專利名稱：對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)及對(duì)準(zhǔn)方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)及其方法，特別涉及一種用于半導(dǎo)體工藝或液晶顯示器工藝中，曝光機(jī)器的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)及其方法。
背景技術(shù)：
光刻(Photolithography)可謂為整個(gè)半導(dǎo)體工藝中，甚至在新興發(fā)展的光電產(chǎn)業(yè)的液晶顯示工藝中，最舉足輕重的步驟之一。諸如各種薄膜的圖案(Pattern)及雜質(zhì)(Dopants)的區(qū)域，都是由光刻步驟所決定的。此外，整個(gè)半導(dǎo)體工業(yè)的元件集成度(Integration)，是否能隨著線寬與線距愈趨細(xì)微，朝向制作集成度更高、圖案更細(xì)密的集成電路，亦端賴于光刻工藝的發(fā)展是否順利而定。
以半導(dǎo)體工藝為例，進(jìn)行其中的光刻工藝時(shí)，首先在半導(dǎo)體基材表面覆上一層感光材料，一般稱之為光致抗蝕劑，光致抗蝕劑上具有已定義的線路圖案，其中線路圖案由光掩模所提供，以便執(zhí)行線路圖案的轉(zhuǎn)移。由于大部分工藝達(dá)到20個(gè)以上的光掩模步驟，要成功完成這些工藝，除了需留意線寬、成品率和元件特性外，在此工藝當(dāng)中，還有一個(gè)重要因素就是光掩模圖案的對(duì)準(zhǔn)。
在工藝中必須將多個(gè)光掩模圖案在工件即基板上的相同位置進(jìn)行重復(fù)曝光的動(dòng)作，光掩模的對(duì)準(zhǔn)精度將決定最后元件光學(xué)性能的優(yōu)劣，可謂光刻工藝成敗的關(guān)鍵，因?yàn)椴划?dāng)?shù)膱D案轉(zhuǎn)移，將導(dǎo)致整個(gè)芯片的報(bào)廢。
所以光掩模圖案變換時(shí)的對(duì)準(zhǔn)工作在整個(gè)工藝中顯的非常重要，尤其是當(dāng)技術(shù)越來越進(jìn)步，達(dá)到更大尺寸基板的工藝時(shí)，此問題更是不可忽視。在現(xiàn)有技術(shù)中針對(duì)基板進(jìn)行曝光之前所作的對(duì)準(zhǔn)工作，其方式是利用一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)中所配置的一組影像感測(cè)裝置，例如電荷耦合元件(charge coupled device；CCD)，來監(jiān)測(cè)光掩模與基板間的對(duì)準(zhǔn)情形，同時(shí)移動(dòng)承載基板的承載臺(tái)進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)。
一般在光掩模與基板間會(huì)設(shè)計(jì)多組對(duì)準(zhǔn)記號(hào)，例如在一次對(duì)準(zhǔn)照射(shot)中涵蓋二片基板，二片基板共設(shè)計(jì)三組即六處對(duì)準(zhǔn)記號(hào)位置，每一組通常是位于基板上相對(duì)的兩側(cè)。因此利用現(xiàn)有所配置，位于對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)平臺(tái)上的一組影像感測(cè)裝置來進(jìn)行光掩模對(duì)準(zhǔn)時(shí)，必須反復(fù)移動(dòng)基板承載臺(tái)、對(duì)準(zhǔn)記號(hào)的量測(cè)與對(duì)準(zhǔn)等對(duì)準(zhǔn)步驟，以完整地達(dá)到一次對(duì)準(zhǔn)照射，共六處位置的對(duì)準(zhǔn)，之后再進(jìn)行曝光，才能將光掩模上的圖案成功轉(zhuǎn)移。一般而言一次對(duì)準(zhǔn)照射至少要實(shí)行三次相同的對(duì)準(zhǔn)步驟，以對(duì)準(zhǔn)全部的三組記號(hào)。如此造成工藝時(shí)間耗費(fèi)在多次的移動(dòng)承載臺(tái)以及對(duì)準(zhǔn)調(diào)整動(dòng)作，產(chǎn)出率下降等缺點(diǎn)。
因此需要一種避免現(xiàn)有牽涉多次動(dòng)作的對(duì)準(zhǔn)設(shè)計(jì)，以減少工作時(shí)間，同時(shí)解決產(chǎn)出率下降的問題。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明目的之一就是在提供一種對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)及方法，用以達(dá)到一次對(duì)準(zhǔn)功效，免除多次對(duì)準(zhǔn)動(dòng)作的不方便性。
本發(fā)明的另一目的是在提供一種對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)及方法，用以減少曝光工藝的工作時(shí)間，加快工藝進(jìn)行速度。
