本發(fā)明涉及一種具有立體鏤空精準(zhǔn)定位系統(tǒng)的雕刻模具，尤指一種寶石的具有立體鏤空精準(zhǔn)定位系統(tǒng)的雕刻模具。

背景技術(shù)：

目前，關(guān)于玉器雕刻，市場上有精雕機(jī)、超聲波工藝。但精雕機(jī)只能用于雕刻模具，不能用于量產(chǎn)，且耗時久、工費高。原有的超聲波工藝只能單面加工，其模具設(shè)置沒有立體效果、無法提高生產(chǎn)力。

近期，出現(xiàn)的超聲波工藝結(jié)合3D技術(shù)、模具定位、雕刻鏤空，大大降低了人工、時間，提高了效率。然而，現(xiàn)有超聲波還存在一些缺陷。比如，不能做到正反面產(chǎn)品加工，定位方式傳統(tǒng)且容易，導(dǎo)致產(chǎn)品報廢率高，生產(chǎn)吃力，后期修整麻煩，效率低，成本高。

因此，有必要設(shè)計一種好的具有立體鏤空精準(zhǔn)定位系統(tǒng)的雕刻模具，以克服上述問題。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

針對背景技術(shù)所面臨的問題，本發(fā)明的目的在于提供一種通過點對點定位，由凹凸兩面組成，使得雕刻精準(zhǔn)且效率高的具有立體鏤空精準(zhǔn)定位系統(tǒng)的雕刻模具。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)手段：

一種具有立體鏤空精準(zhǔn)定位系統(tǒng)的雕刻模具，其包括相互配合的一上鋼模和一下鋼模，上鋼模和下鋼模之間形成有一空腔，一定位凹面選擇地設(shè)于上鋼模和下鋼模，對應(yīng)地，一定位凸面選擇地設(shè)于下鋼模和上鋼模，定位凹面和定位凸面相配合，至少兩個鏤空部分別設(shè)于上鋼模和下鋼模，且該鏤空部與空腔貫通。

進(jìn)一步地，上鋼模的兩側(cè)分別具有一上定位部，對應(yīng)地，下鋼模的兩側(cè)分別具有一下定位部，定位凸面和定位凹面的數(shù)量分別為兩個，兩個定位凸面分別設(shè)于兩個上定位部，兩個定位凹面分別設(shè)于兩個下定位部。

進(jìn)一步地，上鋼模的兩側(cè)分別具有一上定位部，對應(yīng)地，下鋼模的兩側(cè)分別具有一下定位部，定位凸面和定位凹面的數(shù)量分別為兩個，其中一個定位凸面設(shè)于一個上定位部，另一個定位凸面設(shè)于一個下定位部，其中一個定位凹面設(shè)于另一個上定位部，另一個定位凹面設(shè)于另一個下定位部。

進(jìn)一步地，上鋼模的兩側(cè)分別具有一上定位部，對應(yīng)地，下鋼模的兩側(cè)分別具有一下定位部，定位凸面和定位凹面的數(shù)量分別為兩個，兩個定位凸面分別設(shè)于兩個下定位部，兩個定位凹面分別設(shè)于兩個上定位部。

進(jìn)一步地，定位凸面靠近定位凹面處設(shè)有導(dǎo)引面。

進(jìn)一步地，定位凸面和定位凹面的數(shù)量分別為兩個，兩個定位凸面選擇地共同設(shè)于上鋼模和下鋼模，對應(yīng)地兩個定位凹面選擇地共同設(shè)于下鋼模和上鋼模，兩個定位凹面和兩個定位凸面均對稱設(shè)置。

進(jìn)一步地，上鋼模和下鋼模結(jié)合處空腔的內(nèi)壁設(shè)有多個凸部和多個凹部，多個凸部和多個凹部依次間隔相連。

進(jìn)一步地，鏤空部的數(shù)量為多個且分別設(shè)于上鋼模和下鋼模與空腔貫通，多個鏤空部為多個第一鏤空部和多個第二鏤空部，第一鏤空部的體積大于第二鏤空部的體積，第一鏤空部相對第二鏤空部靠近上鋼模和下鋼模的結(jié)合處。

進(jìn)一步地，多個第一鏤空部和多個第二鏤空部依次間隔錯開設(shè)置。

進(jìn)一步地，第一鏤空部靠近上鋼模和下鋼模的結(jié)合處的寬度為D1，第一鏤空部遠(yuǎn)離上鋼模和下鋼模的結(jié)合處的寬度為D2，D1大于D2，每一凹部為凹弧形面，每一第一鏤空部靠近上鋼模和下鋼模的結(jié)合處為凸弧形面，每一凹弧形面與每一凸弧形面的角度和長度相同。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有以下有益效果：

上述具有立體鏤空精準(zhǔn)定位系統(tǒng)的雕刻模具中，將定位凹面選擇地設(shè)于上鋼模和下鋼模，對應(yīng)地，將定位凸面選擇地設(shè)于下鋼模和上鋼模，定位凹面和定位凸面相配合，同時，兩個鏤空部分別設(shè)于上鋼?；蛳落撃＃以撶U空部與空腔貫通，不僅利用點、線、面跟立體構(gòu)思結(jié)合到模具生產(chǎn)上，實現(xiàn)了雙面雕刻的目的，同時增加了定位功能，在生產(chǎn)中可以達(dá)到3D立體效果，增加了立體感，定位精確，鏤空精準(zhǔn)，使作品更富于層次感，減少了產(chǎn)品報廢，提高了生產(chǎn)力，效率大大提高，成本也同時降低。

