專利名稱：反射器和液晶顯示器的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明領(lǐng)域本發(fā)明涉及具有優(yōu)良反射特性的反射器和設(shè)有這種反射器具有優(yōu)良顯示特性的液晶顯示器，以及它們的制造方法。
反射型液晶顯示器具有在液晶池中填充的液晶；驅(qū)動液晶的開關(guān)元件；和在液晶池內(nèi)或外設(shè)置的反射器。反射型液晶顯示器例如是，使用諸如薄膜晶體管等開關(guān)元件的有源矩陣型液晶顯示器。
作為反射型液晶顯示器，業(yè)已開發(fā)了具有在反射電極表面上形成的波紋形狀以提高可見性的液晶顯示器。反射電極在具有波紋表面而不是平的表面時，在多方向反射入射光。即，在反射電極的表面上形成波紋形狀可以改善顯示特性，如具有較寬的視角。
雖然反射電極的波紋形狀可以增加反射光的散射特性，但是在波紋形狀具高的規(guī)律性時，存在著反射光的干擾引起屏幕變暗的情況。因此，為了抑制光的干擾，希望形成具有盡可能低的規(guī)律性的波紋。
作為在反射電極的表面上形成波紋的一個方法，已經(jīng)利用在絕緣膜的表面上形成波紋的方法。在這個方法中，首先形成感光性樹脂，用曝光掩模進行曝光然后顯影，形成不連續(xù)的凸起圖形。然后，通過熱處理熔化膜的表面，從而形成較平緩的形狀。然后，在樹脂膜上形成有機絕緣膜，然后腐蝕接觸孔。最后，在絕緣膜上形成反射電極。從樹脂膜和絕緣膜起始的波紋形狀形成在獲得的反射電極的表面上。
根據(jù)上述形成波紋形狀的方法，絕緣膜的波紋帶有大致恒定的高度，也就是說，波紋的高度基本具有兩個值，因為樹脂膜的所有凸起具有基本相同的高度(厚度)值。在此，波紋的高度是指在反射器的法線方向波紋的頂部和底部的高度水平(深度)之間的差。
在No.2000-250025日本未審查專利申請公開公報中說明了使用所謂的半色調(diào)掩模的另一種方法。根據(jù)此方法，樹脂膜用在掩蔽區(qū)域中具有不同透射率的半色調(diào)掩模構(gòu)圖，使得各凸起帶有不同高度的值。但是，高度值的數(shù)目基本是兩個，因此在絕緣膜上形成的波紋的高度具有三個值。
如上所述，現(xiàn)有技術(shù)的情況是，波紋的高度是固定到最多三個值。因此，現(xiàn)有技術(shù)反射器的波紋形狀具有相對較高的規(guī)律，是相當單調(diào)的。
波紋的高度的規(guī)律性不提供優(yōu)良的反射特性和顯示特性。因此，在絕緣膜的波紋的高度值受限制的現(xiàn)有技術(shù)的反射器，不能夠充分地提高顯示特性。
而且，上述在絕緣膜上形成波紋的方法要求相對較多的步驟，即，形成兩個有機膜(樹脂膜和絕緣膜)、曝光和顯影。另外，使用光刻技術(shù)形成的波紋具有陡的形狀，因此要求隨后的熱處理步驟，使得表面形狀平緩。因此，使用光刻技術(shù)的現(xiàn)有技術(shù)的方法具有包括較多步驟的缺點。
如上所述，現(xiàn)有技術(shù)的反射器的問題是，反射電極的波紋形狀，特別是高度，具有較高的規(guī)律性，使得不能夠取得足夠高的反射特性。而且，這種反射器制造方法要求較多的步驟。
本發(fā)明的另一個目的是提供一種能夠用顯著較少的步驟制造的反射器和顯示器，以及制造它們的方法。
到達上述目的，根據(jù)本發(fā)明的第一方面的反射器制造方法包括步驟形成絕緣層(18)；用激光束照射所述的絕緣層(18)，從而通過燒蝕作用在絕緣層(18)表面上形成波紋(18b)；和在絕緣層(18)上形成電極(19)。
