專利名稱：光學(xué)拾取器致動(dòng)器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光學(xué)拾取器致動(dòng)器，并尤其涉及一種可以確保有效跟蹤的具有改進(jìn)且縮細(xì)結(jié)構(gòu)的光學(xué)拾取器致動(dòng)器。
背景技術(shù)：
通常，光學(xué)拾取器安裝在光學(xué)記錄和/或再現(xiàn)裝置中，以在作為記錄介質(zhì)的光盤的徑向移動(dòng)的同時(shí)，在光盤上記錄信息和/或從光盤再現(xiàn)信息，而不與光盤相接觸。
這種光學(xué)拾取器需要在跟蹤方向、聚焦方向和/或傾斜方向上移動(dòng)物鏡的致動(dòng)器，以便將自光源發(fā)出的激光束定點(diǎn)在光盤的正確位置上。在此，跟蹤方向運(yùn)動(dòng)表示物鏡在光盤徑向上的調(diào)節(jié)，以在軌跡的中心形成光點(diǎn)。
普通的光學(xué)拾取器致動(dòng)器包括可移動(dòng)地安裝在基體上的線架、支撐線架以便使線架在基體上移動(dòng)的懸掛裝置、以及安裝成在線架和基體內(nèi)彼此相對(duì)的磁路。
這種光學(xué)拾取器致動(dòng)器主要進(jìn)行跟蹤和聚焦運(yùn)動(dòng)，即，雙軸運(yùn)動(dòng)?？偟内厔?shì)為記錄和/或再現(xiàn)裝置小型化，并變得重量輕以及利用高記錄密度的介質(zhì)。
為了使用高記錄密度的介質(zhì)，光學(xué)拾取器致動(dòng)器需要三軸或四軸運(yùn)動(dòng)，包括在現(xiàn)存的雙軸運(yùn)動(dòng)之外的傾斜運(yùn)動(dòng)。最近，為了使用高紀(jì)錄密度介質(zhì)，由于物鏡的數(shù)值孔徑(NA)已經(jīng)形成得更大并且光源的波長(zhǎng)已經(jīng)縮短，光學(xué)拾取器致動(dòng)器的傾斜限度已經(jīng)減小。由此，需要能夠進(jìn)行傾斜運(yùn)動(dòng)以及現(xiàn)存的雙軸運(yùn)動(dòng)的三軸或四軸運(yùn)動(dòng)的光學(xué)拾取器致動(dòng)器。三軸運(yùn)動(dòng)包括聚焦運(yùn)動(dòng)、跟蹤運(yùn)動(dòng)和徑向傾斜運(yùn)動(dòng)，而四軸運(yùn)動(dòng)除了上述運(yùn)動(dòng)之外還包括切向傾斜運(yùn)動(dòng)。光學(xué)拾取器致動(dòng)器的雙軸、三軸或四軸運(yùn)動(dòng)取決于致動(dòng)器磁路的構(gòu)造。
并且，為了使光學(xué)拾取器致動(dòng)器小型化，尤其需要減小其重量。
圖1是用于光學(xué)拾取器致動(dòng)器的傳統(tǒng)磁路的示例的視圖。使用圖1所示的磁路能夠?qū)崿F(xiàn)三軸運(yùn)動(dòng)。
參照?qǐng)D1，傳統(tǒng)磁路包括磁鐵1、第一和第二聚焦線圈3和5、以及第一和第二跟蹤線圈7和9，其中，磁鐵1分成極化表面，以正確地分布成N極和S極。
第一和第二聚焦線圈3和5、以及第一和第二跟蹤線圈7和9安裝到光學(xué)拾取器致動(dòng)器移動(dòng)單元的側(cè)面，即，線架。磁鐵1安裝到基體上，以面對(duì)第一和第二聚焦線圈3和5以及第一和第二跟蹤線圈7和9。
如圖1所示，在y-z平面上，分別對(duì)應(yīng)于第一到第四象限的磁鐵1的第一到第四極化分別為N極、S極、N極和S極。第一聚焦線圈3分布在第一和第四極化1a和1d的范圍內(nèi)，而第二聚焦線圈5分布在第二和第三極化1b和1c的范圍內(nèi)。第一跟蹤線圈7分布在第一和第二極化1a和1b的范圍內(nèi)，而第二跟蹤線圈9分布在第三和第四極化1c和1d的范圍內(nèi)。
利用具有上述結(jié)構(gòu)的傳統(tǒng)磁路，光學(xué)拾取器致動(dòng)器的移動(dòng)單元可以在聚焦方向、跟蹤方向和傾斜方向上移動(dòng)。
當(dāng)電流分別以逆時(shí)針和順時(shí)針方向流入第一和第二聚焦線圈3和5時(shí)，力在+聚焦方向(z軸方向)作用在第一和第二聚焦線圈3和5上。當(dāng)流入第一和第二聚焦線圈3和5的方向分別改變到相反方向時(shí)，力在-聚焦方向(-z軸方向)作用在第一和第二聚焦線圈3和5上。從而，安裝在光學(xué)拾取器致動(dòng)器的移動(dòng)單元內(nèi)的物鏡可以在聚焦方向上移動(dòng)。
