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一種光刻機(jī)用陶瓷吸盤(pán)的制作方法

文檔序號(hào):22538閱讀:368來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:一種光刻機(jī)用陶瓷吸盤(pán)的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種光刻機(jī)用陶瓷吸盤(pán),包括:本體,其下方固定連接蓋體;所述本體的上表面設(shè)有多個(gè)凸起,多個(gè)凸起的上表面位于同一平面;所述本體的下表面設(shè)有吸附槽,所述吸附槽上設(shè)有穿透本體的吸附孔,與吸附槽相連通;還包括:第一筋板,設(shè)置在本體的下表面,所述第一筋板上設(shè)有至少一個(gè)第一凹槽,用于避免陶瓷燒結(jié)過(guò)程中陶瓷吸盤(pán)產(chǎn)生的內(nèi)應(yīng)力。本實(shí)用新型在本體的內(nèi)部筋板上設(shè)有凹槽,凹槽可以釋放陶瓷材料內(nèi)部的應(yīng)力,既滿足產(chǎn)品的使用要求,又避免在吸盤(pán)的制作過(guò)程中,因陶瓷燒結(jié)過(guò)程中產(chǎn)生的內(nèi)應(yīng)力使吸盤(pán)變形。
【專利說(shuō)明】一種光刻機(jī)用陶瓷吸盤(pán)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種光刻機(jī),具體涉及一種光刻機(jī)用陶瓷吸盤(pán)。

【背景技術(shù)】
[0002]高端光刻機(jī)在工件臺(tái)等系統(tǒng)采用陶瓷材料,是為解決運(yùn)動(dòng)及測(cè)量的高精度要求。應(yīng)用于光刻機(jī)的吸盤(pán)為一種采用陶瓷制作的中空結(jié)構(gòu),吸盤(pán)通過(guò)接管與真空設(shè)備連接,然后與大尺寸硅片接觸,啟動(dòng)真空抽吸,使吸盤(pán)內(nèi)產(chǎn)生負(fù)壓,從而將硅片吸牢。現(xiàn)有的陶瓷吸盤(pán)結(jié)構(gòu)在制作過(guò)程中,由于陶瓷燒結(jié)過(guò)程中產(chǎn)生內(nèi)應(yīng)力,使吸盤(pán)變形,很難滿足產(chǎn)品的使用要求。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]本實(shí)用新型為了解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足,提供了一種能夠避免陶瓷燒結(jié)過(guò)程中產(chǎn)生內(nèi)應(yīng)力的光刻機(jī)用陶瓷吸盤(pán)。
[0004]本實(shí)用新型解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是:
[0005]一種光刻機(jī)用陶瓷吸盤(pán),包括:
[0006]本體,其下方固定連接蓋體;所述本體的上表面設(shè)有多個(gè)凸起,多個(gè)凸起的上表面位于同一平面;所述本體的下表面設(shè)有吸附槽,所述吸附槽上設(shè)有穿透本體的吸附孔,與吸附槽相連通;
[0007]還包括:
[0008]第一筋板,設(shè)置在本體的下表面,所述第一筋板上設(shè)有至少一個(gè)第一凹槽,用于避免陶瓷燒結(jié)過(guò)程中陶瓷吸盤(pán)產(chǎn)生的內(nèi)應(yīng)力。
[0009]進(jìn)一步地,還包括:
[0010]第二筋板,設(shè)置在本體的下表面,與所述第一筋板相互交錯(cuò)設(shè)置,所述第二筋板上設(shè)有至少一個(gè)第二凹槽,用于避免陶瓷燒結(jié)過(guò)程中陶瓷吸盤(pán)產(chǎn)生的內(nèi)應(yīng)力。