此時，在所述燒蝕步驟，所述激光束可以以預(yù)定的強度分布照射在所述絕緣層(18)。
此時，所述激光束可以通過具有預(yù)定的透射率分布的掩模(43)照射在所述絕緣層(18)上。
此時，入射到所述掩模(43)上的所述激光束可以具有平坦的特性曲線。
此時，可以用點狀的激光束進行掃描照射。
此時，在所述燒蝕步驟，可以以脈沖波形照射所述激光束。
此時，在所述燒蝕步驟，可以把所述波紋(18b)形成得具有四個以上的高度。
此時，開關(guān)元件(16)可以設(shè)置在所述絕緣層(18)下，并且在所述燒蝕步驟形成接觸孔(18a)，所述開關(guān)元件(16)的一端可以通過其底部露出。
此時，在所述燒蝕步驟，在所述絕緣層(18)上平坦部分可以與波紋部分一起形成。
上述制造方法還可以包括在所述平坦部分形成透明電極(52)的步驟。
上述的制造方法還可以含有在所述燒蝕步驟后退火所述絕緣膜(18)的步驟。
為了到達上述目的，根據(jù)本發(fā)明第二方面的反射器包括絕緣膜，形成在基片(14)上，具有在表面上帶有至少四個高度的多級波紋(18b)；和電極(19)，形成在所述絕緣層(18)上。
為了到達上述目的，根據(jù)本發(fā)明的第三方面的液晶顯示器具有如上所述的反射器(11)。
圖3是光學(xué)處理系統(tǒng)結(jié)構(gòu)圖；圖4是平頂型激光束的特性曲線；圖5是通過掩模的激光束特性曲線；圖6是點狀激光束特性曲線；圖7是根據(jù)本發(fā)明第三實施例的反射器的剖視圖；圖8A-8D表示圖7所示的反射器制造步驟；和圖9是照射的激光束特性曲線。


圖1是該實施例的液晶顯示器10的單元像素區(qū)的剖視圖。如圖所示，反射型液晶顯示器10具有構(gòu)成反射器的下基片11；對置基片12，它設(shè)置得面向下基片11；和液晶層12，它夾在下基片11和對置基片12之間。
下基片11具有絕緣基片14、絕緣保護膜5、薄膜晶體管16、鈍化膜17、有機絕緣層18和反射電極19。
無機或有機絕緣材料的絕緣保護膜15沉積在絕緣基片14上。起開關(guān)元件作用的薄膜晶體管16形成在絕緣保護膜15上。
各薄膜晶體管16具有柵極20，它形成在絕緣基片14上；半導(dǎo)體層21，它覆蓋在柵極20上，中間有絕緣保護膜15；漏極22和源極23。漏極22和源極23分別連接到半導(dǎo)體層21的未示出的漏區(qū)和源區(qū)。
鈍化膜17包括絕緣膜例如硅基的膜。設(shè)置鈍化膜17使得在除了在要形成下面說明的接觸孔的部分之外處覆蓋每個薄膜晶體管16。
有機絕緣層18形成在鈍化膜17上。有機絕緣層18包括容易用后文說明的激光燒蝕燒掉和升華的的有機材料。
所謂的激光燒蝕是這樣一種現(xiàn)象，即，在具有預(yù)定波長范圍的吸收波段的有機材料上，照射預(yù)定波長范圍的激光束時，使得在有機材料中的化學(xué)鍵破裂，以致照射的表面層被汽化(除去)。
即，有機絕緣層18由這樣的有機材料形成，它吸收在燒蝕中使用的波長的激光。下面說明的情況是有機絕緣層18是由聚酰亞胺樹脂形成的。
在有機絕緣層18中形成通過其底部露出源極23的接觸孔18a。在有機絕緣層18的表面形成波紋18b。波紋18b和接觸孔18a通過下面說明的激光燒蝕形成。
形成有機絕緣層18的波紋18b使得其高度具有多個值。波紋18b的“高度”是，在反射器的的法線方向中，作為參照的預(yù)定位置的頂部或底部的高度。在此實施例中，取在波紋18b形成前的有機絕緣層18的位置(有機絕緣層18的厚度)作為參照。
