專利名稱：具有較高對比度的液晶顯示設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及具有較高對比度的液晶顯示(LCD)設(shè)備，并且具體涉及包括LCD設(shè)備，該LCD設(shè)備包括具有較低的表面反射系數(shù)的互聯(lián)線。
背景技術(shù)：
LCD設(shè)備用于各種領(lǐng)域，比如家庭使用或醫(yī)療使用，并且LCD設(shè)備使用的領(lǐng)域的數(shù)量在增加。一般而言，LCD設(shè)備包括一對偏光板，其放置在背光面與LCD面板的前面，并且將LCD面板夾在其間。這對偏光板具有各自的相互垂直的偏光軸。通過將電場應(yīng)用到LCD設(shè)備中的液晶(LC)層，控制通過LC層與放置在前面的偏光板的光線部分用于所需圖像的顯示。
在LCD設(shè)備中，術(shù)語“對比度”(“contrast ratio”)定義為顯示黑色的屏幕部分的亮度(黑色亮度)與顯示白色的屏幕部分的亮度(白色亮度)之比。該對比度用于評價(jià)LCD設(shè)備的性能的指標(biāo)。一般而言，較高的白色亮度與較低的黑色亮度得到較高的對比度，由于在黑色與白色之間清楚的區(qū)別，因此所述的較高的對比度將提供給LCD設(shè)備優(yōu)異的顯示性能。例如，一種用于醫(yī)療儀器的特定的LCD設(shè)備具有高于或等于600的對比度。在平面內(nèi)交換模式(IPS)的LCD設(shè)備中，其能夠在此不用電壓而顯示黑色，液晶分子方向的較高的均勻性得到較低的黑色亮度，因此改善了對比度。
應(yīng)當(dāng)注意多條互聯(lián)線與多個(gè)電極有時(shí)可共同地指多條互聯(lián)線，從背光源入射到LCD設(shè)備的一些光線部分被所述的多條互聯(lián)線與多個(gè)電極向上散射，因此導(dǎo)致偏振光量的改變。當(dāng)互聯(lián)線具有較大的厚度時(shí)，斜射光更可能被散射，其中斜射光在互聯(lián)線側(cè)散射。這樣，由于合成的較高的黑色亮度，偏光板可忽略不需要的光線部分，因此降低對比度。
編號為JP-A-11(1999)-337922的專利公開描述了用于改善LCD設(shè)備的對比度的技術(shù)，其中從背光源入射LCD面板的多條光線部分的多個(gè)入射角限制在規(guī)定角的范圍內(nèi)。更具體地說，從背光源入射到LCD面板的全部的光線部分當(dāng)中，每個(gè)具有規(guī)定角或在相對于LCD面板的垂直線下面的多條光線部分可通過，而每個(gè)具有比規(guī)定角更高的角的多條光線部分被阻斷。通過減少傾斜地通過LCD面板范圍內(nèi)的多條光線部分，在LCD面板中能夠減少散射光的強(qiáng)度以提高對比度。
特別是在IPS的LCD設(shè)備中，如果將具有較高的表面反射系數(shù)的多條鋁制互聯(lián)線提供到光通過的像素區(qū)域，則可能導(dǎo)致光的散射。因此，如上述公開中所述，傾斜地通過LCD面板的光線部分?jǐn)?shù)量的限制不能有效地防止光從多條互聯(lián)線的多個(gè)側(cè)面散射。這樣，導(dǎo)致較高的黑色亮度從而降低對比度，由此在LCD設(shè)備中對比度的提高不夠充分。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于在傳統(tǒng)的LCD設(shè)備中的上述問題，本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種LCD設(shè)備，該設(shè)備能夠抑制在LCD面板的范圍內(nèi)光的散射，并且這樣得到較高的對比度。
