專利名稱：一種專用于微流控芯片制作的光刻機的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及光光刻蝕技術，特別提供了一種專門用于微全分析系統(tǒng)中微流控芯片制作的經(jīng)濟、實用型光刻機。
本實用新型提供了一種專用于微流控芯片制作光刻機，其特征在于該光刻機主要由一暗箱(1)、一高壓汞燈(2)、一勻光透鏡(3)組合而成，高壓汞燈(2)置于暗箱(1)中并裝在箱壁上，勻光透鏡(3)置于與其相對的箱壁上。
本實用新型專用于微流控芯片制作光刻機中，所述高壓汞燈(2)通過與其相匹配的限流器、電子觸發(fā)器接電源。
本實用新型具有下述優(yōu)點1造價低廉，一般市場銷售的同樣性能的光刻機價格在16萬人民幣左右，本發(fā)明的光刻機造價在0.1萬人民幣以內(nèi)。
2性能可靠，性能上完全可滿足電泳芯片制造及一般微機械加工的需要。
3結構簡單，操作方便。
權利要求1.一種專用于微流控芯片制作光刻機，其特征在于該光刻機主要由一暗箱(1)、一高壓汞燈(2)、一勻光透鏡(3)組合而成，高壓汞燈(2)置于暗箱(1)中并裝在箱壁上，勻光透鏡(3)置于與其相對的箱壁上。
2.按權利要求1所述專用于微流控芯片制作光刻機，其特征在于所述高壓汞燈(2)通過與其相匹配的限流器、電子觸發(fā)器接電源。
專利摘要一種專用于微流控芯片制作光刻機，其特征在于該光刻機主要由一暗箱、一高壓汞燈、一勻光透鏡組合而成，高壓汞燈置于暗箱中并裝在箱壁上，勻光透鏡置于與其相對的箱壁上。本實用新型造價低廉，性能可靠，結構簡單，操作方便。
文檔編號G03F7/20GK2555525SQ0227423
公開日2003年6月11日 申請日期2002年7月18日 優(yōu)先權日2002年7月18日
發(fā)明者戴忠鵬, 林炳承 申請人:中國科學院大連化學物理研究所