本發(fā)明的又一目的是在提供一種對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)及方法，針對(duì)大尺寸的光掩模工藝技術(shù)具有提高產(chǎn)出率的優(yōu)點(diǎn)。
根據(jù)本發(fā)明的上述目的，提出一種對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，適用于半導(dǎo)體或液晶顯示器工藝中曝光前的光掩模對(duì)準(zhǔn)。對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)包括一對(duì)準(zhǔn)單元、至少一影像處理單元以及至少一監(jiān)控顯示裝置。對(duì)準(zhǔn)單元具有多組影像擷取裝置，用以同時(shí)監(jiān)測(cè)多組光掩模標(biāo)記對(duì)應(yīng)于一基板的多組基板標(biāo)記的位置對(duì)準(zhǔn)狀態(tài)。
影像處理單元電連接于影像擷取裝置，處理來自影像擷取裝置的擷取信號(hào)，轉(zhuǎn)換成為影像信號(hào)，再通過與影像處理單元電連接的一監(jiān)控顯示裝置，接收多組位置對(duì)準(zhǔn)狀態(tài)的影像信號(hào)，并將其同時(shí)顯示于畫面上，以配合進(jìn)行光掩模與基板間多組標(biāo)記位置對(duì)準(zhǔn)的調(diào)整。
本發(fā)明的另一方面為一種適用于曝光工藝中基板與光掩模間對(duì)準(zhǔn)的方法，包括有提供多組影像擷取裝置、利用影像擷取裝置同時(shí)擷取多組位置對(duì)準(zhǔn)狀態(tài)影像，其中對(duì)準(zhǔn)狀態(tài)影像顯示光掩模上的多組光掩模標(biāo)記與基板上相對(duì)應(yīng)的多組基板標(biāo)記的對(duì)準(zhǔn)狀態(tài)、以及顯示對(duì)準(zhǔn)狀態(tài)影像于一監(jiān)控顯示裝置上，并調(diào)整基板以使基板標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)光掩模標(biāo)記。
本發(fā)明的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)同時(shí)顯示多組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的對(duì)準(zhǔn)情形，達(dá)到一次對(duì)準(zhǔn)定位，節(jié)省大量工作時(shí)間且提高了產(chǎn)出率。


為讓本發(fā)明的上述和其它目的、特征、優(yōu)點(diǎn)與實(shí)施例能更明顯易懂，下面結(jié)合附圖詳細(xì)說明如下。附圖中圖1繪示依照本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例中基板及基板標(biāo)記的示意圖。
圖2A繪示依照本發(fā)明的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)一優(yōu)選實(shí)施例的前視圖。
圖2B繪示圖2A的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的右視圖。
圖3繪示依照本發(fā)明的對(duì)準(zhǔn)方法一優(yōu)選實(shí)施例的流程圖。
簡(jiǎn)單符號(hào)說明100盤 102第一組位置104第二組位置 106第三組位置110a～110f對(duì)準(zhǔn)照射200對(duì)準(zhǔn)單元 202影像傳感器204、206鏡頭 210影像擷取裝置212光掩模 214光學(xué)系統(tǒng)216基板 218基板承載臺(tái)220影像處理單元 222影像處理器230監(jiān)控顯示裝置 240影像252a第一方向光掩模標(biāo)記線 252b第一方向基板標(biāo)記線254a第二方向光掩模標(biāo)記線 254b第二方向基板標(biāo)記線262第一方向 264第二方向270線路300～304步驟具體實(shí)施方式
本發(fā)明通過在對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)上設(shè)置多組影像擷取裝置，于一次對(duì)準(zhǔn)照射中，同時(shí)監(jiān)測(cè)多組預(yù)設(shè)對(duì)準(zhǔn)記號(hào)的對(duì)準(zhǔn)狀況，進(jìn)行同步的對(duì)準(zhǔn)調(diào)整動(dòng)作，使達(dá)到一次完成對(duì)準(zhǔn)，大幅降低半導(dǎo)體工藝或光電顯示工藝當(dāng)中，曝光工藝的工作時(shí)間，加速隨后曝光動(dòng)作的實(shí)行。以下將以實(shí)施例說明本發(fā)明的實(shí)施方式。
