專(zhuān)利名稱(chēng):用來(lái)照射紫外線的掩膜架的制作方法
本申請(qǐng)要求享有2002年2月21日提出的第P2002-009338號(hào)和2002年2月22日提出的第P2002-009613號(hào)韓國(guó)申請(qǐng)的權(quán)益,它們?cè)诖艘靡宰鲄⒖肌?br>
如
圖1所示,這種液晶顯示裝置通常包括下基板1,其上形成有多個(gè)薄膜晶體管(圖中未示)和象素電極3;上基板2,它有一黑色矩陣層4、一濾色器層6和一公共電極8;和一液晶層5,該層5在下基板1與上基板2之間。在象素電極3與公共電極8之間產(chǎn)生電場(chǎng),以便驅(qū)動(dòng)液晶層5。通過(guò)受驅(qū)動(dòng)的液晶層5控制透光率,以便將圖像顯示在顯示屏上。
此外,在基板1和2的正面上形成取向?qū)?alignment layers)(圖中未示)用以使液晶5初始取向。
在下基板1與上基板2之間形成有一密封劑10,以防止液晶從基板間漏出并且使基板相互粘接。
密封劑10涂敷在下基板1或上基板2上,然后在將下基板1和上基板2相互粘附之后固化該密封劑10。這樣的密封劑類(lèi)型包括熱固化密封劑和紫外光固化密封劑,它們分別用熱和紫外線固化。
同時(shí),也可以從熱固化密封劑和紫外光固化密封劑之一中選擇密封劑類(lèi)型,這取決于液晶顯示裝置的制造方法。
在利用毛細(xì)現(xiàn)象和壓差將液晶注入粘附的基板中的真空注入法中,在將下基板和上基板相互粘附之后,于液晶注入之前固化密封劑。即使密封劑漏出,也沒(méi)有機(jī)會(huì)污染液晶。因此,真空注入法主要使用熱固化密封劑。
在液晶滴加法中,在將液晶分配到基板1和2其中之一上之后,執(zhí)行兩基板的粘附處理過(guò)程。在形成液晶層之后固化密封劑。因此,當(dāng)使用熱固化密封劑時(shí),密封劑會(huì)在加熱過(guò)程中流出,由此污染液晶。所以,紫外光固化密封劑主要用于液晶滴加法形成的LCD。
圖2是一透視圖,它示出一種用已有技術(shù)液晶滴加法的液晶顯示裝置中固化紫外光固化密封劑的紫外線發(fā)射裝置。
參見(jiàn)圖2,已有技術(shù)的紫外線發(fā)射裝置包括一基板臺(tái)20和一紫外光源單元30,該單元30有一置于基板臺(tái)20之上的紫外燈32。
采用這種已有技術(shù)紫外線發(fā)射裝置的密封劑固化過(guò)程是以下述方式進(jìn)行的即用紫外光源單元30將紫外線照射到裝到紫外線發(fā)射裝置的基板臺(tái)20上的所粘附的基板1和2。這種情況下,紫外光固化密封劑10形成在所粘附基板1和2的內(nèi)側(cè)。
在已有技術(shù)的紫外線發(fā)射裝置中,來(lái)自紫外光源30的紫外線照射到其上裝有粘附后基板的基板臺(tái)20的整個(gè)表面上。這樣,紫外線照射到所粘附基板的整個(gè)暴露表面上。
但是,一旦紫外線照射到所粘附基板的整個(gè)表面上,諸如薄膜晶體管之類(lèi)基板上各器件的性能就會(huì)衰減。此外,用于初始取向液晶的取向?qū)宇A(yù)傾角會(huì)發(fā)生變化。
本發(fā)明的另一個(gè)目的在于提供一種照射紫外線的掩膜架,它包括一掩膜,該掩膜用來(lái)有選擇地將紫外線僅照射在密封劑形成區(qū)域上,以便固化一紫外光固化密封劑而不使基板上各器件如取向?qū)?、薄膜晶體管等的性能發(fā)生衰減。
本發(fā)明的又一個(gè)目的在于提供一種照射紫外線的掩膜架,它能有效地固定掩膜。
本發(fā)明的其他特征和優(yōu)點(diǎn)將在以下的描述中列出,根據(jù)該描述,它們的一部分將變得很明顯,或者可以通過(guò)實(shí)踐本發(fā)明來(lái)學(xué)會(huì)。通過(guò)以下的描述及其權(quán)利要求書(shū)以及附圖中特別指出的結(jié)構(gòu),可實(shí)現(xiàn)和得到本發(fā)明的這些目的和其他優(yōu)點(diǎn)。