本發(fā)明提供一種LCD設(shè)備，包括液晶層；一對相對的面板，其將所述液晶層夾在其間；黑色矩陣，其安裝在所述相對的面板任何一個(gè)的上面，用于限定多個(gè)像素的陣列，其中在所述LCD設(shè)備中每個(gè)像素具有像素區(qū)域；以及互聯(lián)層，其安裝在所述相對的面板之一的上面，并且摹制有在公共絕緣體上形成的多條互聯(lián)線，其中，在所述像素區(qū)域延伸的所述互聯(lián)線之一在其厚度與其表面反射系數(shù)的乘積方面低于在所述像素區(qū)域外邊延伸的另一條所述互聯(lián)線。
在符合本發(fā)明的LCD設(shè)備中，由于多條互聯(lián)線之一的較低的表面反射系數(shù)，因此能夠減少由在像素區(qū)域中延伸的多條互聯(lián)線之一導(dǎo)致的散射光的強(qiáng)度，而朝像素區(qū)域外面延伸的另一條互聯(lián)線具有較低的線電阻以得到所需的操作速度。


圖1是根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的LCD設(shè)備的部分的俯視圖。
圖2是在圖1中沿著線A-B-C所示的剖視圖。
圖3是示出了視角與背光亮度之間的關(guān)系的圖表。
圖4是根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的LCD設(shè)備的剖視圖。
圖5是根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的LCD設(shè)備的剖視圖。
圖6是示出了在第三實(shí)施例的LCD設(shè)備中對比度與半值寬度(half-value width)之間的關(guān)系的圖表。
具體實(shí)施例方式
現(xiàn)在參照附圖，將更加具體地描述本發(fā)明，其中在整個(gè)圖中，相同的參考數(shù)字指的是相同的組成元件。
參照圖1，根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的通常標(biāo)明數(shù)字100的LCD設(shè)備實(shí)施為IPS LCD設(shè)備，其中夾在一對LCD面板之間的LC層應(yīng)用于橫向電場。LCD設(shè)備100包括以陣列的形式排列的多個(gè)像素，朝著陣列的列向延伸的多條信號線31，朝著陣列的行向延伸的多條掃描線32，以及平行于掃描線32延伸的多條公共電極線33。
每個(gè)像素具有由相鄰的兩條信號線31與相鄰的兩條掃描線32限定的像素區(qū)域。每個(gè)像素包括從對應(yīng)信號線31之一延伸的漏極線34；薄膜晶體管(TFT)53，其具有連接到漏極線34的漏極與連接到對應(yīng)掃描線32的柵極；像素電極35，其連接到TFT53的源極；公共電極44，其連接到公共電極線33；以及屏蔽公共電極43。相對于觀察者，黑色矩陣(沒有示出)光學(xué)地屏蔽多條信號線31、多條掃描線32與多條公共電極線33。
根據(jù)應(yīng)用于對應(yīng)的掃描線32的電壓的存在或不存在，通過漏極線34，TFT 53連接/斷開像素電極35到/從對應(yīng)信號線31。像素電極線35的層不同于公共電極線33的層。像素電極線35具有一對分支部分，該分支部分采用絕緣膜的介入物(intervention)而覆蓋相鄰的多條公共電極線33，并且像素電極線35具有在像素區(qū)域延伸的橋的部分用于接通共同的分支部分。每個(gè)分支部分與對應(yīng)的公共電極線33對應(yīng)的部分形成存儲電容。
