專利名稱：線性頭模塊和圖像形成裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種在圖像形成裝置中用作曝光部件的線性頭模塊(linehead)和具備該線性頭模塊的圖像形成裝置。
背景技術(shù)：
作為利用電子照相方式的打印機，已知線性打印機(圖像形成裝置)。該線性打印機是在構(gòu)成被曝光部的感光體鼓的周面上，靠近配置了帶電器、線狀的打印頭(線性頭)、顯像器、轉(zhuǎn)錄器等裝置。即，通過在利用帶電器帶電的感光體鼓的周面上、利用設置在打印頭中的發(fā)光元件之選擇發(fā)光動作進行曝光，形成靜電潛像，由從顯像器提供的調(diào)色劑進行顯像，由轉(zhuǎn)錄器將該調(diào)色劑像轉(zhuǎn)錄到紙上。
但是，作為如所述打印頭的發(fā)光元件，一般使用發(fā)光二極管等?？墒牵@存在難以使發(fā)光強度與響應性兩全的課題。因此，近年來，提議具備將有機場致發(fā)光元件(有機EL元件)作為發(fā)光元件的發(fā)光元件陣列作為曝光元件的圖像形成裝置(例如參照專利文獻1)。
在該圖像形成裝置中，通常采用如下方式，即使來自打印頭(線性頭)的放射光通過日本板硝子株式會社制的自聚焦(SELFOC注冊商標)透鏡陣列后，成像于感光體鼓上，進行曝光。該透鏡陣列通過排列多個進行正立等倍成像的透鏡元件，可成像基于重合的寬范圍之圖像。
專利文獻1特開平11-198433號公報上述有機EL元件存在吸收水分等引起的持久性降低、進而該持久性降低導致壽命短的問題。但是，專利文獻1中未言及有機EL元件的吸濕對策。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明為了解決上述問題而做出的，其目的在于提供一種可阻止有機EL元件的吸濕或氧化引起的持久性降低和壽命變短的線性頭模塊和圖像形成裝置。
為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的線性頭(line head)模塊，具備整列配置的多個有機EL元件的線性頭；和排列使來自所述線性頭的光成像之透鏡元件所構(gòu)成的透鏡陣列，其特征在于形成于所述線性頭的所述透鏡陣列側(cè)之第1室是密封著的。
另外，作為一種線性頭模塊，具備整列配置的多個有機EL元件的線性頭；排列使來自所述線性頭的光成像之透鏡元件所構(gòu)成的透鏡陣列；和支撐所述線性頭和所述透鏡陣列的頭套，其特征在于將所述線性頭和所述透鏡陣列的外周部氣密接合于所述頭套上，并形成于所述線性頭與所述透鏡陣列之間的第1室是密封著的。
根據(jù)這些構(gòu)成，由于密封著第1室，所以可防止水分或氧從透鏡陣列側(cè)接近線性頭。由此，可抑制形成于線性頭中的有機EL元件的吸濕或氧化，可阻止有機EL元件的持久性降低和壽命變短。
另外，期望在所述第1室的內(nèi)部，配置有收氣劑。
根據(jù)該構(gòu)成，由于作為干燥劑或脫氧劑的收氣劑吸收水分或氧，所以可確實防止水分或氧從透鏡陣列側(cè)接近線性頭。因此，可阻止有機EL元件的持久性降低和壽命變短。
另外，期望在所述線性頭和/或所述透鏡陣列與所述頭套的氣密接合部中，配置有含有收氣劑的密封材料。
根據(jù)該構(gòu)成，可通過密封材料來確實截斷水分或氧的透過。因此，可阻止有機EL元件的持久性降低和壽命變短。
另一方面，本發(fā)明的另一線性頭模塊具備整列配置的多個有機EL元件的線性頭；和排列使來自所述線性頭的光成像之透鏡元件所構(gòu)成的透鏡陣列，其特征在于形成于所述線性頭的所述透鏡陣列相反側(cè)之第2室是密封著的。
另外，一種線性頭模塊，具備整列配置的多個有機EL元件的線性頭；排列使來自所述線性頭的光成像之透鏡元件所構(gòu)成的透鏡陣列；和支撐所述線性頭和所述透鏡陣列的頭套，其特征在于在所述線性頭的所述透鏡陣列的相反側(cè)，配置蓋部件，將所述線性頭和所述蓋部件的外周部氣密接合于所述頭套上，并形成于所述線性頭與所述蓋部件之間的第2室是密封著的。
根據(jù)這些構(gòu)成，由于第2室是密封著的，所以可防止水分或氧從蓋部件側(cè)接近線性頭。由此，可抑制形成于線性頭中的有機EL元件的吸濕或氧化，可阻止有機EL元件的持久性降低和壽命變短。
另外，期望在所述第2室的內(nèi)部，配置有收氣劑。
根據(jù)該構(gòu)成，由于作為干燥劑或脫氧劑的收氣劑吸收水分或氧，所以可確實地防止水分或氧從蓋部件側(cè)接近線性頭。因此，可阻止有機EL元件的持久性降低和壽命變短。
另外，期望在所述線性頭和/或所述蓋部件與所述頭套的氣密接合部中，配置有含有收氣劑的密封材料。
根據(jù)該構(gòu)成，可通過密封材料來確實截斷水分或氧的透過。因此，可阻止有機EL元件的持久性降低和壽命變短。
