本實用新型屬于數控機械技術領域，尤其涉及一種玻璃刻繪機。

背景技術：

玻璃制品進行雕刻時，由于玻璃質地比較脆，為了防止安裝固定時玻璃破裂，人們通常采用吸盤對玻璃進行固定，在加工完成后再將玻璃從吸盤上取下，對于大塊的玻璃為了使其固定牢固通常需要采用多個吸盤，吸盤對玻璃的吸力比較大，需要將吸盤一一取下后才能取下玻璃，這樣就比較麻煩；

同時玻璃在加工過程中會產生碎渣和粉塵，這些粉塵人體吸入后無法排泄，一些粉塵會飄散在空氣中會對周圍的工作環(huán)境造成影響，并對環(huán)境中的工作者的身體造成損害。

技術實現要素：

本實用新型的目的在于克服上述現有技術的不足，提供了一種玻璃刻繪機。

本實用新型是這樣實現的，一種玻璃刻繪機，包括一機箱、一工作臺和一雕刻機頭，所述工作臺的上端固設有兩位于所述機箱內的第一導軌，兩所述第一導軌平行設置于所述工作臺寬度方向的兩側，兩所述第一導軌上分別滑設有一立柱，兩所述立柱平行設置且均與一橫柱的下端固定連接，所述橫柱上沿其長度方向固設有一第二導軌，所述第二導軌上固設有一滑板，所述滑板沿其豎直方向固設有一第三導軌，所述雕刻機頭滑設于所述第三導軌上，所述雕刻機頭的下端轉動連接有一雕刻刀；

所述機箱內還固設有若干用于驅動所述雕刻刀轉動以及用于驅動所述雕刻機頭移動的執(zhí)行電機，若干所述執(zhí)行電機均與一控制器電連接，所述工作臺上固設有若干沿其垂直方向間隔設置的支撐柱，若干所述支撐柱的上表面位于同一水平面，各所述支撐柱上均螺接有一第一調節(jié)螺母，所述第一調節(jié)螺母用于調節(jié)玻璃平面使其處于水平狀態(tài)；

所述工作臺上還固設有若干沿其垂直方向設置的吸盤，所述吸盤的上表面高于所述支撐柱的上表面2mm~10mm，所述吸盤沿其軸向開設有一通孔，若干所述通孔均通過一氣管與一氣壓調節(jié)閥連通，所述氣壓調節(jié)閥包括一活塞，所述活塞與一活塞桿固定連接，所述活塞桿的另一端固設有一拉桿，所述活塞桿上螺接有一第二調節(jié)螺母。

進一步地，所述機箱的下端固設有一水箱，所述水箱的中部固設有一沿其寬度方向設置的過濾網，所述過濾網將水箱分為左半部分和右半部分，所述水箱的右半部分設有一水泵，所述水泵用于向一固設于所述雕刻機頭的噴頭供水，所述噴頭包括一喇叭形結構，所述喇叭形結構的中部固設有一噴嘴，所述喇叭形結構用于向雕刻刀附近噴出水霧，所述噴嘴用于向雕刻刀噴出水柱；所述工作臺的中部通過一排水管與所述水箱的左半部分連通。

進一步地，所述機箱與所述水箱的左側之間連接有一鼓風機，所述鼓風機用于將機箱內的粉塵吹入所述水箱左半部分的水中。

進一步地，所述水箱的左半部分固設有一用于使所述鼓風機吸入的粉塵充分進入水里的多層網篩結構，所述多層網篩結構包括一密封板以及若干間隔設置的網篩，所述密封板的上端固設有一把手，若干所述網篩的上端均與所述密封板固定連接且相鄰所述網篩的網孔錯位設置。

進一步地，所述噴頭的上端固設有一水量調節(jié)閥。

進一步地，所述支撐柱和第一調節(jié)螺母的上端均設有一緩沖墊。

本實用新型提供的玻璃刻繪機，將玻璃放置于工作臺上的吸盤上時，由于吸盤比較軟而且吸盤上表面高于支撐柱上表面2mm~10mm，在玻璃重力的作用下，玻璃會向下壓迫吸盤使玻璃與支撐柱上表面貼合，同時使吸盤的上表面與玻璃表面完全貼合，通過支撐柱和第一調節(jié)螺母可以使玻璃處于水平狀態(tài)，通過向外拉動氣壓調節(jié)閥的活塞，可以使氣壓調節(jié)閥腔體內的氣壓變小，從而使吸盤牢牢吸住玻璃平面，向活塞的一側轉動第二調節(jié)螺母，使第二調節(jié)螺母與氣壓調節(jié)閥腔體的外壁抵接后，便能實現活塞的固定，實現了玻璃的固定，同時保證各個吸盤對玻璃平面的吸力一致；

反向轉動第二調節(jié)螺母，活塞在外部大氣壓的作用下回到原始位置，氣壓調節(jié)閥腔體內的氣壓正常，吸盤不再對玻璃產生吸力，這樣就便于取下玻璃；

在加工過程中，噴頭會向雕刻刀噴出水柱沖開雕刻時產生的碎渣，同時噴出水霧使產生的粉塵著落，工作臺上的排水管會使產生的污水集中進入水箱的左半部分，在加工過程中利用抽風機還可以將機箱內的空氣里的粉塵吸入后送至水箱的左半部分，通過多層網篩結構使粉塵充分與水箱里的水接觸并融入水里最終沉降，這樣就實現了對粉塵的吸收，保證了工作環(huán)境的環(huán)保清潔。

附圖說明

為了更清楚地說明本實用新型的技術方案，下面將對實施例中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1是本實用新型實施例提供的一種玻璃刻繪機的示意圖。

