專利名稱：類似絨面底紋的雕刻品的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及工藝品，尤其涉及一種類似絨面底紋的雕刻品。
背景技術(shù)：
傳統(tǒng)的雕刻品是在石材、木材和竹材等基材上雕刻文字或/和圖案，其雕刻的方式現(xiàn)在廣泛采用激光雕刻方法，背景就是基材表面固有的痕跡，表現(xiàn)手法很單一。

發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的是為了解決上述背景技術(shù)存在的不足，提出一種表現(xiàn)手法更為豐富，背景圖案更為美觀的類似絨面底紋的雕刻品。
為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案一種類似絨面底紋的雕刻品，該雕刻品包括基材，基材上雕刻有文字或/和圖案，其特征是所述文字和圖案的周圍設(shè)有絨面底紋，該絨面底紋由不規(guī)則分布的凹坑或顆粒構(gòu)成，凹坑的深度或顆粒的高度為0.1-1mm，凹坑或顆粒的最大直徑為0.1-0.5mm，凹坑或顆粒的密度為100-1000個(gè)/cm2。
上述基材可采用石材、木材或竹材。
本實(shí)用新型由于采用獨(dú)特的背景圖案，因此它更能凸顯雕刻品上的文字和圖案，并襯托它們，使雕刻品上的文字和圖案更豐滿，美觀。該絨面底紋能消除或弱化基材表面天然存在的缺陷，使人們可以充分利用竹材、石材、木材等天然基材進(jìn)行藝術(shù)創(chuàng)作。


圖1是本實(shí)用新型主視圖。
具體實(shí)施方式
參照?qǐng)D1和圖2，本實(shí)用新型所述雕刻品上包括基材1，基材1上雕刻有文字或圖案2，所述文字或圖案的周圍設(shè)有絨面底紋，該絨面底紋由不規(guī)則分布的凹坑或顆粒3構(gòu)成，凹坑的深度或顆粒的高度為0.1-1mm，凹坑或顆粒3的最大直徑為0.1-0.5mm，凹坑或顆粒3的密度為100-1000個(gè)/cm2。所述基材為竹材、石材或木材。
權(quán)利要求1.一種類似絨面底紋的雕刻品，該雕刻品包括基材，基材上雕刻有文字或/和圖案，其特征是所述文字和圖案的周圍設(shè)有絨面底紋，該絨面底紋由不規(guī)則分布的凹坑或顆粒構(gòu)成，凹坑的深度或顆粒的高度為0.1-1mm，凹坑或顆粒的最大為0.1-0.5mm，凹坑或顆粒的密度為100-1000個(gè)/cm2。
2.按照權(quán)利要求1所述帶絨面底紋的雕刻品，其特征是所述基材為竹材、石材或木材。
專利摘要一種類似絨面底紋的雕刻品，該雕刻品包括基材，基材上雕刻有文字或/和圖案，所述文字和圖案的周圍設(shè)有絨面底紋，該絨面底紋由不規(guī)則分布的凹坑或顆粒構(gòu)成，凹坑的深度或顆粒的高度為0.1－1mm，凹坑或顆粒的最大直徑為0.1－0.5mm，凹坑或顆粒的密度為100－1000個(gè)/cm
文檔編號(hào)B44C1/00GK2693494SQ20042001729
公開日2005年4月20日 申請(qǐng)日期2004年3月1日 優(yōu)先權(quán)日2004年3月1日
發(fā)明者張成偉, 周詩娟 申請(qǐng)人:武漢楚天激光(集團(tuán))股份有限公司