專利名稱：觸控面板及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是有關(guān)于一種觸控面板及其制造方法。
通常，觸控面板(Touch Panel)會(huì)結(jié)合液晶顯示器(Liquid CrystalDisplay)或陰極射線管(Cathode Ray Tube)顯示器，做為使用者輸入界面，意即使用者可藉由觸控面板獲致移動(dòng)游標(biāo)(cursor)、點(diǎn)選圖像(icon)等操作。請參照
圖1～3，所示為習(xí)知四線式類比電阻觸控面板(4-wire analog resistive touch panel)，此觸控面板10包括一透明基板11和一絕緣片(PolyEster sheet，或簡稱為PET片)12。此透明基板11可以是由無堿玻璃(non-alkali glass)所構(gòu)成，絕緣片12可以是由聚酯物(polyester)所構(gòu)成。
請參照圖1，所示為透明基板11的平面圖。圖示中，氧化銦錫(ITO)層110覆于透明基板11表面，業(yè)經(jīng)光學(xué)微影術(shù)(photolithography)和蝕刻程序(etching)，定義氧化銦錫層110圖案，露出基板周邊區(qū)111。一對電極112和114形成于氧化銦錫層110上，位于氧化銦錫層110的相對兩側(cè)。一對導(dǎo)線116和118形成于基板周邊區(qū)111內(nèi)，分別用以電性連接電極112和114，同延伸至透明基板11的一側(cè)。
請參照圖2，所示為絕緣片12的平面圖。圖示中，氧化銦錫層120覆于絕緣片12表面，業(yè)經(jīng)光學(xué)微影術(shù)和蝕刻程序，定義氧化銦錫層120圖案，露出絕緣片周邊區(qū)121。一對電極122和124形成于氧化銦錫層120上，位于氧化銦錫層120的相對兩側(cè)。一對導(dǎo)線126和128形成于絕緣片周邊區(qū)121內(nèi)，分別用以電性連接電極112和114，同延伸至絕緣片12的一側(cè)。
請參照圖3，所示為透明基板11與絕緣片12接合的剖面圖。圖示中，透明基板11以氧化銦錫層110相對于絕緣片12上氧化銦錫層120，并設(shè)置有若干間隔物(spacer)13介于其間，以確保氧化銦錫層110和120間呈一固定間距D，避免短路現(xiàn)象發(fā)生。
然而，根據(jù)習(xí)知觸控面板10制程，定義氧化銦錫層110和120圖案時(shí)，均以厚膜制程網(wǎng)印絕緣膠或光學(xué)微影術(shù)結(jié)合蝕刻程序?yàn)橹?。由于光學(xué)微影術(shù)程序通常包含涂布光阻劑、烘烤、顯影、定影、沖洗、蝕刻、水洗、去除光阻劑、烘干等步驟，會(huì)耗費(fèi)相當(dāng)多的處理時(shí)間。再者，絕緣片12為一薄片，往往經(jīng)過光學(xué)微影術(shù)一連串的處理步驟之后，易于劣化氧化銦錫層120，導(dǎo)致產(chǎn)品良率降低，且制程所用材料有環(huán)保污染之虞。
因此，本發(fā)明之一目的，在于提供一種觸控面板及其制造方法，是利用溝槽將透明導(dǎo)電層區(qū)分為觸控區(qū)和周邊區(qū)，使觸控區(qū)和周邊區(qū)間呈電性絕緣，故可避免光學(xué)微影術(shù)制程繁復(fù)和優(yōu)良品率低的問題與環(huán)保污染的顧慮。
本發(fā)明的另一目的，在于提供一種觸控面板及其制造方法，是利用激光處理形成溝槽，將透明導(dǎo)電層區(qū)分為觸控區(qū)和周邊區(qū)，并使觸控區(qū)和周邊區(qū)間呈電性絕緣，而以簡化的制程改善光學(xué)微影術(shù)制程繁復(fù)、優(yōu)良品率低、以及環(huán)保污染等問題。
為獲致上述目的，本發(fā)明提供一種觸控面板，其特征在于包括一透明基板，該透明基板上形成有一第一透明導(dǎo)電層，該第一透明導(dǎo)電層經(jīng)由第一溝槽區(qū)分為一第一觸控區(qū)與一第一周邊區(qū)，使得該第一觸控區(qū)與該第一周邊區(qū)互為電性絕緣；第一對電極，分別形成于該第一觸控區(qū)內(nèi)相對兩側(cè)邊處；第一對導(dǎo)線，形成于該第一周邊區(qū)內(nèi)，分別與該第一對電極相連；一絕緣片，該絕緣片上形成有一第二透明導(dǎo)電層，該第二透明導(dǎo)電層經(jīng)由第二溝槽區(qū)分為一第二觸控區(qū)與一第二周邊區(qū)，使得該第二觸控區(qū)與該第二周邊區(qū)互為電性絕緣；
