專利名稱：光束整形器、光學(xué)頭以及光盤記錄設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用來調(diào)整光束的光束整形器、使用了該光束整形器的光學(xué)頭以及使用了該光學(xué)頭的光盤記錄設(shè)備。
背景技術(shù)：
到目前為止，是將總括了光源、光學(xué)系統(tǒng)以及檢測系統(tǒng)的小型光學(xué)頭裝載在光盤驅(qū)動器上，來進(jìn)行光盤的記錄以及再生。圖4是示意以往的光學(xué)頭的構(gòu)成的概況圖。圖4所示的光源301由半導(dǎo)體激光構(gòu)成，將橢圓形的光束以直線偏光射出。射出的光束，經(jīng)過透鏡302以及棱鏡狀光束整形器303，被調(diào)整成橢圓形后，被引至光束分裂器304處。通過光束分裂器304的光束，經(jīng)過λ/4波長板305被變成圓偏光之后，再由物鏡306將其聚光在光盤309上。這樣，光盤309被曝光，信息則被記錄在光盤309上。
再生的時(shí)候，記錄了信息的光盤309，同上述一樣被光束照射，被反射的光束再次經(jīng)過λ/4波長板305被變成直線偏光。被變成直線偏光的光束，經(jīng)過光束分裂器304的反射，被射入到光檢測器308。這樣，通過利用光檢測器308檢測出光束的強(qiáng)度變化，被記錄的信息得以再生。
此外，物鏡306被安裝在致動機(jī)構(gòu)(actuator)307上，通過致動機(jī)構(gòu)307，物鏡306的位置，如以下所示，在前后左右2個(gè)軸向上被調(diào)整。例如，記錄型的光盤上設(shè)有被稱為抖動(wobble)的蛇行狀的引導(dǎo)槽，由此抖動來界定磁道，形成螺旋狀的磁道。光學(xué)頭，通過致動機(jī)構(gòu)307的調(diào)整功能，控制光盤309和物鏡306之間的距離保持一定，還一邊利用抖動(wobble)追蹤磁道，一邊進(jìn)行信息的記錄和再生。
另外，和上述光學(xué)頭一樣，作為通過曝光的手法將信息記錄在主光盤上的光盤記錄設(shè)備，已有各種各樣的設(shè)備被開發(fā)出來。例如，在日本專利公開公報(bào)第2001-195747號公報(bào)中，公開的這樣的光盤記錄設(shè)備。圖5是示意以往的光盤記錄設(shè)備的構(gòu)成的概況圖。在圖5所示的光盤記錄設(shè)備中，減振臺401上配置有光源402、光強(qiáng)度調(diào)節(jié)器403、調(diào)制元件404、偏向元件405、光束擴(kuò)大器406以及滑動部件408，光學(xué)頭409由滑動部件408支撐。
由氣體激光構(gòu)成的光源402射出的光束，經(jīng)鏡面反射后被引至光強(qiáng)度調(diào)節(jié)器403處，被其調(diào)整成指定的光強(qiáng)度。被調(diào)整了光強(qiáng)度的光束，根據(jù)需要記錄的信息被調(diào)制元件404相應(yīng)的調(diào)制后，經(jīng)鏡面反射被引至偏向元件405處，被其偏向。被偏向后的光束介于光束擴(kuò)大器406被引至光學(xué)頭409處，在形成有感光層的主光盤407上聚光，從而感光層被曝光。
在此，光學(xué)頭409包括可在1個(gè)軸向上移動的致動機(jī)構(gòu)(圖省略)和物鏡410，由致動機(jī)構(gòu)控制主光盤407和物鏡410之間保持一定距離。并且，光學(xué)頭409，介于滑動部件408，可在主光盤407的半徑方向上移動，主光盤407，在由轉(zhuǎn)盤(圖省略)支撐的狀態(tài)下旋轉(zhuǎn)。這樣，主光盤407的感光層，由于光學(xué)頭409被曝光，從而可制作出所希望的模式的主光盤。
然而，上述以往的光學(xué)頭，由于是在控制光盤309和物鏡306之間保持一定距離的同時(shí)來追蹤磁道的，因此必須具備機(jī)械性的致動機(jī)構(gòu)307。由于機(jī)械的精確度和追蹤頻率較低，因此不能被使用在需要高精度地控制光束的位置，進(jìn)行抖動的光盤記錄設(shè)備中。