當(dāng)電流以相同的方向(順時(shí)針方向)供給到第一和第二聚焦線圈3和5上時(shí)，力在+聚焦方向(z軸方向)上作用在第一聚焦線圈3上，并且力在-聚焦方向(-z軸方向)上作用在第二聚焦線圈5上，同樣，當(dāng)供給到第一和第二聚焦線圈3和5上的電流方向分別改變?yōu)橄喾捶较驎r(shí)，力在-聚焦方向(-z軸方向)上作用在第一聚焦線圈3上，并且力在+聚焦方向(z軸方向)上作用在第二聚焦線圈5上。從而，光學(xué)拾取器致動(dòng)器的移動(dòng)單元可以在傾斜方向上，即，在徑向傾斜方向上移動(dòng)，從而調(diào)節(jié)安裝在移動(dòng)單元上的物鏡的斜度。
當(dāng)電流在順時(shí)針和逆時(shí)針方向流入第一和第二跟蹤線圈7和9時(shí)，力在向左方向(-y軸方向)上作用在第一和第二跟蹤線圈7和9上。當(dāng)流入第一和第二跟蹤線圈7和9的電流的方向分別改變到相反方向時(shí)，力在向右方向(y軸方向)上作用在第一和第二跟蹤線圈7和9上。結(jié)果，由于光學(xué)拾取器致動(dòng)器的移動(dòng)單元可以在跟蹤方向上移動(dòng)，因此移動(dòng)單元可以控制其中安裝的物鏡，從而正確地跟蹤軌跡。
于是，如果一對(duì)具有上述結(jié)構(gòu)的磁路安裝到光學(xué)拾取器致動(dòng)器的移動(dòng)單元的兩側(cè)上，那么移動(dòng)單元就可以在聚焦、跟蹤和徑向傾斜方向上，即，在三軸方向上移動(dòng)。
然而，由于用于三軸運(yùn)動(dòng)的磁鐵1的極化作用的排列，具有上述結(jié)構(gòu)的傳統(tǒng)磁路應(yīng)該具有設(shè)置在聚焦方向上的第一和第二跟蹤線圈7和9，而第一和第二聚焦線圈7和9必須彼此分隔開。從而，由于有助于跟蹤方向運(yùn)動(dòng)的第一和第二跟蹤線圈7和9的各部分(圖1中用斜線標(biāo)記)的有效線圈長(zhǎng)度較短，當(dāng)要確保有效地跟蹤時(shí)，傳統(tǒng)磁路難于縮細(xì)(減小其高度)。同樣，當(dāng)傳統(tǒng)磁路縮細(xì)時(shí)，其具有跟蹤效率相當(dāng)大降低的結(jié)構(gòu)缺陷。

發(fā)明內(nèi)容
于是，本發(fā)明提供了一種光學(xué)拾取器致動(dòng)器，其包括具有改進(jìn)并縮細(xì)結(jié)構(gòu)的磁路，并可以確保有效地跟蹤。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，提供了一種光學(xué)拾取器致動(dòng)器，其包括線架、支撐元件、和一對(duì)磁路，線架安裝物鏡。支撐元件具有固定在基體的線架兩側(cè)上的端部和固定到位于基體一部分上的托架上的另一端，以便移動(dòng)線架。該對(duì)磁路彼此相對(duì)地安裝到線架的兩側(cè)上及基體上。磁路包括在跟蹤方向上移動(dòng)線架的跟蹤線圈、在包括聚焦方向的聚焦方向和傾斜方向中的至少一個(gè)方向上移動(dòng)線架的多個(gè)聚焦/傾斜線圈，以及面對(duì)多個(gè)聚焦/傾斜線圈以及跟蹤線圈的磁鐵，該磁鐵具有極化結(jié)構(gòu)，以在包括聚焦方向的聚焦方向和傾斜方向中的至少一個(gè)方向上，以及在跟蹤方向上移動(dòng)線架。
磁鐵包括第一和第二磁鐵部分，它們共線并具有相反的磁化結(jié)構(gòu)，并包括第三和第四磁鐵部分，他們局部由第一和第二磁鐵部分封閉，并具有與第一和第二磁鐵部分的相反的極化結(jié)構(gòu)。跟蹤線圈分布在第一和第二磁鐵部分的范圍內(nèi)，而多個(gè)聚焦/傾斜線圈包括第一聚焦/傾斜線圈，其分布在第一和第三磁鐵部分的范圍內(nèi)，并包括第二聚焦/傾斜線圈，其分布在第二和第四磁鐵部分的范圍內(nèi)。
第三和第四磁鐵部分在聚焦方向上分別位于第一和第二磁鐵部分的中間，第一聚焦/傾斜線圈包括一對(duì)聚焦/傾斜線圈，它們分布在第一和第三磁鐵部分的范圍內(nèi)，以便設(shè)置在聚焦方向上，而第二聚焦/傾斜線圈包括一對(duì)聚焦/傾斜線圈，它們分布在第二和第四磁鐵部分的范圍內(nèi)，以便設(shè)置在聚焦方向上。