屏蔽公共電極43、公共電極44與像素電極45每個(gè)由透明的導(dǎo)電材料制造，比如銦錫氧化物(ITO)，并且在其中的中間部分具有輕微的彎曲。應(yīng)用于像素電極45的電壓在LC層產(chǎn)生多域(multi-domain)電場。屏蔽公共電極43與公共電極44通過接觸插頭51共同連接到下面的公共電極線33，而像素電極45通過接觸插頭52連接到像素電極線35。
參照圖2，其是沿著線A-B-C所示的圖1的LCD設(shè)備100的剖視圖。該LCD設(shè)備100包括TFT面板10，其上形成多個(gè)TFT與多條信號線等；顯示屏20，其上形成黑色矩陣23；以及LC層50，其夾在TFT面板10與顯示屏20之間。該TFT面板10包括第一玻璃基底11，第一無機(jī)絕緣膜(柵絕緣膜)12，第二無機(jī)絕緣膜(保護(hù)膜)13，有機(jī)絕緣膜14，以及定向膜15。顯示屏20包括第二玻璃基底21、黑色矩陣23與保護(hù)膜22。背光源(未示出)放置在TFT面板10的后面。
第一玻璃基底11上安裝有偏光板(沒有示出)，用于限制光線部分從背光源到顯示屏20的傳播。光學(xué)片裝置(沒有示出)放置在背光源與第一玻璃基底11之間，用于提高聚光能力。光學(xué)片裝置具有用于減少傾斜地入射到玻璃基底的光線部分并且增加垂直地入射到第一玻璃基底11的光線部分的功能。光學(xué)片裝置的例子包括棱鏡片與散射片，并且相同類型或不同類型的這些片的一個(gè)或多個(gè)用于單個(gè)片或多個(gè)堆疊的片。
參照圖3，其示出了在通過放置在TFT板上的偏光板以后，屏幕上的視角與亮度之間的關(guān)系，其中多個(gè)堆疊的光學(xué)片放置在背光源與第一玻璃基底11之間。相對于背光源前表面的垂直線，對應(yīng)于0度視角的垂直線來測量視角。屏幕上的亮度沿著水平方向、垂直方向與通過背光源前表面的中心點(diǎn)而改變視角的在±45度角的斜射方向進(jìn)行測量，±45度的斜角對應(yīng)背光源前表面的對角線。
在圖3中，相對于峰值亮度的視角的半值寬度Θ限定為其中測量的亮度是峰值亮度(T)的一半的視角。視角的較小的半值寬度Θ，即，較高的聚光能力，通常對應(yīng)較小數(shù)量的傾斜的光線部分，所述的傾斜的光線部分從背光源傾斜地入射到TFT面板。例如，在本發(fā)明的實(shí)施例中，半值寬度Θ設(shè)定為60度，以增加沿著垂直方向入射到TFT面板的垂直光線部分的數(shù)量。
回到圖2，第一玻璃基底11上安裝有掃描線32與公共電極線33，通過第一無機(jī)絕緣膜12，所述的掃描線32與公共電極線33與上面的信號線31與像素電極線35絕緣。信號線31的厚度大于像素電極線35的厚度。通過第二無機(jī)絕緣膜13與有機(jī)絕緣膜14，信號線31與像素電極線35與上面的多條互聯(lián)線絕緣。信號線31、掃描線32與公共電極線33具有各自的寬度與各自的厚度，并且由各自的導(dǎo)電材料制造，從而這些線31、32與33具有各自合適的線電阻。圖1中的TFT 53具有第一無機(jī)絕緣膜12作為柵絕緣膜，并且所述的柵絕緣膜形成在掃描線32上面的合適的位置。
屏蔽公共電極43、公共電極44與像素電極45放置在有機(jī)絕緣膜14上，從而平行于TFT、顯示屏10與20的橫向電場施加到夾在TFT面板10與顯示屏20之間的LC層50。定向膜15在有機(jī)絕緣膜14上形成，用于在沒有施加電壓時(shí)對準(zhǔn)LC層50中的LC分子的軸。