另一方面，以往的光盤記錄設(shè)備中，由氣體激光構(gòu)成的光源402體積較大，而且由于在減振臺401上不得不裝載許多元件，因此造成設(shè)備的整體體積變大。此外，由于從光源402到主光盤407上的記錄點(diǎn)之間的光軸距離的變長，由于使用中產(chǎn)生的位置指示等光軸變化的影響，從而造成記錄點(diǎn)處的光軸以及光強(qiáng)度容易發(fā)生變化。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供，可以對光束的位置進(jìn)行高精度控制的小型光學(xué)頭、此光學(xué)頭所使用的光束整形器以及使用了此光學(xué)頭的光盤記錄設(shè)備。
本發(fā)明所提供的光束整形器，是調(diào)整光束形狀的光束整形器，其折射率根據(jù)所施加的電壓而產(chǎn)生相應(yīng)的變化。
在此光束整形器中，由于在調(diào)整光束形狀時(shí)，光束整形器的折射率根據(jù)被施加的電壓而產(chǎn)生相應(yīng)的變化，從而可以在調(diào)整光束形狀的同時(shí)使光束偏向，實(shí)現(xiàn)讓光束整形器同時(shí)具備調(diào)整光束形狀以及使光束偏向的功能。由于使用了此光束整形器來構(gòu)成光學(xué)頭，因此對光束位置可以高精度地控制的小型光學(xué)頭得以實(shí)現(xiàn)。
本發(fā)明還提供一種光學(xué)頭，它包括，射出光束的光源、調(diào)整所述光源射出的光束形狀的光束整形器、使所述光束整形器射出的光束聚光的物鏡、驅(qū)動所述物鏡的驅(qū)動機(jī)構(gòu)，而所述光束整形器的折射率，根據(jù)所施加的電壓而產(chǎn)生相應(yīng)的變化。
在此光學(xué)頭中，由于讓光束整形器具備整形以及偏向功能，因此能夠在對光束位置進(jìn)行高精度地控制的同時(shí)，使光學(xué)頭小型化。
本發(fā)明還提供一種光學(xué)頭，它包括，射出光束的半導(dǎo)體激光、使所述光束聚光的物鏡、驅(qū)動所述物鏡的驅(qū)動機(jī)構(gòu)，其中，在所述半導(dǎo)體激光和所述物鏡之間配置有偏向元件，使半導(dǎo)體激光射出的光束偏向。
在此光學(xué)頭中，由于在半導(dǎo)體激光和物鏡之間配置有使光源射出的光束偏向的偏向元件，所以在使光源可以小型化的同時(shí)，還能通過此偏向元件使光束高精度地偏向。其結(jié)果是，不僅能夠?qū)馐恢眠M(jìn)行高精度地控制，還可以使光學(xué)頭小型化。
本發(fā)明還提供一種光盤記錄設(shè)備，它包括，支撐并使具有感光層的主光盤旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、使光束聚光并照射在所述主光盤上的光學(xué)頭、使所述光學(xué)頭或所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的其中一方在所述主光盤的半徑方向上移動的移動機(jī)構(gòu)，其中，所述光學(xué)頭包括，射出光束的光源、調(diào)整所述光源射出的光束的形狀的光束整形器、使所述光束整形器射出的光束聚光的物鏡、驅(qū)動所述物鏡的驅(qū)動機(jī)構(gòu)，其中，所述光束整形器的折射率，根據(jù)被施加的電壓而產(chǎn)生相應(yīng)的變化。
此光盤記錄設(shè)備，由于使用能夠高精度地控制光束位置的小型光學(xué)頭來構(gòu)成，從而能夠在對光束位置進(jìn)行高精度地控制的同時(shí)，使光盤記錄設(shè)備小型化。
本發(fā)明還提供一種光盤記錄設(shè)備，它包括，支撐并使具有感光層的主光盤旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、使光束聚光并照射在所述主光盤上的光學(xué)頭、使所述光學(xué)頭或所述旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的其中一方在所述主光盤的半徑方向上移動的移動機(jī)構(gòu)，其中，所述光學(xué)頭包括，射出光束的半導(dǎo)體激光、使所述光束聚光的物鏡、驅(qū)動所述物鏡的驅(qū)動機(jī)構(gòu)，被配置在所述半導(dǎo)體激光和所述物鏡之間的，使半導(dǎo)體激光射出的光束偏向的偏向元件。