在此，第三磁鐵部分的至少三個(gè)側(cè)面和第四磁鐵部分的至少三個(gè)側(cè)面分別面對(duì)第一和第二磁鐵部分。
第三和第四磁鐵部分在聚焦方向分別定位在第一和第二磁鐵部分的角部。
第三磁鐵部分的至少兩個(gè)側(cè)面和第四磁鐵部分的至少兩個(gè)側(cè)面分別面對(duì)第一和第二磁鐵部分。
優(yōu)選地是，磁鐵具有四個(gè)極化表面，或分別通過排列兩組具有兩個(gè)極化表面的磁鐵而形成。
優(yōu)選地是，將供給到該對(duì)磁路中至少一個(gè)的聚焦/傾斜線圈上的電流方向控制成在徑向傾斜方向和切向傾斜方向的至少一個(gè)方向上移動(dòng)線架。
優(yōu)選地是，聚焦/傾斜線圈和跟蹤線圈中的至少一個(gè)為精細(xì)圖案(finepattern)線圈。
優(yōu)選地是，支撐元件固定在線架上的與線架中其上設(shè)置磁路的兩例不同的另兩側(cè)上。


通過參照附圖對(duì)其優(yōu)選實(shí)施例的描述，本發(fā)明的上述目的和優(yōu)點(diǎn)將變得更清楚，圖中圖1是用在光學(xué)拾取器致動(dòng)器中的傳統(tǒng)磁路的視圖；圖2是利用根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的磁路的光學(xué)拾取器致動(dòng)器的局部分解透視圖；圖3是根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的磁路的示意圖；圖4A和4B是解釋利用根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的磁路在跟蹤方向上移動(dòng)光學(xué)拾取器致動(dòng)器的移動(dòng)單元的原理的視圖；圖5A和5B是解釋利用根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的磁路在聚焦方向上移動(dòng)光學(xué)拾取器致動(dòng)器的移動(dòng)單元的原理的視圖；圖6A和6B是解釋利用根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的磁路在傾斜方向上移動(dòng)光學(xué)拾取器致動(dòng)器的移動(dòng)單元的原理的視圖；以及圖7是根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的磁路的示意圖。
具體實(shí)施例方式
圖2是利用根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的磁路的光學(xué)拾取器致動(dòng)器的局部分解透視圖。在圖2中，F(xiàn)、T、Tr和Tt分別標(biāo)示聚焦方向、跟蹤方向(相應(yīng)于盤形記錄介質(zhì)的徑向)、徑向傾斜方向和切向傾斜方向。
參照?qǐng)D2，根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)拾取器致動(dòng)器包括線架15、支撐元件16、和一對(duì)磁路30。線架15可移動(dòng)地安裝在基體10上，并具有其中安裝的物鏡14。支撐元件16固定到托架12上，該托架具有固定能夠到線架15的側(cè)面15c和15d上以便在基體10上移動(dòng)線架15的一端，以及放置在基體10的一部分上的另一端。磁路30安裝到線架15的兩側(cè)15a和15b上以及基體10上，以便彼此相對(duì)。標(biāo)號(hào)100表示電路單元。
同樣，根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)拾取器致動(dòng)器還可以包括外部磁軛21，其上固定一對(duì)磁路30的磁鐵31，以便導(dǎo)引磁鐵31產(chǎn)生的磁通量，并包括內(nèi)部磁軛23，或者還可以包括外部磁軛21和內(nèi)部磁軛23中的任一個(gè)。
支撐元件16優(yōu)選地固定到線架15的側(cè)面15c和15d上，而不是固定到其上設(shè)置磁路30的線架15的側(cè)面15a和15b上，并可以為鋼絲或板簧。
一對(duì)磁路30中的每個(gè)磁路包括跟蹤線圈32、多個(gè)聚焦/傾斜線圈33、34、35和36，以及磁鐵31。跟蹤線圈32在跟蹤方向上移動(dòng)線架15，聚焦/傾斜線圈33、34、35和36在包括聚焦方向的聚焦方向和傾斜方向中的至少一個(gè)方向上移動(dòng)線架15。磁鐵31面對(duì)聚焦/傾斜線圈33、34、35和36以及跟蹤線圈32。