第二玻璃基底21將偏光板(沒有示出)安裝在其外表面上。在第二玻璃基底21上的偏光板具有偏光軸，該偏光軸垂直于安裝在第一玻璃基底11上的偏光板的偏光軸。結(jié)果，當(dāng)LC層50中沒有施加電壓時(shí)，通過第一玻璃基底11的背光不能通過顯示屏20，從而LCD的屏幕顯示為黑色。相對于觀察者，在第二玻璃基底21內(nèi)表面上形成的黑色矩陣23光學(xué)地屏蔽信號線31、掃描線32與公共電極線33，從而將LCD設(shè)備分成多個(gè)像素區(qū)域。
信號線31與像素電極線35以如下詳細(xì)的步驟形成。首先，一種金屬或金屬合金(其有時(shí)被共同地稱為“金屬”)，比如鋁、鋁合金與鉻，在第一無機(jī)絕緣膜21的整個(gè)表面上淀積，以形成第一金屬膜。然后，使用光致抗蝕劑掩膜作為蝕刻掩膜，通過影印蝕刻處理摹制該第一金屬膜，以形成信號線31的下層。在此步驟中，同樣清除在像素電極線35的位置上形成的第一金屬膜的部分。然后，第二金屬膜在整個(gè)表面上淀積，并且在信號線31的下層上面與在掃描線35的位置上進(jìn)行摹制，以留下第二金屬膜的部分。這樣，信號線31具有包括在第二金屬膜上形成的下層與上層的兩層結(jié)構(gòu)，而像素電極線35具有由第二金屬膜形成的單層結(jié)構(gòu)。
在本發(fā)明的實(shí)施例中，信號線31具有所需的大的厚度，以得到所需的低的線電阻，而位于像素區(qū)域且沒有被黑色矩陣23光學(xué)屏蔽的像素電極線35具有較小的厚度，以減少像素區(qū)域中從像素電極線35的多個(gè)側(cè)面反射的光量。應(yīng)當(dāng)注意像素電極線35可具有適度的線電阻，即可具有高于信號線31的線電阻。
此外，第二金屬層可由具有較低的表面反射系數(shù)且高于鋁的電阻率的鉻制造，同時(shí)第一金屬層由鋁(或鋁合金)制造。這進(jìn)一步減少了由像素電極線35的多個(gè)側(cè)面反射的光量。
在傳統(tǒng)的LCD設(shè)備中，像素電極線35與信號線31由使用公共金屬膜的單獨(dú)影印與蝕刻步驟形成，并且這樣具有相同的厚度。這樣，在傳統(tǒng)的LCD設(shè)備中，信號線31的較低的線電阻與來自像素電極線35的反射光的較低量需要權(quán)衡。更具體地說，鋁或鋁合金減少了信號線31的線電阻卻增加了來自像素電極線35的反射光量，而鉻減少了來自像素電極線35的反射光量卻增加了信號線31的線電阻。另一方面，在本實(shí)施例中，通過使用兩層膜結(jié)構(gòu)的信號線31與單層膜結(jié)構(gòu)的像素電極線35，較低的線路阻與較少的反射光量能夠兼容。
一般而言，散射光的強(qiáng)度與R×d×L成比例，其中R、d與L為在光通過的區(qū)域中形成的金屬互聯(lián)線的表面反射系數(shù)、厚度與總長度。例如，鋁具有0.8到0.9的表面反射系數(shù)，而鉻具有0.6到0.7的表面反射系數(shù)。這樣，通過將像素電極線35的厚度減少到傳統(tǒng)的LCD設(shè)備中的像素電極線的一半并且使用鉻用于像素電極線35的材料，反射光量能夠減少到傳統(tǒng)的LCD設(shè)備中的反射光量的40％。
堆疊的光學(xué)片的使用減少了傾斜地入射到TFT面板10的斜射光線部分的量，從而減少了由像素電極線35反射的光量。由于通過像素電極線35的反射與散射，在顯示黑色時(shí)，斜射光線部分的抑制與反射光數(shù)量的縮減都減少了穿過顯示端的偏振狀態(tài)的改變已偏振狀態(tài)的光線部分的量。這使得偏光板合適地阻斷不需要的光線部分，從而得到黑色亮度的減少并且這樣得到較高的對比度。