此光盤記錄設(shè)備，由于用半導(dǎo)體激光作為光源，并且使用能夠高精度地控制光束位置的小型光學(xué)頭來構(gòu)成，從而能夠在對光束位置進(jìn)行高精度地控制的同時(shí)，使光盤記錄設(shè)備小型化。


圖1是示意本發(fā)明的一種實(shí)施例的光學(xué)頭的構(gòu)成的概況圖。
圖2是示意圖1所示的光束整形器的側(cè)面圖。
圖3是示意圖1所示的使用了光學(xué)頭的光盤記錄設(shè)備的構(gòu)成的概況圖。
圖4是示意以往的光學(xué)頭的構(gòu)成的概況圖。
圖5是示意以往的光盤記錄設(shè)備的構(gòu)成的概況圖。
具體實(shí)施例方式以下，就本發(fā)明的一種實(shí)施例的光學(xué)頭，參照附圖進(jìn)行說明。圖1是示意本發(fā)明的一種實(shí)施例的光學(xué)頭的構(gòu)成的概況圖。
圖1所示的光學(xué)頭包括，光源101、透鏡102、光束整形器103、偏光束分裂器104、λ/4波長板105、物鏡106、致動機(jī)構(gòu)107以及光檢測器108。
光源101由半導(dǎo)體激光，例如，波長約400nm的青紫半導(dǎo)體激光等構(gòu)成。從光源101射出的直線偏光在射出的同時(shí)還不斷的擴(kuò)大。這樣，由于使用半導(dǎo)體激光作為光源101，利用指定的驅(qū)動電路(圖省略)來驅(qū)動半導(dǎo)體激光，就可以直接對射出的光束進(jìn)行強(qiáng)度調(diào)整以及調(diào)制。然而，作為光源來使用的半導(dǎo)體激光的波長最好在460nm或460nm以下。在這種狀態(tài)下，可以記錄和再生比DVD密度更高的信息。另外，作為光源101來使用的半導(dǎo)體激光波長的下限，最好是在300nm或300nm以上。
透鏡102把光源101射出的光束變換成平行光后，引至光束整形器103處。光束整形器103是入射面和出射面互相不平行的棱鏡狀光束整形器，其作用是把通過透鏡102后的橢圓型光束調(diào)整成圓形光束后引至偏光束分裂器104處。偏光束分裂器104，讓從光束整形器103傳過來的光束穿過后，將其引至λ/4波長板105處。λ/4波長板105將來自偏光束分裂器104的光束變換成圓偏光后，將其引至物鏡106處。物鏡106將來自λ/4波長板105的光束聚光，并使作為記錄對象的光盤109曝光。這樣，信息就被記錄在光盤109上。
而且，物鏡106還將從光盤109反射出來的光束引至λ/4波長板105處。λ/4波長板105把從物鏡106處傳過來的光束的偏光方向旋轉(zhuǎn)90度，變換成直線偏光后將其引至偏光束分裂器104處。偏光束分裂器104，把來自λ/4波長板105的光束反射到光檢測器108處。由光檢測器108檢測出光束的強(qiáng)度變化。
在此，物鏡106是被安裝在作為驅(qū)動機(jī)構(gòu)的一例的致動機(jī)構(gòu)107上的。致動機(jī)構(gòu)107使物鏡106在相對于光盤109的垂直方向(聚焦方向)上移動。并且，光檢測器108還具有檢測物鏡106和光盤109之間的距離變化的功能。運(yùn)用光檢測器108的檢測信號，通過指定的控制電路(圖省略)對致動機(jī)構(gòu)107進(jìn)行控制，可以使物鏡106和光盤109之間的距離被控制在一指定不變的常數(shù)上。
圖2是示意圖1所示的光束整形器103的側(cè)面圖。圖2所示的光束整形器103具有兩個(gè)電極110、111和一非線形光學(xué)材料112。相對的兩個(gè)電極110、111被分別設(shè)置在光束整形器103的三角形的上表面和底面上，非線形光學(xué)材料112被配置在兩電極110、111之間。然而，電極并不僅僅局限于以上的例子，還可以有多種變更的可能性，例如，可以使用兩個(gè)以上的電極。