磁鐵31具有極化結(jié)構(gòu)，以與聚焦/傾斜線圈33、34、35和36以及跟蹤線圈32相互作用，并在包括聚焦方向的聚焦方向和傾斜方向中至少一個(gè)方向上以及在跟蹤方向上移動(dòng)線架15。
更詳細(xì)地說，圖3通過僅從根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)拾取器致動(dòng)器中取出磁路30而示出線圈和磁鐵31。參照?qǐng)D3，磁鐵31包括第一和第二磁鐵部分31a和31b，它們共線并具有相反的極化結(jié)構(gòu)，并包括第三和第四磁鐵部分31c和31d，它們至少局部由第一和第二磁鐵部分31a和31b封閉，并具有分別與第一和第二磁鐵部分31a和31b相反的極化結(jié)構(gòu)。在圖3中，磁鐵31的第一到第四磁鐵部分31a、31b、31c和31d的頂面分別為N極、S極、S極和N極。然而，第一到第四磁鐵部分31a、31b、31c和31d的底面分別為與頂面的極化相反的極化。
當(dāng)磁鐵31具有上述極化結(jié)構(gòu)時(shí)，跟蹤線圈32分布在第一和第二磁鐵部分31a和31b的范圍內(nèi)。同樣，聚焦/傾斜線圈33、34、35和36分類成分布在第一和第三磁鐵部分31a和31c范圍內(nèi)的第一聚焦/傾斜線圈33和34，以及分布在第二和第四磁鐵部分31b和31d范圍內(nèi)的第二聚焦/傾斜線圈35和36。
參照?qǐng)D3，其示出根據(jù)本發(fā)明的磁路，磁鐵31具有如下的結(jié)構(gòu)，即，第三和第四磁鐵部分31c和31d沿著第一和第二磁鐵部分31a和31b的高度分別定位在第一和第二磁鐵部分31a和31b的中間。在此，磁鐵31具有如下結(jié)構(gòu)，即，第三磁鐵部分31c的至少三個(gè)側(cè)面和第四磁鐵部分31d的至少三個(gè)側(cè)面分別面對(duì)第一和第二磁鐵部分31a和31b。
例如，如圖3所示，磁鐵31可以具有如下結(jié)構(gòu)，即，第三磁鐵部分31c的三個(gè)側(cè)面和第四磁鐵31d的三個(gè)側(cè)面分別面對(duì)第一和第二磁鐵部分31a和31b。
磁鐵31的結(jié)構(gòu)可以在滿足第三磁鐵部分31c的至少三個(gè)側(cè)面和第四磁鐵部分31d的至少三個(gè)側(cè)面分別面對(duì)第一和第二磁鐵部分31a和31b的要求下進(jìn)行各種改進(jìn)。例如，磁鐵31可以具有如下的結(jié)構(gòu)，即，第三和第四磁鐵部分31c和31d定位在第一和第二磁鐵部分31a和31b內(nèi)側(cè)，以便第三磁鐵31c的四個(gè)側(cè)面以及第四磁鐵31d的四個(gè)側(cè)面分別接觸第一和第二磁鐵部分31a和31b。
當(dāng)磁鐵31具有圖3所示的極化結(jié)構(gòu)時(shí)，優(yōu)選地是，一對(duì)第一聚焦/傾斜線圈33和34設(shè)置在聚焦方向，而一對(duì)第二聚焦/傾斜線圈33和34設(shè)置在聚焦方向。
根據(jù)本發(fā)明的磁路30可以具有如圖3所示的磁鐵31，或者如圖7所示的磁鐵極化表面為四極，這在后面將描述。另外，根據(jù)本發(fā)明的磁路30的磁鐵31可以由一組具有第一和第三磁鐵部分31a和31c的表面極化的偶極磁鐵以及具有第二和第四磁鐵部分31b和31d的表面極化的偶極磁鐵構(gòu)成。
當(dāng)磁鐵31具有上述表面極化結(jié)構(gòu)時(shí)，可以提高氣隙磁通密度。
另外，磁鐵31可以通過將制造的磁鐵布置成如圖3和7所示的極化結(jié)構(gòu)而構(gòu)成。
同時(shí)，優(yōu)選地是，根據(jù)本發(fā)明的磁路30的聚焦/傾斜線圈33、34、35和36以及跟蹤線圈32中至少一個(gè)為精細(xì)圖案線圈。因?yàn)橥ㄟ^在薄膜上構(gòu)圖線圈而制成的精細(xì)圖案線圈較薄，因此，精細(xì)圖案線圈極大地有利于減小光學(xué)拾取器致動(dòng)器的移動(dòng)單元的重量并使得光學(xué)拾取器致動(dòng)器緊湊。在圖2中，第一和第二聚焦/傾斜線圈35和36以及跟蹤線圈32在單獨(dú)一片薄膜上形成為精細(xì)圖案。
