專利名稱：液晶顯示器裝置及其制造方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種顯示裝置的結構與其制作方法，特別是涉及一種液晶顯示器裝置的結構與其制作方法。
背景技術：
液晶顯示器裝置典型上包含一對基板，彼此維持隔開且平行的關系。該基板間的空間一般被稱為液晶單元間隙或單元間隙(cell gap)。一液晶材料介于該兩基板間，位于該單元間隙中，可響應一外加的電子信號而改變其的光學特性。
多個電極置于該基板的內(nèi)部表面上，用以控制該電子信號，并將其作用于該液晶材料。某些型式的液晶顯示器裝置所具有的電極排列，能夠產(chǎn)生一組預定的文字或符號，同時其它型式的液晶顯示器裝置具有電極矩陣，其形成一顯示面，包括極大數(shù)量的可個別存取的像素(pixel)元件，每一個像素元件可被選擇性地啟動以形成無限變化的影像。
為了確保液晶顯示器裝置的正確的運作，非常重要的是，在遍及該整個顯示面上保持單元間隙的均勻以及精準。甚至，單元間隙中甚至極微小的誤差皆會造成顯示面上顯而易見且缺陷的外觀(所謂的面板色度不均暇疵，Mura缺陷)。當以一指尖施予甚至極輕微的壓力時，此一效應亦可輕易的見于現(xiàn)有的液晶顯示器顯示面板中。為響應該壓力，在受影響區(qū)域的單元間隙將稍微地被減小，造成暗點、對比的降低、或在該顯示影像中其它不良的缺點。
在一現(xiàn)有技術中，如圖1所示，該液晶顯示器裝置包含一薄膜晶體管(Thin Film Transistor；TFT)基板61、一彩色濾光片(Color Filter；CF)基板71、以及夾在該兩者間的液晶材料69。該單元間隙藉提供在該兩基板61，71間的多個間隙子79所保持。該間隙子79為一致的高度，通常諸如藉由灑布技術，隨機地置于該單元間隙中。如此通常會導致間隙子局部密度的不均勻分布。為了確保置于該顯示面所有區(qū)域上的間隙子具有足夠濃度，以維持適當?shù)膯卧g隙，必須使用過剩的間隙子。此外，根據(jù)此類用于間隙子配置的現(xiàn)有技術，其置于該顯示面板的“非動態(tài)(inactive)”以及“動態(tài)(active)”區(qū)域上。該“動態(tài)”區(qū)域為該液晶材料可被選擇性地啟動的區(qū)域，因為其位于兩相對電極之間，該電極配置于該基板之上。該“非動態(tài)”區(qū)域為該液晶材料無法被選擇性地啟動的區(qū)域，因為缺少該基板上的相對電極。
本質(zhì)上，在于上述現(xiàn)有的間隙子技術中，液晶顯示面板的結構及功能便存在有幾個不受歡迎的缺點。特別是落在該動態(tài)顯示區(qū)域的間隙子，會導致某些缺點，諸如對比下降，或該間隙子邊緣附近不良的光線放射。
因此，歐洲專利第1,030,211 A2號，其并入本案以為參考，揭示了一液晶顯示器，如圖2所示，其能夠省略散播間隙子的步驟，并因而避免間隙子的不均勻分布所產(chǎn)生的單元厚度上的差異。此類的液晶顯示器裝置大致上包含薄膜晶體管(Thin Film Transistor；TFT)基板30、一彩色濾光片(Color Filter；CF)基板40、以及一密封于該兩者間的液晶材料層49。如圖2所示，成形于該CF基板40上的該突出圖案，亦即間隙子45，具有大約4.0μm的高度，用以保持一致的單元間隙。
一般而言，液晶顯示器的單元間隙為該兩基板的取向膜間的平均距離，且通常大約為兩基板對組后該間隙子的高度。
然而，在現(xiàn)有技術與前述歐洲專利的該兩液晶顯示器中的該間隙子45，皆置于一玻璃基板41上，且該彩色濾光片層43配置于該間隙子45和該玻璃基板41兩者之間。
現(xiàn)在參考圖3，其描述在室溫下一20Φμm的柱狀間隙子直接置于一玻璃基板上，以及該柱狀間隙子與玻璃基板兩者之間具有一彩色濾光片層的應力-應變圖。請了解，直接置于該玻璃基板上的該間隙子大體上為彈性體，如曲線A所示，然而于該玻璃基板上并具有該彩色濾光片層介于其間的該間隙子是部分彈性的，如曲線B所示，其中于該負載被釋放之后會保有一永久應變d。因此，若負載在該LCD裝置上的一壓力(或應力)大至足以產(chǎn)生該永久的應變，該間隙子與置于該玻璃基板上的該彩色濾光片層的總高度將會被改變。換言之，在該LCD面板被施予一相當大的壓力后，該單元間隙可能會不均勻，并且該面板色度不均瑕疵(Mura缺陷)可能會產(chǎn)生。
再者，就液晶顯示器中兩基板的結合與液晶材料的充填工藝而言，先前技術業(yè)已提供許多的方法。舉例而言，該顯示器的兩基板首先建構所有必要的薄膜晶體管(Thin Film Transistor；TFT)、電路、以及彩色濾光片。該兩基板然后相互對齊，并以大約5微米的距離間隔開，再于其邊緣處利用環(huán)氧樹脂結合在一起。將此一結合基板與一盛滿液晶材料的液晶皿置于一真空室中，使該結合基板內(nèi)的間隙處于一真空狀態(tài)。之后，將該結合基板的填充口朝向該液晶皿，并接觸于該液晶材料上，接著破壞真空，使該結合基板的填充口藉由毛細效應(capillary effect)以及該結合基板內(nèi)外部的一壓力差而漸漸吸入該液晶材料。
于近年來，已經(jīng)發(fā)展出一種更快速充填技術，亦即所謂的液晶滴下式(One Drop Fill)技術。于此一技術中，兩基板結合之前，兩基板中的一基板容納有液滴填入的液晶材料。該液滴充填方法可見于1993年11月23號頒予Teruhisa Ishihara等人的美國專利第5,263,888號，標題為”液晶顯示器面板的制造方法(Method of Manufacture of Liquid Crystal Display Panel)”，其并入本文以為參考。