另一方面，本發(fā)明的圖像形成裝置的特征在于具備上述線性頭模塊，作為曝光部件。
根據(jù)該構(gòu)成，通過具備持久性好的線性頭模塊，可提供可靠性好的圖像形成裝置。


圖1是實施方式的線性頭模塊的立體截面圖。
圖2是模式地表示線性頭的圖。
圖3是透鏡陣列的立體圖。
圖4是線性頭的結(jié)合部分中的放大圖。
圖5是實施方式的變形例的線性頭模塊的立體截面圖。
圖6是有機EL元件和驅(qū)動元件的說明圖。
圖7是線性頭的制造工序的說明圖。
圖8是線性頭的制造工序的說明圖。
圖9是級聯(lián)方式的圖像形成裝置的示意構(gòu)成圖。
圖10是4循環(huán)方式的圖像形成裝置的示意構(gòu)成圖。
圖中1..線性頭 3..透鏡陣列 52..頭套 56..第1室 101..線性頭模塊具體實施方式
下面，參照附圖來說明本發(fā)明的實施方式。另外，在以下參照的各附圖中，為了容易看附圖，適當變更各構(gòu)成要素的尺寸等后表示的。
(線性頭模塊)首先說明線性頭模塊。
圖1是實施方式的線性頭模塊的立體截面圖。本實施方式的線性頭模塊101具備整列配置的多個有機EL元件的線性頭1；整列配置使來自線性頭1的光正立等倍成像之透鏡元件所構(gòu)成的透鏡陣列31；和支撐線性頭1和透鏡陣列31外周部的頭套52。
(線性頭)圖2是模式地表示線性頭的圖。該線性頭1在細長的矩形元件基板2上，一體形成排列多個有機EL(場致發(fā)光)元件3而成的發(fā)光元件列3A、由使有機EL元件3驅(qū)動的驅(qū)動元件4構(gòu)成的驅(qū)動元件群、和控制這些驅(qū)動元件4(驅(qū)動元件群)之驅(qū)動的控制電路群5。另外，圖2中，有機EL元件31配置成1列，但也可配置2列，成千島狀。此時，可減小線性頭1的長度方向上的有機EL元件3的間距，使圖像形成裝置的分辨率提高。
有機EL元件3在一對電極間至少具備有機發(fā)光層，通過從該一對電極向發(fā)光層提供電流來發(fā)光。在該有機EL元件3的一個電極上連接電源線8，經(jīng)驅(qū)動元件4在另一電極上連接著電源線7。該驅(qū)動元件4由薄膜晶體管(TFT)或薄膜二極管(TFD)等開關(guān)元件構(gòu)成。在驅(qū)動元件4中采用TFT的情況下，在其源區(qū)域上連接電源線8，在柵極電極上連接控制電路群5。另外，由控制電路群5來控制驅(qū)動元件4的動作，利用驅(qū)動元件4來控制向有機EL元件3的通電。另外，后面描述有機EL元件3和驅(qū)動元件4的詳細構(gòu)造和制造方法。
(透鏡陣列)圖3是透鏡陣列的立體圖。該透鏡陣列31是排列日本板硝子株式會社制的自聚焦(登錄商標)透鏡元件31a。該透鏡元件31a形成為直徑為0.28mm左右的纖維狀。另外，將各透鏡元件31a配置成千島狀，在各透鏡元件31a的間隙中填充黑色的硅樹脂32。并且，在其周圍配置框架34，形成著透鏡陣列31。
該透鏡元件31a從其中心至周邊具有拋物線上的折射率分布。因此，入射到透鏡元件31a的光，在其內(nèi)部邊以一定周期蛇行邊前進。若調(diào)整該透鏡元件31a的長度，則可使圖像正立等倍成像。另外，根據(jù)正立等倍成像的透鏡元件，可使鄰接的透鏡之制作圖像重合，可得到寬范圍之圖像。因此，圖3的透鏡陣列可高精度地使來自線性頭整體的光成像。
(頭套)回到圖1，本實施方式的線性頭模塊101備有支撐線性頭1和透鏡陣列31的外周部之頭套52。該頭套52由Al等剛性材料形成為裂縫狀。垂直于頭套52的長度方向的截面為上下兩端部開口的形狀，其上半部的側(cè)壁52a、52a相互平行地配置，下半部的側(cè)壁52b、52b分別向下端中央部傾斜地配置的。雖然未圖示，但頭套52的長度方向上的兩端部的側(cè)壁也相互平行地配置的。
另外，在頭套52的上半部側(cè)壁52a的內(nèi)側(cè)上，配置有上述線性頭1。
圖4是線性頭的結(jié)合部分(圖1的A部)中的放大圖。如圖4所示，在頭套52的側(cè)壁52a的內(nèi)面，在整周中形成階梯狀的臺座53。使線性頭1的下面抵接于該臺座53的上面，水平配置了線性頭1。細節(jié)如后所述，但線性頭1為底部放射方式，向下側(cè)配置元件基板2，向上側(cè)配置密封基板30。
另外，在由頭套52的側(cè)壁52a與線性頭1形成的角部，在整周中配置有密封材料54a、54b。在頭套52的側(cè)壁52a的內(nèi)面與線性頭1的側(cè)面的間隙中，也配置有密封材料。由此，相對頭套52來氣密接合線性頭1。其中，配置在線性頭1上側(cè)的密封材料54b由丙烯基等紫外線固化性樹脂構(gòu)成。另外，配置在線性頭1的下側(cè)的密封材料54a由環(huán)氧樹脂等熱固化性樹脂構(gòu)成。
