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面光源模組的制作方法

文檔序號(hào):2751680閱讀:227來源:國知局
專利名稱:面光源模組的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種面光源模組,尤其是關(guān)于一種出光亮度較高的面光源模組。
背景技術(shù)
由于液晶顯示裝置具輕、薄、耗電小等優(yōu)點(diǎn),廣泛應(yīng)用于筆記本計(jì)算機(jī)、移動(dòng)電話、個(gè)人數(shù)字助理等現(xiàn)代化信息設(shè)備。因?yàn)橐壕П旧聿痪甙l(fā)光特性,需為其提供面光源模組以實(shí)現(xiàn)顯示功能。
現(xiàn)有面光源模組包括光源和導(dǎo)光板,光源相對(duì)導(dǎo)光板的入光面設(shè)置,該導(dǎo)光板引導(dǎo)自光源發(fā)出的光束的傳輸方向,將線光源或點(diǎn)光源轉(zhuǎn)換成面光源出射。該導(dǎo)光板的底面分布多個(gè)網(wǎng)點(diǎn),用以破壞光束在導(dǎo)光板內(nèi)部傳輸?shù)娜瓷錀l件,并且使其散射以提高導(dǎo)光板出射光束的均勻性,進(jìn)而提升面光源模組的整體性能。該網(wǎng)點(diǎn)的疏密、大小均可有不同設(shè)計(jì)以適應(yīng)不同的面光源模組。
一種現(xiàn)有面光源模組可以參閱2002年9月3日公告的美國專利第6,443,583號(hào)(圖1參照),該面光源模組100包括一燈管110、一圍繞燈管110的燈罩120和一端部固持在燈罩120中的導(dǎo)光板200。該導(dǎo)光板200包括入光面201、底面202和出光面203,其中,該燈管110相對(duì)該入光面201設(shè)置。工作時(shí),來自燈管110和燈罩120的光束在該導(dǎo)光板200內(nèi)部傳輸,并轉(zhuǎn)換為面光源經(jīng)出光面203出射。為增加光束的利用率,該面光源模組100進(jìn)一步包括一設(shè)置于導(dǎo)光板200的底面202一側(cè)的反射板210,反射板210反射自底面202出射的部分光束。并且該面光源模組100在導(dǎo)光板200出光面203一側(cè)依序排列一擴(kuò)散板220、第一棱鏡板230和第二棱鏡板240,該擴(kuò)散板220用以增強(qiáng)導(dǎo)光板200出射光束的均勻度,兩棱鏡板230和240則起聚光作用,以增強(qiáng)導(dǎo)光板200的亮度。
但是,采用該現(xiàn)有導(dǎo)光板200的面光源模組100需采用兩棱鏡板230和240以聚集自導(dǎo)光板200出光面203出射的光束來提高亮度,采用反射板210來提高光束利用率,使其結(jié)構(gòu)復(fù)雜、材料成本高且組裝不便。另外,該面光源模組100中存在較多光學(xué)界面,光束于其間需經(jīng)歷多次光學(xué)作用,造成較大的光能量損耗,從而影響面光源模組100的亮度。

實(shí)用新型內(nèi)容為克服現(xiàn)有面光源模組結(jié)構(gòu)復(fù)雜、材料成本高且組裝不便的問題,本實(shí)用新型提供一種結(jié)構(gòu)簡單、成本較低、且出光亮度較高的面光源模組。
本實(shí)用新型解決技術(shù)問題的技術(shù)方案是該面光源模組包括至少一光源和一導(dǎo)光板。該導(dǎo)光板包括至少一用來接收光束的入射面、一和入射面相交的出射面以及一和出射面相對(duì)的底面。該底面分布多個(gè)凹坑,并且該多個(gè)凹坑的散射面構(gòu)成一用來會(huì)聚光束的曲面,底面鍍有防止光束自底面逸出的反射膜。該光源相對(duì)入射面設(shè)置。
其中,該凹坑的散射面構(gòu)成的曲面可為部分圓柱面或圓弧面。該反射膜是由SiO2與TiO2交替形成的多層薄膜,其于可見光區(qū)的反射率至少為98%。該凹坑可為圓柱狀、球狀、圓臺(tái)狀、矩形狀或立方體。該多個(gè)凹坑可均勻分布于底面,其大小及密度亦可沿遠(yuǎn)離入射面的方向逐漸增加。
該導(dǎo)光板可為平板形或楔形導(dǎo)光板。該光源可為線光源或點(diǎn)光源。