如圖1所示，有機絕緣層18的波紋具有預(yù)定范圍內(nèi)的多個高度，具體是四個或四個以上的高度值。例如，在有機絕緣層18形成為3微米厚時，波紋18b的高度例如在0.04-2.1微米的范圍內(nèi)具有至少四個高度值。
在包括接觸孔18a的有機絕緣層18上以預(yù)定的厚度由金屬制造反射電極19，如鋁或鉻。通過接觸孔18a反射電極19連接到薄膜晶體管16的源極23，并且反射電極19起像素電極和光反射層的作用。
在反射電極19的表面形成波紋形狀，所述波紋形狀從有機絕緣層18的表面上的波紋18b起始。因為有機絕緣層18的波紋具有多個高度并且形成得具有多個級，所以在反射電極19上形成的波紋同樣形成得具有多個級和低的規(guī)律性。因此，反射電極19反射的光具有高的散射特性，使得下基片11具有高的反射特性，從而形成具有下基片11、顯示特性優(yōu)良的液晶顯示器10。
對置基片12具有在透明絕緣基片29一個表面上的順序分層的彩色濾光器30和透明電極31。在絕緣基片29的另一表面上形成薄膜偏振器32。
用TN(扭轉(zhuǎn)向列)型、STN(超級扭轉(zhuǎn)向列)型、單片偏振器型(single sheet polarizer)、GH型(賓—主)、PDLC(聚合物分散液晶)型、或膽甾醇型等形成液晶層13。對液晶層13給出預(yù)定的排列。
下面說明帶有上述結(jié)構(gòu)的液晶顯示器10的工作。
在白模式，入射到顯示器表面的光通過絕緣基片29、彩色濾光器30、透明電極31和液晶層13，到達反射電極19的表面。
因為在反射電極19上形成波紋，所以入射光被波紋散射和反射。反射的光通過液晶層13、透明電極31、彩色濾光器30、絕緣基片29和片狀偏振器32，返回到外面成為顯示光。
另一方面，在黑模式，雖然入射光與白色模式同樣地在反射電極19上被反射，但是被薄膜偏振器32阻擋，因此不輸出到外面。這樣進行液晶顯示器10的光的開/關(guān)操作。
下面說明液晶顯示器的反射器的制造方法。圖2A至2D示出制造步驟。
首先，在絕緣基片14上形成各個薄膜晶體管作為開關(guān)元件。即，在絕緣基片14上形成柵極20，然后形成覆蓋柵極20的絕緣保護膜15。接著，在絕緣保護膜15上通過腐蝕、摻雜等形成具有未示出的漏區(qū)和源區(qū)的半導(dǎo)體層21。然后，在絕緣保護膜15上分別形成接觸漏區(qū)和源區(qū)的漏極22和源極23。另外，鈍化膜17形成在薄膜晶體管16上，并將其構(gòu)圖，以具有如圖2所示的制成結(jié)構(gòu)。
接下來，在制成的結(jié)構(gòu)的表面上涂覆聚酰亞胺并烘干，因此形成例如3微米的厚度平坦的聚酰亞胺的膜35(圖2B)。
例如，在90℃進行十分鐘的烘干。
隨后，在聚酰亞胺膜35上進行激光燒蝕，形成圖2C所示的具有接觸孔18a和波紋18b的有機絕緣層18。
圖3示出在激光燒蝕中使用的光學(xué)處理系統(tǒng)40的結(jié)構(gòu)。圖3的光學(xué)處理系統(tǒng)40包括光源41、成形部分42和掩模43。
光源41照射脈沖波形的激光束，如KrF激發(fā)物激光束(248毫微米波長)。以能夠確保優(yōu)良燒蝕特性的預(yù)定脈沖數(shù)和強度照射激光束。例如，以這樣的強度照射激光使得，照射到預(yù)定形成接觸孔18a的聚酰亞胺膜35部分上的能量密度為300毫焦耳/平方厘米。