另外，在這些密封材料54a、54b中也可含有收氣劑。所謂收氣劑是指干燥劑或脫氧劑，吸入水分或氧。根據(jù)該構(gòu)成，可利用密封材料54a、54b來確實截斷水分或氧的透過。因此，可抑制形成于線性頭中的有機EL元件的吸濕或氧化，可阻止有機EL元件的持久性降低和壽命變短。
回到圖1，在形成于頭套52的下端部之裂縫狀開口部中，配置有透鏡陣列31。另外，在由頭套52的側(cè)壁52b與透鏡陣列31形成的角部，在整周中配置有密封材料55a、55b。而且，在頭套52的側(cè)壁52a的內(nèi)面與線性頭1的側(cè)面的間隙中，也配置有密封材料。由此，相對于頭套52來氣密接合透鏡陣列31。其中，配置在透鏡陣列31上側(cè)的密封材料55a，由環(huán)氧樹脂等熱固化性樹脂構(gòu)成。另外，配置在透鏡陣列31的下側(cè)的密封材料55b由丙烯基等紫外線固化性樹脂構(gòu)成。并且，在這些密封材料55a、55b中也可含有收氣劑。
另外，在頭套52的內(nèi)側(cè)中的線性頭1與透鏡陣列31之間，形成有第1室56。如上所述，由于相對頭套52來氣密接合了線性頭1和透鏡陣列31，所以第1室被密封。另外，第1室的內(nèi)部被氮氣等惰性氣體充滿，或保持為真空。
(線性頭模塊的制造方法)下面，用圖1來說明本實施方式的線性頭模塊的制造方法。首先，沿形成于頭套52的上半部側(cè)壁52a的內(nèi)面中的臺座53，在頭套52的內(nèi)面整周上涂布由熱固化性樹脂構(gòu)成密封材料54a。接著，在頭套52的內(nèi)側(cè)插入線性頭1，配置在臺座53的上面。此時，涂布的密封材料54a沿臺座53流動，再配置于頭套52的內(nèi)面與線性頭1的下面的角部中。
另外，由于線性頭1形成為細長的矩形，容易彎曲，所以必要時確保線性頭1的平面度。接著，沿頭套52的內(nèi)面與線性頭1的下面的角部，在線性頭1的整周上涂布由紫外線固化性樹脂構(gòu)成密封材料54b。之后，每隔規(guī)定間隔對涂布的密封材料54b照射點UV，使密封材料54b部分固化，點固線性頭1。
之后，將頭套52放入氮氣氣氛的處理室內(nèi)，以后的工序在該處理室內(nèi)進行。之后，沿頭套52的下端開口部，在頭套52的內(nèi)面整周涂布由熱固化性樹脂構(gòu)成的密封材料55a。另外，也可在沿臺座53涂布密封材料54a的同時，沿下端開口部涂布密封材料55a。之后，在頭套52的下端開口部中插入透鏡陣列31。此時，涂布的密封材料55a沿下端開口部流動，再配置于頭套52的內(nèi)面與透鏡陣列31的下面的角部中。
這里，執(zhí)行透鏡陣列31相對線性頭1的相對定位。必要時，使線性頭1的有機EL元件點亮，確認透鏡陣列31的成像狀態(tài)，同時，使二者對位。之后，沿頭套52的外面與透鏡陣列31的側(cè)面之角部，在透鏡陣列31的整周，涂布由紫外線固化性樹脂構(gòu)成的密封材料55b。接著，每隔規(guī)定間隔對涂布的密封材料55b照射點UV，使密封材料55b部分固化，點固透鏡陣列31。
之后，在加熱爐內(nèi)將線性頭模塊101的整體加熱到50度左右。由此，由熱固化性樹脂構(gòu)成的密封材料54a、55a的整體固化。之后，向線性頭模塊101的整體照射紫外線。由此，由紫外線固化性樹脂構(gòu)成的密封材料54b、55b的整體固化。另外，也可按相反的順序來執(zhí)行由熱固化性樹脂構(gòu)成的密封材料54a、55a的固化、與由紫外線固化性樹脂構(gòu)成的密封材料54b、55b的固化。
通過上述步驟，在利用密封材料54a、54b相對頭套52來氣密接合線性頭1的同時，利用密封材料55a、55b相對頭套52來氣密接合透鏡陣列31。另外，密封形成于線性頭1與透鏡陣列31之間的第1室56，向其內(nèi)部填充氮氣。
由此，在本實施方式的線性頭模塊中，可防止水分或氧從透鏡陣列31側(cè)接近線性頭1。由此，可抑制有機EL元件的吸濕或氧化，可阻止有機EL元件的持久性降低和壽命變短。
圖5是本實施方式的變形例的線性頭模塊的立體截面圖。在該變形例中，在頭套52的上端開口部中配置有蓋部件57。另外，在頭套52的內(nèi)側(cè)中之線性頭1與蓋部件57之間，形成有第2室59。另外，在由頭套52的側(cè)壁52a與蓋部件57形成的角部，在整周中配置有密封材料58a。由此，相對頭套52來氣密接合著蓋部件57。與之相伴，密封第2室59，其內(nèi)部被氮氣等惰性氣體充滿或保持為真空。
根據(jù)上述變形例的構(gòu)成，不僅可防止水分或氧從透鏡陣列31側(cè)、而且還從蓋部件57側(cè)接近線性頭1。由此，可防止有機EL元件的吸濕，可阻止有機EL元件的持久性降低和壽命變短。