于此一工藝中，間隙子的彈性攸關液晶滴下式(One Drop Fill)技術中，基板上滴入液晶的量的操作區(qū)間(operation window)。當間隙子過少或塑性變形量過大(例如彈性系數(shù)過低)時，相對上液晶的量易于過多，而亦造成重力色不均勻(gravity mura)。若間隙子過多或彈性變形量過低(例如彈性系數(shù)過高)時，相對上液晶的量易于過少，則易于產(chǎn)生氣泡。在理想彈性體的模式下，高度越高的間隙子，可以獲得越大的操作區(qū)間。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的就是在提供一種凸起結構的制作方法，以藉由遮光圖案的開口大小調(diào)整所形成的凸起結構的高度，而構成不同高度的凸起結構，以作為間隙子與/或配向凸起。
本發(fā)明的目的是提供一種液晶顯示器裝置的構造及其制造方法，可同時制作不同高度的間隙子，以保持液晶顯示器裝置的均勻且精準的單元間隙(cell gap)。
本發(fā)明的目的是提供一種液晶顯示器裝置的構造及其制造方法，可在制作間隙子的同時形成配向凸起，以簡化工藝，節(jié)省制作成本。
基于上述或其它目的，本發(fā)明提出一種凸起結構的制作方法。首先，提供一彩色濾光片基板或一薄膜晶體管陣列基板，其中此彩色濾光片基板或薄膜晶體管陣列基板上具有一遮光圖案，且此遮光圖案界定多個開口。接著，在具有遮光圖案的彩色濾光片基板或薄膜晶體管陣列基板上形成一光致抗蝕劑。然后，以遮光圖案為掩模，而由彩色濾光片基板或有源元件陣列基板的另一側對光致抗蝕劑進行背向曝光，以藉由開口的尺寸來調(diào)整開口處的光致抗蝕劑的曝光深度。之后，將光致抗蝕劑顯影，而形成對應于開口的多個凸起結構。
本發(fā)明還提出一種液晶顯示器裝置，其包括一第一基板、一第二基板、一液晶層、多個第一凸起結構以及多個第二凸起結構。其中，第一基板與第二基板結合在一起，以形成一空腔，而第二基板上具有一遮光圖案，此遮光圖案界定不同尺寸的多個第一開口與多個第二開口。此外，液晶層配置于空腔內(nèi)。另外，第一凸起結構與第二凸起結構位于空腔內(nèi)，其中第一凸起結構對應配置于遮光圖案的第一開口的位置上，而第二凸起結構對應配置于遮光圖案的第二開口的位置上，且第一凸起結構與第二凸起結構具有不同的高度。
本發(fā)明還提出一種液晶顯示器裝置的制造方法。首先，提供一第一基板與一第二基板，其中第二基板上具有一遮光圖案，且遮光圖案界定不同尺寸的多個第一開口與多個第二開口。接著，于第二基板上涂布一光致抗蝕劑。然后，以遮光圖案為掩模，而由第二基板的另一側對光致抗蝕劑進行背向曝光，其中第一開口處的光致抗蝕劑與第二開口處的光致抗蝕劑具有不同的曝光深度。之后，將光致抗蝕劑顯影，而形成對應于第一開口的多個第一凸起結構以及對應于第二開口的多個第二凸起結構，其中第一凸起結構與第二凸起結構具有不同的高度。
本發(fā)明提出一種彩色濾光片基板，其主要包括一透明基板、一黑色矩陣、多個彩色濾光片、多個第一凸起結構以及多個第二凸起結構。其中，黑色矩陣配置在透明基板上，并裸露出部分的透明基板，以界定多個第一開口、多個第二開口以及多個像素區(qū)域，其中第一開口與第二開口具有不同的尺寸。此外，彩色濾光片配置于像素區(qū)域內(nèi)。另外，第一凸起結構與第二凸起結構配置于透明基板上，其中第一凸起結構對應于第一開口，而第二凸起結構對應于第二開口，且第一凸起結構與第二凸起結構具有不同的高度。
本發(fā)明提出一種彩色濾光片基板的制作方法。首先，提供一透明基板。接著，于透明基板上形成一黑色矩陣，以界定多個第一開口、多個第二開口以及多個像素區(qū)域，其中第一開口與第二開口具有不同的尺寸，且第一開口與第二開口暴露部分的該透明基板。然后，于像素區(qū)域內(nèi)形成多個彩色濾光片。接著，于透明基板上涂布一光致抗蝕劑，且以黑色矩陣與彩色濾光片為掩模，而由透明基板的另一側對光致抗蝕劑進行背向曝光，其中第一開口處的光致抗蝕劑與第二開口處的光致抗蝕劑具有不同的曝光深度。之后，將光致抗蝕劑顯影，而形成對應于第一開口的多個第一凸起結構以及對應于第二開口的多個第二凸起結構，其中第一凸起結構與第二凸起結構具有不同的高度。
本發(fā)明提出另一種彩色濾光片基板，主要包括一透明基板、一黑色矩陣、多個彩色濾光片、多個第一凸起結構以及多個第二凸起結構。其中，黑色矩陣配置在透明基板上，并裸露出部分的透明基板，以界定多個第一開口以及多個像素區(qū)域。此外，彩色濾光片配置于像素區(qū)域內(nèi)，其中彩色濾光片具有多個第二開口，且第一開口與第二開口具有不同的尺寸。另外，第一凸起結構與第二凸起結構配置于透明基板上，其中第一凸起結構對應于第一開口，而第二凸起結構對應于第二開口，且第一凸起結構與第二凸起結構具有不同的高度。
本發(fā)明提出另一種彩色濾光片基板的制作方法。首先，提供一透明基板。接著，于透明基板上形成一黑色矩陣，以界定多個第一開口與多個像素區(qū)域，且第一開口暴露部分的透明基板。然后，于像素區(qū)域內(nèi)形成多個彩色濾光片，其具有多個第二開口，以暴露部分的透明基板，其中第一開口與第二開口具有不同的尺寸。接著，于透明基板上涂布一光致抗蝕劑，并以黑色矩陣與彩色濾光片為掩模，而由透明基板的另一側對光致抗蝕劑進行背向曝光，其中第一開口處的光致抗蝕劑與第二開口處的光致抗蝕劑具有不同的曝光深度。之后，將光致抗蝕劑顯影，而形成對應于第一開口的多個第一凸起結構以及對應于第二開口的多個第二凸起結構，其中第一凸起結構與第二凸起結構具有不同的高度。
本發(fā)明提出又一種彩色濾光片基板，主要包括一透明基板、一黑色矩陣、多個彩色濾光片、多個第一凸起結構以及多個第二凸起結構。其中，黑色矩陣配置在透明基板上，并裸露出部分的透明基板，以界定多個像素區(qū)域。此外，彩色濾光片配置于像素區(qū)域內(nèi)，其中彩色濾光片具有多個第一開口與多個第二開口，且第一開口與第二開口具有不同的尺寸。另外，第一凸起結構與第二凸起結構配置于透明基板上，其中第一凸起結構對應于第一開口，而第二凸起結構對應于第二開口，且第一凸起結構與第二凸起結構具有不同的高度。