電極110、111，當(dāng)施加有由指定的電壓產(chǎn)生電路(圖省略)產(chǎn)生的作為偏向信號的電壓時(shí)，會產(chǎn)生電場。非線形光學(xué)材料112的晶體方位，根據(jù)電光學(xué)效應(yīng)，其折射率可以設(shè)定成相對于所產(chǎn)生的電場是可變的。在本實(shí)施例中，是在相對于電極110、111的垂直方向上的折射率發(fā)生了變化。通過事先將此方向與光源101的偏光方向調(diào)和一致，可使光束射入和射出光束整形器103時(shí)的折射角，隨著此折射率的變化而變化，透過的光束的方向就會如圖所示的那樣偏轉(zhuǎn)。
這樣，通過讓光束整形器103具有電磁性的光束偏向功能，就可以非常快速的使光束偏向，偏向后的光束穿過物鏡106等，射在光盤109上的位置也可以快速地變化。由于此變化方向被設(shè)置成相對于光盤109的磁道為垂直方向，即光盤109的半徑方向，因此可以讓記錄點(diǎn)的位置根據(jù)偏光信號在光盤109的半徑方向上相應(yīng)地移動，即可以將所謂的抖動(wobble)記錄在光盤109上。
作為構(gòu)成光束整形器103的非線形光學(xué)材料112，例如可以使用，磷酸鹽晶體、鋰酸鹽晶體、硼酸鹽晶體等比較適宜，進(jìn)一步具體的說，可以使用，KDP(磷酸二氫鉀)、ADP(磷酸二氫銨)、LiNbO(鈮酸鋰)、BBO(偏硼酸鋇)等。然而，非線形光學(xué)材料112并不僅限定于上述的事例，只要是根據(jù)電光學(xué)效應(yīng)，折射率會產(chǎn)生變化的其他材料均可使用。另外，由于KDP、ADP、LiNbO、BBO等晶體具有潮解性，所以最好用干燥氮?dú)獾惹鍜吖鈱W(xué)頭，使其保持干燥。
如上所述，在本實(shí)施例中，由于可以讓光束整形器103具有整形和偏向功能，所以即可以高精度地控制光學(xué)頭的位置從而能夠記錄抖動，又可以使光學(xué)頭達(dá)到小型化。
而且，在本實(shí)施例中，雖然物鏡106和光盤109之間的距離變化是根據(jù)記錄光束的反射光束由光檢測器108檢測出來的，但是其他波長的光束，例如把紅色光束合成為記錄光束并讓其射入物鏡106，根據(jù)由光盤109反射出的紅色光束，另外檢測物鏡106和光盤109之間的距離變化的方法也可行。
此外，在本實(shí)施例中，雖然是讓光束整形器103具有了偏向功能，不過如果讓光束整形器103和物鏡106之間的其他元件，例如光束分裂器104具有偏向功能，或是插入其他的偏向元件，也可以得到同樣的效果。
此外，在本實(shí)施例中，以使用了單軸驅(qū)動致動機(jī)構(gòu)的光學(xué)頭來記錄抖動為例做了說明，但是并不僅僅局限于此，例如也可以用具有追蹤功能的兩軸驅(qū)動致動機(jī)構(gòu)進(jìn)行追蹤，當(dāng)物鏡106在半徑方向上移動，即所謂甚于透鏡的移動而移動記錄點(diǎn)時(shí)，也可以使用利用上述的偏向功能來補(bǔ)正記錄點(diǎn)的位置的用途。
下面，對使用了上述結(jié)構(gòu)的光學(xué)頭的光盤記錄設(shè)備進(jìn)行說明。圖3是示意使用了圖1所示的光學(xué)頭的光盤記錄設(shè)備的構(gòu)成的概況圖。
圖3所示的光盤記錄設(shè)備，包括，減振臺201、轉(zhuǎn)盤202、光學(xué)頭203以及滑動部件204。轉(zhuǎn)盤202以及滑動部件204被設(shè)置在減振臺201上，圖1所示的的光學(xué)頭203被固定在滑動部件204上。
作為旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的一例的轉(zhuǎn)盤202，支撐并使主光盤205旋轉(zhuǎn)，其中，主光盤205涂有感光材料而形成感光層。作為移動機(jī)構(gòu)的一例的滑動部件204，讓光學(xué)頭203在主光盤205的半徑方向上移動。通過讓上述轉(zhuǎn)盤202和滑動部件204協(xié)調(diào)動作，光學(xué)頭203的物鏡106相對于主光盤205作螺旋狀移動。