[0011]進(jìn)一步地,兩條以上的第一筋板相互平行設(shè)置,兩條以上的第二筋板相互平行設(shè)置,且所述第一筋板垂直于所述第二筋板設(shè)置;
[0012]每?jī)蓷l第二筋板之間的所述第一筋板上均設(shè)有第一凹槽,所述第一凹槽在沿著第二筋板長(zhǎng)度的方向相貫通;
[0013]每?jī)蓷l第一筋板之間的所述第二筋板上設(shè)有一第二凹槽,所述第二凹槽在沿著第二筋板長(zhǎng)度的方向相貫通。
[0014]進(jìn)一步地,兩條以上的第一筋板上的第一凹槽相互連通,相互連通的第一凹槽的軸線平行于所述第二筋板;
[0015]兩條以上的第二筋板上的第二凹槽相互連通,相互連通的第二凹槽的軸線平行于所述第一筋板。
[0016]所述第一凹槽和/或第二凹槽的橫截面為半弧形、矩形、梯形或V字形。
[0017]所述本體上設(shè)有至少一個(gè)連接孔。
[0018]所述連接孔為3個(gè),均勻貫通設(shè)置在所述本體及蓋體上。
[0019]所述本體與蓋體通過(guò)固化劑粘接連接或所述本體與蓋體通過(guò)燒結(jié)連接。
[0020]所述吸附槽為三個(gè),每個(gè)吸附槽的一端部交匯于所述本體的中心,另一端部分別設(shè)有一吸附孔,三個(gè)吸附槽對(duì)稱設(shè)置在所述本體上。
[0021]所述凸起的上表面為正方形,多個(gè)凸起相隔間距均勻設(shè)置在所述本體的上表面。
[0022]與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實(shí)用新型在本體的內(nèi)部筋板上設(shè)有凹槽,凹槽可以釋放陶瓷材料內(nèi)部的應(yīng)力,既滿足產(chǎn)品的使用要求,又避免在吸盤(pán)的制作過(guò)程中,因陶瓷燒結(jié)過(guò)程中產(chǎn)生的內(nèi)應(yīng)力使吸盤(pán)變形。

【附圖說(shuō)明】

[0023]圖1為本實(shí)用新型提供的光刻機(jī)用陶瓷吸盤(pán)的剖視圖;
[0024]圖2為本體的上表面的結(jié)構(gòu)示意圖;
[0025]圖3為圖1的局部截面圖。
[0026]圖中:I本體,2凸起,3吸附槽,4吸附孔,5第一筋板,6第二筋板,7第一凹槽,8
第二凹槽,9連接孔。

【具體實(shí)施方式】
[0027]下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說(shuō)明,但不作為對(duì)本實(shí)用新型的限定。
[0028]參見(jiàn)圖1和圖2,一種光刻機(jī)用陶瓷吸盤(pán),包括:
[0029]本體1,其下方固定連接蓋體;本體I的上表面設(shè)有多個(gè)凸起2,多個(gè)凸起2的上表面位于同一平面;本體I的下表面設(shè)有吸附槽3,吸附槽3上設(shè)有穿透本體I的吸附孔4,與吸附槽3相連通;
[0030]還包括:
[0031]第一筋板5,設(shè)置在本體I的下表面,第一筋板5上設(shè)有至少一個(gè)第一凹槽7,用于避免陶瓷燒結(jié)過(guò)程中陶瓷吸盤(pán)產(chǎn)生的內(nèi)應(yīng)力。
[0032]本實(shí)用新型通過(guò)在第一橫筋板上設(shè)置第一凹槽,可以釋放吸盤(pán)在制作過(guò)程中陶瓷材料內(nèi)部的應(yīng)力,防止吸盤(pán)的變形,影響對(duì)硅片的吸附要求。
[0033]本實(shí)施例在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上,還包括:
[0034]第二筋板6,設(shè)置在本體I的下表面,與第一筋板5相互交錯(cuò)設(shè)置,第二筋板6上設(shè)有至少一個(gè)第二凹槽8,用于避免陶瓷燒結(jié)過(guò)程中陶瓷吸盤(pán)產(chǎn)生的內(nèi)應(yīng)力。
[0035]本實(shí)用新型設(shè)置在筋板上設(shè)置的第一凹槽和第二凹槽可以釋放吸盤(pán)在制作過(guò)程中陶瓷材料內(nèi)部的應(yīng)力,更好的防止吸盤(pán)變形,影響對(duì)硅片的吸附要求。
