專利名稱：陰文臨摹書寫板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種練習(xí)漢字書寫的工具，特別是涉及一種陰文臨摹書寫板。
背景技術(shù)：
漢字是我中華民族的文化瑰寶，有著幾千年悠久的歷史傳承，是漢語言文學(xué)學(xué)習(xí)的基礎(chǔ)，如何會寫且寫好漢字是學(xué)習(xí)的第一步，在學(xué)寫漢字時一般都要從臨摹開始，傳統(tǒng)臨摹都是用薄紙覆蓋在字帖上進行描寫，這種方式字看得不清晰，眼睛容易疲勞，臨摹效果不好。

實用新型內(nèi)容本實用新型為了解決上述問題，提供了一種陰文臨摹書寫板，字跡看得清晰，背光不刺眼，臨摹效果好。本實用新型采用的技術(shù)方案為一種陰文臨摹書寫板，其特征在于透明基板，基板下部設(shè)有光源，基板一側(cè)連接有夾子，基板上部夾子夾有透明帖片，帖片背面粘結(jié)有不透明的遮光層，穿透遮光層設(shè)有筆跡為凹槽結(jié)構(gòu)的漢字，在帖片正面看為正字，帖片上鋪有書寫紙，書寫紙上設(shè)有環(huán)型壓塊。所述壓塊為不透明材料。所述壓塊為金屬材質(zhì)。所述基板右側(cè)設(shè)有電池倉。所述基板上部設(shè)有蓋板，蓋板上設(shè)有容納帖片的腔體或夾持帖片的夾子。所述穿透遮光層的筆跡凹槽進入帖片內(nèi)。所述凹槽進入帖片的深度為帖片厚度的30%至70%。所述凹槽內(nèi)填充有半透明膠狀體。本實用新型通過透明基板下光源提供的背景光，練習(xí)者可以透過鋪在帖片上的書寫紙清晰地看到帖片上的字跡，字跡之外背景為暗色不耀眼；用環(huán)形壓塊壓在書寫紙上，在中心鏤空位置書寫，既可以壓平書寫紙，又可以遮住非書寫區(qū)的光照，字看得清晰，不刺眼，眼睛不容易疲勞，臨摹效果好。

圖1為本實用新型實施例結(jié)構(gòu)示意圖。圖中標(biāo)號名稱I基板；2光源；3夾子；4帖片；5壓塊；6電池倉；7遮光層。
具體實施方式
本實用新型實施例如圖1所示，該陰文臨摹書寫板設(shè)有一透明基板1，為亞克力材質(zhì)；基板I下部設(shè)有光源2，光源2為LED背光板；基板I 一側(cè)連接有夾子3，基板I上部夾子3夾有一張透明帖片4，帖片4背面粘結(jié)有不透明的遮光層7，穿透遮光層7設(shè)有筆跡為凹槽結(jié)構(gòu)的漢字，在正面看為正字，凹槽進入帖片4 二分之一深度，增強字跡的立體效果，帖片4為若干張，分別設(shè)有不同漢字；帖片4上鋪有書寫紙，書寫紙為薄紙，書寫紙上設(shè)有中間鏤空的環(huán)型壓塊5,壓塊5為金屬材質(zhì)；基板I右側(cè)設(shè)有電池倉6 ;使用時取一張?zhí)?放在基板I上，將書寫紙放在帖片4上夾子3夾住，將壓塊5壓在書寫紙上，打開光源，即可透過鋪在帖片上的書寫紙清晰地看到鐵片上的字跡，在壓塊中心鏤空位置進行書寫練習(xí)，壓塊中心鏤空位置寫滿移動壓塊接著書寫，既可以壓平書寫紙，又可以遮住非書寫區(qū)的光照；背景暗色，字看得清晰，不刺眼，眼睛不容易疲勞，臨摹效果好。本實用新型實施時基板I上還可以設(shè)置蓋板，在蓋板上設(shè)有容納帖片4的腔體或夾持帖片4的夾子，保護帖片不受磨損彎折；字跡凹槽內(nèi)還可以填充有各種顏色的半透明膠狀體，使字跡色調(diào)更柔和，增強視覺效果。
權(quán)利要求1.一種陰文臨摹書寫板，其特征在于透明基板(1)，基板(I)下部設(shè)有光源(2)，基板(I)一側(cè)連接有夾子(3)，基板(I)上部夾子(3)夾有透明帖片(4)，帖片(4)背面粘結(jié)有不透明的遮光層(7)，穿透遮光層(7)設(shè)有筆跡為凹槽結(jié)構(gòu)的漢字，在帖片(4)正面看為正字， 帖片(4)上鋪有書寫紙，書寫紙上設(shè)有環(huán)型壓塊(5)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陰文臨摹書寫板，其特征在于所述壓塊(5)為不透明材料。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陰文臨摹書寫板，其特征在于所述壓塊(5)為金屬材質(zhì)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一所述的陰文臨摹書寫板，其特征在于所述基板(I)右側(cè)設(shè)有電池倉(6)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一所述的陰文臨摹書寫板，其特征在于所述基板(I)上部設(shè)有蓋板，蓋板上設(shè)有容納帖片(4)的腔體或夾持帖片(4)的夾子(3)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一所述的陰文臨摹書寫板，其特征在于所述穿透遮光層(7) 的筆跡凹槽進入帖片(4)內(nèi)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的陰文臨摹書寫板，其特征在于所述凹槽進入帖片(4)的深度為帖片(4)厚度的30%至70%。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的陰文臨摹書寫板，其特征在于所述凹槽內(nèi)填充有半透明膠狀體。
專利摘要一種陰文臨摹書寫板，其特征在于透明基板，基板下部設(shè)有光源，基板一側(cè)連接有夾子，基板上部夾子夾有透明帖片，帖片背面粘結(jié)有不透明的遮光層，穿透遮光層設(shè)有筆跡為凹槽結(jié)構(gòu)的漢字，在帖片正面看為正字，帖片上鋪有書寫紙，書寫紙上設(shè)有環(huán)型壓塊；本實用新型通過透明基板下光源提供的背景光，練習(xí)者可以透過鋪在帖片上的書寫紙清晰地看到帖片上的字跡，字跡之外背景為暗色不耀眼；用環(huán)形壓塊壓在書寫紙上，在中心鏤空位置書寫，既可以壓平書寫紙，又可以遮住非書寫區(qū)的光照，字看得清晰，不刺眼，眼睛不容易疲勞，臨摹效果好。
文檔編號G09B11/06GK202855114SQ201220508640
公開日2013年4月3日 申請日期2012年10月4日 優(yōu)先權(quán)日2012年10月4日
發(fā)明者曲敬華 申請人:曲敬華