為了實(shí)現(xiàn)這些和其他優(yōu)點(diǎn),根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)目的,如具體和廣義性描述的那樣,一種照射紫外線的掩膜架包括一下部,它有一框架和支撐一掩膜的掩膜支撐部件,其中該掩膜支撐部件在該框架內(nèi)并且具有多個(gè)第一連接部分;和一上部,它有與第一連接部分對(duì)齊的多個(gè)第二連接部分。
在本發(fā)明的另一個(gè)方面中,一種紫外線發(fā)射裝置包括一基板臺(tái)、一紫外光源單元、基板臺(tái)與紫外光源單元之間的掩膜和一掩膜架,該掩膜架包括一下部和一上部,該下部有一框架和一支撐掩膜的掩膜支撐部件,其中掩膜支撐部件在框架內(nèi)并且具有多個(gè)第一連接部分,該上部有與第一連接部分對(duì)齊的多個(gè)第二連接部分。
應(yīng)理解的是,上述一般性的描述和以下的詳細(xì)描述僅是示例性和解釋性的,意欲用它們提供對(duì)如所要求保護(hù)的本發(fā)明的進(jìn)一步解釋。
這些附圖中圖1示出了一種用以解釋液晶顯示裝置的示意性剖視圖;圖2是一示意性透視圖,它示出一種采用已有技術(shù)液晶滴加法的液晶顯示裝置中固化紫外光固化密封劑的紫外線發(fā)射裝置;圖3是一放大的透視圖,它示出了根據(jù)本發(fā)明的一種紫外線發(fā)射裝置;圖4A是一放大的透視圖,他示出根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的一種掩膜架;圖4B示出圖4A的掩膜架所固定的掩膜布局;圖4C示出沿圖4B的線IVC-IVC所取的一個(gè)剖視圖;圖5至7分別示出根據(jù)本發(fā)明第二、第三和第四實(shí)施例的紫外線發(fā)射裝置的掩膜架;圖8A是一放大的透視圖,它示出根據(jù)本發(fā)明第五實(shí)施例的一種掩膜架;圖8B示出圖8A的掩膜架所固定的掩膜布局;圖8C示出沿圖8B的線VIIIC-VIIIC所取的剖視圖;圖9是一放大的透視圖,它示出根據(jù)本發(fā)明第六實(shí)施例的一種紫外線發(fā)射裝置的掩膜架;圖10A是一放大的透視圖,它示出根據(jù)本發(fā)明第七實(shí)施例的一種掩膜架;圖10B示出圖10A掩膜架所固定的掩膜布局;圖10C示出沿圖10B的線XC-XC所取的剖視圖;圖11至13分別示出根據(jù)本發(fā)明第八、第九和第十實(shí)施例的紫外線發(fā)射裝置的掩膜架;圖14A是一放大的透視圖,它示出根據(jù)本發(fā)明第十一實(shí)施例的一種掩膜架;圖14B示出圖14A掩膜架所固定的掩膜布局;圖14C示出沿圖14B的線XIVC-XIVC所取的剖視圖;圖14D示出沿圖14B的線XIVD-XIVD所取的剖視圖;圖15A和15B是放大的透視圖,它們示出根據(jù)本發(fā)明第十二實(shí)施例的掩膜架;圖16至20分別示出根據(jù)本發(fā)明第十三、第十四、第十五、第十六和第十七實(shí)施例的掩膜架。
圖3是一放大的透視圖,它示出了根據(jù)本發(fā)明的一種紫外線發(fā)射裝置。
參見(jiàn)圖3,根據(jù)本發(fā)明的紫外線發(fā)射裝置包括一基板臺(tái)100、一紫外光源單元200、一形成于基板臺(tái)100與紫外光源單元200之間的掩膜300和固定掩膜300的下部400與上部500。
把其上形成有一密封劑750的所粘附的基板700裝到基板臺(tái)100上。為進(jìn)行大規(guī)模生產(chǎn),可以用一傳送帶或類(lèi)似物來(lái)移動(dòng)基板臺(tái)100。