本發(fā)明提出又一種彩色濾光片基板的制作方法。首先，提供一透明基板。接著，于透明基板上形成一黑色矩陣，以界定多個像素區(qū)域。然后，于像素區(qū)域內(nèi)形成多個彩色濾光片，其具有多個第一開口與多個第二開口，以暴露部分的透明基板，其中第一開口與第二開口具有不同的尺寸。接著，于透明基板上涂布一光致抗蝕劑，并以黑色矩陣與彩色濾光片為掩模，而由透明基板的另一側對光致抗蝕劑進行背向曝光，其中第一開口處的光致抗蝕劑與第二開口處的光致抗蝕劑具有不同的曝光深度。之后，將光致抗蝕劑顯影，而形成對應于第一開口的多個第一凸起結構以及對應于第二開口的多個第二凸起結構，其中第一凸起結構與第二凸起結構具有不同的高度。
基于上述，本發(fā)明的間隙子直接置于該玻璃基板上，并可具有不同的高度，所以在承受了一壓力或力量之后，該液晶顯示器裝置能夠充分地恢復以及該單元間隙能夠保持一致。此外，本發(fā)明可藉由遮光圖案上的開口尺寸來調(diào)整曝光深度，以同時形成不同高度的凸起結構，其可作為間隙子或配向凸起，因此有助于簡化工藝，降低制作成本。另外，本發(fā)明亦有助于在液晶滴下式(One Drop Fill)的加工工藝中，進一步加大滴入液晶量的操作區(qū)間。
為讓本發(fā)明的上述和其它目的、特征和優(yōu)點能更明顯易懂，下文特舉優(yōu)選實施例，并配合所附圖作詳細說明如下。


圖1為一具有球形間隙子的現(xiàn)有LCD裝置的橫剖面示意圖。
圖2為一具有突出圖案間隙子的現(xiàn)有LCD裝置的橫剖面示意圖。
圖3為該間隙子直接置于一玻璃基板之上，以及其具有一彩色濾光片層介在該間隙子與玻璃基板間的應力-應變圖形。
圖4a為根據(jù)本發(fā)明的一LCD裝置的一彩色濾光片基板的平面示意圖。
圖4b為沿著圖4a的剖面線4b-4b的彩色濾光片基板的橫剖面示意圖。
圖4c為沿著圖4a的剖面線4c-4c的彩色濾光片基板的橫剖面示意圖。
圖5為根據(jù)本發(fā)明的一實施例的LCD裝置的部份橫剖面示意圖。
圖6至10為根據(jù)本發(fā)明的一LCD裝置的一彩色濾光片基板的制造方法的剖面示意圖。
圖11為根據(jù)本發(fā)明的另一實施例的LCD裝置的部份橫剖面示意圖。
圖12為根據(jù)本發(fā)明的另一實施例的LCD裝置的部份橫剖面示意圖。
圖13顯示根據(jù)本發(fā)明另一實施例的一彩色濾光片基板800。
圖14顯示根據(jù)本發(fā)明另一實施例的一彩色濾光片(Color Filter；CF)基板900。
圖15繪示為不同形狀與尺寸的光掩模開口對應于其所形成的凸起結構高度的關系16繪示為圖15中不同光掩模所定義的開口尺寸的示意圖。
圖17A～17D，其依序繪示本發(fā)明的凸起結構的制作方法。
圖18繪示為同時具有不同高度的凸起結構的基板。
圖19～21分別繪示不同高度的間隙子的示意22繪示為本發(fā)明的優(yōu)選實施例的一種彩色濾光片基板的示意圖。
圖23繪示為本發(fā)明的優(yōu)選實施例的另一種彩色濾光片基板的局部俯視示意圖。
簡單符號說明30 TFT基板40CF基板41 玻璃基板 43彩色濾光片層45 間隙子 49液晶材料層61 TFT基板69液晶材料71彩色濾光片基板 79間隙子100 CF基板 120 玻璃基板140 電極層 150 黑色矩陣152 間隙子區(qū)域152a 間隙子區(qū)域 152b 間隙子區(qū)域160 彩色濾光片 160a 彩色濾光片160b 彩色濾光片 160c 彩色濾光片170 取向膜 180 間隙子180a 間隙子 180b 間隙子182 負光致抗蝕劑184 紫外光線200 LCD裝置
210 液晶材料 212 空腔220 TFT基板 222 玻璃基板224 柵極 225 柵極線226 輔助電容線227 半導體層228 像素電極 229a 源極區(qū)域的金屬層229b 漏極區(qū)域的金屬層 233 色緣膜234 取向膜500 CF基板520 玻璃基板550 黑色矩陣 552 間隙子區(qū)域552a 間隙子區(qū)域552b 間隙子區(qū)域560 彩色濾光片580 間隙子580a 間隙子580b 間隙子610 液晶材料 612 空腔620 薄膜晶體管基板622 透明基板623 基板624 柵極 628 像素電極629 源極 634 取向膜652 間隙子區(qū)域652a 間隙子區(qū)域652b 間隙子區(qū)域660 彩色濾光片680 間隙子680a 間隙子680b 間隙子700 LCD裝置800 彩色濾光片基板850 黑色矩陣852 間隙子區(qū)域860a 彩色濾光片860b 彩色濾光片860c 彩色濾光片878 開口 880 間隙子900 彩色濾光片基板950 黑色矩陣952 間隙子區(qū)域960a 彩色濾光片960b 彩色濾光片960c 彩色濾光片980 間隙子987 保持電容區(qū)域S光掩模開口的尺寸
1010 基板1012 第一表面1014 第二表面1020 遮光圖案1022 開口1022a 第一開口1022b 第二開口1030 光致抗蝕劑 1032 凸起結構1032a 第一凸起結構1032b 第二凸起結構1120 黑色矩陣1122 第一開口1132 第二開口1142 第一凸起結構1144 第二凸起結構1150 遮光圖案具體實施方式
參考圖4a、4b及4c，其顯示根據(jù)本發(fā)明的一實施例的一間隙子基板，例如一彩色濾光片(Color Filter；下文中簡稱為CF)基板100，用于一薄膜晶體管(Thin Film Transistor；TFT)液晶顯示器(Liquid Crystal Display；LCD)裝置中。