【附圖說明】

圖1為本發(fā)明具有立體鏤空精準(zhǔn)定位系統(tǒng)的雕刻模具的示意圖。

具體實施方式的附圖標(biāo)號說明：

上鋼模 1 空腔 2 凸部 21

凹部 22 凹弧形面 221 定位凹面 3

定位凸面 4 上定位部 5 第一鏤空部 6

凸弧形面 61 第二鏤空部 7

【具體實施方式】

為便于更好的理解本發(fā)明的目的、結(jié)構(gòu)、特征以及功效等，現(xiàn)結(jié)合附圖和具體實施方式對本發(fā)明作進(jìn)一步說明。

一種具有立體鏤空精準(zhǔn)定位系統(tǒng)的雕刻模具，尤其適用于對寶石(未圖示，下同)進(jìn)行雕刻加工，用最新的設(shè)計結(jié)合3D、CNC精雕軟件而制造的模具，從產(chǎn)品立體感、定位設(shè)計上做了全新的升級改造，該雕刻模具由不銹鋼的材料制成。

請參見圖1，具有立體鏤空精準(zhǔn)定位系統(tǒng)的雕刻模具包括相互配合的一上鋼模1和一下鋼模(未圖示，下同)，上鋼模1和下鋼模之間形成有一空腔2，一定位凹面3選擇地設(shè)于上鋼模1和下鋼模，對應(yīng)地，一定位凸面4選擇地設(shè)于下鋼模和上鋼模1，定位凹面3和定位凸面4相配合，可以保證不走位，定位精準(zhǔn)，多個鏤空部(未標(biāo)號，下同)分別設(shè)于上鋼模1和下鋼模，且該鏤空部與空腔2貫通。

請參見圖1，定位凹面3和定位凸面4的數(shù)量和設(shè)計位置可以有以下三種方式：第一種，上鋼模1的兩側(cè)分別具有一上定位部5，對應(yīng)地，下鋼模的兩側(cè)分別具有一下定位部(未圖示，下同)，定位凸面4和定位凹面3的數(shù)量分別為兩個，兩個定位凸面4分別設(shè)于兩個上定位部5，兩個定位凹面3分別設(shè)于兩個下定位部；第二種，上鋼模1的兩側(cè)分別具有一上定位部5，對應(yīng)地，下鋼模的兩側(cè)分別具有一下定位部，定位凸面4和定位凹面3的數(shù)量分別為兩個，其中一個定位凸面4設(shè)于一個上定位部5，另一個定位凸面4設(shè)于一個下定位部，其中一個定位凹面3設(shè)于另一個上定位部5，另一個定位凹面3設(shè)于另一個下定位部；第三種，上鋼模1的兩側(cè)分別具有一上定位部5，對應(yīng)地，下鋼模的兩側(cè)分別具有一下定位部，定位凸面4和定位凹面3的數(shù)量分別為兩個，兩個定位凸面4分別設(shè)于兩個下定位部，兩個定位凹面3分別設(shè)于兩個上定位部5。

請參見圖1，此外，定位凸面4靠近定位凹面3處設(shè)有導(dǎo)引面(未圖示，下同)，定位凸面4和定位凹面3的數(shù)量分別為兩個，兩個定位凸面4選擇地共同設(shè)于上鋼模1和下鋼模，對應(yīng)地兩個定位凹面3選擇地共同設(shè)于下鋼模和上鋼模1，兩個定位凹面3和兩個定位凸面4均對稱設(shè)置。

請參見圖1，同時，上鋼模1和下鋼模結(jié)合處空腔2的內(nèi)壁設(shè)有多個凸部21和多個凹部22，多個凸部21和多個凹部22依次間隔相連，鏤空部的數(shù)量為多個且分別設(shè)于上鋼模1和下鋼模與空腔2貫通，多個鏤空部為多個第一鏤空部6和多個第二鏤空部7，第一鏤空部6的體積大于第二鏤空部7的體積，第一鏤空部6相對第二鏤空部7靠近上鋼模1和下鋼模的結(jié)合處。多個第一鏤空部6和多個第二鏤空部7依次間隔錯開設(shè)置，第一鏤空部6靠近上鋼模1和下鋼模的結(jié)合處的寬度為D1(未圖示，下同)，第一鏤空部6遠(yuǎn)離上鋼模1和下鋼模的結(jié)合處的寬度為D2(未圖示，下同)，D1大于D2，每一凹部22為凹弧形面221，每一第一鏤空部6靠近上鋼模1和下鋼模的結(jié)合處為凸弧形面61，每一凹弧形面221與每一凸弧形面61的角度和長度相同。

請參見圖1，上述具有立體鏤空精準(zhǔn)定位系統(tǒng)的雕刻模具中，將定位凹面3選擇地設(shè)于上鋼模1和下鋼模，對應(yīng)地，將定位凸面4選擇地設(shè)于下鋼模和上鋼模1，定位凹面3和定位凸面4相配合，同時，兩個鏤空部分別設(shè)于上鋼模1或下鋼模，且該鏤空部與空腔2貫通，不僅利用點、線、面跟立體構(gòu)思結(jié)合到模具生產(chǎn)上，實現(xiàn)了雙面雕刻的目的，同時增加了定位功能，在生產(chǎn)中可以達(dá)到3D立體效果，增加了立體感，定位精確，鏤空精準(zhǔn)，使作品更富于層次感，減少了產(chǎn)品報廢，提高了生產(chǎn)力，效率大大提高，成本也同時降低。

以上詳細(xì)說明僅為本發(fā)明之較佳實施例的說明，非因此局限本發(fā)明的專利范圍，所以，凡運用本創(chuàng)作說明書及圖示內(nèi)容所為的等效技術(shù)變化，均包含于本發(fā)明的專利范圍內(nèi)。