在紫外光源單元200上形成一紫外燈210。雖然圖中只示出一盞紫外燈,不過(guò)可以隨基板尺寸的增大而安裝多盞紫外燈。
掩膜300的圖案310與密封劑750的圖案相同,以便使紫外線照射到所粘附基板700形成有密封劑750的區(qū)域上。因此,可以根據(jù)隨不同模具而變化的密封劑750的圖案來(lái)改變掩膜圖案310。
掩膜300置于和固定在下部400與上部500之間。如下說(shuō)明下部400和上部500的形狀以及將掩膜300固定到掩膜架上的方法。
圖4A是一放大的透視圖,它示出根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的一種掩膜架。圖4B示出圖4A掩膜架所固定的掩膜布局。圖4C示出沿圖4B的線IVC-IVC所取的剖視圖。
參見(jiàn)圖4A,根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的一種掩膜架包括一下部400、一上部510和連接上部510與下部400的連接部件600。
這種情況下,下部400包括一矩形框架410和板狀部件440。第一連接部分450形成于每一個(gè)板狀部件440上。
板狀部件440支撐掩膜300并且形成于矩形框架410的左右兩側(cè)。板狀部件440還可以形成于矩形框架410的上下兩側(cè)。
上部510包括一對(duì)直條。第二連接部分550形成于上部510上并且對(duì)應(yīng)于板狀部件440的第一連接部分450。
上部510固定到矩形框架410內(nèi)側(cè)形成的板狀部件440上,并且其大小與這些板狀部件440相匹配。
如圖4B和4C所示,一種把一掩膜固定到上述掩膜架的方法包括將掩膜300與下部400的板狀部件440對(duì)齊;將上部510置于掩膜300之上;并且將連接部件600分別放入板狀部件440的第一連接部分450與上部510的第二連接部分550中,以固定掩膜300。
同時(shí),如前面所述的那樣,由于掩膜300的圖案可以根據(jù)產(chǎn)品模具改變,所以也可以更換掩膜300。因此,連接部件600并不永久地將上部510固定到下部400上,而是象螺栓等物一樣可拆卸。
此外,紫外線穿過(guò)掩膜300的圖案310以便照射到所粘附基板的密封劑上。如果掩膜300的圖案310一部分與板狀部件440重疊,那么紫外線無(wú)法照射到所粘附基板的密封劑上。因此,可以用一種紫外線透光材料如壓克力、石英等制成固定掩膜300的下部400的板狀部件440和上部510。
圖5至7分別示出根據(jù)本發(fā)明第二、第三和第四實(shí)施例的一種紫外線發(fā)射裝置的掩膜架,其中如第一實(shí)施例所示,一掩膜置于和固定在下部與上部之間。
圖5中根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的一種掩膜架類(lèi)似于圖4中第一實(shí)施例的掩膜架,不過(guò)其上部的形狀不同。因此,在圖5中使用相同的標(biāo)號(hào),為簡(jiǎn)便起見(jiàn)省略對(duì)其的描述。
如圖5所示,根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的掩膜架包括一矩形部件520,該部件520代替一對(duì)直條作為一個(gè)上部。該矩形部件520將掩膜固定得更穩(wěn)定。
如圖6所示,根據(jù)本發(fā)明第三實(shí)施例的掩膜架包括形成于下部400所有四個(gè)側(cè)面的板狀部件440。第三實(shí)施例的其他部分與圖4A中所示第一實(shí)施例的掩膜架中那些部分相同。