參照?qǐng)D2A與圖2B，圖2A繪示依照本發(fā)明的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)一優(yōu)選實(shí)施例的前視圖。圖2B繪示圖2A的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的右視圖。本發(fā)明的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)主要包括一對(duì)準(zhǔn)單元200、至少一影像處理單元220以及至少一監(jiān)控顯示裝置230。對(duì)準(zhǔn)單元200具有多組影像擷取裝置210，用以監(jiān)測(cè)多組光掩模標(biāo)記對(duì)應(yīng)于一基板216的多組基板標(biāo)記的位置對(duì)準(zhǔn)狀態(tài)。
影像處理單元220與影像擷取裝置210電連接，處理來自影像擷取裝置210的擷取信號(hào)成為影像信號(hào)，再通過與影像處理單元220電連接的一監(jiān)控顯示裝置230，接收并同時(shí)顯示多組位置對(duì)準(zhǔn)狀態(tài)的影像240信號(hào)于畫面上，以利光掩模212與基板216間多組標(biāo)記位置的對(duì)準(zhǔn)調(diào)整。
須特別注意的是，文中所稱一組影像擷取裝置表示對(duì)應(yīng)于一組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，而用以擷取該組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記處影像的裝置，例如圖2B中一組影像擷取裝置對(duì)應(yīng)二處標(biāo)記。但實(shí)際應(yīng)用上亦不限定于此實(shí)施例所示者，一組標(biāo)記可設(shè)計(jì)為更多處或僅一處位置的標(biāo)記。
圖2B中，當(dāng)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記分置基板216與光掩模212的二側(cè)，一組影像擷取裝置210可通過一影像傳感器202、以及同樣分置對(duì)準(zhǔn)單元200二側(cè)的二鏡頭204與206構(gòu)成。分置二側(cè)的鏡頭204、206各自擷取的光信號(hào)經(jīng)過對(duì)準(zhǔn)單元200，最后傳至同一影像傳感器202上，當(dāng)此對(duì)應(yīng)二組不同監(jiān)測(cè)位置的信號(hào)經(jīng)影像處理單元220轉(zhuǎn)換，再輸出于監(jiān)控顯示裝置230上時(shí)，顯示的畫面為并列的二影像240。
于本實(shí)施例中，本發(fā)明應(yīng)用于一液晶顯示工藝上，所使用基板216為一薄膜晶體管陣列基板。對(duì)準(zhǔn)單元200上設(shè)置有三組影像擷取裝置210，例如為包括電荷耦合元件或者互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)元件的攝像裝置。每一組影像擷取裝置210擷取基板216上相對(duì)的二側(cè)位置的影像，然此位置的設(shè)定是依據(jù)工藝中光掩模212與基板216間對(duì)準(zhǔn)記號(hào)的位置設(shè)定而決定，亦即每一組影像擷取裝置210是對(duì)應(yīng)至一組對(duì)準(zhǔn)記號(hào)，本實(shí)施例僅作為舉例說明的目的，并非限定于此。
每一個(gè)影像擷取裝置210皆電連接至一影像處理單元220，其同時(shí)處理多個(gè)來自影像擷取裝置210的信號(hào)，亦可針對(duì)每一組影像擷取裝置210而分別使用各自的影像處理單元220，加快信號(hào)處理的速度，此乃依成本與需求的考量而決定。
影像處理單元220連接至一或多個(gè)監(jiān)控顯示裝置230，通過監(jiān)控顯示裝置230將轉(zhuǎn)變后的影像信號(hào)輸出于畫面上，呈現(xiàn)一影像240，作為監(jiān)控光掩模212與基板216間的對(duì)準(zhǔn)狀態(tài)之用，監(jiān)控顯示裝置230的分辨率越佳越有利于藉助畫面的影像240來進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)，監(jiān)控顯示裝置230例如為一液晶顯示器。
對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)還包括一影像處理器222，其作用是使影像240以分割畫面的方式顯示于同一監(jiān)控顯示裝置230上，此有利于多組位置對(duì)準(zhǔn)的同步調(diào)整，達(dá)到監(jiān)控上的方便性。
