專利名稱：顯示裝置、抗反射基板及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是有關(guān)于ー種顯示裝置、抗反射基板及其制造方法，且特別是有關(guān)于ー種采用蛾眼結(jié)構(gòu)的顯示裝置、抗反射基板及其制造方法。
背景技術(shù)：
隨著顯示科技的進步，發(fā)展出ー種平面顯示器。平面顯示器具有輕、薄、尺寸多祥性等優(yōu)點，使得平面顯示器已經(jīng)全面性取代傳統(tǒng)陰極射線映像管顯示器。平面顯示器例如是液晶顯示器、有機發(fā)光二極管顯示器或電子紙顯示器等。這些平面顯示器各有其優(yōu)點，分別廣泛應(yīng)用于各式電子裝置中。然而，由于平面顯示器的外觀為平面，所以人眼觀看平面顯示器時，經(jīng)常會因為光線的反射，而產(chǎn)生不舒服的反光現(xiàn)象。因 此，業(yè)界無不致カ于研發(fā)抗反射基板，來改善不舒服的反光現(xiàn)象。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是有關(guān)于ー種顯示裝置、抗反射基板及其制造方法，其利用凹槽及蛾眼結(jié)構(gòu)的設(shè)計，使得蛾眼結(jié)構(gòu)得以受到凹槽的保護，而有效發(fā)揮抗反射效果，以改善不舒服的反光現(xiàn)象。根據(jù)本發(fā)明的一方面，提出一種顯示裝置。顯示裝置包括一顯示面板及ー抗反射基板。抗反射基板設(shè)置于顯示面板上?？狗瓷浠灏ㄒ换准岸鄠€蛾眼結(jié)構(gòu)?？狗瓷浠寰哂卸鄠€凹槽。所述蛾眼結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述凹槽內(nèi)。所述蛾眼結(jié)構(gòu)的高度小于所述凹槽的深度。根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提出ー種抗反射基板?？狗瓷浠灏ㄒ换准岸鄠€蛾眼結(jié)構(gòu)?；拙哂卸鄠€凹槽。所述蛾眼結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述凹槽內(nèi)。所述蛾眼結(jié)構(gòu)的高度小于所述凹槽的深度。根據(jù)本發(fā)明的再一方面，提出ー種抗反射基板的制造方法?？狗瓷浠宓闹圃旆椒òㄒ韵虏襟E。提供一基底。形成多個凹槽于基底上。形成多個蛾眼結(jié)構(gòu)于所述凹槽內(nèi)。所述蛾眼結(jié)構(gòu)的高度小于所述凹槽的深度。本發(fā)明能夠使蛾眼結(jié)構(gòu)得以受到凹槽的保護，有效發(fā)揮抗反射效果，以改善不舒服的反光現(xiàn)象。為讓本發(fā)明的上述內(nèi)容能更明顯易懂，下文特舉較佳實施例，并配合所附圖式，作詳細說明如下


圖I繪示第一實施例的顯示裝置的示意圖。圖2繪示圖I的抗反射基板的放大示意圖。圖3繪示蛾眼結(jié)構(gòu)的光線折射示意圖。圖4繪示凹槽的示意圖。
圖5 圖8繪示第一實施例的抗反射基板的制造方法的示意圖。圖9繪示第二實施例的凹槽的示意圖。圖10繪示第三實施例的凹槽的示意圖。圖11繪示第四實施例的凹槽的示意圖。附圖標(biāo)號100 :顯示裝置 110:顯示面板120:抗反射基板121 :基底122 :蛾眼結(jié)構(gòu)122h :蛾眼結(jié)構(gòu)的高度122w:蛾眼結(jié)構(gòu)的寬度123、223、323、423 :凹槽123a、123b :凹槽的間距l(xiāng)23s、223s :凹槽的側(cè)壁123x:凹槽的寬度123y:凹槽的長度123z :凹槽的深度223p :預(yù)定距離323i :凹槽的邊長423R:凹槽的直徑A :箭號D1、D2:延伸方向L :光線A :蛾眼結(jié)構(gòu)的周期ni、ns:折射率