并且，在圖5的變形例中，在第1室56的內(nèi)部配置有收氣劑56a，在第2室59的內(nèi)部配置有收氣劑59a。所謂收氣劑是指干燥劑或脫氧劑，通過吸入水分或氧，將規(guī)定空間維持成干燥狀態(tài)或無氧狀態(tài)。由此，由于可將第1室56和第2室59的內(nèi)部維持成干燥狀態(tài)或無氧狀態(tài)，所以可確實防止有機EL元件的吸濕或氧化，可阻止有機EL元件的持久性降低和壽命變短。
(有機EL元件和驅(qū)動元件)下面，參照圖6(a)、(b)來說明線性頭中的有機EL元件或驅(qū)動元件等的詳細構(gòu)成。
在從像素電極23側(cè)射出由發(fā)光層60發(fā)出的光的所謂底部放射型的情況下，由于是從元件基板2側(cè)取出發(fā)光光的構(gòu)成，所以采用透明或半透明的基板作為元件基板2。例如玻璃、石英、樹脂(塑料、塑料膜)等，尤其是最好使用玻璃基板。
另外，在從陰極(相對電極)50側(cè)射出由發(fā)光層60發(fā)出的光的所謂頂部放射型的情況下，由于是從作為該元件基板2相對側(cè)的密封基板側(cè)取出發(fā)光光的構(gòu)成，所以透明基板和不透明基板都可使用。作為不透明基板，例如除對氧化鋁等陶瓷、不銹鋼等金屬薄片實施表面氧化等的絕緣處理的基板外，還有熱固化性樹脂、熱可塑性樹脂等。
在本實施方式中，設采用底部放射型，因此，元件基板中使用透明的玻璃。
在元件基板2上，形成包含連接于像素電極23上的驅(qū)動用TFT23(驅(qū)動元件4)等的電路部11，在其上設置著有機EL元件3。有機EL元件3通過順序形成用作陽極的像素電極23、注入/輸送來自該像素電極23的空穴之空穴輸送層70、由有機EL物質(zhì)構(gòu)成的發(fā)光層60、和陰極50來構(gòu)成。
這里，若以對應于圖1(a)的模式圖來表示有機EL元件3和驅(qū)動用TFT23(驅(qū)動元件4)，則如圖6(b)所示。在圖6(b)中，電源線7連接于驅(qū)動元件4的源極/漏電極上，電源線8連接于有機EL元件3的陰極50上。
另外，根據(jù)這種構(gòu)成，有機EL元件3如圖6(a)所示，通過從空穴輸送層70注入的空穴與來自陰極50的電子在發(fā)光層60結(jié)合來進行發(fā)光。
另外，在本實施方式中，在像素電極23上形成由SiO2等親液性絕緣材料構(gòu)成的無機隔壁25，在該無機隔壁25中形成有開口25a。這里，由于無機隔壁25由絕緣材料構(gòu)成，所以如后所述，就臨近設置于所述開口25a內(nèi)的功能層而言，電流不流過由該無機隔壁25覆蓋的部位，因此，發(fā)光的領(lǐng)域、即發(fā)光面積由該無機隔壁25的開口25a確定。
用作陽極的像素電極23尤其是在底部放射型的情況下，由透明導電材料形成，具體地最好使用ITO。
作為空穴輸送層70的形成材料，尤其是最好使用3，4-聚乙烯二羥基噻吩/聚乙烯磺酸(PEDOT/PSS)的分散液、即在作為分解介質(zhì)的聚乙烯磺酸中分散3，4-聚乙烯二羥基噻吩，并進一步使之分散于水中的分散液。
另外，作為空穴輸送層70的形成材料，不限于上述材料，可使用各種材料。例如，可使用將聚苯乙烯、聚吡咯、聚苯胺、乙酸甘油酯或其衍生物等分散到適當?shù)姆稚⒔橘|(zhì)、例如所述聚苯乙烯磺酸中的材料等。
作為用于形成發(fā)光層60的材料，使用可發(fā)出熒光或磷光的公知的發(fā)光材料。另外，在本實施方式中，例如采用發(fā)光波長頻域?qū)诩t色的發(fā)光層，但不用說，也可采用發(fā)光波長頻域?qū)诰G色或藍色的發(fā)光層。
作為發(fā)光層60的形成材料，具體而言，適宜地使用聚芴酮(PF)、聚對苯乙烯撐衍生物(PPV)、聚苯衍生物(PP)、聚對苯衍生物(PPP)、聚乙烯咔唑(PVK)、聚噻吩衍生物、聚甲基苯硅烷(PMPS)等聚硅烷系等。另外，也可在這些高分子材料中摻雜苝系色素、香豆素系色素、羅丹明系色素等高分子類材料或紅熒烯、苝、9，10-二苯基蒽、四苯基丁二烯、尼羅紅、香豆素6、喹吖酮等低分子材料來使用。
陰極50覆蓋所述發(fā)光層60來形成，例如是將Ca形成為厚度20nm左右，在其上形成Al為厚度200nm左右，為層疊構(gòu)造的電極，也可使Al用作反射層的。
經(jīng)粘接層將密封基板(未圖示)粘貼于該陰極50上。
另外，在這種有機EL元件3的下方，如上所述，設置有電路部11。該電路部11形成于元件基板2上。即，在元件基板2的表面中形成以SiO2為主體的基底保持層281，作為基底，在其上形成有硅層241。在該硅層241的表面，形成有以SiO2和/或SiN為主體的柵極絕緣層282。
另外，將所述硅層241中、夾持柵極絕緣層282、與柵極電極242重合的區(qū)域設為溝道區(qū)域241a。另外，該柵極電極242為未圖示的掃描線的一部分。另一方面，覆蓋硅層241，在形成柵極電極242的柵極絕緣層282的表面，形成有以SiO2為主體的第1層間絕緣層283。
