專利名稱：用于激光打標(biāo)的掩模及激光打標(biāo)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及激光打標(biāo)裝置，尤其涉及一種掩模式激光打標(biāo)裝置。
背景技術(shù)：
激光打標(biāo)裝置用于在工件表面打印上永久存留的激光標(biāo)記?，F(xiàn)有技術(shù)中的激光打標(biāo)裝置可分為掃描式和掩模式兩類。
掩模式激光打標(biāo)裝置包括掩?！，F(xiàn)有技術(shù)中的掩模一般為薄金屬片，在其上鏤刻圖案或文字等標(biāo)識(shí)。打標(biāo)時(shí)，將該掩模置于工件上方，然后激光器發(fā)射的激光射向掩模，激光透過掩模的鏤空部分在工件上打出所述標(biāo)識(shí)。
但是這種掩模存在著缺點(diǎn)。由于激光射向掩模時(shí)，只有一小部分激光穿過掩模的鏤空部分作功，而大部分激光由于被掩模的非鏤空部分阻擋而散射掉了。因此，使用這種薄金屬片做掩模的激光打標(biāo)裝置激光能量利用率很低。
因此，有必要發(fā)明一種激光能量利用率較高的掩模及激光打標(biāo)裝置。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明一方面提供了一種用于激光打標(biāo)的掩模，包括凹腔片，該凹腔片具有鏤空的標(biāo)識(shí)，在該凹腔片的凹面鍍有全反射膜；以及凸腔片，該凸腔片的凸面鍍有全反射膜；并且所述凹腔片與凸腔片組成正支共焦非穩(wěn)腔。
優(yōu)選地，所述正支共焦非穩(wěn)腔的前壁為所述凹腔片，所述正支共焦非穩(wěn)腔的后壁為所述凸腔片，凸腔片的的半徑小于凹腔片的半徑。
優(yōu)選地，所述凹腔片的半徑的二分之一減去所述凸腔片的半徑的二分之一等于凹腔片與凸腔片之間的距離。
本發(fā)明另一方面提供了一種激光打標(biāo)裝置，包括發(fā)射脈沖激光束的激光器和安裝在該激光器發(fā)射端前方的掩模，所述掩模包括凹腔片，該凹腔片具有鏤空的標(biāo)識(shí)，在該凹腔片的凹面鍍有全反射膜；以及凸腔片，該凸腔片的凸面鍍有全反射膜；并且所述凹腔片與凸腔片組成正支共焦非穩(wěn)腔。
優(yōu)選地，所述正支共焦非穩(wěn)腔的前壁為所述凹腔片，所述正支共焦非穩(wěn)腔的后壁為所述凸腔片，凸腔片的的半徑小于凹腔片的半徑。
優(yōu)選地，所述凹腔片的半徑的二分之一減去所述凸腔片的半徑的二分之一等于凹腔片與凸腔片之間的距離。
本發(fā)明提供的這種用于激光打標(biāo)的掩模，由于采用了正支共焦非穩(wěn)腔的前壁作為掩模片，其上鏤刻待打的標(biāo)識(shí)，并且該腔內(nèi)壁鍍有全反射膜，因此在打標(biāo)時(shí)，激光進(jìn)入腔內(nèi)作無源震蕩。當(dāng)震蕩的激光射向前壁的鏤空標(biāo)識(shí)時(shí)，穿透鏤空部分的激光將作功，被阻擋的部分將被反射而繼續(xù)震蕩。如此多次射向前壁的鏤空標(biāo)識(shí)，形成對(duì)標(biāo)識(shí)的掃描，使整個(gè)鏤空部分充分受到激光的穿透，從而提高了激光能量的利用率。
本發(fā)明其他方面及優(yōu)點(diǎn)將在具體實(shí)施方式
中結(jié)合附圖詳細(xì)說明。


圖1是本發(fā)明提供的一種用于激光打標(biāo)的掩模的側(cè)視剖面示意圖；圖2是本發(fā)明提供的一種激光打標(biāo)裝置的示意圖；具體實(shí)施方式
參考圖1，本發(fā)明提供的一種用于激光打標(biāo)的掩模的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，如圖所示，掩模100包括凹腔片110和凸腔片120。凸腔片120的半徑比凹腔片110的半徑小。兩腔片組成的腔室130是正支共焦非穩(wěn)腔。在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，凹腔片110的半徑的二分之一減去凸腔片120的半徑的二分之一等于二者之間的距離。