如圖4a所示，其顯示在CF基板100上的一個像素(pixel)，包含三個次像素(sub-pixel)。該像素與該LCD裝置的TFT基板(圖中未示)上的薄膜晶體管相對應。現(xiàn)在進一步參考圖4b及4c，其為圖4a沿著剖面線4b-4b及4c-4c的CF基板100的橫剖面視圖。該CF基板100具有一透明基板，諸如一玻璃基板120。一黑色矩陣150一般由金屬制成，諸如薄膜形式的鉻(Cr)或氧化鉻(CrOx)，或者黑色樹脂所制成，且覆蓋于該玻璃基板120上，并裸露出部分的玻璃基板120，以界定多個像素區(qū)域，以及間隙子區(qū)域152。
該黑色矩陣150以及該間隙子區(qū)域152一般與該LCD裝置的非動態(tài)部份相對應的部分上，該部份包括有在該TFT基板上的源極匯流線、柵極匯流線、輔助電容電極、以及薄膜晶體管。
該像素區(qū)域對應于該LCD裝置的動態(tài)部份，其與該TFT基板上的像素電極相對應。彩色濾光片160，例如紅色彩色濾光層160a、綠色彩色濾光層160b、以及藍色彩色濾光層160c，條狀且交替的對應于該像素區(qū)域上。本領域技術人員將可了解，該彩色濾光片160可排列為各種不同的圖樣。
一共同電極140，諸如由ITO所制造，覆蓋該黑色矩陣150及該彩色濾光片160。多個間隙子180配置于該共同電極140上，該間隙子區(qū)域152處。換言之，該間隙子180配置于該玻璃基板120上，且該共同電極140配置于該間隙子180與該玻璃基板120之間。本領域技術人員將可了解，在某些型式的液晶顯示器中，例如平面切換(In Plane Switching；IPS)液晶顯示器中，該彩色濾光片(Color Filter；CF)基板100并未提供該共同電極140。
本領域技術人員應可了解一取向膜170，例如以聚亞酰胺所形成，可進一步地涂覆于該玻璃基板120之上，以具有約0.1μm的厚度。該取向膜170的表面適于配向該液晶分子，該取向膜例如進行摩擦加工(rubbing process)、照光配向(photo-align)，或是其本身分子特性即可使液晶分子具有一定的排列方向，而不需再進行摩擦加工工藝。
在此實施例里，該黑色矩陣150、彩色濾光片160、電極層140、以及間隙子180分別具有大約0.16μm、大約1.5μm、大約0.15μm以及大約5.81μm的厚度。顯而易見的，根據(jù)本發(fā)明的該間隙子180的高度大于該單元間隙(cellgap)，而有助于液晶滴下式(One Drop Fill)的加工工藝中，進一步加大操作區(qū)間。此外，當根據(jù)本發(fā)明的間隙子基板應用于一垂直配向(vertically-aligned；VA)形式的LCD裝置，該間隙子基板可具有一區(qū)域規(guī)制裝置(domainregulating means)，諸如形成在該基板上的凸起(protrusions)或利用透明電極的狹縫(例如ITO slit)，用以規(guī)制液晶的方向。具有區(qū)域規(guī)制裝置的垂直配向的LCD裝置揭示在并入本案參考的該歐洲專利公開第0,884,626-A2號。
現(xiàn)在參考圖5，其顯示一根據(jù)本發(fā)明的LCD裝置200。該LCD裝置200包括根據(jù)本發(fā)明的該CF基板100與TFT基板220，且該CF基板100和TFT基板220的邊緣黏著在一起，以界定一空腔212，用來容納該液晶材料210。該空腔212具有由該多個間隙子180所界定的一均勻且精準的間隙(單元間隙；cell gap)。該TFT基板220的結構說明如下。在一玻璃基板222之上，分別成形柵極224、柵極線(掃瞄線)225、以及該輔助電容線226。該柵極224、柵極線225、以及該輔助電容線226覆蓋一絕緣膜233。作為TFT(薄膜晶體管)通道的一半導體層227成形于每一柵極224之上的該絕緣膜233上。再者，作為該TFT的源極與漏極區(qū)域的金屬層229a、229b成形于每一半導體層227的上部部份，并連接至源極線路與像素電極228。又，例如以ITO所構成的該像素電極228，覆蓋每一輔助電容線226，且該絕緣膜233配置于其間。此外，一取向膜234形成在該源極與漏極區(qū)域229a、229b、以及該像素電極228上。
本發(fā)明還提供一種方法用以制造該CF基板100。首先，參考圖6，提供具有一平坦表面的一基板120，例如為一玻璃基板。為滿足光學濃度值(Optical density)大于3.5，以達到高對比值，形成一黑色矩陣，例如形成厚度約0.16μm的鉻膜在該玻璃基板120之上，然后一光致抗蝕劑形成在該鉻膜之上。之后，使用一光掩模，其具有一預定圖案，用以將該光致抗蝕劑曝光。經(jīng)過顯影后，蝕刻該鉻膜而形成該黑色矩陣150，且該黑色矩陣150具有一間隙子區(qū)域152，諸如圓形狀、八角形、多邊形、四邊形、三角形或方形狀等。
參考圖7，紅色、綠色以及藍色的彩色濾光片160例如分別借著將紅色樹脂、綠色樹脂以及藍色樹脂涂布在該玻璃基板120上而成形。該彩色濾光片160的厚度依不同彩色光致抗蝕劑材料與色度需求而有不同厚度，例如設定為約1.5μm。該彩色濾光片160與該黑色矩陣150于邊緣處重疊。該彩色濾光片160成形為一圖案，以暴露出位于下方的該黑色矩陣150及該間隙子區(qū)域152。該彩色濾光片160成形方法例如為一黃光微影工藝。
之后，參考圖8，形成一共同電極140，例如藉由濺射銦錫氧化物(IndiμmTin Oxide；ITO)，約0.15μm厚度的銦錫氧化物覆蓋于該彩色濾光片160、該黑色矩陣150、以及該間隙子區(qū)域152上。
然后，參考圖9，一負光致抗蝕劑182涂布在該玻璃基板120上，并且覆蓋該間隙子區(qū)域152。一適于將該光致抗蝕劑形成固化反應的光線，例如為一紫外光線184由另一側照射該玻璃基板120，用以將該負光致抗蝕劑182曝光。該負光致抗蝕劑182經(jīng)過該紫外光線184照射后會產(chǎn)生鍵結(closslinking)，亦即該負光致抗蝕劑182被該紫外光線184照射后將硬化，而不溶解顯影劑中。經(jīng)過顯影及烘烤固化后，該負光致抗蝕劑182形成一約5.81μm厚度的高度的該間隙子180。本領域技術人員可知，該間隙子180可為任意形狀，諸如圓錐、八角柱、八角錐、多邊形角柱、多邊形角錐、或方柱狀等，并非只限定為圓柱狀。該彩色濾光片160對于該紫外光線184不透明的，以避免位于彩色濾光片160上方的該負光致抗蝕劑182硬化。在此情況下，該彩色濾光片160及該黑色矩陣150作用為一光掩模，以將該間隙子180成形，如圖10所示。
