本發(fā)明涉及一種繪畫用輔助裝置,尤其涉及的是一種繪畫機器人的畫布支撐架。
背景技術(shù):
隨著繪畫藝術(shù)的不斷發(fā)展,繪畫畫架市場的不斷擴大。在使用普通繪畫畫架的過程中我們不難發(fā)現(xiàn),使用過程中的上下調(diào)節(jié)和升降問題造成使用的不便,影響繪畫者水平的發(fā)揮。此外,繪畫過程中有特殊情況導(dǎo)致繪畫終止時,對于未完成的畫作需要保護的問題亟待解決,而傳統(tǒng)的畫布支撐架比較笨重,不易搬運,造成使用者的諸多不便,基于此,需要設(shè)計一種畫布支撐架,尤其是適合繪畫機器人用的畫布支撐架,不僅可以解決畫架的上下調(diào)節(jié)和保護畫布的問題,還可以方便移動的畫布支撐架。
技術(shù)實現(xiàn)要素:
本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的畫布支撐架結(jié)構(gòu)復(fù)雜和搬運不便的不足,提供了一種繪畫機器人的畫布支撐架,不僅可以解決畫架的上下調(diào)節(jié)和保護畫布的問題,還可以方便移動的畫布支撐架。
為了實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用了如下技術(shù)方案:
一種繪畫機器人的畫布支撐架,包括兩個工字型支架和繪畫平臺,所述的兩個工字型支架平行設(shè)置,所述的繪畫平臺設(shè)于兩個工字型支架的上方,所述的工字型支架包括第一支撐桿、第二支撐桿、以及設(shè)于兩個支撐桿之間的水平橫梁,其特征在于:所述的第一支撐桿與第二支撐桿之間還設(shè)有升降氣缸,所述的升降氣缸設(shè)于氣缸座上,所述的氣缸座設(shè)于橫梁上,升降氣缸端部的活塞桿通過第一轉(zhuǎn)軸與繪畫平臺一端的下表面連接,所述的繪畫平臺的另一端通過第一轉(zhuǎn)軸安裝在第一支撐桿上,所述的第二支撐桿的頂端豎直固設(shè)有滑槽,所述的滑槽的內(nèi)設(shè)有滑塊,所述的滑塊的豎直方向上設(shè)有防護罩,所述的防護罩與橫梁平行。
優(yōu)選的,所述的升降氣缸與第二支撐桿之間還設(shè)有第三支撐桿,所述的第三支撐桿按貫穿橫梁上的通孔設(shè)置,所述的第三支撐桿的高度低于第一支撐桿的高度;所述的第三支撐桿的頂端還設(shè)有緩沖墊。
優(yōu)選的,所述的第一支撐桿、第二支撐桿和第三支撐桿的底部均設(shè)有腳輪。
優(yōu)選的,所述的腳輪的外表面設(shè)有防滑墊。
優(yōu)選的,所述的第二支撐桿上還設(shè)有限位塊,所述的限位塊的高度高于第一支撐桿的高度。
優(yōu)選的,所述的橫梁上還設(shè)有電機,所述的電機設(shè)于第二支撐桿與第三支撐桿的中間,所述的電機是用于帶動滑塊上下滑動。
優(yōu)選的,所述的緩沖墊和防滑墊均是采用橡膠材質(zhì)制備而成的。
本本發(fā)明提供了一種繪畫機器人的畫布支撐架,包括兩個工字型支架和繪畫平臺,所述的兩個工字型支架平行設(shè)置,所述的繪畫平臺設(shè)于兩個工字型支架的上方,所述的工字型支架包括第一支撐桿、第二支撐桿、以及設(shè)于兩個支撐桿之間的水平橫梁,其特征在于:所述的第一支撐桿與第二支撐桿之間還設(shè)有升降氣缸,所述的升降氣缸設(shè)于氣缸座上,所述的氣缸座設(shè)于橫梁上,升降氣缸端部的活塞桿通過第一轉(zhuǎn)軸與繪畫平臺一端的下表面連接,所述的繪畫平臺的另一端通過第一轉(zhuǎn)軸安裝在第一支撐桿上,所述的第二支撐桿的頂端豎直固設(shè)有滑槽,所述的滑槽的內(nèi)設(shè)有滑塊,所述的滑塊的豎直方向上設(shè)有防護罩,所述的防護罩與橫梁平行。與現(xiàn)有技術(shù)相比,設(shè)置升降氣缸的作用是為了方便通過第二轉(zhuǎn)軸調(diào)節(jié)繪畫平臺的高度,在第三支撐桿的頂端設(shè)置緩沖墊是為了對下降的繪畫平臺起一個緩沖作用,在第二支撐桿的上方設(shè)置滑槽,是為了通過控制電機帶動滑塊上下滑動繼而帶動防護罩下滑,以便對繪畫平臺起到保護作用,此外,在第一支撐桿、第二支撐桿和第三支撐桿的底部均設(shè)有腳輪,是為了方便移動畫架,而腳輪的外表面設(shè)有防滑墊,是為了在機器人繪畫時,畫架不會隨意滑動,以不影響繪畫效果。
附圖說明
圖1為本發(fā)明提出的一種繪畫機器人的畫布支撐架的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖中:1繪畫平臺、2第一支撐桿、3第二支撐桿、4橫梁、5升降氣缸、6氣缸座、7活塞桿、8第一轉(zhuǎn)軸、9滑槽、10滑塊、11防護罩、12第三支撐桿、13通孔、14緩沖墊、15腳輪、16防滑墊、17限位塊、18電機、19第二轉(zhuǎn)軸。
具體實施方式
下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖,對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例,而不是全部的實施例。