如圖7所示,根據(jù)本發(fā)明第四實(shí)施例的掩膜架包括形成于下部400所有四個(gè)側(cè)面的板狀部件440和作為一上部的矩形部件520。
這樣,增大了掩膜與支撐掩膜的掩膜架之間的接觸面積,由此將掩膜固定得更穩(wěn)定。
圖8A是一放大的透視圖,它示出根據(jù)本發(fā)明第五實(shí)施例的一種掩膜架。圖8B示出圖8A的掩膜架所固定的掩膜布局。圖8C示出沿圖8B的線VIIIC-VIIIC所取的剖視圖。
如圖8A至8C所示,根據(jù)本發(fā)明第五實(shí)施例的一種掩膜架包括一板430,它位于下部400的矩形框架410底部?jī)?nèi)側(cè)并且支撐掩膜的整個(gè)側(cè)面。因此,使掩膜與掩膜架之間的接觸面積最大,從而將掩膜固定得更穩(wěn)定。
這種情況下,用一種紫外線透光材料如壓克力或石英制成板430,以便使紫外線照射到掩膜內(nèi)形成的圖案上。其他部分與圖4A中所示掩膜架的那些部分類(lèi)似,對(duì)相同的部分使用相同的標(biāo)號(hào)。
圖9是一放大的透視圖,它示出根據(jù)本發(fā)明第六實(shí)施例的一種紫外線發(fā)射裝置的掩膜架。該掩膜架類(lèi)似于圖4A中所示第一實(shí)施例的掩膜架,不過(guò)其上部不同。本實(shí)施例中,將一矩形部件520用于上部。
圖10A是一放大的透視圖,它示出根據(jù)本發(fā)明第七實(shí)施例的一種掩膜架。圖10B示出圖10A的掩膜架所固定的掩膜布局。圖10C示出沿圖10B的線XC-XC所取的剖視圖。
參見(jiàn)圖10A,根據(jù)本發(fā)明第七實(shí)施例的一種掩膜架包括一下部400、一上部510和一將上部510連接到下部400內(nèi)的連接部件600。
這種情況下,下部400包括一矩形框架410和形成于矩形框架410內(nèi)的多個(gè)突出部件420。第一連接部分450形成于矩形框架410各角處的每一個(gè)突出部件420上。
突出部件420支撐掩膜。多個(gè)突出部件420形成于矩形框架410的左右兩側(cè)。突出部件420還形成于矩形框架410的上下兩側(cè)。
上部510包括一對(duì)直條。第二連接部分550形成于上部510上并且對(duì)應(yīng)于突出部件420的第一連接部分450。
上部510固定到矩形框架410內(nèi)形成的突出部件420上,其大小與矩形框架410相匹配。
同時(shí),如前面所述的那樣,由于掩膜300的圖案可以根據(jù)不同的產(chǎn)品模具改變,所以也可以更換掩膜300。因此,連接部件600并不永久地將上部510固定到下部400上,而是象螺栓等物一樣可拆卸。
此外,紫外線穿過(guò)掩膜300的圖案310以便照射到所粘附基板的密封劑上。如果掩膜300的圖案310一部分與板狀部件440重疊,那么紫外線無(wú)法照射到所粘附基板的密封劑上。因此,用一種紫外線透光材料如壓克力、石英等制成固定掩膜300的下部400的突出部件420和上部510。
圖11至13分別示出根據(jù)本發(fā)明第八、第九和第十實(shí)施例的紫外線發(fā)射裝置的掩膜架。
如圖11所示,根據(jù)本發(fā)明第八實(shí)施例的掩膜架包括一矩形框架520,它代替一對(duì)直條作為上部。其他部分與根據(jù)本發(fā)明第七實(shí)施例的掩膜架的那些部分相類(lèi)似。
如圖12所示,根據(jù)本發(fā)明第九實(shí)施例的掩膜架包括形成于下部所有四個(gè)側(cè)面上而不是下部400的上下兩側(cè)或左右兩側(cè)上的多個(gè)突出部件420。其他部分與根據(jù)本發(fā)明第七實(shí)施例的掩膜架的那些部分相同。
如圖13所示,根據(jù)本發(fā)明第十實(shí)施例的掩膜架包括形成于下部400內(nèi)所有四個(gè)側(cè)面上的多個(gè)突出部件420和作為上部的一個(gè)矩形框架520。