圖2B中顯示出對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的其中一組影像擷取裝置210，二鏡頭204與206的光學(xué)路徑經(jīng)過光學(xué)系統(tǒng)214，對(duì)應(yīng)到基板216上基板標(biāo)記的位置，局部放大的圖標(biāo)即表示監(jiān)控顯示裝置230的畫面呈現(xiàn)出的影像240。且圖中所顯示為一組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的影像，亦即一個(gè)畫面中有兩個(gè)影像240，其分別表示二處標(biāo)記位置。每一畫面的影像240中包括有基板標(biāo)記與光掩模標(biāo)記?；鍢?biāo)記包括第一方向基板標(biāo)記線252b與第二方向基板標(biāo)記線254b；同樣地，光掩模標(biāo)記包括第一方向光掩模標(biāo)記線252a與第二方向光掩模標(biāo)記線254a，其中第一方向262與第二方向264例如為互相垂直或夾一預(yù)定角度。
本例中，一處標(biāo)記位置中，即每一影像240的每一方向的光掩模標(biāo)記線252a及254a，其數(shù)量為二，而此二光掩模標(biāo)記線的間距是依需求而可變化設(shè)計(jì)，間距越小對(duì)準(zhǔn)精度越佳。通過影像顯示并配合基板承載臺(tái)218的微調(diào)來達(dá)到光掩模212與基板216間的對(duì)準(zhǔn)目的。此例中對(duì)準(zhǔn)成功的情形為，基板標(biāo)記線252b及254b分別調(diào)整于同一方向上的二光掩模標(biāo)記線252a及254a之間，且越接近中央，對(duì)準(zhǔn)精度越佳。
光掩模與基板間標(biāo)記的形式并不限定于實(shí)施例所示者，任何達(dá)到標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)目的的標(biāo)記類型皆包括于本發(fā)明的精神與范圍內(nèi)。
以下以一范例說明對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)的運(yùn)作情形，范例中以進(jìn)行一次對(duì)準(zhǔn)照射(shot)來說明。首先，對(duì)準(zhǔn)單元200上的三組影像擷取裝置210同時(shí)激活，擷取各自對(duì)應(yīng)的光掩模標(biāo)記與基板標(biāo)記間的對(duì)準(zhǔn)狀態(tài)，進(jìn)行光電信號(hào)轉(zhuǎn)換，并將轉(zhuǎn)換后的信號(hào)以電信號(hào)方式經(jīng)由線路270傳至影像處理單元220上，通過影像處理單元220再將電信號(hào)轉(zhuǎn)換為輸出于監(jiān)控顯示裝置230上的影像信號(hào)，共有三組對(duì)準(zhǔn)位置的影像240，每一組都具有二個(gè)影像240畫面，代表位于相對(duì)二側(cè)的標(biāo)記的對(duì)準(zhǔn)狀態(tài)。
接著以所顯示的影像240檢查標(biāo)記的對(duì)準(zhǔn)狀況，由于對(duì)準(zhǔn)單元200相對(duì)于基板216固定地設(shè)置，因此控制基板承載臺(tái)218以進(jìn)行基板216位置的微調(diào)，使基板標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)光掩模標(biāo)記，而且是同時(shí)參考三組即六處對(duì)準(zhǔn)位置的影像240，進(jìn)行整體的同步調(diào)整，因此達(dá)到一次對(duì)準(zhǔn)的目的。
參照?qǐng)D1，其繪示依照本發(fā)明一優(yōu)選實(shí)施例中基板及基板標(biāo)記的示意圖。圖中顯示在液晶顯示器曝光工藝中，一盤(plate)100單位的基板配置，共需進(jìn)行六次對(duì)準(zhǔn)照射(shot)110a～110f，且每一次對(duì)準(zhǔn)照射須在第一組位置102、第二組位置104與第三組位置106皆完成對(duì)準(zhǔn)，方能進(jìn)行曝光，其中每一組位置具有分置二側(cè)的標(biāo)記。
現(xiàn)有進(jìn)行一組對(duì)準(zhǔn)位置的對(duì)準(zhǔn)所耗費(fèi)工作時(shí)間約為2.8秒，一次對(duì)準(zhǔn)照射至少需進(jìn)行三組位置的對(duì)準(zhǔn)，即圖1中的第一組位置102、第二組位置104以及第三組位置106，因此共耗費(fèi)至少約8.4秒。而本發(fā)明的對(duì)準(zhǔn)方法由于一次即對(duì)準(zhǔn)完畢，相當(dāng)于僅耗費(fèi)約2.8秒的對(duì)準(zhǔn)時(shí)間。若一盤(plate)單位量的基板設(shè)計(jì)為須要六次對(duì)準(zhǔn)照射，一批(lot)單位中有二十二單位的盤量，因此一批單位的光掩模與基板對(duì)準(zhǔn)所節(jié)省的時(shí)間高達(dá)12.7分鐘，明顯地將使產(chǎn)能大增。