此時(shí)，作為光學(xué)頭203的光源101的半導(dǎo)體激光，根據(jù)需要記錄的調(diào)制信號來調(diào)制光束的強(qiáng)度。光束整形器103，根據(jù)偏向信號使光束偏向。由于是利用強(qiáng)度調(diào)制以及偏向光束，使在主光盤上聚光的記錄點(diǎn)移動，因此能夠高精度地記錄抖動(wobble)。這樣，就可以在主光盤上高精度地形成記錄了抖動的模式，從而可以制作出密度比DVD高的主光盤。
如上所述，在此光盤記錄設(shè)備中，由于讓光學(xué)頭203的光束整形器103具有了整形功能以及偏向功能，因此，可以高精度地使光束偏向，從而能夠制作出高精度地控制光束位置并高精度地記錄了抖動的主光盤。
此外，由于使用了半導(dǎo)體激光作為光學(xué)頭203的光源101，所以只需在減振臺201上裝載轉(zhuǎn)盤202以及滑動部件204即可，與裝載了氣體激光的以往的主光盤設(shè)備相比，可以大大減小設(shè)備的體積。還可以防止從前的主盤記錄設(shè)備當(dāng)使用氣體激光時(shí)所需要的冷卻水，由于冷卻水的振動產(chǎn)生機(jī)器振動而引起的間距精度下降的問題。
此外，由于記錄光學(xué)系統(tǒng)被封裝在小型光學(xué)頭203中，光軸變得非常短，而且，由于轉(zhuǎn)盤202旋轉(zhuǎn)時(shí)掀起的風(fēng)而造成的影響也可以被降低到最低限，從而光軸的變化變得非常少，因此穩(wěn)定的記錄得以實(shí)現(xiàn)。
在上述的說明中，雖然光學(xué)頭203是靠滑動部件204來移動的，但是如果將光學(xué)頭203固定在減振臺201上，通過指定的移動機(jī)構(gòu)來驅(qū)動轉(zhuǎn)盤202也是可以的。
權(quán)利要求
1.一種光束整形器，用于調(diào)整光束的形狀，其特征在于所述光束整形器的折射率，根據(jù)所施加的電壓而產(chǎn)生相應(yīng)的變化。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光束整形器，其特征在于包括用于施加所述電壓的至少兩個(gè)電極；和被配置在所述電極之間的非線形光學(xué)材料。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光束整形器，其特征在于所述光束整形器是射入面和射出面互不平行的大致棱鏡型的光束整形器，使所述光束的射出角度發(fā)生變化。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光束整形器，其特征在于，所述非線形光學(xué)材料是磷酸鹽晶體。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光束整形器，其特征在于，所述非線形光學(xué)材料是鋰酸鹽晶體。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光束整形器，其特征在于，所述非線形光學(xué)材料是硼酸鹽晶體。
7.一種光學(xué)頭，其特征在于包括用于射出光束的光源；用于調(diào)整從所述光源射出的光束形狀的光束整形器；將來自所述光束整形器的光束聚光的物鏡；以及用于驅(qū)動所述物鏡的驅(qū)動機(jī)構(gòu)；其中，所述光束整形器的折射率，根據(jù)所施加的電壓而產(chǎn)生相應(yīng)的變化。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光學(xué)頭，其特征在于，所述光束整形器包括用于施加所述電壓的至少兩個(gè)電極；被配置在所述電極之間的非線形光學(xué)材料。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光學(xué)頭，其特征在于，所述光源是使用半導(dǎo)體激光射出所述光束。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光學(xué)頭，其特征在于，所述光源的波長在460nm或460nm以下。