具體實施例方式以下提出實施例進行詳細說明，其利用凹槽及蛾眼結(jié)構(gòu)的設(shè)計，使得蛾眼結(jié)構(gòu)得以受到凹槽的保護，而有效發(fā)揮抗反射效果，以改善不舒服的反光現(xiàn)象。然而，實施例僅用以作為范例說明，并不會限縮本發(fā)明欲保護的范圍。此外，實施例中的圖式省略部份的元件，以清楚顯示本發(fā)明的技術(shù)特點。第一實施例請參照圖I，其繪示第一實施例的顯示裝置100的示意圖。顯示裝置100包括ー顯示面板110及ー抗反射基板120。顯示面板110例如是液晶顯示面板、有機發(fā)光二極管顯示面板或電子紙顯示面板。顯示面板110用以顯示畫面，以供觀賞。本實施例的抗反射基板120，可以是抗反射透明基板，例如是顯示裝置100的透明保護玻璃或觸控面板，其設(shè)置于顯示面板110上。在其他實施例中，抗反射基板120亦可以是軟性高分子聚合材料基板?？狗瓷浠?20可以降低光線L的反射率，以避免人眼觀看畫面時，看到反光的現(xiàn)象而覺得不舒服。請參照圖2,其繪示圖I的抗反射基板120的放大示意圖。抗反射基板120包括一基底121及多個蛾眼結(jié)構(gòu)122?；?21具有多個凹槽123。所述凹槽123規(guī)則地排列并布滿于基底121上。所述蛾眼結(jié)構(gòu)122則設(shè)置于所述凹槽123內(nèi)。請參照圖3，其繪示入射蛾眼結(jié)構(gòu)122的光線折射示意圖?；?21的折射率ns例如是I. 5，蛾眼結(jié)構(gòu)122的折射率(未標(biāo)示)接近于基底121的折射率ns，而空氣的折射率ni例如是I. 0003。由于蛾眼結(jié)構(gòu)122的剖面形成錐狀或半球體型態(tài)，越靠近基底121之處，光線L接觸到蛾眼結(jié)構(gòu)122的比例越高。反之，越遠離基底121之處，光線L接觸到蛾眼結(jié)構(gòu)122的比例越低。因此，光線L的總折射率將由ni逐漸改變?yōu)閚s，而呈現(xiàn)梯度式變化。藉此，反光現(xiàn)象得以大幅降低。較佳地，蛾眼結(jié)構(gòu)122的周期Λ (周期Λ為結(jié)構(gòu)反復(fù)再現(xiàn)的最小距離，例如是圖3所示的兩個頂點之間的距離)、光線L的波長λ與基底121的折射率ns的關(guān)系滿足下式(I)時，蛾眼結(jié)構(gòu)122對于此光線L具有抗反射效果。A < λ /ns................................................(I) 以可見光為例，蛾眼結(jié)構(gòu)122的周期Λ小于250納米(nm)，且而蛾眼結(jié)構(gòu)122的高度122h與寬度122w的比例大于I. 5時，可以對可見光產(chǎn)生抗反射效果。請再參照圖2，在本實施例中，蛾眼結(jié)構(gòu)122的高度122h小于所述凹槽123的深度123z。如此ー來，當(dāng)抗反射基板120受到磨擦?xí)r，可以避免蛾眼結(jié)構(gòu)122直接受到破壞，以維持如圖3所示的梯度式折射率的效果。請參照圖4，其繪示圖2的凹槽123的示意圖。就凹槽123的設(shè)計而言，凹槽123可以是矩形結(jié)構(gòu)或平行四邊形結(jié)構(gòu)。在本實施例中，凹槽123為矩形結(jié)構(gòu)，且各個凹槽123的邊緣對應(yīng)于顯示面板110的各個像素(未繪示)的邊緣。如此ー來，凹槽123的側(cè)壁123s可以恰好設(shè)置于每ー像素的非顯示區(qū)域，例如像素中的資料線或柵極線區(qū)域，以避免影響畫面的品質(zhì)。另外，凹槽123的設(shè)計可考慮人眼對這些凹槽123的可視性、凹槽123的側(cè)壁123s的強度、有效防止蛾眼結(jié)構(gòu)122受到破壞或者是可讓大部分的光線L射入蛾眼結(jié)構(gòu)122等因素。如圖4所示，相鄰凹槽123的間距123a、123b可為10 30微米(um)。各個凹槽123的深度123z可為I 5微米(um)。各個凹槽123的長度123y可為各個凹槽123的寬度123x的I 3倍。