[0036]優(yōu)選地,兩條以上的第一筋板5相互平行設(shè)置,兩條以上的第二筋板6相互平行設(shè)置;
[0037]第一筋板6垂直于第二筋板6設(shè)置;
[0038]每?jī)蓷l第二筋板6之間的第一筋板5上設(shè)有一第一凹槽7,第一凹槽7在沿著第一筋板6長(zhǎng)度的方向相貫通;
[0039]每?jī)蓷l第一筋板5之間的所述第二筋板6上設(shè)有一第二凹槽8,第二凹槽8在沿著第二筋板6長(zhǎng)度的方向相貫通。
[0040]本實(shí)用新型的第一筋板和第二筋板交錯(cuò)設(shè)置的結(jié)構(gòu),形成吸盤(pán)內(nèi)部的減重結(jié)構(gòu),為達(dá)到更好的釋放應(yīng)力的需求,第一凹槽和第二凹槽的兩端開(kāi)口。
[0041]優(yōu)選地,兩條以上的第一筋板5上的第一凹槽7相互連通,相互連通的第一凹槽7的軸線平行于所述第二筋板6;
[0042]兩條以上的第二筋板6上的第二凹槽8相互連通,相互連通的第二凹槽8的軸線平行于第一筋板5。
[0043]本實(shí)用新型在第一筋板上設(shè)有多條相互連通的第一凹槽,第二筋板上設(shè)有多條相互連通的第二凹槽,通過(guò)設(shè)置的多條互相連通的第一凹槽和第二凹槽,釋放了吸盤(pán)制作過(guò)程中陶瓷燒結(jié)所產(chǎn)生的內(nèi)應(yīng)力,防止吸盤(pán)的變形。
[0044]參見(jiàn)圖3,優(yōu)選地,第一凹槽7和/或第二凹槽8的的橫截面為半弧形、矩形、梯形或U字形。
[0045]參見(jiàn)圖1,本體I上設(shè)有至少一個(gè)連接孔9。連接孔用于吸附硅片時(shí)固定吸盤(pán)。優(yōu)選地,連接孔9為3個(gè),均勻貫通設(shè)置在本體I及蓋體上。
[0046]優(yōu)選地,本體I與蓋體通過(guò)固化劑粘接連接或本體I與蓋體通過(guò)燒結(jié)連接。
[0047]參見(jiàn)圖1,為了達(dá)到更好的吸附效果,吸附槽3為三個(gè),每個(gè)吸附槽3的一端部交匯于本體I的中心,另一端部分別設(shè)有一吸附孔4,三個(gè)吸附槽3對(duì)稱設(shè)置在本體I上。
[0048]參見(jiàn)圖2,凸起2的上表面為正方形,多個(gè)凸起2相隔間距均勻設(shè)置在本體I的上表面。凸起的上表面用于和硅片接觸。
[0049]本實(shí)用新型吸盤(pán)的工作原理:首先將吸盤(pán)通過(guò)接管與真空設(shè)備連接,然后與大尺寸硅片接觸,啟動(dòng)真空抽吸,使吸盤(pán)內(nèi)產(chǎn)生負(fù)壓,從而將硅片吸牢,本發(fā)明的吸盤(pán)為中空結(jié)構(gòu),且其材料為具有一定的強(qiáng)度、剛度的陶瓷,陶瓷表面具有超高的平整度(0.4um),采用凸起表面與硅片接觸,具有超低的接觸面積,另外為了降低其高加速度對(duì)驅(qū)動(dòng)電機(jī)的載荷,該吸盤(pán)需控制在400克以下,因此內(nèi)部設(shè)計(jì)有減重結(jié)構(gòu),且筋板的壁厚僅為2_厚,表面的蓋板僅為Imm厚,為了既滿足產(chǎn)品的使用要求,又避免陶瓷燒結(jié)過(guò)程中產(chǎn)生的內(nèi)應(yīng)力,使制品變形,在內(nèi)部筋板開(kāi)設(shè)凹槽可以釋放陶瓷材料內(nèi)部的應(yīng)力。