第二對電極，分別形成于該第二觸控區(qū)內(nèi)相對兩側(cè)邊處；第二對導(dǎo)線，形成于該第二周邊區(qū)內(nèi)，分別與該第二對電極相連；以及一絕緣間隔物，設(shè)置于該絕緣片與該透明基板之間，使該絕緣片與該透明基板結(jié)合時(shí)該第一透明導(dǎo)電層與該第二透明導(dǎo)電層間呈一固定間距。
所述的觸控面板，其特征在于該透明基板是一玻璃基板，該絕緣片是一聚酯片。
所述的觸控面板，其特征在于該第一透明導(dǎo)電層和該第二透明導(dǎo)電層是由氧化銦錫所構(gòu)成。
本發(fā)明還提供一種觸控面板，其特征在于包括一透明基板，該透明基板上形成有一第一透明導(dǎo)電層；一絕緣片，該絕緣片上形成有一第二透明導(dǎo)電層，該第二透明導(dǎo)電層經(jīng)由一溝槽區(qū)分為一觸控區(qū)與一周邊區(qū)，使得該觸控區(qū)與該周邊區(qū)互為電性絕緣；以及一絕緣間隔物，設(shè)置于該絕緣片與該透明基板之間，使該絕緣片與該透明基板結(jié)合時(shí)該第一透明導(dǎo)電層與該第二透明導(dǎo)電層間呈一固定間距。
所述的觸控面板，其特征在于包括一對電極，分別形成于該觸控區(qū)內(nèi)相對兩側(cè)邊處；一對導(dǎo)線，形成于該周邊區(qū)內(nèi)，分別與該對電極相連。
所述的觸控面板，其特征在于該透明基板是一玻璃基板，該絕緣片是一聚酯片。
所述的觸控面板，其特征在于該第一透明導(dǎo)電層和該第二透明導(dǎo)電層是由氧化銦錫所構(gòu)成。
本發(fā)明還提供一種觸控面板制造方法，其特征在于包括下列步驟(a)提供一透明基板，該透明基板上形成有一第一透明導(dǎo)電層；
(b)處理該第一透明導(dǎo)電層，形成一第一溝槽，經(jīng)由該第一溝槽將該第一透明導(dǎo)電層區(qū)分為互為電性絕緣的一第一觸控區(qū)與一第一周邊區(qū)；(c)形成第一對電極于該第一觸控區(qū)內(nèi)，分別位于該第一觸控區(qū)相對兩側(cè)邊處；(d)形成第一對導(dǎo)線于該第一周邊區(qū)內(nèi)，該第一對導(dǎo)線分別與該第一對電極相連；(e)提供一絕緣片，該絕緣片上形成有一第二透明導(dǎo)電層；(f)處理該第二透明導(dǎo)電層，形成一第二溝槽，經(jīng)由該第二溝槽將該第二透明導(dǎo)電層區(qū)分為互為電性絕緣的一第二觸控區(qū)與一第二周邊區(qū)；(g)形成第二對電極于該第二觸控區(qū)內(nèi)，分別位于該第二觸控區(qū)相對兩側(cè)邊處；(h)形成第二對導(dǎo)線于該第二周邊區(qū)內(nèi)，該第二對導(dǎo)線分別與該第二對電極相連；以及(i)設(shè)置一絕緣間隔物介于該絕緣片與該透明基板之間，使該絕緣片與該透明基板結(jié)合時(shí)該第一透明導(dǎo)電層與該第二透明導(dǎo)電層間呈一固定間距。
所述的觸控面板制造方法，其特征在于步驟(b)是利用激光處理。
所述的觸控面板制造方法，其特征在于該激光處理是選自由NdYAG激光、Argon激光、CO2激光、以及準(zhǔn)分子激光處理中的一種。
所述的觸控面板制造方法，其特征在于步驟(f)是利用激光處理。
所述的觸控面板制造方法，其特征在于該激光處理是選自由NdYAG激光、Argon激光、CO2激光、以及準(zhǔn)分子激光處理中的一種。
所述的觸控面板制造方法，其特征在于步驟(c)和(d)于同一步驟完成。
所述的觸控面板制造方法，其特征在于步驟(g)和(h)于同一步驟完成。
所述的觸控面板制造方法，其特征在于該第一對電極與該第一對導(dǎo)線的材料，是Ag、Cr、Mo、Al之中的一種金屬。
所述的觸控面板制造方法，其特征在于該第二對電極與該第二對導(dǎo)線的材料，是Ag、Cr、Mo、Al中的一種金屬。