另外，在硅層241中、溝道區(qū)域241a的源極側(cè)，設置低濃度源區(qū)域241b和高濃度源區(qū)域241S，另一方面，在溝道區(qū)域241a的漏極側(cè)，設置低濃度漏區(qū)域241c和高濃度漏區(qū)域241D，構(gòu)成所謂LDD(Light DopedDrain)構(gòu)造。其中，高濃度源區(qū)域241S經(jīng)在柵極絕緣層282與第1層間絕緣層283上開孔的接觸孔243a，連接于源電極243上。該源電極243構(gòu)成為電源線(未圖示)的一部分。另一方面，高濃度漏區(qū)域241D經(jīng)在柵極絕緣層282與第1層間絕緣層283上開孔的接觸孔244a，連接于與源電極243構(gòu)成相同層的漏電極244上。
在形成源電極243和漏電極244的第1層間絕緣層283的上層中，形成有例如以丙烯類的樹脂成分為主體的平坦化膜284。該平坦化膜284由丙烯類或聚酰亞胺類等的耐熱性絕緣性樹脂等形成，用以消除驅(qū)動用TFT123(驅(qū)動元件4)或源電極243、漏電極244等引起的表面凹凸而形成的公知膜。
另外，由ITO等構(gòu)成的像素電極23，在形成于該平坦化膜284的表面上的同時，經(jīng)設置于該平坦化膜284中的接觸孔23a連接于漏電極244上。即，像素電極23經(jīng)漏電極244連接于硅層241的高濃度漏區(qū)域241D上。
在形成了像素電極23的平坦化膜284的表面，形成有像素電極23與所述的無機隔壁25，并且，在無機隔壁25上，形成著有機隔壁221。另外，在像素電極23上，在形成于無機隔壁25中的所述開口25a、與形成于有機隔壁221中的開口221a的內(nèi)部、即像素區(qū)域中，從像素電極23側(cè)順序?qū)盈B所述空穴輸送層70與發(fā)光層60，由此形成了功能層。
(線性頭的制造方法)下面，說明這種構(gòu)成的線性頭的制造方法。
首先，如圖7(a)所示，在元件基板2的表面，形成基底保持層281，并在該基底保持層281上形成多晶硅層等，形成由該多晶硅層等構(gòu)成的電路部11。
之后，由ITO等形成構(gòu)成像素電極23的透明導電膜，以覆蓋元件基板2的整個面。另外，通過圖案化該導電膜，形成經(jīng)平坦化膜284的接觸孔23a與漏電極244導通的像素電極23。
之后，在像素電極23上和平坦化膜284上，利用CVD法等成膜SiO2等絕緣材料，形成隔壁層(未圖示)，接著，使用公知的熱光刻法技術(shù)、蝕刻技術(shù)，圖案化隔壁層。由此，如圖7(b)所示，在形成的各有機EL元件的每個像素區(qū)域中，形成開口25a，同時，形成無機隔壁25。
之后，如圖7(c)所示，在無機隔壁25的規(guī)定位置、具體為包圍像素區(qū)域的位置上，由樹脂等形成有機隔壁221。
之后，在元件基板2的表面，形成示出親液性的區(qū)域與示出疏液性的區(qū)域。在本實施方式中，利用等離子體處理來形成各區(qū)域。具體而言，該等離子體處理由預備加熱工序、分別將有機隔壁221的表面和開口221a的壁面以及像素電極23的電極面23c、無機隔壁25的表面變?yōu)橛H液性的親液化工序、將有機隔壁221的上面和開口221a的壁面變?yōu)槭枰盒缘氖枰夯ば?、和冷卻工序構(gòu)成。
即，將基板(包含觸排等的元件基板2)加熱到規(guī)定溫度、例如70～80度左右，之后，作為親液化工序，在大氣壓下執(zhí)行將氧設為反應氣體的等離子體處理(O2等離子體處理)。之后，作為疏液化工序，在大氣壓下執(zhí)行將4氟化甲烷設為反應氣體的等離子體處理(CF4等離子體處理)，之后，通過將為了進行等離子體處理而加熱的基料冷卻到室溫，對規(guī)定部位賦予親液性和疏液性。
另外，在該CF4等離子體處理中，像素電極23的電極面23c和無機隔壁25多少受到影響，但由于作為像素電極23的材料之ITO和作為無機隔壁25的構(gòu)成材料的SiO2、TiO2等缺乏對氟元素的親和性，所以在親液化工序中賦予的氫氧基不被氟基所取代，保持親液性。
之后，利用空穴輸送層形成工序來形成空穴輸送層70。在該空穴輸送層形成工序中，作為液滴噴出法，最好采用噴墨法。即，利用該噴墨法，在電極面23c上選擇地配置空穴輸送層形成材料，涂布該材料。之后，進行干燥處理和熱處理，在電極23上形成空穴輸送層70。作為空穴輸送層70的形成材料，例如使用將所述的PEDOT:PSS溶解到異丙醇等極性溶劑中的材料。