參考圖3，其繪示依照本發(fā)明的對(duì)準(zhǔn)方法一優(yōu)選實(shí)施例的流程圖。本發(fā)明的另一方面為一種光掩模對(duì)準(zhǔn)方法，適用于曝光工藝中對(duì)準(zhǔn)光掩模與基板。對(duì)準(zhǔn)方法包括首先，在步驟300中，提供多組影像擷取裝置，例如當(dāng)光掩模上以及基板上相對(duì)應(yīng)的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記各有三組時(shí)，裝設(shè)三組包括電荷耦合元件的影像傳感器于一對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)上。
步驟302中，利用影像擷取裝置同時(shí)擷取多組位置對(duì)準(zhǔn)狀態(tài)影像，其中對(duì)準(zhǔn)狀態(tài)影像為光掩模上的多組光掩模標(biāo)記與基板上相對(duì)應(yīng)的多組基板標(biāo)記的對(duì)準(zhǔn)狀態(tài)。例如以上述三組影像傳感器同時(shí)擷取共六處的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記狀態(tài)。
步驟304中，顯示對(duì)準(zhǔn)狀態(tài)影像于一監(jiān)控顯示裝置上，并調(diào)整基板，使基板標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)光掩模標(biāo)記。此步驟包括了先利用一具有影像處理功能的裝置，將影像擷取裝置的擷取信號(hào)轉(zhuǎn)換為影像信號(hào)，再透過線路將影像信號(hào)傳輸至監(jiān)控顯示裝置上，于畫面上顯示出對(duì)準(zhǔn)狀態(tài)的影像，依據(jù)畫面上所顯示的影像移動(dòng)基板，藉以調(diào)整基板標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)光掩模標(biāo)記，例如以自動(dòng)控制系統(tǒng)控制基板承載臺(tái)作一線性位移及/或一轉(zhuǎn)動(dòng)微調(diào)，達(dá)到移動(dòng)基板的目的。
由上述本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施例可知，應(yīng)用本發(fā)明具有下列優(yōu)點(diǎn)。本發(fā)明的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)通過裝設(shè)多組影像擷取裝置于對(duì)準(zhǔn)單元上，并同時(shí)顯示所有對(duì)應(yīng)的對(duì)準(zhǔn)狀態(tài)影像，使對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的調(diào)整工作一次完成，免除現(xiàn)有技術(shù)所遭遇，必須經(jīng)過繁復(fù)對(duì)準(zhǔn)動(dòng)作的問題。應(yīng)用本發(fā)明的裝置與方法于半導(dǎo)體或光電顯示工藝中，配合一曝光裝置，在曝光前的對(duì)準(zhǔn)工作將因此更為快速，因此節(jié)省大量的工作時(shí)間，使工藝速度亦大為提升，并增加產(chǎn)出率，尤其應(yīng)用在大尺寸光掩模的工藝技術(shù)中更具有不可忽視的優(yōu)點(diǎn)。
雖然本發(fā)明以優(yōu)選實(shí)施例揭露如上，然而其并非用以限定本發(fā)明，本領(lǐng)域的技術(shù)人員在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，可作些許的更動(dòng)與潤(rùn)飾，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)當(dāng)以后附的權(quán)利要求所界定者為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，適用于半導(dǎo)體工藝的一曝光裝置，至少包括對(duì)準(zhǔn)單元，具有多組影像擷取裝置，用以偵測(cè)多組光掩模標(biāo)記對(duì)應(yīng)于一基板的多組基板標(biāo)記的位置對(duì)準(zhǔn)狀態(tài)；至少一影像處理單元，與該些影像擷取裝置電連接，處理來自該些影像擷取裝置的擷取信號(hào)成為影像信號(hào)；以及至少一監(jiān)控顯示裝置，與該影像處理單元電連接，以接收來自該影像處理單元的該些影像信號(hào)，并同時(shí)顯示該些位置對(duì)準(zhǔn)狀態(tài)的影像。
2.如權(quán)利要求1所述的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，其中該些影像擷取裝置的數(shù)量為三組，每一組該些影像擷取裝置包括二鏡頭，位于該對(duì)準(zhǔn)單元上相對(duì)的二側(cè)。
3.如權(quán)利要求1所述的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，其中該些影像擷取裝置包括電荷耦合元件。