參照圖4，根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的通常標(biāo)明數(shù)字100A的LCD設(shè)備類似于第一實(shí)施例，而不同之處在于本實(shí)施例中的掃描線32A與公共電極線33A具有包括鋁層與鉻層的兩層結(jié)構(gòu)，以及本實(shí)施例中的信號線31A具有三層結(jié)構(gòu)，其包括鉻層、鋁層與另一層鉻層，同時(shí)另一層鉻層的邊緣覆蓋鋁層的邊緣。
應(yīng)當(dāng)注意信號線31A、掃描線32A與公共電極線33A的每個(gè)實(shí)質(zhì)上在LCD設(shè)備100 A的整個(gè)區(qū)域上面延伸以具有較大的長度，并且特別地在大屏幕與高分辨率的LCD設(shè)備中，這樣需要具有較低的線電阻。然而，如果這些線由鋁制造用于減少線電阻，則與信號線31A一起作為公共層形成且在光通過的像素區(qū)域延伸的像素電極線35A反射光線部分的較大量，從而增加反射光的強(qiáng)度并且降低對比度。在本發(fā)明的實(shí)施例，上述配置得到信號線31A、掃描線32A與公共電極線33A的較低的線電阻，并且同時(shí)減少來自像素電極線35A的散射光的強(qiáng)度。
掃描線32A與公共電極線33A以如下詳細(xì)的步驟形成。首先，鋁層淀積在第一玻璃基底11的整個(gè)表面上，然后是鉻層的淀積。然后，通過涂敷，在鉻層上形成光阻膜，然后是曝光與其中的顯影以形成光致抗蝕劑掩膜。使用光致抗蝕劑掩膜作為蝕刻掩膜摹制鉻層與鋁層以形成掃描線32A與公共電極線33A。由于同步的蝕刻步驟，每個(gè)掃描線32A與公共電極線33A的邊緣齊平。
由每個(gè)掃描線32A與公共電極線33A散射的光的強(qiáng)度是來自鋁層的散射光的強(qiáng)度與來自鉻層的散射光的強(qiáng)度總和。這樣，在本實(shí)施例中，較低的線電阻與反射光的較少強(qiáng)度能夠兼容。
信號線31A與像素電極線35A以如下詳細(xì)的步驟形成。首先，鉻層淀積在第一有機(jī)絕緣膜上，然后對其進(jìn)行摹制以形成鉻線。在此摹制中，位于信號線31A上的鉻層的部分形成大寬度的圖案。然后，鋁層淀積在整個(gè)表面上面。隨后，通過涂敷，在鋁層上形成光致抗蝕劑膜，并且摹制形成光致抗蝕劑掩膜，然后通過使用光致抗蝕劑掩膜作為蝕刻掩膜來蝕刻鋁層。在這種蝕刻中，在像素電極線的鉻線上的鉻層的部分從中徹底地清除，并且在信號線的大寬度鉻圖案上的鋁層的部分被摹制，以形成小寬度圖案。
在清除光阻掩膜以后，另一個(gè)鉻線淀積在整個(gè)表面上，并且通過影印蝕刻處理，在信號線31的小寬度鋁層與像素電極線35A的鉻層上進(jìn)行摹制，以形成另一個(gè)鉻層。在蝕刻以后，像素電極線35A具有包括兩鉻層的兩層結(jié)構(gòu)，而信號線31A具有三層結(jié)構(gòu)，其中中間的鋁層夾在一對鉻層之間，同時(shí)鋁層的邊緣被另一個(gè)鉻層的邊緣徹底地覆蓋。這樣，信號線31A具有較低的線電阻，而像素電極線35A具有較低的反射系數(shù)。
在本發(fā)明的實(shí)施例中，信號線31A、掃描線32A與公共電極線33A的每個(gè)由于使用鋁而具有較低的線電阻，并且由于使用鉻而具有較低的反射系數(shù)。信號線31A與像素電極線35A特別地具有較低的反射系數(shù)，從而得到黑色亮度的減少并且這樣得到較高的對比度。這樣，本發(fā)明的實(shí)施例的LCD設(shè)備100A適合大屏幕與高分辨率的LCD設(shè)備。鋁層與鉻層的厚度應(yīng)該設(shè)計(jì)成能得到所需的線電阻。