這里，在利用噴墨法形成空穴輸送層70時，首先在噴墨頭(省略圖示)中填充空穴輸送層形成材料，使噴墨頭的噴嘴與位于形成于無機隔壁25中的所述開口25a中的電極面23c相對向，邊使噴墨頭與基材(元件基板2)相對移動，邊從噴嘴向電極面23c噴出控制每1滴液量的液滴。之后，干燥處理噴出后的液滴，通過使包含于空穴輸送層材料中的分散介質(zhì)或溶劑蒸發(fā)，形成空穴輸送層70。
此時，從噴嘴噴出的液滴在執(zhí)行了親液性處理的電極面23c上擴展，充滿無機隔壁25的開口25a內(nèi)，臨近該開口25a內(nèi)。另一方面，在進行疏液處理后的有機隔壁221的上面，液滴被排斥而不附著。因此，即便液滴偏離規(guī)定的噴出位置，液滴的一部分落于有機隔壁221的表面，該表面也不會被液滴浸濕，彈下的液滴被引入無機隔壁25的開口25a內(nèi)。
另外，在該空穴輸送層形成工序之后，為了防止各種形成材料或形成的要素之氧化、吸濕，最好在氮氣氣氛、氬氣氛等惰性氣體氣氛中進行。
接著，如圖8(a)所示，通過發(fā)光層形成工序來形成發(fā)光層60。在發(fā)光層形成工序中，與所述空穴輸送層70的形成一樣，最好采用作為液滴噴出法的噴墨法。即，通過噴墨法向空穴輸送層70上噴出發(fā)光層形成材料，之后，通過進行干燥處理和熱處理，在形成于有機隔壁221的開口221a內(nèi)、即像素區(qū)域上形成發(fā)光層60。
通過以上的空穴輸送層70的形成工序與發(fā)光層60的形成工序，可形成本發(fā)明中的功能層。
之后，如圖8(b)所示，通過陰極層形成工序來形成陰極50。該陰極50為了使EL元件高效發(fā)光，通常采用電子注入層與導電層等層疊構(gòu)造，例如可使用鋁等金屬材料。另外，在該陰極50的形成中，與所述空穴輸送層70或發(fā)光層60的形成不同，由于通過沉積法或濺射法等來進行，所以不是僅在像素區(qū)域中選擇地配置形成材料，而是在元件基板2的大致整個面中設置形成材料。因此，在本實施方式中，使元件基板2與未圖示的金屬掩模對位，利用沉積法或濺射法來成膜陰極50，由此，如圖8(b)所示，在基板周邊部不形成陰極50。
之后，如圖8(c)所示，由密封工序來粘接密封基板30。在該密封工序中，在透明的密封基板30與元件基板2之間，涂布透明的粘接劑40，并不混入氣泡地貼合密封基板30與元件基板2。
另外，在所述實施方式中，作為形成于本發(fā)明的線性頭1中的EL元件，示例使用有機EL元件，但當然也可代之以使用無機EL元件。
(線性頭模塊的使用方式)下面，說明本實施方式的線性頭模塊的使用方式。
本實施方式的線性頭模塊被用作圖像形成裝置中的曝光裝置。此時，將線性頭模塊相對向配置在感光體鼓中，利用透鏡陣列，使來自線性頭的光正立等倍成像于感光體鼓上來使用。
(級聯(lián)方式的圖像形成裝置)首先，說明級聯(lián)方式的圖像形成裝置。
圖9是級聯(lián)方式的圖像形成裝置的示意構(gòu)成圖，圖9中，符號80是圖像形成裝置。該圖像形成裝置80將本發(fā)明的線性頭模塊101K、101C、101M、101Y分別配置在作為對應的同樣構(gòu)成之4個感光體鼓(像載持體)41K、41C、41M、41Y之曝光裝置上，構(gòu)成為級聯(lián)方式的裝置。
該圖像形成裝置80具備驅(qū)動輥91、從動輥92與張力輥93，在各輥中張設中間轉(zhuǎn)錄帶90，以沿圖9中箭頭方向(逆時針方向)循環(huán)驅(qū)動。相對該中間轉(zhuǎn)錄帶90，按規(guī)定間隔配置有感光體鼓41K、41C、41M、41Y。這些感光體鼓41K、41C、41M、41Y構(gòu)成將其外周面作為像載持體的感光層。
這里，所述符號中的K、C、M、Y分別表示黑、藍綠、洋紅、黃色，分別表示是黑、藍綠、洋紅、黃色用的感光體。另外，這些符號(K、C、M、Y)的含義對其它部件也一樣。感光體鼓41K、41C、41M、41Y與中間轉(zhuǎn)錄帶90的驅(qū)動同步，沿圖9中箭頭方向(順時針方向)旋轉(zhuǎn)驅(qū)動。
在各感光體鼓41(K、C、M、Y)的周圍，分別設置有使感光體鼓41(K、C、M、Y)的外周面一樣帶電的帶電部件(電暈放電帶電器)42(K、C、M、Y)、和與感光體鼓41(K、C、M、Y)的旋轉(zhuǎn)同步，依次線性掃描利用該帶電部件42(K、C、M、Y)一樣帶電的外周面之本發(fā)明的線性頭模塊101(K、C、M、Y)。
另外，設置顯像裝置44(K、C、M、Y)，向由在該線性頭模塊101(K、C、M、Y)形成的靜電潛像賦予作為顯像劑的調(diào)色劑；作為轉(zhuǎn)錄部件的一次轉(zhuǎn)錄輥45(K、C、M、Y)，將由該顯像裝置44(K、C、M、Y)顯像的調(diào)色劑像依次轉(zhuǎn)錄到作為一次轉(zhuǎn)錄對象的中間轉(zhuǎn)錄帶90上；和作為清潔部件的清潔裝置46(K、C、M、Y)，去除轉(zhuǎn)錄后殘留于感光體鼓41(K、C、M、Y)表面上的調(diào)色劑。