圖2是圖1中氣控調節(jié)閥的示意圖。

圖3是本實用新型實施例提供的另一種氣控調節(jié)閥門的示意圖。

具體實施方式

下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述。

如圖1和圖2所示，本實用新型實施例提供的一種玻璃刻繪機，包括一機箱1、一工作臺2和一雕刻機頭3，工作臺2的上端固設有兩位于機箱1內的第一導軌21，兩第一導軌21平行設置于工作臺2寬度方向的兩側，兩第一導軌21上分別滑設有一立柱22，兩立柱22平行設置且均與一橫柱23的下端固定連接，橫柱23上沿其長度方向固設有一第二導軌（未示出），第二導軌上固設有一滑板24，滑板24沿其豎直方向固設有一第三導軌（未示出），雕刻機頭3滑設于第三導軌上，雕刻機頭3的下端轉動連接有一雕刻刀31；

機箱1內還固設有若干用于驅動雕刻刀31轉動以及用于驅動雕刻機頭3移動的執(zhí)行電機（未示出），若干執(zhí)行電機均與一控制器（未示出）電連接，工作臺2上固設有若干沿其垂直方向間隔設置的支撐柱25，若干支撐柱25的上表面位于同一水平面，各支撐柱25上均螺接有一第一調節(jié)螺母251，第一調節(jié)螺母251用于調節(jié)玻璃平面使其處于水平狀態(tài)；

工作臺2上還固設有若干沿其垂直方向設置的吸盤26，吸盤26的上表面高于支撐柱25的上表面2mm~10mm，吸盤26沿其軸向開設有一通孔261，若干通孔261均通過一氣管262與一氣壓調節(jié)閥27連通，氣壓調節(jié)閥27包括一活塞271，活塞271與一活塞桿272固定連接，活塞桿272的另一端固設有一拉桿273，活塞桿272上螺接有一第二調節(jié)螺母274。

如圖3所示，在其他實施例中，氣壓調節(jié)閥27的一側也可固設有一電磁線圈275，活塞271上固設有一與電磁線圈275相磁吸的鐵塊276，通電時電磁線圈275通過吸附鐵塊276帶動活塞271移動使氣壓調節(jié)閥27內的氣壓變低，從而實現吸盤26與玻璃平面相吸。

進一步地，所述機箱1的下端固設有一水箱4，水箱4的中部固設有一沿其寬度方向設置的過濾網41，過濾網41將水箱4分為左半部分和右半部分，水箱4右半部分設有一水泵42，水泵42用于向一固設于雕刻機頭3的噴頭43供水，噴頭43包括一喇叭形結構431，喇叭形結構431的中部固設有一噴嘴432，喇叭形結構431用于向雕刻刀31附近噴出水霧，噴嘴432用于向雕刻刀31噴出水柱；工作臺2的中部通過一排水管28與水箱4的左半部分連通。

進一步地，所述機箱1與水箱4的左側之間連接有一鼓風機5，鼓風機5用于將機箱1內的粉塵吹入水箱4的水中。

進一步地，所述水箱4的左半部分固設有一用于使鼓風機5吸入的粉塵充分進入水里的多層網篩結構51，多層網篩結構51包括一密封板52以及若干間隔設置的網篩53，密封板52的上端固設有一把手54，若干網篩53的上端均與密封板52固定連接且相鄰網篩53的網孔錯位設置；在其它實施例中鼓風機5也可與一過濾桶固定連接。

進一步地，所述噴頭43的上端固設有一水量調節(jié)閥433。

進一步地，所述支撐柱25和第一調節(jié)螺母251的上端均設有一緩沖墊（未示出）。

本實用新型提供的玻璃刻繪機，將玻璃放置于工作臺2上的吸盤26上時，由于吸盤26比較軟而且吸盤26上表面高于支撐柱25上表面2mm~10mm，在玻璃重力的作用下，玻璃會向下壓迫吸盤26使玻璃與支撐柱25上表面貼合，同時使吸盤26的上表面與玻璃表面完全貼合，通過支撐柱25和第一調節(jié)螺母251可以使玻璃處于水平狀態(tài)，通過向外拉動氣壓調節(jié)閥27的活塞271，可以使氣壓調節(jié)閥27腔體內的氣壓變小，從而使吸盤26牢牢吸住玻璃平面，向活塞271的一側轉動第二調節(jié)螺母274，使第二調節(jié)螺母274與氣壓調節(jié)閥27腔體的外壁抵接后，便能實現活塞271的固定，實現了玻璃的固定，同時保證各個吸盤26對玻璃平面的吸力一致；

反向轉動第二調節(jié)螺母274，活塞271在外部大氣壓的作用下回到原始位置，氣壓調節(jié)閥27腔體內的氣壓正常，吸盤26不再對玻璃產生吸力，這樣就便于取下玻璃；

在加工過程中，噴頭43會向雕刻刀31噴出水柱沖開雕刻時產生的碎渣，同時噴出水霧使產生的粉塵著落，工作臺2上的排水管28會使產生的污水集中進入水箱4的左半部分，在加工過程中利用抽風機還可以將機箱1內的空氣里的粉塵吸入后送至水箱4的左半部分，通過多層網篩結構51使粉塵充分與水箱4里的水接觸并融入水里最終沉降，這樣就實現了對粉塵的吸收，保證了工作環(huán)境的環(huán)保清潔。

以上所述是本實用新型的優(yōu)選實施方式，應當指出，對于本技術領域的普通技術人員來說，在不脫離本實用新型原理的前提下，還可以做出若干改進和潤飾，這些改進和潤飾也視為本實用新型的保護范圍。