如果在下部400內(nèi)使用更多突出部件420或者將矩形框架520用作上部,那么掩膜可以得到更穩(wěn)定的支撐。但是,增大了掩膜與掩膜架之間的接觸面積,從而可以使紫外線不根據(jù)密封劑圖案照射到掩膜圖案上。因此,可以不固化密封劑。
所以,可以用一種紫外線透光材料如壓克力、石英等制成突出部件420和矩形框架520。
圖14A是一放大的透視圖,它示出根據(jù)本發(fā)明第十一實(shí)施例的一種掩膜架。圖14B示出圖14A的掩膜架所固定的掩膜布局。圖14C示出沿圖14B的線XIVC-XIVC所取的剖視圖。圖14D示出沿圖14B的線XIVD-XIVD所取的剖視圖。
參見(jiàn)圖14A,根據(jù)本發(fā)明第十一實(shí)施例的一種掩膜架包括一下部400、一上部510和一將上部510連接到下部400內(nèi)的連接部件600。
這種情況下,下部400包括一矩形框架410、形成于矩形框架410內(nèi)部的多個(gè)突出部件420和粘附到兩個(gè)突出部件420上的支撐棒460。第一連接部分450形成于矩形框架410各角處的每一個(gè)突出部件420上。
突出部件420是掩膜的主支撐部件,而支撐棒460是一輔助掩膜支撐部件。更具體地說(shuō),當(dāng)基板的尺寸增大時(shí),掩膜也因此增大。所以,如果掩膜僅僅由突出部件420支撐,那么掩膜的中央部分可能向下彎折。因此,支撐棒460防止發(fā)射這一問(wèn)題。
這種情況下,有紫外線穿過(guò)照射到所粘附基板內(nèi)密封劑上的掩膜300圖案310的一部分與作為輔助掩膜支撐部件的支撐棒460重疊。因此,用一種紫外線透光材料如壓克力、石英等制成支撐棒460。
如圖所示,突出部件420和支撐棒460分別形成于矩形框架410的左右兩側(cè)上。突出部件420和支撐棒460還可以分別形成于矩形框架410的上下兩側(cè)上。此外,突出部件420和支撐棒460的寬度可以隨其他條件改變。而且,可以在下部400內(nèi)安裝一個(gè)以上的支撐棒460。
上部510包括一對(duì)直條。第二連接部分550形成于上部510上并且對(duì)應(yīng)于突出部件420的第一連接部分450。
上部510固定到矩形框架410內(nèi)形成的突出部件420內(nèi),以使其大小與矩形框架410匹配。
同時(shí),如前面所述的那樣,由于掩膜300的圖案可以根據(jù)產(chǎn)品模具改變,所以也可以更換掩膜300。因此,連接部件600并不永久地將上部510固定到下部400上,而是象螺栓等物一樣可拆卸。
此外,紫外線穿過(guò)掩膜300的圖案310以便照射到所粘附基板的密封劑上。如果掩膜300的圖案310一部分與突出部件420重疊,那么紫外線無(wú)法照射到所粘附基板的密封劑上。因此,可以用一種紫外線透光材料如壓克力、石英等制成固定掩膜300的下部400的突出部件420和上部510。
圖15A和15B是放大的透視圖,它們示出根據(jù)本發(fā)明第十二實(shí)施例的掩膜架,其中一支撐棒460接至一矩形框架410上沒(méi)有粘附突出部件420的內(nèi)側(cè)面,其他部分與本發(fā)明第十一實(shí)施例中的那些部分類(lèi)似。因此對(duì)其他部分采用相同的標(biāo)號(hào)。
參見(jiàn)圖15A,支撐棒460接至其上沒(méi)有形成突出部件420的矩形框架410的內(nèi)側(cè)面。參見(jiàn)圖15B,支撐棒460接至矩形框架410上多個(gè)突出部件420之間的內(nèi)表面上。
圖16至20分別示出根據(jù)本發(fā)明第十三、第十四、第十五、第十六和第十七實(shí)施例的掩膜架。