另外，根據(jù)本發(fā)明的磁路30可以具有通過纏繞銅線而制成的整體型線圈，作為聚焦/傾斜線圈33、34、35和36和/或跟蹤線圈32。
具有根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的磁路30的光學(xué)拾取器致動(dòng)器在跟蹤方向并在包括聚焦方向的聚焦和傾斜方向的至少一個(gè)方向上移動(dòng)移動(dòng)單元的線架1 5內(nèi)安裝的透鏡14。
下面，參照?qǐng)D4A到圖6B，描述磁鐵31的第一到第四磁鐵部分31a、31b、31c和31d在T-F(跟蹤方向-聚焦方向)坐標(biāo)平面上分別為N極、S極、S極和N極，而跟蹤線圈32和聚焦/傾斜線圈33、34、35和36安裝到光學(xué)拾取器致動(dòng)器的移動(dòng)單元上的示例。
圖4A和4B是解釋利用根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的磁路30在跟蹤方向上移動(dòng)光學(xué)拾取器致動(dòng)器的移動(dòng)單元的原理的視圖。如圖4A所示，當(dāng)電流在逆時(shí)針方向流過跟蹤線圈32時(shí)，磁力Ft在跟蹤線圈32中在向右方向(+T方向)上作用。相反，如圖4B所示，當(dāng)電流在順時(shí)針方向上流過跟蹤線圈32時(shí)，磁力Ft在跟蹤線圈32中在向左方向(-T方向)上作用。
如上所述，根據(jù)施加到跟蹤線圈32的電流方向，磁力在向右或向左方向上作用在根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)拾取器致動(dòng)器的移動(dòng)單元上，結(jié)果，移動(dòng)單元在跟蹤方向上移動(dòng)。從而，通過正確地調(diào)節(jié)施加到跟蹤線圈32上的電流的方向，安裝在移動(dòng)單元內(nèi)的物鏡14可以遵循軌跡的正確位置(軌跡的中心)。
在此，由于根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)拾取器致動(dòng)器的每個(gè)磁路包括圖4A和4B中以斜線標(biāo)記的單獨(dú)的跟蹤線圈32，與其中兩個(gè)跟蹤線圈布置在聚焦方向上的傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)相比，有助于跟蹤運(yùn)動(dòng)的跟蹤線圈32的有效線圈長(zhǎng)度變得較長(zhǎng)。因此，有可能通過減小光學(xué)拾取器致動(dòng)器的高度使得光學(xué)拾取器致動(dòng)器更加細(xì)小，并可以確保理想的跟蹤效率。
圖5A和5B是解釋利用根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的磁路30在聚焦方向上移動(dòng)光學(xué)拾取器致動(dòng)器的移動(dòng)單元的原理的視圖。
現(xiàn)在讓我們假設(shè)，如圖5A所示，電流在順時(shí)針方向流過高度方向上位于上部的第一聚焦/傾斜線圈33，同時(shí)，電流在逆時(shí)針方向上流過高度方向上位于下部的第一聚焦/傾斜線圈34。并且，讓我們假設(shè)，電流在逆時(shí)針方向上流過高度方向上位于上部的第二聚焦/傾斜線圈35，同時(shí)，電流在順時(shí)針方向上流過高度方向上位于下部的第二聚焦/傾斜線圈36，那么，磁力Ff在兩對(duì)第一聚焦/傾斜線圈33和34、以及第二聚焦線圈35和36中向下作用。同樣，如圖5B所示，當(dāng)電流在與圖5A中電流方向相反的方向上流過該對(duì)第一聚焦/傾斜線圈33和34以及該對(duì)第二聚焦/傾斜線圈35和36時(shí)，磁力Ff在兩對(duì)線圈中向上作用。
如上所述，根據(jù)施加到第一和第二聚焦/傾斜線圈33、34、35和36上的電流的方向，磁力向上或向下作用在根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)拾取器致動(dòng)器的移動(dòng)單元上。結(jié)果，移動(dòng)單元在聚焦方向上移動(dòng)。從而，通過正確控制施加到第一和第二聚焦/傾斜線圈33、34、35和36上的電流的方向，可以改變安裝在移動(dòng)單元內(nèi)的物鏡14的聚焦方向的位置。