舉例來說，凹槽123的寬度123x可以是20 100微米(um)，凹槽123的長度123y可以是20 300微米(um)。當(dāng)然，熟知本發(fā)明技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員可在本發(fā)明圖4的教示下，依需求或所使用材料調(diào)整凹槽的設(shè)計。本實施例提出的凹槽123及蛾眼結(jié)構(gòu)122是為創(chuàng)新的設(shè)計，其制造方法亦為技術(shù)上的突破。以下以數(shù)張示意圖來說明本實施例的抗反射基板120的制造方法。請參照圖5 圖8，其繪示第一實施例的抗反射基板120的制造方法的示意圖。首先，如圖5所示，提供基底121。接著，如圖6 圖7所示，形成多個凹槽123于基底121上。在此步驟中，所述凹槽123可以利用刻蝕、激光雕刻、精密噴砂或超精密機械加工(CNC)等方式來形成。然后，如圖8所示，形成多個蛾眼結(jié)構(gòu)122于所述凹槽123內(nèi)。在此步驟中，所述蛾眼結(jié)構(gòu)122可以利用微影エ藝、電子束雕刻或納米轉(zhuǎn)印的方式來形成所述蛾眼結(jié)構(gòu)122。其中，蛾眼結(jié)構(gòu)122的材料可包括金、銀、鈦、錫、碳、ニ氧化鈦(Ti02)、五氧化ニ鈮(Nb205)、五氧化ニ鉭(Ta205)、氧化鋯(Zr02)、氮硅化合物(SiNx)、氟化鎂(MgF2)、氧化硅(Si02)、導(dǎo)電高分子或其組成。透過上述制造方法即可完成本實施例的抗反射基板120。第二實施例請參照圖9，其繪示第二實施例的凹槽223的示意圖。本實施例的凹槽223與第一實施例的凹槽123不同之處在于凹槽223的排列方式，其余相同之處不再重復(fù)敘述。如圖9所示，本實施例相鄰兩列的凹槽223相對平移ー預(yù)定距離223p，例如是半個凹槽223的寬度223x。透過平移的方式，使得凹槽223的側(cè)壁223s形成折彎之態(tài)(例如是圖9所繪示側(cè)壁223 s沿著箭號A延伸，箭號A先沿著方向Dl延伸，再沿著方向D2延伸，然后再沿著方向Dl延伸，而形成折彎型態(tài))，如此ー來，可加強側(cè)壁223s的強度。第三實施例請參照圖10，其繪示第三實施例的凹槽323的示意圖。本實施例的凹槽323與第一實施例的凹槽123不同之處在于凹槽323的形狀，其余相同之處不再重復(fù)敘述。如圖10所示，本實施例的凹槽323為三角形結(jié)構(gòu)。所述三角形凹槽323的邊長323 可為20 190微米(um)。第四實施例請參照圖11，其繪示第四實施例的凹槽423的示意圖。本實施例的凹槽423與第一實施例的凹槽123不同之處在于凹槽423的形狀，其余相同之處不再重復(fù)敘述。如圖11所示，本實施例的凹槽423為圓形結(jié)構(gòu)。各個凹槽423的直徑423R可為20 200 微米(um)。根據(jù)上述實施例，透過上述實施例提出的凹槽123、223、323、423與蛾眼結(jié)構(gòu)122的設(shè)計，使得蛾眼結(jié)構(gòu)122得以受到凹槽123、223、323、423的保護，而有效發(fā)揮抗反射效果，以改善不舒服的反光現(xiàn)象。綜上所述，雖然本發(fā)明已以較佳實施例揭露如上，然其并非用以限定本發(fā)明。本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域中的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作各種的更動與潤飾。因此，本發(fā)明的保護范圍當(dāng)以權(quán)利要求所界定的為準。
權(quán)利要求
1.一種顯示裝置，其特征在于，所述的顯示裝置包括 一顯示面板；以及 一抗反射基板，設(shè)置于所述顯示面板上，所述抗反射基板包括 一基底，具有多個凹槽；及 多個蛾眼結(jié)構(gòu)，設(shè)置于所述凹槽內(nèi)，所述蛾眼結(jié)構(gòu)的高度小于所述凹槽的深度。