成形部分42包括蠅眼透鏡、柱面透鏡、鏡等，將激光束的形狀成形為圖4所示的平頂型特性曲線。成形的激光束向著作為靶的聚酰亞胺膜35照射，例如大約垂直地照射。
掩模43設(shè)置在成形部分42和受照射的目標之間，使得從成形部分42發(fā)出的激光束經(jīng)過掩模43照射到照射靶的聚酰亞胺膜35上。被激光束照射的聚酰亞胺膜35的表面部分被燒蝕去掉。
掩模43包括所謂的介電掩模，它能夠?qū)⒐獾耐干渎收{(diào)節(jié)到希望的程度。即，掩模43是通過，在石英等透明基片上形成構(gòu)圖成為預(yù)定形狀的介電膜(未示出)構(gòu)成的。
介電膜是例如是由SiO2、Al2O3、HfO2、YF3、MgF2、LaF3、和ThF4等的膜或這些膜的層狀體構(gòu)成，通過通常的膜淀積方法形成在基片上。通過通常的構(gòu)圖方法介電膜以預(yù)定形狀在基片表面上形成島狀。介電膜例如具有近于平面的形狀。介電膜島形成預(yù)定厚度，以實現(xiàn)所希望的光透射率。以預(yù)定的分布，在掩模表面上設(shè)置各材料和厚度的介電膜，能夠在照射表面中取得希望的光強度(能量密度)分布。
燒蝕的程度與能量密度的水平成比例地不同，從而可以在不同深度上去除介電膜。特別是，在與接觸孔18a相對應(yīng)的區(qū)域沒有設(shè)置介電膜的同時，在預(yù)定形成波紋18b的部分相應(yīng)的區(qū)域上將介電膜設(shè)置到預(yù)定的厚度。經(jīng)由這樣形成的掩模43照射激光束能夠在聚酰亞胺膜35上形成接觸孔18a和波紋18b。也能夠通過要照射的激光束的脈沖數(shù)調(diào)節(jié)燒蝕的深度。
激光束通過掩模43，例如，從圖4所示的特性成形為圖5所示的特性。如圖所示，照射成形的激光束能夠在聚酰亞胺膜35上形成圖1所示的接觸孔18a和波紋18b。
在圖5所示的特性曲線中，照射到預(yù)定形成接觸孔18ad部分的激光束沒有受介電膜衰減，并具有平坦的形狀。如上所述，激光束的能量密封設(shè)定到能夠充分成形預(yù)定厚度的聚酰亞胺膜35。與預(yù)定形成接觸孔的部分相應(yīng)的平坦部分的能量密度例如是300毫焦耳/平方厘米。
另一方面，與預(yù)定形成波紋的部分的相應(yīng)的能量密度的特性曲線顯示出在上述范圍內(nèi)的多個峰值，至少四個峰值(最大或最小值)。所述的峰值例如處在60-200毫焦耳/平方厘米范圍。
特性曲線具有這樣的多個峰值的激光束的照射形成波紋18b，它在聚酰亞胺膜35中具有與各峰值相對應(yīng)的底部和頂部。由于在特性曲線具有四個或更多峰值時，形成的波紋具有四個或更多高度。
以上述方式通過掩模43向聚酰亞胺膜35照射帶有預(yù)定強度分布的激光束時，則形成如圖2C所示的具有多級波紋18b的有機絕緣層18。
用燒蝕作用構(gòu)成的結(jié)構(gòu)圖，與用通常的光刻技術(shù)相比較，形成更平緩的形狀。因此，與使用光刻技術(shù)不同，退火不是重要的。然而，如果需要的話，也可以在250℃進行1小時的退火，使得在表面上的波紋18b更平緩。
在形成有機絕緣層18后，在有機絕緣層18上形成例如鋁膜，然后將其構(gòu)圖形成作為反射像素電極的反射電極(圖2D)。以上述方式能夠制造出作為反射器的下基片11。
在絕緣基片14上成層狀的，這樣形成的下基片11和具有彩色濾光器30等的對置的基片12之間設(shè)置未示出的墊片，液晶13填充和密封在所述墊片形成的空間中。然后，通過粘貼等方法安裝薄膜偏振器32，從而產(chǎn)生圖1所示的反射型液晶顯示器10。