參見(jiàn)圖16至20,根據(jù)本發(fā)明第十三至第十七實(shí)施例的掩膜架是本發(fā)明上述實(shí)施例的各種結(jié)合。
因此,本發(fā)明用來(lái)將紫外線僅僅照射到一密封劑形成區(qū)域上,以固化一紫外線固化密封劑而不使基板上各器件如取向?qū)?、薄膜晶體管等的性能發(fā)生衰減。
此外,根據(jù)本發(fā)明的掩膜架有效地固定掩膜,并且可以隨掩膜圖案改變而不考慮密封劑圖案的變化。
對(duì)本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)很明顯的是,在不脫離本發(fā)明的實(shí)質(zhì)或范圍的情況下,可以在本發(fā)明用于照射紫外線的掩膜架中作各種修改和變換。因此,本發(fā)明的保護(hù)范圍覆蓋所有落在所附權(quán)利要求書(shū)及其等同物的范圍內(nèi)的修改和變換。
權(quán)利要求
1.一種用來(lái)照射紫外線的掩膜架,包括一下部,它具有一框架和一支撐掩膜的掩膜支撐部件,其中掩膜支撐部件在該框架內(nèi)并且具有多個(gè)第一連接部分;和一上部,它具有與第一連接部分對(duì)齊的多個(gè)第二連接部分。
2.權(quán)利要求1的掩膜架,其中掩膜支撐部件包括單獨(dú)一塊板。
3.權(quán)利要求2的掩膜架,其中該板由一種紫外線透光材料制成。
4.權(quán)利要求2的掩膜架,其中該板的中央有一去除部分(removedportion)。
5.權(quán)利要求4的掩膜架,其中該去除部分的面積大于掩膜的面積。
6.權(quán)利要求1的掩膜架,還包括掩膜支撐部件內(nèi)的一個(gè)輔助掩膜支撐部件。
7.權(quán)利要求6的掩膜架,其中輔助掩膜支撐部件由一種紫外線透光材料制成。
8.權(quán)利要求7的掩膜架,其中紫外線透光材料包括壓克力和石英中的一種。
9.權(quán)利要求1的掩膜架,其中掩膜支撐部件包括至少兩塊板。
10.權(quán)利要求9的掩膜架,其中至少兩塊板是一對(duì)條。
11.權(quán)利要求9的掩膜架,其中至少兩塊板基本上小于掩膜。
12.權(quán)利要求1的掩膜架,其中掩膜支撐部件由一種紫外線透光材料制成。
13.權(quán)利要求12的掩膜架,其中紫外線透光材料包括壓克力和石英中的一種。
14.權(quán)利要求1的掩膜架,其中上部包括一對(duì)條。
15.權(quán)利要求1的掩膜架,其中上部的周長(zhǎng)基本上與下部相同。
16.權(quán)利要求1的掩膜架,其中上部由一種紫外線透光材料制成。
17.權(quán)利要求16的掩膜架,其中紫外線透光材料包括壓克力和石英中的一種。
18.一種紫外線發(fā)射裝置,包括一基板臺(tái);一紫外光源單元;基板臺(tái)與紫外光源單元之間的掩膜;和一掩膜架,該掩膜架包括一下部和一上部,該下部有一框架和一支撐掩膜的掩膜支撐部件,其中掩膜支撐部件在框架內(nèi)并且具有多個(gè)第一連接部分,該上部有與第一連接部分對(duì)齊的多個(gè)第二連接部分。
19.權(quán)利要求18的紫外線發(fā)射裝置,其中基板臺(tái)是可移動(dòng)的。
全文摘要
本發(fā)明中公開(kāi)了一種照射紫外線的掩膜架。該掩膜架包括一下部,它有一框架和支撐一掩膜的掩膜支撐部件,其中該掩膜支撐部件在該框架內(nèi)并且具有多個(gè)第一連接部分;和一上部,它有與第一連接部分對(duì)齊的多個(gè)第二連接部分。
文檔編號(hào)G02F1/1339GK1439916SQ0310303
公開(kāi)日2003年9月3日 申請(qǐng)日期2003年1月28日 優(yōu)先權(quán)日2002年2月21日
發(fā)明者卞溶相, 樸武烈, 丁圣守 申請(qǐng)人:Lg.菲利浦Lcd株式會(huì)社