2.如權(quán)利要求I所述的顯示裝置，其特征在于，所述凹槽為矩形結(jié)構(gòu)或平行四邊形結(jié)構(gòu)。
3.如權(quán)利要求2所述的顯示裝置，其特征在于，相鄰的所述凹槽的間距為10 30微米。
4.如權(quán)利要求2所述的顯示裝置，其特征在于，各所述凹槽的深度為I 5微米。
5.如權(quán)利要求2所述的顯示裝置，其特征在于，各所述凹槽的長度為各所述凹槽的寬度的I 3倍。
6.如權(quán)利要求5所述的顯示裝置，其特征在于，各所述凹槽的寬度為20 100微米。
7.如權(quán)利要求I所述的顯示裝置，其特征在于，所述凹槽為三角形結(jié)構(gòu)。
8.如權(quán)利要求7所述的顯示裝置，其特征在于，各所述凹槽的邊長為20 190微米。
9.如權(quán)利要求I所述的顯示裝置，其特征在于，所述抗反射基板為一抗反射透明基板。
10.如權(quán)利要求I所述的顯示裝置，其特征在于，所述凹槽為圓形結(jié)構(gòu)。
11.如權(quán)利要求10所述的顯示裝置，其特征在于，各所述凹槽的直徑為20 200微米。
12.如權(quán)利要求I所述的顯示裝置，其特征在于，所述顯示面板包括多個像素，各所述凹槽的邊緣對應(yīng)于各所述像素的邊緣。
13.如權(quán)利要求I所述的顯示裝置，其特征在于，相鄰兩列的所述凹槽相對平移一預(yù)定距離，以使所述凹槽的所述側(cè)壁形成折彎狀態(tài)。
14.如權(quán)利要求I所述的顯示裝置，其特征在于，入射所述蛾眼結(jié)構(gòu)的一光線的總折射率將呈現(xiàn)一梯度式變化。
15.如權(quán)利要求14所述的顯示裝置，其特征在于，所述梯度式變化由一低折射率變化至一高折射率。
16.如權(quán)利要求I所述的顯示裝置，其特征在于，所述蛾眼結(jié)構(gòu)的剖面為錐狀或半球體型態(tài)。
17.一種抗反射基板，其特征在于，所述抗反射基板包括 一基底，具有多個凹槽；以及 多個蛾眼結(jié)構(gòu)，設(shè)置于所述凹槽內(nèi)，所述蛾眼結(jié)構(gòu)的高度小于所述凹槽的深度。
18.一種抗反射基板的制造方法，其特征在于，所述抗反射基板的制造方法包括 提供一基底； 形成多個凹槽于所述基底上；以及 形成多個蛾眼結(jié)構(gòu)于所述凹槽內(nèi)，所述蛾眼結(jié)構(gòu)的高度小于所述凹槽的深度。
19.如權(quán)利要求18所述的抗反射基板的制造方法，其特征在于，形成所述凹槽的步驟是利用刻蝕、激光雕刻、精密噴砂或超精密機械加工的方式來形成所述凹槽。
20.如權(quán)利要求18所述的抗反射基板的制造方法，其特征在于，形成所述蛾眼結(jié)構(gòu)的步驟是利用微影工藝、電子束雕刻或納米轉(zhuǎn)印的方式來形成所述蛾眼結(jié)構(gòu)。
全文摘要
本發(fā)明提供一種顯示裝置、抗反射基板及其制造方法，該顯示裝置包括一顯示面板及一抗反射基板?？狗瓷浠逶O(shè)置于顯示面板上?？狗瓷浠灏ㄒ换准岸鄠€蛾眼結(jié)構(gòu)。抗反射基板具有多個凹槽。所述蛾眼結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述凹槽內(nèi)。所述蛾眼結(jié)構(gòu)的高度小于所述凹槽的深度。本發(fā)明能夠使蛾眼結(jié)構(gòu)得以受到凹槽的保護，有效發(fā)揮抗反射效果，以改善不舒服的反光現(xiàn)象。
文檔編號G09F9/30GK102855817SQ20111017888
公開日2013年1月2日 申請日期2011年6月29日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月29日
發(fā)明者陳冠志, 谷祖賢 申請人:群康科技(深圳)有限公司, 奇美電子股份有限公司