于一特定實驗范例中，就現(xiàn)今所使用的彩色濾光片、ITO、及玻璃基板而言，其對應于不同波長的紫外光的透光率列表如下

該透光率列表中，第一列分別排列為紫外光J line(波長335nm)、I line(波長365nm)、H line(波長405nm)及G line(波長437nm)，且第一行分別排列為厚0.6mm玻璃上的ITO+紅色負光致抗蝕劑(JSR公司的型號R745-4，厚度2μm)、厚0.6mm玻璃上的ITO+綠色負光致抗蝕劑(JSR公司的型號G772-4，厚度2μm)、厚0.6mm玻璃上的ITO+藍色負光致抗蝕劑(JSR公司的型號B764-4，厚度2μm)、ITO+bare glass(厚度為0.6mm)及bare glass(厚度為0.6mm)在不同波長下穿透光的吸收值。該紫外光J line(波長335nm)、I line(波長365nm)、H line(波長405nm)及G line(波長437nm)可由一曝光設備所使用USHIO 10KW燈管所發(fā)出，并使用紫外光光譜儀(UV SpectrμmMeter)，諸如機器型號USHIO Spectroadiometer USR-405加以量測。
如表所示，該紫外光J line(波長335)照射ITO+紅色負光致抗蝕劑、ITO+綠色負光致抗蝕劑及ITO+藍色負光致抗蝕劑時，其穿透率雖然最低，但其照射能量最小，將使得該間隙子區(qū)域152上的負光致抗蝕劑182硬化成該間隙子180的工藝時間增長。再者，該紫外光H line(波長405nm)及G line(波長437nm)照射ITO+藍色負光致抗蝕劑時，其穿透率較高，將使得該間隙子區(qū)域152以外的負光致抗蝕劑182硬化，使容納液晶的空間改變或無法容納液晶。
因此，由于波長365nm的紫外光(I line)的穿透率大體上介于J line(波長335)、紫外光H line(波長405nm)及G line(波長437nm)之間，其具有對于ITO及玻璃基板的穿透率較高，而對于紅、綠、藍色的彩色濾光片的穿透率較低，故選用對波長365nm的紫外光，用以反應該負光致抗蝕劑182，即可利用各種彩色濾光片，例如紅、綠、藍色彩色濾光片，而自然形成光掩模，因此大部分紫外光只能穿透間隙子區(qū)域將該間隙子的負光致抗蝕劑材料硬化而形成間隙子。根據(jù)本實驗范例，該間隙子區(qū)域以外的區(qū)域的優(yōu)選穿透率小于7.1％，而最佳穿透率小于1.31％。
此外，考量間隙子所用光致抗蝕劑在彩色濾光層上的殘膜問題，可將吸收劑(在此實施例為365nm波長的紫外光吸收劑)添加入彩色濾光層(在此實施例為添加到紅色、綠色彩色濾光層)中，以確保紫外光只能穿透間隙子區(qū)域，而可利用紅、綠、藍色彩色濾光片以及黑色矩陣自然形成光掩模，利用光在間隙子區(qū)域自行對位形成間隙子。最后，成形該取向膜，以覆蓋該玻璃基板120的表面，如圖4b所示。
再者，如圖5所示，該CF基板100可進一步與一TFT基板220結合，且該CF基板100和TFT基板220的邊緣黏著在一起，以界定一空腔212，用以容納該液晶材料210。該空腔212具有藉由該多個間隙子180所界定的一均勻且精準的間隙(單元間隙)。之后，再將一偏光板分別安裝到該CF基板100及該TFT基板之后，根據(jù)本發(fā)明的LCD裝置便得以完成。該液晶材料210可藉由真空吸入式技術或液晶滴下式(One Drop Fill)技術，配置于該兩基板100及220之間。
如前所述，根據(jù)本發(fā)明的間隙子180直接配置于該玻璃基板120上，該間隙子180大體上是彈性的。當該LCD裝置被施予一外在壓力或一力量時，只有該間隙子180會變形。因為根據(jù)本發(fā)明直接置于玻璃基板120上的間隙子180大體上是彈性的，故當該外在壓力或負載被釋放之后，該間隙子180將會回到接近它們原來的大小以維持均勻且精準的單元間隙，而不會導致面板色度不均瑕疵。再者，該間隙子180具有較高的高度，故于液晶滴下式(OneDrop Fill)的加工工藝中，可以進一步加大操作區(qū)間。
現(xiàn)請參考圖11，其顯示根據(jù)本發(fā)明另一實施例的一彩色濾光片(ColorFilter；CF)基板500，用于一薄膜晶體管(Thin Film Transistor；TFT)液晶顯示器(Liquid Crystal Display；LCD)裝置中。該CF基板500大體上類似于該CF基板100，其中相似的元件標示相似的圖號。于該CF基板500中，該間隙子580配置于該彩色濾光片560中。于該彩色濾光片基板500的制造過程中，一黑色矩陣550覆蓋于該玻璃基板520上，并裸露出部分的玻璃基板520，以界定多個像素區(qū)域或彩色濾光片區(qū)域。多個彩色濾光片560配置于該彩色濾光片區(qū)域上，并會具有多個開口，裸露出該玻璃基板520，并藉以界定多個該間隙子區(qū)域552。于涂布并顯影負光致抗蝕劑時，光線會穿過該間隙子區(qū)域552，而將此一部份的該負光致抗蝕劑硬化，藉此形成多個間隙子580。由于在此實施例中，間隙子區(qū)域位于像素區(qū)域里面，故用以制造該間隙子580的材料，可為該像素區(qū)域中的該彩色濾光片區(qū)域相同的顏色的材料，以增加顯示器的透光率。