本發(fā)明還提供一種觸控面板制造方法，其特征在于包括下列步驟(a)提供一透明基板，該透明基板上形成有一第一透明導(dǎo)電層；(b)提供一絕緣片，該絕緣片上形成有一第二透明導(dǎo)電層；(c)處理該第二透明導(dǎo)電層，形成一溝槽，經(jīng)由該溝槽將該第二透明導(dǎo)電層區(qū)分為互為電性絕緣的一觸控區(qū)與一周邊區(qū)；以及(d)設(shè)置一絕緣間隔物介于該絕緣片與該透明基板之間，當(dāng)該絕緣片與該透明基板接合時(shí)，絕緣間隔物得以確保該第一透明導(dǎo)電層與該第二透明導(dǎo)電層間呈一固定間距。
所述的觸控面板制造方法，其特征在于步驟(c)是利用激光處理。
所述的觸控面板制造方法，其特征在于該激光處理是選自由NdYAG激光、Argon激光、CO2激光、以及準(zhǔn)分子激光處理中的一種。
所述的觸控面板制造方法，其特征在于尚包括形成一對電極于該觸控區(qū)內(nèi)，分別位于該觸控區(qū)相對兩側(cè)邊處；以及形成一對導(dǎo)線于該周邊區(qū)內(nèi)，該對導(dǎo)線分別與該對電極相連；所述的觸控面板制造方法，其特征在于該對電極與該對導(dǎo)線于同一步驟完成。
所述的觸控面板制造方法，其特征在于該對電極與該對導(dǎo)線的材料，是Ag、Cr、Mo、Al之中的一種金屬。
本發(fā)明還提供一種觸控面板制造方法，其特征在于包括下列步驟(a)提供一透明基板，該透明基板上形成有一第一透明導(dǎo)電層；(b)對該第一透明導(dǎo)電層施行激光處理，露出基板周邊區(qū)；(c)形成第一對電極于該第一透明導(dǎo)電層相對兩側(cè)邊處；(d)形成第一對導(dǎo)線于該基板周邊區(qū)內(nèi)，該第一對導(dǎo)線分別與該第一對電極相連；(e)提供一絕緣片，該絕緣片上形成有一第二透明導(dǎo)電層；(f)對該第二透明導(dǎo)電層施行激光處理，露出絕緣片周邊區(qū)；(g)形成第二對電極于該第二透明導(dǎo)電層相對兩側(cè)邊處；(h)形成第二對導(dǎo)線于該絕緣片周邊區(qū)內(nèi)，該第二對導(dǎo)線分別與該第二對電極相連；以及(i)設(shè)置一絕緣間隔物介于該絕緣片與該透明基板之間，當(dāng)該絕緣片與該透明基板結(jié)合時(shí)，絕緣間隔物得以確保該第一透明導(dǎo)電層與該第二透明導(dǎo)電層間呈一固定間距。
所述的觸控面板制造方法，其特征在于該激光處理是選自由NdYAG激光、Argon激光、CO2激光、以及準(zhǔn)分子激光處理中的一種。
所述的觸控面板制造方法，其特征在于步驟(c)和(d)于同一步驟完成。
所述的觸控面板制造方法，其特征在于步驟(g)和(h)于同一步驟完成。
所述的觸控面板制造方法，其特征在于該第一對電極與該第一對導(dǎo)線的材料，是Ag、Cr、Mo、Al之中的一種金屬。
所述的觸控面板制造方法，其特征在于該第二對電極與該第二對導(dǎo)線的材料是Ag、Cr、Mo、Al之中的一種金屬。
本發(fā)明的觸控面板及其制造方法的優(yōu)點(diǎn)是，制造程序簡化、優(yōu)良品率高以及防止出現(xiàn)環(huán)保污染的問題。
為讓本發(fā)明之上述和其他目的、特征、和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉若干較佳實(shí)施例，并配合所附圖式，作詳細(xì)說明如下圖示的簡單說明圖1是顯示習(xí)知觸控面板的透明基板的平面圖；圖2是顯示習(xí)知觸控面板的絕緣片的平面圖；圖3是顯示習(xí)知觸控面板的剖面圖示；圖4是顯示根據(jù)本發(fā)明較佳實(shí)施例的透明基板的平面圖；圖5是顯示根據(jù)本發(fā)明較佳實(shí)施例的絕緣片的平面圖；圖6是顯示根據(jù)本發(fā)明較佳實(shí)施例的觸控面板的剖面圖示；以及圖7～9所示為本發(fā)明的溝槽形狀的若干實(shí)施例示意圖。
為讓本發(fā)明能更明顯易懂，下文特舉若干較佳實(shí)施例，并配合圖4～6作詳細(xì)說明。其中，圖4～6所示標(biāo)號(hào)若與圖1～3相同者，表示相同或相對應(yīng)的元件，于此先行敘明。
本發(fā)明的第一實(shí)施例，請參照圖4～6，本發(fā)明的觸控面板10包括一透明基板11和一絕緣片12。此透明基板11可以是由無堿玻璃(non-alkali glass)所構(gòu)成，絕緣片12可以是由聚酯物(polyester)所構(gòu)成。