在本發(fā)明的描述中,需要理解的是,術(shù)語“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“頂”、“底”、“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系,僅是為了便于描述本發(fā)明和簡化描述,而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作,因此不能理解為對本發(fā)明的限制。
參照附圖1所示,一種繪畫機器人的畫布支撐架,包括兩個工字型支架和繪畫平臺1,所述的兩個工字型支架平行設(shè)置,所述的繪畫平臺1設(shè)于兩個工字型支架的上方,所述的工字型支架包括第一支撐桿2、第二支撐桿3、以及設(shè)于兩個支撐桿之間的水平橫梁4,其特征在于:所述的第一支撐桿2與第二支撐桿3之間還設(shè)有升降氣缸5,所述的升降氣缸5設(shè)于氣缸座6上,所述的氣缸座6設(shè)于橫梁4上,升降氣缸5端部的活塞桿7通過第一轉(zhuǎn)軸8與繪畫平臺1一端的下表面連接,所述的繪畫平臺1的另一端通過第一轉(zhuǎn)軸8安裝在第一支撐桿2上,所述的第二支撐桿3的頂端豎直固設(shè)有滑槽9,所述的滑槽9的內(nèi)設(shè)有滑塊10,所述的滑塊10的豎直方向上設(shè)有防護罩11,所述的防護罩11與橫梁4平行。
需要說明的是,設(shè)置升降氣缸5的作用是為了方便通過第二轉(zhuǎn)軸8調(diào)節(jié)繪畫平臺1的高度,此外,在第二支撐桿2的上方設(shè)置滑槽9,是為了通過控制電機18帶動滑塊10上下滑動繼而帶動防護罩11下滑,以便對繪畫平臺1起到保護作用。
優(yōu)選的,所述的升降氣缸5與第二支撐桿3之間還設(shè)有第三支撐12桿,所述的第三支撐桿12按貫穿橫梁4上的通孔設(shè)置,所述的第三支撐桿12的高度低于第一支撐桿2的高度。
作為優(yōu)選,所述的第三支撐桿12的頂端還設(shè)有緩沖墊14,是為了對下降的繪畫平臺1起一個緩沖作用。
作為優(yōu)選,所述的第一支撐桿2、第二支撐桿3和第三支撐桿12的底部均設(shè)有腳輪15。
作為優(yōu)選,所述的腳輪15的外表面設(shè)有防滑墊16。
考慮到畫布支撐架結(jié)構(gòu)較多,搬運不便,因此在第一支撐桿2、第二支撐桿3和第三支撐桿12的底部均設(shè)有腳15輪,是為了方便移動畫架,而腳輪15的外表面設(shè)有防滑墊16,是為了在機器人繪畫時,畫架不會隨意滑動,以不影響繪畫效果。
優(yōu)選的,所述的第二支撐桿3上還設(shè)有限位塊17,所述的限位塊17的高度高于第一支撐桿2的高度,設(shè)置限位塊17是為了對下降的防護罩11有一個限位的作用,以避免防護罩11壓壞繪畫平臺。
優(yōu)選的,所述的橫梁4上還設(shè)有電機18,所述的電機18設(shè)于第二支撐桿3與第三支撐桿12的中間,所述的電機18是用于帶動滑塊10上下滑動。
優(yōu)選的,所述的緩沖墊14和防滑墊16均是采用橡膠材質(zhì)制備而成的。
綜上所述,本發(fā)明提供了一種繪畫機器人的畫布支撐架,包括兩個工字型支架和繪畫平臺1,所述的兩個工字型支架平行設(shè)置,所述的繪畫平臺1設(shè)于兩個工字型支架的上方,所述的工字型支架包括第一支撐桿2、第二支撐桿3、以及設(shè)于兩個支撐桿之間的水平橫梁4,其特征在于:所述的第一支撐桿2與第二支撐桿3之間還設(shè)有升降氣缸5,所述的升降氣缸5設(shè)于氣缸座6上,所述的氣缸座6設(shè)于橫梁4上,升降氣缸5端部的活塞桿7通過第一轉(zhuǎn)軸8與繪畫平臺1一端的下表面連接,所述的繪畫平臺1的另一端通過第一轉(zhuǎn)軸8安裝在第一支撐桿2上,所述的第二支撐桿3的頂端豎直固設(shè)有滑槽9,所述的滑槽9的內(nèi)設(shè)有滑塊10,所述的滑塊10的豎直方向上設(shè)有防護罩11,所述的防護罩11與橫梁4平行。與現(xiàn)有技術(shù)相比,設(shè)置升降氣缸5的作用是為了方便通過第二轉(zhuǎn)軸19調(diào)節(jié)繪畫平臺1的高度,在第三支撐桿12的頂端設(shè)置緩沖墊14是為了對下降的繪畫平臺1起一個緩沖作用,在第二支撐桿3的上方設(shè)置滑槽9,是為了通過控制電機18帶動滑塊10上下滑動繼而帶動防護罩11下滑,以便對繪畫平臺1起到保護作用,此外,在第一支撐桿2、第二支撐桿3和第三支撐桿12的底部均設(shè)有腳輪15,是為了方便移動畫架,而腳輪15的外表面設(shè)有防滑墊16,是為了在機器人繪畫時,畫架不會隨意滑動,以不影響繪畫效果。
以上所述,僅為本發(fā)明較佳的具體實施方式,但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此,任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi),根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案及其發(fā)明構(gòu)思加以等同替換或改變,都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。