現(xiàn)請參考圖12，其顯示根據(jù)本發(fā)明另一實施例的一液晶顯示器(LiquidCrystal Display；LCD)裝置700，其具有一薄膜晶體管(Thin Film Transistor；TFT)基板620。該液晶顯示器700大體上類似于該液晶顯示器200，其中相似的元件標示相似的圖號。該薄膜晶體管基板620包含一透明基板622、一柵極624、一源極629及一像素電極628(諸如ITO所構成)，該柵極624、該源極629及該像素電極628以現(xiàn)有的技術形成于該透明基板622上。一般而言，該柵極624與掃瞄線路相連接，由一第一金屬的光刻腐蝕工藝中所成形，而該源極629與數(shù)據(jù)線路相連接，由一第二金屬的光刻腐蝕工藝中所成形。于該薄膜晶體管基板620中，多個彩色濾光片660形成于該像素電極628上，且多個間隙子680配置于該彩色濾光片660中。
于該薄膜晶體管基板620的制造過程中，多個彩色濾光片660形成于該像素電極628上，并裸露出部分的像素電極628，以界定多個像素區(qū)域。該多個彩色濾光片660具有多個開口，裸露出該像素電極628，并藉以界定多個該間隙子區(qū)域652。于涂布并顯影負光致抗蝕劑時，紫外光線會由該透明基板622的外側穿過該間隙子區(qū)域652，而將此一部份的該負光致抗蝕劑硬化，藉此形成多個間隙子680。此外，一取向膜634形成在該源極629、該彩色濾光片660及該間隙子680上。
該薄膜晶體管基板620可進一步與另一基板623結合，且該薄膜晶體管基板620和該基板623的邊緣黏著在一起，以界定一空腔612，用以容納一液晶材料610，如此以形成該液晶顯示器裝置700。該空腔612具有藉由該多個間隙子680所界定的一均勻且精準的間隙(單元間隙)。本領域技術人員將可了解，兩偏光板(圖中未示)會分別安裝到該薄膜晶體管基板620及該基板623的外側表面上。
現(xiàn)請參考圖13，其顯示根據(jù)本發(fā)明另一實施例的一彩色濾光片(ColorFilter；CF)基板800。該CF基板800大體上類似于該CF基板100，其中相似的元件標示相似的圖號。于該彩色濾光片基板800的制造過程中，一黑色矩陣850覆蓋于一玻璃基板上，并裸露出部分的玻璃基板，以界定多個像素區(qū)域或彩色濾光片區(qū)域，以及多個開口878。多個彩色濾光片860a、860b、860c配置于該彩色濾光片區(qū)域及該開口878上，并裸露出該玻璃基板，并藉以界定多個該間隙子區(qū)域852。于涂布并顯影負光致抗蝕劑時，光線會穿過該間隙子區(qū)域852，而將此一部份的該負光致抗蝕劑硬化，藉此形成多個間隙子880。再者，本領域技術人員將可了解該間隙子880可對應于薄膜晶體管基板(圖中未示)的薄膜晶體管的位置。
現(xiàn)請參考圖14，其顯示根據(jù)本發(fā)明另一實施例的一彩色濾光片(ColorFilter；CF)基板900。該CF基板900大體上類似于該CF基板100，其中相似的元件標示相似的圖號。于該彩色濾光片基板900的制造過程中，一黑色矩陣950覆蓋于一玻璃基板上，并裸露出部分的玻璃基板，以界定多個像素區(qū)域或彩色濾光片區(qū)域。多個彩色濾光片960a、960b、960c配置于該彩色濾光片區(qū)域上，并會具有多個開口，裸露出該玻璃基板，并藉以界定多個該間隙子區(qū)域952。于涂布并顯影負光致抗蝕劑時，光線會穿過該間隙子區(qū)域952，而將此一部份的該負光致抗蝕劑硬化，藉此形成多個間隙子980。再者，本領域技術人員將可了解該間隙子980可對應于薄膜晶體管基板(圖中未示)的保持電容區(qū)域987，亦即輔助電容電極的位置，如虛線所示。綜前所述，本發(fā)明的特征在于利用液晶顯示器中既有的圖案(Pattern)，諸如黑色矩陣、彩色濾光片、掃瞄線路或第一金屬(Metal One)、或數(shù)據(jù)線路或第二金屬(MetalTwo)，界定間隙子區(qū)域。又，這些圖案對于將該間隙子的光致抗蝕劑曝光的光線是不透光的，因此該間隙子可由該液晶顯示器的任一基板的外側曝光，而成形于該基板上。如此，根據(jù)本發(fā)明的間隙子的制造過程中，不需要額外的光掩模，以將該光致抗蝕劑曝光，藉由該圖案上的間隔子區(qū)域便得以直接將該間隙子成形。且本發(fā)明的間隙子并不限于單獨使用，亦可與傳統(tǒng)的球狀間隙子(Ball spacer)或黏著型間隙子(adhesive spacer)一并混用。此外，任何本領域技術人員可知，本發(fā)明的間隙子可采用一不透光材料形成(例如一黑色樹脂)，以避免漏光情形發(fā)生。
本發(fā)明以CF基板或TFT基板上的不透光膜層制作遮光圖案，并以背向曝光(back-exposure process)的方式形成間隙子。值得注意的是，若以上述實施例所揭示的技術為基礎，本發(fā)明更可藉由對遮光圖案所界定的開口尺寸(即上述的間隙子區(qū)域)的設計，來調(diào)整對應于開口位置的光致抗蝕劑的曝光深度，而可同時形成不同高度的間隙子(hybrid spacers)。此具有不同高度的間隙子的設計將有助于提高液晶顯示器面板的抗壓能力，且更有利于增加以液晶滴下技術滴入液晶的操作區(qū)間。
請參考圖15與圖16，其中圖15繪示為不同形狀與尺寸的光掩模開口對應于其所形成的凸起結構高度的關系圖，而圖16繪示為圖15中不同光掩模所定義的開口尺寸的示意圖。如圖15所示的橫坐標為光掩模的開口尺寸，而縱坐標為所形成的凸起結構的高度，其中圖15列舉菱形、長方形、正方形、八角形等不同形狀的光掩模開口，而圖16中以標號S標示這些形狀的光掩模開口的尺寸。由圖15中可以明顯地發(fā)現(xiàn)，對應不同的開口尺寸，可形成不同高度的凸起結構。更詳細的說，藉由光掩模開口尺寸的設計，可以控制其所對應的光致抗蝕劑的曝光深度，因此顯影后所形成的凸起結構的高度便會有所不同。
結合上述所揭示的背向曝光與調(diào)整光掩模開口的技術，本發(fā)明將可以在液晶顯示器裝置中同時形成不同高度的凸起結構，以作為間隙子(hybridspacer)之用，下文將舉例說明本發(fā)明的用以形成相同或不同高度的凸起結構的方法，而上述所有實施例的內(nèi)容均可并入下文中，以作為參考。