參照圖5，根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的通常標(biāo)明數(shù)字100B的LCD設(shè)備類似于第二實(shí)施例，而不同之處在于在本實(shí)施例的掃描線32B與公共電極線33B的鋁層的邊緣被在上面的鉻層的邊緣覆蓋。
本實(shí)施例的掃描線32B與公共電極線33B以如下詳細(xì)的步驟形成。首先，鋁層淀積在第一玻璃基底11的整個(gè)表面上，然后使用光致抗蝕劑掩膜影印地對其進(jìn)行蝕刻，以形成掃描線32B與公共電極線33B的小寬度圖案。在清除光阻掩膜以后，鉻層淀積在整個(gè)表面上，然后對其進(jìn)行蝕刻以形成脫離小寬度鋁圖案上的大寬度圖案。這樣，鉻層的邊緣徹底地覆蓋鋁層的邊緣，以得到掃描線32B與公共電極線33B的較低的反射系數(shù)，而確保較低的線電阻。本實(shí)施例的LCD設(shè)備100B還改善了對比度。
參照圖6，其示出了對比度與用于相對于峰值亮度的視角的半值寬度之間的關(guān)系，該關(guān)系闡明了本實(shí)施例的LCD設(shè)備的聚光度與對比度之間的關(guān)系。從圖6中可理解來自互聯(lián)線的反射光強(qiáng)度的減少和本實(shí)施例背光的較高的聚光能力一起減少了用于得到較高對比度的視角的半值寬度。60度的半值寬度特別地提供大于或等于600的對比度。
例如，盡管圖4中信號線31A的鉻層徹底地覆蓋鋁層，只要鉻層覆蓋鋁層邊緣，在該信號線31A頂部的鉻層也不需要必然地覆蓋信號線31A。鋁層與鉻層的蝕刻可在這些層淀積以后實(shí)施，或可通過順序的淀積與蝕刻分別地實(shí)施。在后一種情況下，像素電極線具有與鉻層的厚度相同的厚度。
如上所述，通過減少在光穿過的像素區(qū)域延伸的信號線的厚度并且/或者使用較低反射系數(shù)的材料用于信號線，上述實(shí)施例的LCD設(shè)備減少散射光的強(qiáng)度，從而減少黑色亮度并且改善對比度。
由于描述上述的多個(gè)實(shí)施例僅用于舉例，因此本發(fā)明不限于上述的多個(gè)實(shí)施例，并且對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員，從中能夠容易地進(jìn)行各種修改與改變而不脫離本發(fā)明的范圍。例如，盡管在上述的多個(gè)實(shí)施例中示范的多臺LCD設(shè)備是單色類型的，通過在顯示屏上提供彩色濾色片，本發(fā)明也能夠應(yīng)用于彩色LCD設(shè)備。此外，至少上述的多條互聯(lián)線的部分可在顯示屏上形成。
權(quán)利要求
1.一種液晶顯示(LCD)設(shè)備包括液晶層；一對相對的面板，其將所述液晶層夾在其間；黑色矩陣，其安裝在所述相對的面板任何一個(gè)的上面，用于限定多個(gè)像素的陣列，其中在所述LCD設(shè)備中每個(gè)像素具有像素區(qū)域；以及互聯(lián)層，其安裝在所述相對的面板之一的上面，并且摹制有在公共絕緣體上形成的多條互聯(lián)線，其中，在所述像素區(qū)域延伸的所述互聯(lián)線之一在其厚度與其表面反射系數(shù)的乘積方面低于在所述像素區(qū)域外邊延伸的另一條所述互聯(lián)線。
2.如權(quán)利要求1所述的LCD設(shè)備，其中所述多條互聯(lián)線的所述之一與另一條由金屬或合金制造，并且所述多條互聯(lián)線的所述之一的厚度小于所述多條互聯(lián)線的所述另一條的厚度。