根據(jù)此實施例，如上所述，通過激光燒蝕在有機絕緣層18上形成具有至少四個高度的多級波紋18b。有機絕緣層18的多級波紋18b在覆蓋的反射電極19上形成帶有低規(guī)律性的波紋表面。這實現(xiàn)具有高光的散射特性和優(yōu)良顯示特性的反射器和液晶顯示器10。
通過具有預(yù)定透射率分布的掩模43在有機膜上照射激光束，形成了有機絕緣層18的多級波紋18b。掩模43的透射率分布能夠任意設(shè)定，通過調(diào)節(jié)透射率的分布和照射脈沖的數(shù)目，波紋18b的高度能夠容易地設(shè)置到多個級。
因為直接用激光燒蝕作用處理聚酰亞胺膜35，所以能夠用顯著少的步驟制造反射器和液晶顯示器。即，在使用通常的光刻技術(shù)時，需要這樣的步驟，如形成抗蝕劑膜和在其上的有機膜，曝光和顯影，而在使用燒蝕作用時，具有接觸孔18a和波紋18b的有機絕緣層18等幾乎能夠用至少一個步驟形成。
另外，光刻過程中，波紋18b具有陡的形狀，要求退火。但是，在燒蝕方法中，波紋18b的表面較平緩。因此，不一定進行退火，因此能夠在少得多的步驟形成有機絕緣層18。
第一實施例使用具有介電膜的所謂的介電掩模。但是，掩模43并不限于此類型，只要是它能夠按照希望地控制透射率就可以是任何類型的。
雖然接觸孔18a和波紋18b在燒蝕步驟同時形成，但是也可以使用不同的掩模在分開的步驟中形成它們。(第二實施例)
下面說明根據(jù)本發(fā)明第二實施例的制造反射器的方法。為了方便理解第二實施例起見，與第一實施例相對應(yīng)的部件用相同的符號表示，并省略相關(guān)的說明。
在第二實施例中，與第一實施例不同，不使用掩模43，而用具有點狀的激光束進行掃描照射，以在有機絕緣層18上形成波紋18b等。下面說明第二實施例的制造方法。
應(yīng)注意，在下面說明的實施例中，有機絕緣膜18是通過把厚度為3微米的聚丙烯樹脂150℃烘干一小時制造的。
在第二實施例中使用的激光束具有點狀的特性曲線，所述特性曲線表現(xiàn)如圖6所示的高斯分布。在點狀的特性曲線的頂部上的激光束的能量密度被設(shè)定在預(yù)定范圍內(nèi)。
使用與在第一實施例相似的裝置，將點狀的激光照射在靶(基片)上?；焕缰糜赬-Y平臺上，能夠在平面上移動。在激光處理時，基片以預(yù)定的方式間歇地移動。與基片移動同步地以預(yù)定脈沖數(shù)目照射激光束。也可以使用另一種結(jié)構(gòu)固定靶基片用掃描激光束照射。
在用激光束照射的聚丙烯樹脂的表面上，在照射部分中的聚丙烯樹脂被燒蝕燒掉和升華。對于各預(yù)定區(qū)域調(diào)節(jié)要照射的激光束的能量密度和脈沖數(shù)目。在改變激光束強度時的照射能夠在有機絕緣層18上形成接觸孔18a和具有多級深度的波紋18b。
燒蝕聚丙烯樹脂的此實施例中，例如，可以使用半寬直徑5微米的斷面的XeCl激發(fā)物激光束(308毫微米波長)。此時，通過照射帶多值的激光束的預(yù)定數(shù)目的脈沖，使得在特性曲線的頂部上的能量密度，例如在40-190毫焦耳/平方厘米范圍內(nèi)，能夠在聚丙烯樹脂膜表面上形成，如圖2C所示的具有四或更多高度值的多級波紋18b。另外，通過例如照射特性曲線的頂部的300毫焦耳/平方厘米能量密度的激光束的八個脈沖，能夠形成接觸孔18a。