圖6A和6B是解釋利用根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的磁路30在徑向傾斜位置上移動(dòng)光學(xué)拾取器致動(dòng)器的移動(dòng)單元的原理的視圖。當(dāng)移動(dòng)單元在徑向傾斜方向上移動(dòng)時(shí)，異步信號(hào)輸入到一個(gè)磁路30中的聚焦/傾斜線圈33、34、35和36上。
如圖6A所示，讓我們假設(shè)，電流在順時(shí)針方向流過聚焦方向上位于上部的第一和第二聚焦/傾斜線圈33和35，并且電流在逆時(shí)針方向上流過位于第一和第二聚焦/傾斜線圈33和35之下的第一和第二聚焦/傾斜線圈34和36，那么，磁力Frt在該對(duì)第一聚焦/傾斜線圈33和34中向下作用，而磁力Frt在該對(duì)第二聚焦/傾斜線圈35和36中向上作用。同樣，如圖6B所示，當(dāng)電流在與圖6A中的電流方向相反的方向上流過該對(duì)第一聚焦/傾斜線圈33和34和該對(duì)第二聚焦/傾斜線圈35和36時(shí)，磁力Frt在該對(duì)第一聚焦/傾斜線圈33和34內(nèi)向上作用，而磁力Frt在該對(duì)第二聚焦/傾斜線圈35和36內(nèi)向下作用。
如上所述，根據(jù)施加到第一和第二聚焦/傾斜線圈33、34、35和36上的電流方向，磁力Frt在徑向傾斜方向上向上作用根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)拾取器致動(dòng)器的移動(dòng)單元的一側(cè)。結(jié)果，移動(dòng)單元在徑向傾斜方向上移動(dòng)。從而，通過正確控制施加到第一和第二聚焦/傾斜線圈33、34、35和36上的電流方向，可以調(diào)節(jié)安裝于移動(dòng)單元內(nèi)的物鏡14的相對(duì)徑向斜度。
在此，在圖5A、5B、6A和6B中，第一和第二聚焦/傾斜線圈33、34、35和36內(nèi)的斜線為有助于產(chǎn)生磁力的有效線圈部分。
如上所述，在具有根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的磁路30的光學(xué)拾取器致動(dòng)器中，移動(dòng)單元可以在三軸方向上移動(dòng)。
由于光學(xué)拾取器致動(dòng)器包括一對(duì)磁路30，異步信號(hào)輸入到該對(duì)磁路30中，以便在線架15的側(cè)面15a上的磁路30中，磁力如參照?qǐng)D5A所描述的向下作用，而在線架15的側(cè)面15b上的磁路30中，磁力如參照?qǐng)D5B所描述的向上作用，結(jié)果，移動(dòng)單元可以在切向傾斜方向上移動(dòng)。
于是，當(dāng)如上所述控制施加到一對(duì)磁路30的第一和第二聚焦/傾斜線圈33、34、35和36的電流時(shí)，根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)拾取器致動(dòng)器可以在四軸方向上移動(dòng)。
在圖2所示的光學(xué)拾取器致動(dòng)器中，磁路30的線圈安裝在移動(dòng)單元，即線架15上，而磁路30的磁鐵安裝到基體10上。然而，這僅是一個(gè)示例，而安裝磁路30的線圈和磁鐵的位置可以相反。同樣，除了磁路30以外，根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)拾取器致動(dòng)器還可以進(jìn)行各種改進(jìn)，而不局限于圖2所示的結(jié)構(gòu)。
同時(shí)，根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)拾取器致動(dòng)器包括如圖7所示的根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的磁路50，而取代圖3到6B所示的根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的磁路30。
