專利名稱：一種平面釉下浮雕的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及裝飾材料，更具體的說，涉及一種釉面浮雕。
背景技術(shù)：
隨著經(jīng)濟的發(fā)展以及人們生活條件的改善，許多建筑裝飾都趨于 高檔化、美觀化。市場上裝飾板或者浮雕裝飾板，樣式新穎、品種繁 多。現(xiàn)有的平面浮雕，高級的也會采用釉彩，目的是使浮雕光潤亮麗， 但是這種平面浮雕依然保留原有浮雕的特征，雕刻凸于平面，難免會 有給人突兀、不整齊的印象。

實用新型內(nèi)容
本實用新型目的是提供一種平面釉下浮雕，著色的釉面覆蓋凹陷 的浮雕。浮雕表面平整光潤，釉層的深淺勾勒出浮雕的圖案，使動感 圖案躍然而出。
為了實現(xiàn)上述的目的本實用新型采用的方案是 一種平面釉下浮 雕，包括平面坯體，所述平面坯體面上成形有凹陷的浮雕圖案，所述 平面坯體上填有透明材料層，透明材料層填平浮雕圖案的凹陷。
更優(yōu)的，浮雕圖案設(shè)置于平面坯體的中央。
及，所述浮雕圖案延伸至平面坯體的邊緣。
更優(yōu)的是，所述延伸至平面坯體邊緣的浮雕圖案其中的坯體邊緣
處凹陷部分保留1至3毫米的窄邊。
及，所述透明材料層為釉或玻璃，通過燒制與平面坯體熔成一體。 本實用新型一種平面釉下浮雕，著色的釉或玻璃覆蓋于凹陷的浮
雕圖案上，從而使浮雕表面平整光潤，透明材料層通過色彩的深淺勾
勒出浮雕的圖案，使動感圖案躍然而出。


圖l為本實用新型立體圖2為本實用新型側(cè)面剖視圖。
具體實施方式
結(jié)合附圖對本實用新型作進一步說明。
如圖l、圖2所示一種平面釉下浮雕，其中包括平面坯體l。平 面坯體l，可以是陶瓷，通過對粘土等材料原料的加工、成形，平面
坯體1面上成形有凹陷的浮雕圖案10;之后將透明材料層2填平浮
雕圖案10的凹陷。透明材料可以是釉或玻璃，材料充填滿浮雕圖案
IO雕刻形成的凹陷；最后通過窯爐燒制，透明材料層2與平面坯體1
熔接在一起。
浮雕圖案10可以位于平面坯體的中央，也可以延伸分布于平面坯 體的邊緣。當浮雕圖案10延伸至坯體1邊緣時，坯體l邊緣一側(cè)的 凹陷部分保留1至3毫米的窄面11。細小的窄邊11緣使得浮雕比較
美觀，且更有利于通過創(chuàng)作拼接成巨大的浮雕圖案。
本實用新型一種平面釉下浮雕，著色的釉或玻璃覆蓋于凹陷的浮
雕圖案上，從而使浮雕表面平整光潤，透明材料層通過色彩的深淺勾
勒出浮雕的圖案，使動感圖案躍然而出。
以上所述的僅是本實用新型的優(yōu)選實施方式，應當指出，對于本
領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明創(chuàng)造構(gòu)思的前提下，還可
以做出若干變形和改進，這些都屬于本實用新型的保護范圍。
權(quán)利要求1、一種平面釉下浮雕，包括平面坯體(1)，所述平面坯體(1)面上成形有凹陷的浮雕圖案(10)，其特征在于，所述平面坯體(1)上填有透明材料層(2)，透明材料層(2)填平浮雕圖案的凹陷。
2、 如權(quán)利要求l所述浮雕，其特征在于，所述浮雕圖案(10)設(shè) 置于平面坯體(1)的中央。
3、 如權(quán)利要求l所述浮雕，其特征在于，所述浮雕圖案(10)延 伸至平面坯體(1)的邊緣。
4、 如權(quán)利要求3所述浮雕，其特征在于，所述延伸至平面坯體(1) 邊緣的浮雕圖案(10)其中的坯體(1)邊緣處凹陷部分保留1 至3毫米的窄邊(11)。
5、 如權(quán)利要求1至4任一項所述浮雕，其特征在于，所述透明材 料層(2)為釉，通過燒制與平面坯體(1)熔成一體。
6、 如權(quán)利要求1至4任一項所述浮雕，其特征在于，所述透明材 料層(2)為玻璃，通過燒制與平面坯體(1)熔成一體。
專利摘要本實用新型是一種平面釉下浮雕，包括平面坯體，所述平面坯體面上成形有凹陷的浮雕圖案，所述平面坯體上填有透明材料層，透明材料層填平浮雕圖案的凹陷。本實用新型一種平面釉下浮雕，著色的釉或玻璃覆蓋于凹陷的浮雕圖案上，從而使浮雕表面平整光潤，透明材料層通過色彩的深淺勾勒出浮雕的圖案，使動感圖案躍然而出。
文檔編號B44C5/00GK201065035SQ20072005496
公開日2008年5月28日 申請日期2007年8月2日 優(yōu)先權(quán)日2007年8月2日
發(fā)明者蘇乃昌 申請人:蘇乃昌