11.一種光學(xué)頭，其特征在于包括用于射出光束的半導(dǎo)體激光；使所述的光束聚光的物鏡；用于驅(qū)動所述物鏡的驅(qū)動機(jī)構(gòu)；以及被配置在所述半導(dǎo)體激光和所述物鏡之間，使半導(dǎo)體激光射出的光束產(chǎn)生偏向的偏向元件。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光學(xué)頭，其特正在于所述偏向元件，為調(diào)整光束形狀的光束整形器，其折射率根據(jù)所施加的電壓而產(chǎn)生相應(yīng)的變化。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的光學(xué)頭，其特征在于，所述光束整形器包括用于施加所述電壓的至少兩個(gè)電極；被配置在所述電極之間的非線形光學(xué)材料。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光學(xué)頭，其特征在于，所述半導(dǎo)體激光的波長在460nm或460nm以下。
15.一種光盤記錄設(shè)備，其特征在于包括支撐并使具有感光層的主光盤旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)；將光束聚光并照射在所述主光盤上的光學(xué)頭；以及使所述光學(xué)頭或旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的其中一方在所述主光盤的半徑方向上移動的移動機(jī)構(gòu)；其中，所述光學(xué)頭包括，用于射出光束的光源；用于調(diào)整所述光源射出的光束形狀的光束整形器；使來自所述光束整形器的光束聚光的物鏡；以及用于驅(qū)動所述物鏡的驅(qū)動機(jī)構(gòu)；其中，所述光束整形器的折射率，根據(jù)所施加的電壓而產(chǎn)生相應(yīng)的變化。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光盤記錄設(shè)備，其特征在于，所述光束整形器包括用于施加所述電壓的至少兩個(gè)電極；被配置在所述電極之間的非線形光學(xué)材料。
17.一種光盤記錄設(shè)備，其特征在于包括支撐并使具有感光層的主光盤旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)；將光束聚光并照射在所述主光盤上的光學(xué)頭；以及使所述光學(xué)頭或旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的其中一方在所述主光盤的半徑方向上移動的移動機(jī)構(gòu)；其中，所述光學(xué)頭包括，用于射出光束的半導(dǎo)體激光；使所述光束聚光的物鏡；用于驅(qū)動所述物鏡的驅(qū)動機(jī)構(gòu)；以及被配置在所述半導(dǎo)體激光和所述物鏡之間，使所述半導(dǎo)體激光射出的光束產(chǎn)生偏向的偏向元件。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的光盤記錄設(shè)備，其特征在于所述偏向元件，是調(diào)整光束形狀的光束整形器，其折射率，根據(jù)所施加的電壓而產(chǎn)生相應(yīng)的變化。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的光盤記錄設(shè)備、其特征在于，所述光束整形器包括用于施加所述電壓的至少兩個(gè)電極；被配置在所述電極之間的非線形光學(xué)材料。
全文摘要
一種光束整形器，在把光源射出的光束調(diào)整成圓形的同時(shí)，通過被施加在電極上的電壓產(chǎn)生的電場，使其折射率產(chǎn)生變化，從而使光源射出的光束產(chǎn)生偏向；物鏡將被整形及偏向后的光束聚光，使光盤曝光。
文檔編號G02F1/29GK1538416SQ200410033570
公開日2004年10月20日 申請日期2004年4月6日 優(yōu)先權(quán)日2003年4月14日
發(fā)明者阿部伸也, 伊藤英一, 一 申請人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會社