參照?qǐng)D7，在根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的磁路50中，磁鐵51具有如下結(jié)構(gòu)，即，第三和第四磁鐵部分51c和51d在聚焦方向上分別定位在第一和第二磁鐵部分51a和51b的角部，在此，在磁鐵51中，第三磁鐵部分51a的兩側(cè)和第四磁鐵部分51d的兩側(cè)分別面對(duì)第一和第二磁鐵部分51a和51b。
在圖7中，沿著聚焦方向，第三磁鐵部分51c定位在下部，而第四磁鐵部分51d定位在上部。然而，第三和第四磁鐵部分51c和51d的位置可以反轉(zhuǎn)，或第三和第四磁鐵部分51c和51d都可以沿著高度方向定位在上部或下部。
如果磁鐵51具有如圖7所示的極化結(jié)構(gòu)，第一和第二聚焦/傾斜線圈53和55分別為一個(gè)就足夠了。
具有根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的磁路50的光學(xué)拾取器致動(dòng)器可以進(jìn)行三軸或四軸運(yùn)動(dòng)，如同具有根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的磁路30的光學(xué)拾取器致動(dòng)器那樣。
在此，具有根據(jù)本發(fā)明第二實(shí)施例的磁路50的光學(xué)拾取器致動(dòng)器的三軸或四軸運(yùn)動(dòng)可以從前面實(shí)施例中全面獲知。從而，將省略對(duì)三軸或四周運(yùn)動(dòng)的原理的描述。
在圖2到圖8中，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的磁路30和50的磁鐵31和51的第一到第四磁鐵部分彼此相鄰。然而，這僅是一個(gè)示例。換句話說，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的磁路30和50的磁鐵31和51的第一到第四磁鐵部分可以彼此分隔開。
如上所述，根據(jù)本發(fā)明，可以獲得如下的光學(xué)拾取器致動(dòng)器，其能夠進(jìn)行傾斜運(yùn)動(dòng)，而不會(huì)導(dǎo)致較大的靈敏度(尤其是跟蹤運(yùn)動(dòng)的靈敏度)損失，即使在需要限制光學(xué)系統(tǒng)的高度的情況下。根據(jù)本發(fā)明的這種光學(xué)拾取器致動(dòng)器可以用于向DVD-RAM族記錄介質(zhì)或DVD-RAM和CD族記錄介質(zhì)上記錄新型和/或從其上再現(xiàn)信息的記錄和/或再現(xiàn)裝置中。
同樣，可以獲得不進(jìn)行傾斜運(yùn)動(dòng)并用于光學(xué)系統(tǒng)高度需要限制的光學(xué)拾取器的光學(xué)拾取器致動(dòng)器。根據(jù)本發(fā)明的這種光學(xué)拾取器致動(dòng)器可以用于在CD、DVD、CD-RW、DVD-ROM等上記錄信息和/或從其上再現(xiàn)信息的記錄和/或再現(xiàn)裝置。
此外，可以利用包括具有改善的極化結(jié)構(gòu)的磁鐵、單個(gè)跟蹤線圈以及多個(gè)聚焦/傾斜線圈的磁路，可以獲得能夠確保跟蹤能力并能夠作得更細(xì)小的光學(xué)拾取器致動(dòng)器。
同樣，通過控制輸入到磁路中的信號(hào)，根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)拾取器致動(dòng)器可以進(jìn)行雙軸、三軸或四軸運(yùn)動(dòng)。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)拾取器致動(dòng)器，包括線架，其中安裝有物鏡；支撐元件，其端部固定到基體上的線架側(cè)面上，而其他端部固定到位于基體一部分上的托架上，以便移動(dòng)線架；以及一對(duì)磁路，它們彼此相對(duì)地安裝到線架的兩側(cè)上和基體上，其中，磁路包括跟蹤線圈，其在跟蹤方向上移動(dòng)線架；多個(gè)聚焦/傾斜線圈，其在包括聚焦方向的聚焦方向和傾斜方向中的至少一個(gè)方向上移動(dòng)線架；以及磁鐵，其面對(duì)多個(gè)聚焦/傾斜線圈和跟蹤線圈，并具有磁化的結(jié)構(gòu)，以在包括聚焦方向的聚焦和傾斜方向中的至少一個(gè)方向上以及跟蹤方向上移動(dòng)線架。