請參考圖17A～17D，其依序繪示本發(fā)明的凸起結構的制作方法。
首先，如圖17A所示，提供一基板1010，其中此基板1010例如是上述的彩色濾光片基板或薄膜晶體管陣列基板，且此基板1010具有相對應的一第一表面1012與一第二表面1014。此外，基板1010的第一表面1012上具有遮光圖案1020，此遮光圖案1020例如是上述的黑色矩陣、彩色濾光片、掃瞄線路或第一金屬層(Metal One)、或數(shù)據(jù)線路或第二金屬層(Metal Two)，用以界定出多個開口1022，而此開口1022例如是上述的間隙子區(qū)域。
接著，如圖17B所示，在基板1010上形成一光致抗蝕劑1030，其覆蓋遮光圖案1020，且此光致抗蝕劑1030例如是負光致抗蝕劑。
然后，如圖17C所示，以遮光圖案1020為掩模，而由基板1010的第二表面1014的一側對光致抗蝕劑1030進行背向曝光。其中，依據(jù)圖15所繪示的光掩模開口尺寸與凸起結構高度的關系圖，例如可選擇其中一種形狀的光掩模設計，并且對應圖15中的關系曲線，來設計遮光圖案1020的開口1022的形狀與尺寸。在一優(yōu)選實施例中，例如可形成矩形的開口1022，并藉由開口1022的尺寸來調(diào)整開口1022處的光致抗蝕劑1030的曝光深度。
之后，如圖17D所示，將光致抗蝕劑1030顯影，而形成對應于開口1022的多個凸起結構1032。
在上述實施例中，例如可在基板1010上同時形成相同高度的凸起結構。當然，若遮光圖案1020具有不同尺寸的開口1022，則因應不同的曝光深度，其所形成的凸起結構1032的高度將不會相同。
請參考圖18，其繪示為同時具有不同高度的凸起結構的基板。其中，基板1010上的遮光圖案1020具有不同尺寸的第一開口1022a與第二開口1022b，而借由這些第一開口1022a與第二開口1022b，便可經(jīng)過形成光致抗蝕劑、背向曝光以及顯影等步驟，同時形成具有不同高度的第一凸起結構1032a與第二凸起結構1032b。舉例而言，第一凸起結構1032a與第二凸起結構1032b的高度差例如是0.4μm，而可將這些第一凸起結構1032a與第二凸起結構1032b作為間隙子，以形成具有混合間隙子(hybrid spacers)的液晶顯示器面板。以上述的圖5、圖11與圖12所揭示的液晶顯示器裝置的結構為例，圖19～21分別繪示其具有不同高度的間隙子的示意圖。
如圖19所示，以彩色濾光片基板100上的黑色矩陣150作為遮光圖案，其中黑色矩陣150界定不同尺寸的間隙子區(qū)域152a與152b，以在進行光致抗蝕劑涂布、背向曝光與顯影等步驟之后，于彩色濾光片基板100上形成不同高度的間隙子180a與180b。
此外，如圖20所示，以彩色濾光片560作為遮光圖案，其中彩色濾光片560界定不同尺寸的間隙子區(qū)域552a與552b，且彩色濾光片560內(nèi)更例如可添加光吸收劑，以增加其遮光效果。同理，在進行光致抗蝕劑涂布、背向曝光與顯影等步驟之后，便可在彩色濾光片基板500上形成不同高度的間隙子580a與580b，其中關于其它構件與其制作方法的說明請參考上述實施例，在此不再重復贅述。
另外，如圖21所示的薄膜晶體管基板620上制作有彩色濾光片660的結構(積層型彩色濾光片，color filter on array，COA)，其中配置于像素電極628上的彩色濾光片660同樣可界定出不同尺寸的間隙子區(qū)域652a與652b，因此可形成不同高度的間隙子680a與680b。
關于圖19～21中所繪示的其它構件與其制作方法，請參考前述實施例的說明，在此不再重復贅述。
當然，除了上述圖19～21所繪示的實施例之外，本發(fā)明亦可同時藉由黑色矩陣與彩色濾光片界定不同尺寸的間隙子區(qū)域。此外，位于黑色矩陣上的間隙子例如可對應于TFT基板上的薄膜晶體管、掃描線路、數(shù)據(jù)線路等部分，而位于彩色濾光片上的間隙子例如可對應于TFT基板上的輔助電容電極，而不致影響液晶顯示器裝置的開口率(aperture ratio)。換言之，在優(yōu)選實施例中，間隙子位于LCD裝置的非動態(tài)部份相對應的部分上，該部份包括在該TFT基板上的源極匯流線(掃描線路)、柵極匯流線(數(shù)據(jù)線路)、輔助電容電極、以及薄膜晶體管。
此外，本發(fā)明的用以形成凸起結構的技術除可應用于制作間隙子之外，若應用于多域垂直配向(multi-domain vertical alignment，MVA)的液晶顯示器裝置時，亦可在制作間隙子的同時，選擇性地在彩色濾光片基板或薄膜晶體管基板上制作配向凸起。
請參考圖22，其繪示本發(fā)明的優(yōu)選實施例的一種彩色濾光片基板的示意圖。在本實施例中，黑色矩陣1120例如界定第一開口1122，而彩色濾光片1130例如界定第二開口1132，其中第一開口1122的尺寸例如約為20μm，第二開口1132的尺寸約為11μm，而其所形成的第一凸起結構1142與第二凸起結構1144的高度例如分別是4μm與1.4μm，兩者具有約2.6μm的高度差。當然，形成此高度差所需的開口的尺寸亦可例如由圖15所列舉的光掩模開口與凸起結構高度的關系曲線求得。高度為4μm的第一凸起結構1142可作為間隙子，而高度為1.4μm的第二凸起結構1144可作為配向凸起。
請參考圖23，本發(fā)明例如還可在上述的彩色濾光片1130所界定的第二開口1132內(nèi)保留部分的遮光圖案1150，其例如是彩色濾光片或黑色矩陣，而藉由此保留的遮光圖案1140可控制第二開口1132內(nèi)的光致抗蝕劑的曝光深度，以調(diào)整所形成的第二凸起結構(配向凸起)的高度。
值得一提的是，如圖22或23所述的黑色矩陣1120，亦可同時界定多種尺寸的開口，以形成不同高度的間隙子，進而提供同時具有混合間隙子與配向凸起的液晶顯示器裝置。此外，上述的制作方式同樣可應用于薄膜晶體管基板上的間隙子與配向凸起的制作，然本領域技術人員應可參考上述實施例與說明，輕易推知，故不再一一贅述。