根據(jù)第二實施例，如上所述，以預(yù)定圖案相對移動激光束時照射點狀的激光束預(yù)定數(shù)目的脈沖，能夠在有機膜上形成多級波紋18b和接觸孔18a。顯然，第二實施例中能夠提供與第一實施例相同的優(yōu)點。
雖然在第二實施例中移動作為靶的基片，但是，也可以代之以移動激光束的照射口。(第三實施例)下面參照附圖說第三實施例。為了方便理解第三實施例，對與圖1的部件相同的部件用相同的符號標示，并省略相關(guān)說明。
圖7是根據(jù)第三實施例的反射器(下基片11)的結(jié)構(gòu)圖。根據(jù)第三實施例的反射器用在既具有反射型也具有透射型功能的所謂的透射—照射型液晶顯示器中。
如圖7所示，第三實施例的反射器11具有反射區(qū)域50和透射區(qū)域51。
反射電極19形成在有機絕緣層18的反射區(qū)域50。在反射區(qū)域50的表面形成多級波紋。
在透射區(qū)域51中的有機絕緣層18上形成ITO(銦錫氧化物)透明電極52。在透射區(qū)域51中的有機絕緣層8的表面形成為幾乎是平的。透明電極52也是如此。透明電極52接觸與它電連接的反射電極19。也可以使用設(shè)置得將透明電極52與反射電極19分開的絕緣膜，和經(jīng)由接觸孔18a將透明電極52和反射電極19彼此連接的結(jié)構(gòu)。
液晶顯示器10是既具有反射型也具有透射型功能的所謂的透射反射型的液晶顯示器，它設(shè)有的反射器既具有反射電極19又具有透明電極52。
圖7示出的反射器11能夠用第一實施例使用的相同方法制造。下面參照圖8A-8D說明這個方法。
首先制備如圖8A所示的具有薄膜晶體管16的基片。接著，如圖8B所示，在基片上將聚酰亞胺膜35例如形成到2微米厚度。例如，通過在110℃烘烤十分鐘形成聚酰亞胺膜35。
然后，按第一實施例的方法，對聚酰亞胺膜35進行激光處理，形成如圖8C所示的形狀的有機絕緣層18。
在第三實施例中，照射具有圖9特性曲線的激光束。激光束的能量密度例如設(shè)定在30-250毫焦耳/平方厘米范圍，照射脈沖數(shù)例如為10。
如圖9所示，通過掩模43的激光束的特性曲線具有平穩(wěn)的能量部分和波紋部分。特性曲線具有波紋部分和平坦部分的激光束的照射，在聚酰亞胺膜35上形成，如圖8C所示的波紋部分和平坦部分。
接下來，例如在有機絕緣層18上形成薄鉻膜，然后進行如圖8D所示的構(gòu)圖，除去在平坦部分上的薄鉻膜。在有機絕緣層18的露出的平坦部分上形成ITO等的透明電極52。這樣便完成圖7所示的反射器。
如上所述，第三實施例提供的反射器具有，多級波紋的反射電極19和平坦的透明電極52。通過激光燒蝕作用能夠在單一步驟中分別形成反射電極19和透明電極52的有機絕緣層18的波紋部分和平坦部分。能夠用明顯減少的步驟制造圖7示出的反射器和設(shè)有所述反射器的透射—反射型液晶顯示器。
在第一到第三實施例中，有機絕緣層18是由聚酰亞胺或聚丙烯樹脂制造的。但是，有機絕緣層18能夠由具有預(yù)定的光吸收范圍的樹脂制造，如聚酰亞胺樹脂，環(huán)氧樹脂，聚丙烯樹脂，環(huán)烯或線型酚醛樹脂。
根據(jù)有機絕緣層18使用的有機材料類型選擇使用的激光束能夠進行激光燒蝕處理?？捎玫募す馐抢鏏rF激光(193毫微米)、KrF激光(248毫微米)、Xecl激光(308毫微米)或XeF激光(351毫微米)，或者例如YAG(釔鋁榴石)激光(1.065微米)或二氧化碳激光(10.6微米)的紅外線光束。