相較現(xiàn)有技術(shù),本實(shí)用新型的有益效果是本實(shí)用新型面光源模組采用的導(dǎo)光板的底面分布多個(gè)凹坑,并且凹坑的散射面形成一特定形狀的曲面,可會(huì)聚經(jīng)凹坑散射后的光束;且底面具有反射膜,從而可提高光束利用率,使得導(dǎo)光板出光亮度較高,具一定的均勻性。本實(shí)用新型面光源模組無須額外使用反射板,且可不使用棱鏡板或僅使用一棱鏡板,其結(jié)構(gòu)簡單、成本較低、光束的能量損耗較小。

圖1是現(xiàn)有技術(shù)面光源模組的剖視圖。
圖2是本實(shí)用新型面光源模組第一具體實(shí)施方式
的立體圖。
圖3是圖2所示面光源模組沿III-III方向的剖視圖。
圖4是本實(shí)用新型面光源模組第二具體實(shí)施方式
的立體圖。
圖5是圖4所示面光源模組沿V-V方向的剖視圖。
圖6是本實(shí)用新型面光源模組第三具體實(shí)施方式
的立體圖。
圖7是圖6所示面光源模組沿VII-VII方向的剖視圖。
圖8是本實(shí)用新型面光源模組第四具體實(shí)施方式
的剖視圖。
圖9是本實(shí)用新型面光源模組另一具體實(shí)施方式
采用的導(dǎo)光板的局部剖視圖。
具體實(shí)施方式請(qǐng)參閱圖2,是本實(shí)用新型面光源模組第一具體實(shí)施方式
,該面光源模組10包括一導(dǎo)光板20和兩光源30。該導(dǎo)光板20包括兩入射面21、一和入射面21相連的出射面22以及一和出射面22相對(duì)的底面24。該光源30包括一燈管31和一部分圍繞燈管31的反射罩32。該兩光源30分別相對(duì)該導(dǎo)光板20的兩入射面21設(shè)置。
請(qǐng)配合參閱圖2和圖3,該導(dǎo)光板20的底面24分布多個(gè)凹坑23。該多個(gè)凹坑23用來使光束散射,破壞自入射面21進(jìn)入的光束于導(dǎo)光板20內(nèi)部傳輸?shù)娜瓷錀l件,并且提高自出射面22出射的光束的亮度和均勻性。該多個(gè)凹坑23均勻分布在該導(dǎo)光板20的底面24,其為立方體,亦可為圓柱狀、圓臺(tái)狀、球狀或矩形狀。該多個(gè)凹坑23的散射面25形成一曲面,其為部分圓柱面,用來會(huì)聚經(jīng)凹坑23散射的光束,進(jìn)而增強(qiáng)出射面22出射光束的亮度。該導(dǎo)光板20的底面24具有反射膜(未標(biāo)示),該反射膜是由SiO2和TiO2交替形成的多層薄膜,使投射于其上的光束反射,以防止光束自導(dǎo)光板20的底面24逸出,從而降低光束的能量損耗,提高導(dǎo)光板20的整體光學(xué)性能。該反射膜可以采用化學(xué)氣相沉積法、電子束蒸鍍法、濺鍍法等方法形成,其在可見光區(qū)的反射率至少為98%。
相較現(xiàn)有技術(shù),由于本實(shí)用新型面光源模組10采用的導(dǎo)光板20的底面24分布多個(gè)凹坑23,并且凹坑23的散射面25形成一特定形狀的曲面,可會(huì)聚經(jīng)凹坑23散射的光束,且底面24具有反射膜,可以提高光束利用率,從而使得導(dǎo)光板20出光亮度較高,具一定的均勻性。進(jìn)而使本實(shí)用新型面光源模組10無須額外使用反射板等外部元件,其結(jié)構(gòu)簡單、成本較低,并且光束的能量損耗較小。
請(qǐng)參閱圖4和圖5,是本實(shí)用新型面光源模組第二具體實(shí)施方式
,該面光源模組11包括一光源30和一導(dǎo)光板40。該導(dǎo)光板40包括一入射面41和一與入射面41相交的底面44,該光源30可為線光源(如冷陰極熒光燈管)或點(diǎn)光源(如發(fā)光二極管),其相對(duì)入射面41設(shè)置。該底面44分布多個(gè)凹坑43,該凹坑43的散射面45形成一曲面,其是部分圓柱面,用來會(huì)聚經(jīng)凹坑43散射的光束。該凹坑43的大小和密度沿遠(yuǎn)離入射面41的方向逐漸增加,用來改善導(dǎo)光板40和面光源模組11出射光束的均勻性。該底面44具有反射膜(未標(biāo)示),該反射膜是由SiO2和TiO2交替形成的多層薄膜。
請(qǐng)參閱圖6和圖7,是本實(shí)用新型面光源模組第三具體實(shí)施方式