4.如權(quán)利要求1所述的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，其中該些影像擷取裝置包括互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體元件。
5.如權(quán)利要求1所述的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，其中該基板為薄膜晶體管陣列基板。
6.如權(quán)利要求1所述的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，其中該對(duì)準(zhǔn)單元相對(duì)于該基板為固定地設(shè)置。
7.如權(quán)利要求1所述的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，還包括一影像處理器，將該些影像以分割畫面的方式顯示于該監(jiān)控顯示裝置。
8.如權(quán)利要求1所述的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，其中該監(jiān)控顯示裝置為一液晶顯示器。
9.一種對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，適用于一曝光工藝的光掩模對(duì)準(zhǔn)，至少包括對(duì)準(zhǔn)單元，其具有至少三組影像擷取裝置，用以偵測(cè)三組光掩模標(biāo)記對(duì)應(yīng)于一基板的三組基板標(biāo)記的對(duì)準(zhǔn)狀態(tài)；至少一影像處理單元，與該些影像擷取裝置電連接，分別處理來自該些影像擷取裝置的擷取信號(hào)成為影像信號(hào)；以及至少一監(jiān)控顯示裝置，與該些影像處理單元對(duì)應(yīng)地電連接，以接收來自該些影像處理單元的該些影像信號(hào)，并顯示該些對(duì)準(zhǔn)狀態(tài)的影像。
10.如權(quán)利要求9所述的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，其中該些影像擷取裝置包括電荷耦合元件。
11.如權(quán)利要求9所述的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，其中該些影像擷取裝置包括互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體元件。
12.如權(quán)利要求9所述的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，其中該基板為薄膜晶體管陣列基板。
13.如權(quán)利要求9所述的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，其中該對(duì)準(zhǔn)單元相對(duì)于該基板為固定地設(shè)置。
14.一種對(duì)準(zhǔn)方法，適用于曝光工藝中對(duì)準(zhǔn)一光掩模與一基板，至少包括提供多組影像擷取裝置；利用該些影像擷取裝置同時(shí)擷取多組位置對(duì)準(zhǔn)狀態(tài)影像，其中該些對(duì)準(zhǔn)狀態(tài)影像為該光掩模上的多組光掩模標(biāo)記與該基板上相對(duì)應(yīng)的多組基板標(biāo)記的對(duì)準(zhǔn)狀態(tài)；以及顯示該些對(duì)準(zhǔn)狀態(tài)影像于一監(jiān)控顯示裝置上，調(diào)整該基板使對(duì)準(zhǔn)該些光掩模標(biāo)記。
15.如權(quán)利要求14所述的對(duì)準(zhǔn)方法，其中該基板為薄膜晶體管陣列基板。
16.如權(quán)利要求14所述的對(duì)準(zhǔn)方法，其中該調(diào)整與對(duì)準(zhǔn)的步驟是利用移動(dòng)及/或轉(zhuǎn)動(dòng)一基板承載臺(tái)。
全文摘要
一種對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)及其方法，適用于半導(dǎo)體或液晶顯示器工藝中曝光前的光掩模對(duì)準(zhǔn)。對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)包括對(duì)準(zhǔn)單元、至少一影像處理單元以及至少一監(jiān)控顯示裝置。對(duì)準(zhǔn)單元具有多組影像擷取裝置，用以同時(shí)監(jiān)測(cè)多組光掩模標(biāo)記對(duì)應(yīng)于一基板的多組基板標(biāo)記的對(duì)準(zhǔn)狀態(tài)。影像處理單元將擷取信號(hào)轉(zhuǎn)換為影像信號(hào)，使多組影像同時(shí)顯示于監(jiān)控顯示裝置上。
文檔編號(hào)G03F9/00GK1716102SQ200510088148
公開日2006年1月4日 申請(qǐng)日期2005年7月29日 優(yōu)先權(quán)日2005年7月29日
發(fā)明者吳兆明 申請(qǐng)人:友達(dá)光電股份有限公司