這里，各線性頭模塊101(K、C、M、Y)被設置成有機EL元件的排列方向沿著感光體鼓41(K、C、M、Y)的母線。另外，設定成各線性頭模塊101(K、C、M、Y)的發(fā)光能量峰值波長與感光體鼓41(K、C、M、Y)的靈敏度峰值波長大致一致。
顯像裝置44(K、C、M、Y)，例如將非磁性一成分調(diào)色劑用作顯像劑，例如由供給輥將該一成分調(diào)色劑輸送到顯像輥，利用限制刮刀來限制附著在顯像輥表面上的顯像劑的膜厚，通過使該顯像輥接觸或按壓感光體鼓41(K、C、M、Y)，對應于感光體鼓41(K、C、M、Y)的電位電平來使顯像劑附著，作為調(diào)色劑像顯像。
通過這種4色的單色調(diào)色劑像形成平臺(station)形成的黑、藍綠、洋紅、黃色的各調(diào)色劑像通過施加于一次轉(zhuǎn)錄輥45(K、C、M、Y)上的一次轉(zhuǎn)錄偏壓來依次一次轉(zhuǎn)錄于中間轉(zhuǎn)錄帶90上。之后，由二次轉(zhuǎn)錄輥66將在中間轉(zhuǎn)錄帶90上依次重合構(gòu)成全彩色的調(diào)色劑像二次轉(zhuǎn)錄于紙等記錄介質(zhì)P上，并且，通過作為定影部的定影輥對61，定影于記錄介質(zhì)P上，之后，通過排紙輥對62，排出到形成于裝置上部的排紙托盤68上。
另外，圖9中的符號63是層疊保持多個記錄介質(zhì)P的供紙盒，64是從供紙盒63一張一張地供給記錄介質(zhì)P的拾取輥，65是規(guī)定向二次轉(zhuǎn)錄輥66的二次轉(zhuǎn)錄部提供記錄介質(zhì)P的提供定時之柵輥對，66是作為在與中間轉(zhuǎn)錄帶90之間形成二次轉(zhuǎn)錄部的二次轉(zhuǎn)錄部件之二次轉(zhuǎn)錄輥，67是作為去除二次轉(zhuǎn)錄后殘留于中間轉(zhuǎn)錄帶90表面上的調(diào)色劑之清潔部件的清潔刮刀。
(4循環(huán)方式的圖像形成裝置)下面，說明4循環(huán)方式的圖像形成裝置。
圖10是4循環(huán)方式的圖像形成裝置的示意構(gòu)成圖。圖10中，在圖像形成裝置160中，作為主要構(gòu)成部件，設置有旋轉(zhuǎn)器構(gòu)成的顯像裝置161、用作像載持體的感光體鼓165、用作像寫入部件(曝光部件)的本實施方式的線性頭模塊167、中間轉(zhuǎn)錄帶169、紙輸送路徑174、定影器的加熱輥172、供紙托盤178。
顯像裝置161構(gòu)成為顯像旋轉(zhuǎn)器161a以軸161b為中心沿箭頭A方向旋轉(zhuǎn)。將顯像旋轉(zhuǎn)器161a的內(nèi)部4分割，分別設置有黃(Y)、藍綠(C)、洋紅(M)、黑色(K)等4色的像形成單元。162a～162d是配置在所述4色的各像形成單元中、沿箭頭B方向旋轉(zhuǎn)的顯像輥，163a～163d是沿箭頭C方向旋轉(zhuǎn)的調(diào)色劑供給輥。另外，164a～164d是將調(diào)色劑限制為規(guī)定厚度的限制刮刀。
圖10中，符號165是如上所述用作像載持體的感光體鼓，166是一次轉(zhuǎn)錄部件，168是帶電體。另外，167是用作像寫入部件(曝光部件)的本實施方式的線性頭模塊。感光體鼓165通過省略圖示的驅(qū)動電機、例如步進電機，沿與顯像輥162相反方向的箭頭D方向旋轉(zhuǎn)驅(qū)動。
中間轉(zhuǎn)錄帶169張設在驅(qū)動輥170a與從動輥170b之間。驅(qū)動輥170a被連結(jié)于所述感光體鼓165的驅(qū)動電機上，將動力傳遞到中間轉(zhuǎn)錄帶169。即，利用該驅(qū)動電機的驅(qū)動，中間轉(zhuǎn)錄帶169的驅(qū)動輥170a沿與感光體鼓165相反的方向之箭頭E方向轉(zhuǎn)動。
紙輸送路徑174中設置有多個輸送輥與排紙輥對176等，以輸送紙。載持于中間轉(zhuǎn)錄帶169上的單面圖像(調(diào)色劑像)，在二次轉(zhuǎn)錄輥171的位置被轉(zhuǎn)錄于紙的單面上。二次轉(zhuǎn)錄輥171通過離合器離合低接于中間轉(zhuǎn)錄帶169上，在離合器開時抵接于中間轉(zhuǎn)錄帶169上，在紙上轉(zhuǎn)錄圖像。
如上所述，接著，由具有定影加熱器H的定影器來定影處理轉(zhuǎn)錄了圖像的紙。在定影器中設置加熱輥172、加壓輥173。將定影處理后的紙拉入排紙輥對176中，沿箭頭F方向前進。若從該狀態(tài)開始，排紙輥對176沿逆方向旋轉(zhuǎn)，則紙反轉(zhuǎn)方向，在雙面打印用輸送路徑175中沿箭頭G方向前進。177是電裝品盒，178是容納紙的供紙托盤，179是設置在供紙托盤178的出口處的拾取輥。