3.如權(quán)利要求1所述的LCD設(shè)備，其中所述多條互聯(lián)線的所述另一條包括順序地在所述公共絕緣體上形成的第一層與第二層，并且所述多條互聯(lián)線的所述之一包括與所述第二層一起形成為公共層的單層。
4.如權(quán)利要求1所述的LCD設(shè)備，其中所述多條互聯(lián)線的所述之一的表面反射系數(shù)低于所述多條互聯(lián)線的所述另一條的表面反射系數(shù)。
5.如權(quán)利要求1所述的LCD設(shè)備，其中所述多條互聯(lián)線的所述之一連接到與所述多個(gè)像素之一關(guān)聯(lián)的存儲電容。
6.如權(quán)利要求1所述的LCD設(shè)備，其中所述多條互聯(lián)線的所述另一條將信號提供到在所述陣列的列向排列的所述多個(gè)像素。
7.如權(quán)利要求1所述的LCD設(shè)備，其中所述多條互聯(lián)線的所述另一條具有分別地包括第一金屬、第二金屬與所述第一金屬的三層，并且所述多條互聯(lián)線的所述之一具有包括所述第一金屬的兩層或單層。
8.如權(quán)利要求7所述的LCD設(shè)備，其中所述多層互聯(lián)層的所述另一層具有覆蓋所述第一金屬的多個(gè)側(cè)面。
9.如權(quán)利要求1所述的LCD設(shè)備，其中所述相對的面板的所述一個(gè)或另一個(gè)安裝有另一互聯(lián)層，所述的另一互聯(lián)層摹制有被所述黑色矩陣光學(xué)屏蔽的多條互聯(lián)線，并且所述另一互聯(lián)層的所述多條互聯(lián)線之一包括具有不同表面反射系數(shù)的第一層與第二層。
10.如權(quán)利要求9所述的LCD設(shè)備，其中所述第一層的表面反射系數(shù)低于所述第二層的表面反射系數(shù)，并且所述第一層至少覆蓋所述第二層的側(cè)面。
11.如權(quán)利要求1所述的LCD設(shè)備，其中所述的LCD設(shè)備是單色LCD設(shè)備并且具有大于或等于600的對比度。
12.如權(quán)利要求1所述的LCD設(shè)備，其中所述的LCD設(shè)備是平面內(nèi)交換模式的LCD設(shè)備。
13.一種液晶顯示(LCD)設(shè)備包括液晶層；一對相對的面板，其將所述液晶層夾在其間；黑色矩陣，其安裝在所述相對的面板任何一個(gè)的上面，用于限定多個(gè)像素的陣列，其中在所述LCD設(shè)備中每個(gè)像素具有像素區(qū)域；以及互聯(lián)層，其安裝在所述相對的面板之一的上面，并且摹制有在公共絕緣體上形成的多條互聯(lián)線，所述多條互聯(lián)線包括第一互聯(lián)線以及第二互聯(lián)線，其中第一互聯(lián)線包括第一金屬，而第二互聯(lián)線包括所述第一金屬并且至少被在所述第一金屬的多個(gè)側(cè)面上的第二金屬所覆蓋。
全文摘要
一種LCD設(shè)備，具有限定LCD設(shè)備中多個(gè)像素區(qū)域的黑色矩陣。在TFT面板上形成的互聯(lián)層包括通過像素區(qū)域的第一互聯(lián)線與通過像素區(qū)域外部的第二互聯(lián)線。對于厚度與表面反射系數(shù)的乘積，第一互聯(lián)線低于第二互聯(lián)線。
文檔編號G02F1/1343GK1495474SQ0315239
公開日2004年5月12日 申請日期2003年7月31日 優(yōu)先權(quán)日2002年7月31日
發(fā)明者廉谷勉 申請人:Nec液晶技術(shù)株式會社