凹腔片110為腔室130的前壁，凸腔片120為腔室130的后壁。在凹腔片110的內(nèi)側(cè)，也就是凹腔片110的凹面112上鍍有全反射膜。在凸腔片120的外側(cè)，也就是凸腔片120的凸面122上鍍有全反射膜。如此一來，腔室130就構(gòu)成了一個(gè)可以使激光作無源震蕩的空腔。
在凹腔片110上具有鏤空的待打的標(biāo)識(shí)，例如文字、圖案等。激光就是從鏤空的部分射出去做功(即在工件上打出痕跡)的。
參考圖2，本發(fā)明提供的一種激光打標(biāo)裝置的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，如圖所示，激光打標(biāo)裝置300包括激光器200和安裝在該激光器200前方的掩模100。激光器200能夠發(fā)射脈沖激光束。激光器200具有正支共焦非穩(wěn)腔230。掩模100如前所述，在此不再贅述。
參考圖2，工作時(shí)，由激光器200發(fā)射環(huán)狀激光束，激光束從腔室230中輸出，該激光束射入掩模100的腔室130中。然后該激光束的一部分從掩模100的凹腔片110上的鏤空部分(即標(biāo)識(shí))射出做功，被凹腔片110非鏤空部分阻擋的激光在腔式130中做無源震蕩。做無源震蕩的過程中，這部分激光也分批次的從鏤空部分射出做功。最終在工件(圖未示)上打出標(biāo)識(shí)。
以上所揭露的僅為本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例而已，當(dāng)然不能以此來限定本發(fā)明之權(quán)利范圍，因此依本發(fā)明申請(qǐng)專利范圍所作的等同變化，仍屬本發(fā)明所涵蓋的范圍。
權(quán)利要求
1.一種用于激光打標(biāo)的掩模，其特征在于包括凹腔片，該凹腔片具有鏤空的標(biāo)識(shí)，在該凹腔片的凹面鍍有全反射膜；以及凸腔片，該凸腔片的凸面鍍有全反射膜；并且所述凹腔片與凸腔片組成正支共焦非穩(wěn)腔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩模，其特征在于所述正支共焦非穩(wěn)腔的前壁為所述凹腔片，所述正支共焦非穩(wěn)腔的后壁為所述凸腔片，凸腔片的的半徑小于凹腔片的半徑。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩模，其特征在于所述凹腔片的半徑的二分之一減去所述凸腔片的半徑的二分之一等于凹腔片與凸腔片之間的距離。
4.一種激光打標(biāo)裝置，包括發(fā)射脈沖激光束的激光器和安裝在該激光器發(fā)射端前方的掩模，其特征在于所述掩模包括凹腔片，該凹腔片具有鏤空的標(biāo)識(shí)，在該凹腔片的凹面鍍有全反射膜；以及凸腔片，該凸腔片的凸面鍍有全反射膜；并且所述凹腔片與凸腔片組成正支共焦非穩(wěn)腔。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的激光打標(biāo)裝置，其特征在于所述正支共焦非穩(wěn)腔的前壁為所述凹腔片，所述正支共焦非穩(wěn)腔的后壁為所述凸腔片，凸腔片的的半徑小于凹腔片的半徑。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的激光打標(biāo)裝置，其特征在于所述凹腔片的半徑的二分之一減去所述凸腔片的半徑的二分之一等于凹腔片與凸腔片之間的距離。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種用于激光打標(biāo)的掩模，包括凹腔片，該凹腔片具有鏤空的標(biāo)識(shí)，在該凹腔片的凹面鍍有全反射膜；以及凸腔片，該凸腔片的凸面鍍有全反射膜；并且所述凹腔片與凸腔片組成正支共焦非穩(wěn)腔。這種掩模利用正支共焦非穩(wěn)腔構(gòu)成無源震蕩腔室，進(jìn)入腔室的激光做無源震蕩，提高了激光能量的利用率。本發(fā)明還同時(shí)公開了一種安裝了該掩模的激光打標(biāo)裝置。
文檔編號(hào)B44B7/00GK1807114SQ20061003345
公開日2006年7月26日 申請(qǐng)日期2006年1月26日 優(yōu)先權(quán)日2006年1月26日
發(fā)明者戈軍 申請(qǐng)人:戈軍