橢圓率測(cè)量儀，若檢測(cè)分光特性作為檢測(cè)機(jī)構(gòu)可以使用分光測(cè)定機(jī)。
而且，在上述的實(shí)施方式中，兼用激光LB作為觀察光，但是也可以各自準(zhǔn)備。此時(shí)，首先通過激光在液晶板上使之產(chǎn)生劣化，再使用通過別的方法準(zhǔn)備的觀察光檢測(cè)試驗(yàn)對(duì)象區(qū)域的光學(xué)特性。
而且，在上述的實(shí)施方式中，用TN取向模式的液晶板作為例子進(jìn)行了說明，但是本發(fā)明的使用范圍并非僅限與此，作為其他的類型的液晶板(例如STN型等)的耐光性試驗(yàn)?zāi)軌蜻m用本發(fā)明。
權(quán)利要求
1.一種液晶板的試驗(yàn)方法，用于對(duì)包含一對(duì)基板和介于該基板間的液晶層的液晶板的耐光性進(jìn)行試驗(yàn)，其特征是包括第1工序，將激光的波長、照射能量或者照射時(shí)間中至少一個(gè)作為可變參數(shù)設(shè)定，并將激光照向在所述液晶板的試驗(yàn)對(duì)象區(qū)域；第2工序，在所述液晶板上照射觀察光，并檢測(cè)通過該液晶板后的該觀察光的狀態(tài)；和第3工序，以與所述激光的所述可變參數(shù)的設(shè)定對(duì)應(yīng)的所述觀察光的狀態(tài)的差異為基礎(chǔ)，評(píng)價(jià)所述液晶板的耐光性。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶板的試驗(yàn)方法，其特征在于，所述第1工序通過所述激光的照射使所述試驗(yàn)對(duì)象區(qū)域內(nèi)的所述液晶層的取向性局部性降低。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶板的試驗(yàn)方法，其特征在于，所述第2工序至少在所述液晶板的光出射側(cè)配置偏光元件，并作為所述觀察光的狀態(tài)檢測(cè)通過該偏光元件后的所述觀察光的光強(qiáng)度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶板的試驗(yàn)方法，其特征在于，將所述激光兼用作所述觀察光，且一并進(jìn)行所述第1工序以及所述第2工序。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶板的試驗(yàn)方法，其特征在于，所述激光為連續(xù)波。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶板的試驗(yàn)方法，其特征在于，所述第1工序通過成像光學(xué)系統(tǒng)在所述試驗(yàn)對(duì)象區(qū)域上照射所述激光。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶板的試驗(yàn)方法，其特征在于，所述第1工序通過聚光光學(xué)系統(tǒng)在所述試驗(yàn)對(duì)象區(qū)域上照射所述激光。
8.一種液晶板的試驗(yàn)裝置，是用于對(duì)包含一對(duì)基板和介于該基板間的液晶層的液晶板的耐光性進(jìn)行試驗(yàn)的裝置，其特征是具備激光振蕩器，對(duì)激光可以將其波長、照射能量或者照射時(shí)間中至少一個(gè)作為可變參數(shù)設(shè)定并能輸出；位置設(shè)定機(jī)構(gòu)，使由所述振蕩器輸出的所述激光能夠照射在所述液晶板的試驗(yàn)對(duì)象區(qū)域上的方式對(duì)該激光和所述液晶板間進(jìn)行相對(duì)位置設(shè)定；觀察光輸出機(jī)構(gòu)，將用于觀測(cè)所述液晶板的光透射狀態(tài)的觀察光照射在該液晶板上；和檢測(cè)機(jī)構(gòu)，檢測(cè)通過所述液晶板后的所述觀察光的狀態(tài)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的液晶板的試驗(yàn)裝置，其特征在于，至少還包含在所述液晶板的光出射側(cè)配置的偏光元件，作為該觀察光的狀態(tài)，所述檢測(cè)機(jī)構(gòu)檢測(cè)通過所述偏光元件后的所述觀察光的光強(qiáng)度。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的液晶板的試驗(yàn)裝置，其特征在于，將所述激光兼用作所述觀察光。
11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的液晶板的試驗(yàn)裝置，其特征在于，所述激光為連續(xù)波。
12.根據(jù)權(quán)利要求8所述的液晶板的試驗(yàn)裝置，其特征在于，還包含使所述激光在所述試驗(yàn)對(duì)象區(qū)域成像的成像光學(xué)系統(tǒng)。
13.根據(jù)權(quán)利要求8所述的液晶板的試驗(yàn)裝置，其特征在于，還包含使所述激光在所述試驗(yàn)對(duì)象區(qū)域聚光的聚光光學(xué)系統(tǒng)。
全文摘要
本發(fā)明提供一種能夠謀求液晶板的耐光性的評(píng)價(jià)所需的時(shí)間的縮短的技術(shù)，它是用于試驗(yàn)包含一對(duì)基板和介于該基板間的液晶層的液晶板的耐光性的方法，該方法包含有將激光(LB)的波長、照射能量或者照射時(shí)間中至少一個(gè)作為可變參數(shù)設(shè)定并在所述液晶板(100)的試驗(yàn)對(duì)象區(qū)域(AR)上照射該激光的第1工序；在所述液晶板上照射觀察光(OB)，并檢測(cè)通過該液晶板后的該觀察光的狀態(tài)的第2工序；以與所述激光的所述可變參數(shù)的設(shè)定對(duì)應(yīng)的所述觀察光的狀態(tài)的差異為基礎(chǔ)，評(píng)價(jià)所述液晶板的耐光性的第3工序。
文檔編號(hào)G02F1/13GK1749724SQ20051009987
公開日2006年3月22日 申請(qǐng)日期2005年9月8日 優(yōu)先權(quán)日2004年9月13日
發(fā)明者梅津一成, 山田周平 申請(qǐng)人:精工愛普生株式會(huì)社