。該面光源模組12包括一光源30和一導(dǎo)光板60。該導(dǎo)光板60是一楔形導(dǎo)光板,其包括一入射面61和一與入射面61傾斜相連的底面64,該光源30相對(duì)該入射面61設(shè)置。該底面64分布多個(gè)凹坑63。該多個(gè)凹坑63均勻分布于該導(dǎo)光板60的底面64,其為矩形狀,亦可為圓柱狀、圓臺(tái)狀、球狀或立方體。該多個(gè)凹坑63的散射面65形成一曲面,其為部分圓柱面,用以會(huì)聚經(jīng)凹坑63散射的光束,進(jìn)而增強(qiáng)導(dǎo)光板60出射光束的亮度。該導(dǎo)光板60的底面64具有反射膜(未標(biāo)示),以防止光束自導(dǎo)光板60的底面64逸出,從而降低光束的能量損耗,提高導(dǎo)光板60和面光源模組12的整體光學(xué)性能。
請(qǐng)參閱圖8,是本實(shí)用新型面光源模組第四具體實(shí)施方式
。該面光源模組13包括一光源30和一導(dǎo)光板60。為進(jìn)一步增強(qiáng)面光源模組13出射光束亮度的均勻性,在導(dǎo)光板60的出射面62一側(cè)設(shè)置一擴(kuò)散板80,為進(jìn)一步會(huì)聚經(jīng)擴(kuò)散板80散射的光束,提高面光源模組13的出光亮度,可于擴(kuò)散板80與出射面62相鄰一側(cè)的另一側(cè)設(shè)置一棱鏡板90。
請(qǐng)參閱圖9,是本實(shí)用新型面光源模組另一具體實(shí)施方式
采用的導(dǎo)光板。該導(dǎo)光板50和圖2所示導(dǎo)光板20的結(jié)構(gòu)大致相同,其包括一底面54,該底面54分布多個(gè)凹坑53。該多個(gè)凹坑53均勻分布于該導(dǎo)光板50的底面54,其為矩形狀,亦可為圓柱狀、圓臺(tái)狀、球狀或立方體。該多個(gè)凹坑53的散射面55形成一曲面,其為圓弧面,用來會(huì)聚經(jīng)凹坑53散射的光束,進(jìn)而增強(qiáng)導(dǎo)光板50出射光束的亮度。該導(dǎo)光板50的底面54具有反射膜(未標(biāo)示),以防止光束自導(dǎo)光板50的底面54逸出,從而降低光束的能量損耗,提高導(dǎo)光板50和面光源模組的整體光學(xué)性能。
權(quán)利要求1.一種面光源模組,其包括至少一光源和一導(dǎo)光板,該導(dǎo)光板包括至少一用來接收光束的入射面、一和入射面相交的出射面以及一和出射面相對(duì)的底面,該光源相對(duì)入射面設(shè)置,其特征在于該底面分布多個(gè)凹坑,該多個(gè)凹坑的散射面構(gòu)成一用以會(huì)聚光束的曲面,該底面具有防止光束自底面逸出的反射膜。
2.如權(quán)利要求1所述的面光源模組,其特征在于該凹坑的散射面構(gòu)成的曲面為部分圓柱面。
3.如權(quán)利要求1所述的面光源模組,其特征在于該凹坑的散射面構(gòu)成的曲面為圓弧面。
4.如權(quán)利要求3所述的面光源模組,其特征在于該凹坑可為圓柱狀、球狀、圓臺(tái)狀、矩形狀或立方體。
5.如權(quán)利要求1所述的面光源模組,其特征在于該多個(gè)凹坑均勻分布于底面。
6.如權(quán)利要求1所述的面光源模組,其特征在于該多個(gè)凹坑的大小和密度沿遠(yuǎn)離入射面的方向逐漸增加。
7.如權(quán)利要求1所述的面光源模組,其特征在于該反射膜是由SiO2和TiO2交替形成的多層薄膜。
8.如權(quán)利要求1所述的面光源模組,其特征在于該反射膜于可見光區(qū)的反射率至少為98%。
9.如權(quán)利要求1所述的面光源模組,其特征在于該導(dǎo)光板為平板形或楔形導(dǎo)光板。
10.如權(quán)利要求1所述的面光源模組,其特征在于該光源可為線光源或點(diǎn)光源。
專利摘要一種面光源模組,包括一導(dǎo)光板、一燈管和一圍繞燈管的反射罩。該導(dǎo)光板用以引導(dǎo)來自燈管的光線的傳輸方向,提高光線出射的亮度和均勻性。該導(dǎo)光板包括用以接收光束的入射面、用以引導(dǎo)光束出射的出射面和與出射面相對(duì)的底面,該入射面和出射面相交。該底面分布多個(gè)凹坑,且凹坑的散射面構(gòu)成一特定形狀的曲面,底面鍍覆反射膜。
文檔編號(hào)G02B5/00GK2594821SQ0224998
公開日2003年12月24日 申請(qǐng)日期2002年11月29日 優(yōu)先權(quán)日2002年11月29日
發(fā)明者呂昌岳, 余泰成, 陳杰良 申請(qǐng)人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司
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