綜上所述，本發(fā)明至少具有下列特征與優(yōu)點(一)間隙子直接置于該玻璃基板上，并可具有不同的高度，所以在承受了一壓力或力量之后，該液晶顯示器裝置能夠充分地恢復以及該單元間隙能夠保持一致。
(二)可藉由遮光圖案上的開口尺寸來調(diào)整曝光深度，以同時形成不同高度的凸起結構，其可作為間隙子或配向凸起，因此有助于減少使用的光掩模數(shù)與工藝數(shù)，進而提高生產(chǎn)效率，并可降低制作成本。
(三)不同高度的間隙子有助于在液晶滴下式(One Drop Fill)的加工工藝中，進一步加大滴入液晶量的操作區(qū)間，以提高生產(chǎn)成品率。
雖然本發(fā)明以優(yōu)選實施例揭露如上，然而其并非用以限定本發(fā)明，本領域的技術人員在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，可作些許的更動與潤飾，因此本發(fā)明的保護范圍應當以后附的權利要求所界定者為準。
權利要求
1.一種液晶顯示器裝置，具有一第一基板、一第二基板，與該第一基板結合在一起，并形成一空腔、液晶材料，配置于該空腔中、以及多個間隙子，其特征在于該第一基板及該第二基板中之一上具有一圖案，用以界定多個間隙子區(qū)域，且該間隙子配置于該間隙子區(qū)域上。
2.如權利要求1所述的液晶顯示器裝置，其中該圖案包含黑色矩陣。
3.如權利要求1所述的液晶顯示器裝置，其中該圖案包含彩色濾光片。
4.如權利要求1所述的液晶顯示器裝置，其中該圖案包含一第一金屬層。
5.如權利要求1所述的液晶顯示器裝置，其中該圖案包含一第二金屬層。
6.如權利要求1所述的液晶顯示器裝置，其中該間隙子經(jīng)由照光硬化而形成。
7.如權利要求1所述的液晶顯示器裝置，其中該間隙子區(qū)域以外的區(qū)域的優(yōu)選透光率小于7.1％。
8.如權利要求7所述的液晶顯示器裝置，其中該間隙子區(qū)域以外的區(qū)域的最佳透光率小于1.31％。
9.如權利要求1所述的液晶顯示器裝置，其中該間隙子區(qū)域對應于一薄膜晶體管而配置。
10.如權利要求1所述的液晶顯示器裝置，其中該間隙子區(qū)域對應于一輔助電容電極而配置。
11.如權利要求2所述的液晶顯示器裝置，其中還包括一彩色濾光片對應于一像素區(qū)域而配置，且該彩色濾光片未覆蓋間隙子區(qū)域。
12.如權利要求11所述的液晶顯示器裝置，其中該彩色濾光片包含一光吸收劑。
13.如權利要求11所述的液晶顯示器裝置，其中該第一基板與該第二基板界定一單元間隙(cell gap)，且該間隙子的高度大于該單元間隙的高度。
14.如權利要求11所述的液晶顯示器裝置，其中每個該第一基板及該第二基板皆具有一取向膜，該單元間隙為該兩取向膜間的平均距離。
15.如權利要求1所述的液晶顯示器裝置，其中該間隙子為一不透光材料所形成。
16.如權利要求15所述的液晶顯示器裝置，其中該不透光材料為一黑色樹脂。
17.如權利要求15所述的液晶顯示器裝置，其中該圖案為一遮光圖案，該遮光圖案界定不同尺寸的多個第一開口與多個第二開口；其中該些間隙子包含多個第一凸起結構，對應配置于該遮光圖案的該些第一開口的位置上，且位于該空腔內(nèi)；以及多個第二凸起結構，對應配置于該遮光圖案的該些第二開口的位置上，且位于該空腔內(nèi)，其中該第一凸起結構與該第二凸起結構具有不同的高度。
18.一種液晶顯示器裝置的制造方法，包括下列步驟提供一第一基板與一第二基板；于該第二基板的該內(nèi)側及外側表面的一者上，形成一遮光圖案，以界定多個間隙子區(qū)域；于該第二基板中的該內(nèi)側表面上，涂布一光致抗蝕劑；于該第二基板中的該外側表面上，照射光線；以及將該光致抗蝕劑顯影，而形成多個間隙子。
19.如權利要求18所述的液晶顯示器裝置的制造方法，還包括下列步驟將該第一基板與該第二基板相結合，以形成一空腔；以及將一液晶材料充填入該空腔中。
20.如權利要求18所述的液晶顯示器裝置的制造方法，還包括下列步驟將一液晶材料滴入該第一基板及該第二基板中的一者上；將該第一基板與該第二基板相結合，如此以將該液晶材料密封于該第一基板與該第二基板之間。
21.如權利要求18所述的液晶顯示器裝置的制造方法，其中該圖案為黑色矩陣。
22.如權利要求18所述的液晶顯示器裝置的制造方法，其中該圖案為彩色濾光片。
23.如權利要求18所述的液晶顯示器裝置的制造方法，其中該圖案為第一金屬。
24.如權利要求18所述的液晶顯示器裝置的制造方法，其中該圖案為第二金屬。
25.如權利要求18所述的液晶顯示器裝置的制造方法，其中該遮光圖案還包括不同尺寸的多個第一開口與多個第二開口；以使該些第一開口處的該光致抗蝕劑與該些第二開口處的該光致抗蝕劑具有不同的曝光深度；以及將該光致抗蝕劑顯影，而形成對應于該些第一開口的多個第一凸起結構以及對應于該些第二開口的多個第二凸起結構，其中該第一凸起結構與該第二凸起結構具有不同的高度。
全文摘要
一種液晶顯示器裝置、其彩色濾光片基板和凸起結構，及其制造方法。其中，彩色濾光片基板主要包括一透明基板、一黑色矩陣、多個彩色濾光片、多個第一凸起結構以及多個第二凸起結構。黑色矩陣配置在透明基板上，并裸露出部分的透明基板，以界定多個第一開口、多個第二開口以及多個像素區(qū)域，其中第一開口與第二開口具有不同的尺寸。此外，彩色濾光片配置于像素區(qū)域內(nèi)。另外，第一凸起結構與第二凸起結構配置于透明基板上，其中第一凸起結構對應于第一開口，而第二凸起結構對應于第二開口，且第一凸起結構與第二凸起結構具有不同的高度。
文檔編號G02F1/133GK1818758SQ20051005161
公開日2006年8月16日 申請日期2005年2月8日 優(yōu)先權日2005年2月8日
發(fā)明者吳永良, 陳猷仁 申請人:奇美電子股份有限公司