[0050]以上所述的實(shí)施例,只是本實(shí)用新型較優(yōu)選的【具體實(shí)施方式】的一種,本領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實(shí)用新型技術(shù)方案范圍內(nèi)進(jìn)行的通常變化和替換都應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種光刻機(jī)用陶瓷吸盤(pán),包括: 本體,其下方固定連接蓋體;所述本體的上表面設(shè)有多個(gè)凸起,多個(gè)凸起的上表面位于同一平面;所述本體的下表面設(shè)有吸附槽,所述吸附槽上設(shè)有穿透本體的吸附孔,與吸附槽相連通; 其特征在于,還包括: 第一筋板,設(shè)置在本體的下表面,所述第一筋板上設(shè)有至少一個(gè)第一凹槽,用于避免陶瓷燒結(jié)過(guò)程中陶瓷吸盤(pán)產(chǎn)生的內(nèi)應(yīng)力。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種光刻機(jī)用陶瓷吸盤(pán),其特征在于,還包括: 第二筋板,設(shè)置在本體的下表面,與所述第一筋板相互交錯(cuò)設(shè)置,所述第二筋板上設(shè)有至少一個(gè)第二凹槽,用于避免陶瓷燒結(jié)過(guò)程中陶瓷吸盤(pán)產(chǎn)生的內(nèi)應(yīng)力。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光刻機(jī)用陶瓷吸盤(pán),其特征在于: 兩條以上的第一筋板相互平行設(shè)置,兩條以上的第二筋板相互平行設(shè)置,且所述第一筋板垂直于所述第二筋板設(shè)置; 每?jī)蓷l第二筋板之間的所述第一筋板上均設(shè)有第一凹槽,所述第一凹槽在沿著第二筋板長(zhǎng)度的方向相貫通; 每?jī)蓷l第一筋板之間的所述第二筋板上設(shè)有一第二凹槽,所述第二凹槽在沿著第二筋板長(zhǎng)度的方向相貫通。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光刻機(jī)用陶瓷吸盤(pán),其特征在于: 兩條以上的第一筋板上的第一凹槽相互連通,相互連通的第一凹槽的軸線平行于所述第二筋板; 兩條以上的第二筋板上的第二凹槽相互連通,相互連通的第二凹槽的軸線平行于所述第一筋板。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻機(jī)用陶瓷吸盤(pán),其特征在于:所述第一凹槽和/或第二凹槽的橫截面為半弧形、矩形、梯形、V字形。6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的光刻機(jī)用陶瓷吸盤(pán),其特征在于,所述本體上設(shè)有至少一個(gè)連接孔。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光刻機(jī)用陶瓷吸盤(pán),其特征在于,所述連接孔為3個(gè),均勻貫通設(shè)置在所述本體及蓋體上。8.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的光刻機(jī)用陶瓷吸盤(pán),其特征在于,所述本體與蓋體通過(guò)固化劑粘接連接或所述本體與蓋體通過(guò)燒結(jié)連接。9.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的光刻機(jī)用陶瓷吸盤(pán),其特征在于,所述吸附槽為三個(gè),每個(gè)吸附槽的一端部交匯于所述本體的中心,另一端部分別設(shè)有一吸附孔,三個(gè)吸附槽對(duì)稱設(shè)置在所述本體上。10.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的光刻機(jī)用陶瓷吸盤(pán),其特征在于,所述凸起的上表面為正方形,多個(gè)凸起相隔間距均勻設(shè)置在所述本體的上表面。
【文檔編號(hào)】G03F7-20GK204287728SQ201420681477
【發(fā)明者】劉海林, 霍艷麗, 賈志輝, 梁海龍, 胡傳奇, 黃小婷, 唐婕, 陳曙光 [申請(qǐng)人]中國(guó)建筑材料科學(xué)研究總院
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