在紙輸送路徑中，例如使用低速的無刷電機，作為驅(qū)動輸送輥的驅(qū)動電機。另外，就中間轉(zhuǎn)錄帶169而言，由于需要色差修正等，所以使用步進電機。這些電機由來自省略圖示的控制部件的信號控制。
在圖10所示的狀態(tài)下，黃(Y)的靜電潛像被形成于感光體鼓165上，通過向顯像輥162a施加高電壓，在感光體鼓165中形成黃色的圖像。若黃色的內(nèi)側(cè)和外側(cè)的圖像被全部載持于中間轉(zhuǎn)錄帶169上，則顯像旋轉(zhuǎn)器161a沿箭頭A方向旋轉(zhuǎn)90度。
中間轉(zhuǎn)錄帶169旋轉(zhuǎn)一次后，返回感光體鼓165的位置上。之后，藍綠的二面圖像被形成于感光體鼓165上，該圖像重疊于載持于中間轉(zhuǎn)錄帶169上的黃色圖像來被載持。下面，顯像旋轉(zhuǎn)器161一樣旋轉(zhuǎn)90度，重復向中間轉(zhuǎn)錄帶169的圖像載持后的1次旋轉(zhuǎn)處理。
在4色的彩色圖像載持中，中間轉(zhuǎn)錄帶169旋轉(zhuǎn)4次，之后，進一步控制旋轉(zhuǎn)位置，在二次轉(zhuǎn)錄輥171的位置上，將圖像轉(zhuǎn)錄于紙上。由輸送路徑174輸送從供紙托盤178供給的紙，在二次轉(zhuǎn)錄輥171的位置上，將所述彩色圖像轉(zhuǎn)錄于紙的單面上。單面上轉(zhuǎn)錄于圖像的紙如上所述，被排紙輥對176反轉(zhuǎn)，在輸送路徑中待機。之后，紙在適當?shù)亩〞r被輸送到二次轉(zhuǎn)錄輥171的位置上，在另一面中轉(zhuǎn)錄所述彩色圖像。在外殼180中設置排氣風扇181。
另外，具備本發(fā)明的線性頭模塊之圖像形成裝置不限于上述，可進行各種變形。
權(quán)利要求
1.一種線性頭模塊，具備整列配置的多個有機EL元件的線性頭；和排列使來自所述線性頭的光成像之透鏡元件所構(gòu)成的透鏡陣列，其特征在于形成于所述線性頭的所述透鏡陣列側(cè)之第1室是密封著的。
2.一種線性頭模塊，具備整列配置的多個有機EL元件的線性頭；排列使來自所述線性頭的光成像之透鏡元件所構(gòu)成的透鏡陣列；和支撐所述線性頭和所述透鏡陣列的頭套，其特征在于將所述線性頭和所述透鏡陣列的外周部氣密接合于所述頭套上，并形成于所述線性頭與所述透鏡陣列之間的第1室是密封著的。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的線性頭模塊，其特征在于在所述第1室的內(nèi)部，配置有收氣劑。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的線性頭模塊，其特征在于在所述線性頭和/或所述透鏡陣列與所述頭套的氣密接合部中，配置有含有收氣劑的密封材料。
5.一種線性頭模塊，具備整列配置的多個有機EL元件的線性頭；和排列使來自所述線性頭的光成像之透鏡元件所構(gòu)成的透鏡陣列，其特征在于形成于所述線性頭的所述透鏡陣列相反側(cè)之第2室是密封著的。
6.一種線性頭模塊，具備整列配置的多個有機EL元件的線性頭；排列使來自所述線性頭的光成像之透鏡元件所構(gòu)成的透鏡陣列；和支撐所述線性頭和所述透鏡陣列的頭套，其特征在于在所述線性頭的所述透鏡陣列相反側(cè)，配置蓋部件，將所述線性頭和所述蓋部件的外周部氣密接合于所述頭套上，形成于所述線性頭與所述蓋部件之間的第2室是密封著的。
7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的線性頭模塊，其特征在于在所述第2室的內(nèi)部，配置有收氣劑。
8.根據(jù)權(quán)利要求5～7的任一項中所述的線性頭模塊，其特征在于在所述線性頭和/或所述蓋部件與所述頭套的氣密接合部中，配置有含有收氣劑的密封材料。
9.一種圖像形成裝置，其特征在于具備權(quán)利要求1～8的任一項中所述的線性頭模塊，作為曝光部件。
全文摘要
提供一種可抑制有機EL元件的吸濕引起的持久性惡化之線性頭模塊。本發(fā)明的線性頭模塊(101)具備整列配置的多個有機EL元件的線性頭(1)；排列使來自線性頭(1)的光正立等倍成像之透鏡元件所構(gòu)成的透鏡陣列(31)；和支撐線性頭(1)和透鏡陣列(31)外周部的頭套(52)，其中，將線性頭(1)和透鏡陣列(31)的外周部氣密接合于頭套(52)上，并形成于線性頭(1)與透鏡陣列(31)之間的第1室(56)是密封著的。
文檔編號G03G21/20GK1734359SQ20051008849
公開日2006年2月15日 申請日期2005年8月2日 優(yōu)先權(quán)日2004年8月4日
發(fā)明者小林英和 申請人:精工愛普生株式會社