本發(fā)明能夠相似地適用于，使用交錯結(jié)構(gòu)的薄膜晶體管的或所謂溝道保護型的薄膜晶體管的反射器和液晶顯示器。
雖然薄膜晶體管16是用作開關(guān)元件，但是本發(fā)明不限于這種具體類型，而是也能夠適用于，用其他開關(guān)元件的，如MIM(金屬—絕緣體—金屬)元件、二極管或壓敏電阻，或有源矩陣型液晶顯示器，或不使用開關(guān)元件的無源基體型液晶顯示器。
不偏離本發(fā)明的范圍和精神能夠做出各種實施方式。上述的實施例是為了說明本發(fā)明，不是限制本發(fā)明的范圍。本發(fā)明的范圍由權(quán)利要求限定。在本發(fā)明的權(quán)利要求的等同意義內(nèi)形成的各種改型被認為是在本發(fā)明的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種制造反射器的方法，包括步驟形成絕緣層(18)；用激光束照射所述的絕緣層(18)，從而通過燒蝕作用在絕緣層(18)表面上形成波紋(186)；和在絕緣層(18)上形成電極(19)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的制造方法，其特征在于，在所述燒蝕步驟中，所述激光束以預(yù)定的強度分布照射在所述絕緣層(18)上。
3.根據(jù)權(quán)利要求2的制造方法，其特征在于，所述激光束通過具有預(yù)定透射率分布的掩模(43)，照射到所述絕緣層(18)上。
4.根據(jù)權(quán)利要求3的制造方法，其特征在于，入射到所述掩模(43)上的所述激光束可以具有平坦的特性曲線。
5.根據(jù)權(quán)利要求2的制造方法，其特征在于，用點狀的激光束進行掃描照射。
6.根據(jù)權(quán)利要求1的制造方法，其特征在于，在所述燒蝕步驟中，用脈沖形照射所述激光束。
7.根據(jù)權(quán)利要求1的制造方法，其特征在于，在所述燒蝕步驟中，把所述波紋(18b)形成得具有四個或更多的高度等級。
8.根據(jù)權(quán)利要求1的制造方法，其特征在于，開關(guān)元件(16)設(shè)置在所述絕緣層(18)下，并且通過在所述燒蝕步驟形成接觸孔(18a)，所述開關(guān)元件(16)的一端穿過其底部露出。
9.根據(jù)權(quán)利要求1的制造方法，其特征在于，在所述燒蝕步驟中，平坦部分與波紋部分一起形成在所述絕緣層(18)上，和還包括在所述平坦部分上形成透明電極(52)的步驟。
10.根據(jù)權(quán)利要求1的制造方法，其特征在于，還包括在所述燒蝕步驟后對所述絕緣層(18)退火的步驟。
11.一種反射器，包括在基片(14)上設(shè)置的、在表面上具有至少四個高度等級的多級波紋(18b)的絕緣層(18)；和在所述絕緣層(18)上設(shè)置的電極(19)。
12.一種液晶顯示器，其特征在于，具有如權(quán)利要求11所述的反射器(11)。
全文摘要
通過涂覆和烘干在設(shè)有薄膜晶體管16的基片14上形成平坦的有機絕緣層18。接著，在有機絕緣層18上照射脈沖型激光束，通過燒蝕在有機絕緣層18上形成接觸孔18a和波紋18b。形成的波紋18b具有至少四個高度等級。
文檔編號G02F1/1362GK1403861SQ02142000
公開日2003年3月19日 申請日期2002年9月2日 優(yōu)先權(quán)日2001年8月31日
發(fā)明者奧村展 申請人:日本電氣株式會社