2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)拾取器致動(dòng)器，其特征在于，磁鐵包括第一和第二磁鐵部分，它們共線并具有相對(duì)的極化結(jié)構(gòu)；第三和第四磁鐵部分，它們局部由第一和第二磁鐵部分封閉，并具有與第一和第二磁鐵部分的相對(duì)的極化結(jié)構(gòu)，并且跟蹤線圈分布在第一和第二磁鐵部分的范圍內(nèi)，而多個(gè)聚焦/傾斜線圈包括分布在第一和第三磁鐵部分范圍內(nèi)的第一聚焦/傾斜線圈，以及分布在第二和第四磁鐵部分范圍內(nèi)的第二聚焦/傾斜線圈。
3.如權(quán)利要求2所述的光學(xué)拾取器致動(dòng)器，其特征在于，第三和第四磁鐵部分分別位于第一和第二磁鐵部分在聚焦方向上的中間，第一聚焦/傾斜線圈包括分布在第一和第二磁鐵部分范圍內(nèi)的一對(duì)聚焦/傾斜線圈，以設(shè)置在聚焦方向上，而第二聚焦/傾斜線圈包括分布在第二和第四磁鐵部分范圍內(nèi)的一對(duì)聚焦/傾斜線圈，以設(shè)置在聚焦方向上。
4.如權(quán)利要求2所述的光學(xué)拾取器致動(dòng)器，其特征在于，第三和第四磁鐵部分分別位于第一和第二磁鐵部分在聚焦方向上的角部處。
5.如權(quán)利要求3所述的光學(xué)拾取器致動(dòng)器，其特征在于，第三磁鐵的至少三個(gè)側(cè)面以及第四磁鐵的至少三個(gè)側(cè)面分別面對(duì)第一和第二磁鐵部分。
6.如權(quán)利要求4所述的光學(xué)拾取器致動(dòng)器，其特征在于，第三磁鐵部分的至少兩個(gè)側(cè)面和第四磁鐵部分的至少兩個(gè)側(cè)面分別面對(duì)第一和第二磁鐵部分。
7.如權(quán)利要求1到6中任一項(xiàng)所述的光學(xué)拾取器致動(dòng)器，其特征在于，磁鐵具有四個(gè)極化表面。
8.如權(quán)利要求1到6中任一項(xiàng)所述的光學(xué)拾取器致動(dòng)器，其特征在于，磁鐵分別通過布置兩組具有兩個(gè)極化表面的磁鐵而形成。
9.如權(quán)利要求1到6中任一項(xiàng)所述的光學(xué)拾取器致動(dòng)器，其特征在于，控制施加到一對(duì)磁路中至少一個(gè)的聚焦/傾斜線圈上的電流的方向，以在徑向傾斜方向和切向傾斜方向中的至少一個(gè)方向上移動(dòng)線架。
10.如權(quán)利要求1到4中任一項(xiàng)所述的光學(xué)拾取器致動(dòng)器，其特征在于，聚焦/傾斜線圈和跟蹤線圈中至少一個(gè)為精細(xì)圖案線圈。
11.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)拾取器致動(dòng)器，其特征在于，支撐元件固定到線架上與線架的其上設(shè)置磁路的兩個(gè)側(cè)面不同的另兩個(gè)側(cè)面上。
12.如權(quán)利要求11所述的光學(xué)拾取器致動(dòng)器，其特征在于，支撐元件由鋼絲和板簧之一形成。
13.如權(quán)利要求1到6中任一項(xiàng)所述的光學(xué)拾取器致動(dòng)器，其特征在于，包括聚焦/傾斜線圈和跟蹤線圈的線圈和磁鐵之一安裝到線架的側(cè)面上，而另一個(gè)安裝到基體上。
全文摘要
本發(fā)明的光學(xué)拾取器致動(dòng)器包括線架、支撐元件和一對(duì)磁路。線架安裝物鏡，支撐元件具有固定到基體線架的側(cè)面上的端部和固定到位于基體一部分上的托架上的另一端部，以便移動(dòng)線架。該對(duì)磁路彼此相對(duì)地安裝到線架的兩側(cè)上和基體上。磁路包括在跟蹤方向上移動(dòng)線架的跟蹤線圈、在包括聚焦方向的聚焦方向和傾斜方向的至少一個(gè)方向上移動(dòng)線架的多個(gè)聚焦/傾斜線圈、以及面對(duì)多個(gè)聚焦/傾斜線圈和跟蹤線圈的磁鐵，并具有極化結(jié)構(gòu)，以在包括聚焦方向的聚焦和傾斜方向的至少一個(gè)方向上以及在跟蹤方向上移動(dòng)線架。利用包括具有改進(jìn)極化結(jié)構(gòu)的磁鐵、單個(gè)跟蹤線圈以及多個(gè)聚焦/傾斜線圈的磁路，能夠確保跟蹤能力，并可小型化。
文檔編號(hào)G02B7/182GK1431654SQ03100158
公開日2003年7月23日 申請(qǐng)日期2003年1月3日 優(yōu)先權(quán)日2002年1月8日
發(fā)明者張大鍾, 丁德榮 申請(qǐng)人:三星電子株式會(huì)社