請參照圖4，所示為透明基板11的平面圖。圖示中，一透明導(dǎo)電層110覆于透明基板11表面，通常，透明導(dǎo)電層110是由氧化銦錫(ITO)物所構(gòu)成。然后，對透明導(dǎo)電層110施以激光處理，去除部份透明導(dǎo)電層110，形成溝槽115，意即透明導(dǎo)電層110經(jīng)區(qū)分成觸控區(qū)110A和110B，藉由溝槽115互為電性絕緣。此激光處理可以是NdYAG激光、Argon激光、CO2激光或準(zhǔn)分子激光。一對電極112和114形成于透明導(dǎo)電層110上，位于觸控區(qū)110A的相對兩側(cè)。一對導(dǎo)線116和118形成于透明導(dǎo)電層110上、位于周邊區(qū)110B內(nèi)，分別用以電性連接電極112和114，并同延伸至透明基板11的一側(cè)。電極112和114、導(dǎo)線116和118可于單一制程步驟同時(shí)形成，此一步驟可是物理氣相沉積法(PVD)、化學(xué)氣相沉積法(CVD)、或印刷法(printing)等。電極112和114、導(dǎo)線116和118的材料，可以是Ag、Cr、Mo、或Al等金屬物質(zhì)。
請參照圖5，所示為絕緣片12的平面圖。圖示中，一透明導(dǎo)電層120覆于絕緣片12表面，通常，透明導(dǎo)電層120是由氧化銦錫(ITO)物所構(gòu)成。然后，對透明導(dǎo)電層120施以激光處理，去除部份透明導(dǎo)電層120，形成溝槽125，意即透明導(dǎo)電層120經(jīng)區(qū)分成觸控區(qū)120A和120B，藉由溝槽125互為電性絕緣。此激光處理可以是NdYAG激光、Argon激光、CO2激光或準(zhǔn)分子激光。一對電極122和124形成于透明導(dǎo)電層120上，位于觸控區(qū)120A的相對兩側(cè)。一對導(dǎo)線126和128形成于透明導(dǎo)電層120上、位于周邊區(qū)120B內(nèi)，分別用以電性連接電極122和124，并同延伸至絕緣片12的一側(cè)。電極122和124、導(dǎo)線126和128可于單一制程步驟同時(shí)形成，此一步驟可是物理氣相沉積法(PVD)、化學(xué)氣相沉積法(CVD)、或印刷法(printing)等為之。電極122和124、導(dǎo)線126和128的材料，可以是Ag、Cr、Mo、或Al等金屬物質(zhì)。
如圖4、5所示，電極112和114是分別位于觸控區(qū)110A的右、左兩側(cè)，而電極122和124則分別位于觸控區(qū)120A之上、下兩側(cè)。若電極112和114是分別位于觸控區(qū)110A之上、下兩側(cè)，則電極122和124需分別位于觸控區(qū)120A的右、左兩側(cè)。
請參照圖6，所示為透明基板11與絕緣片12接合的剖面圖。圖示中，透明基板11以氧化銦錫層110相對于絕緣片12上氧化銦錫層120，并設(shè)置有若干間隔物(spacer)13介于其間，以確保氧化銦錫層110和120間呈一固定間距D，避免短路現(xiàn)象發(fā)生。
雖然，圖4、5所示的溝槽115和125是為字型，卻非用以限定本發(fā)明，其它諸如圖7所示H型、圖8所示π型、圖9所示雙十字型等等，亦可適用。
根據(jù)本發(fā)明，透明導(dǎo)電層110和120無須經(jīng)過光學(xué)微影術(shù)及蝕刻處理，而是以激光處理透明導(dǎo)電層110成溝槽115，令觸控區(qū)110A與周邊區(qū)110B間呈電性絕緣，或者，以激光處理透明導(dǎo)電層120成溝槽125，令觸控區(qū)120A與周邊區(qū)120B間呈電性絕緣。因此，根據(jù)本發(fā)明的觸控面板及其制造方法，可以避免光學(xué)微影術(shù)制程繁復(fù)和優(yōu)良品率低的問題。
本發(fā)明的另一實(shí)施例的方法，是以激光處理定義圖1所示的透明導(dǎo)電層110圖案，露出基板周邊區(qū)111；抑或以激光處理定義圖2所示的透明導(dǎo)電層120圖案，露出絕緣片周邊區(qū)121。由于透明導(dǎo)電層110和120無須經(jīng)過光學(xué)微影術(shù)及蝕刻處理，而是以激光處理代之，故可避免光學(xué)微影術(shù)制程繁復(fù)和優(yōu)良品率低的問題。
權(quán)利要求
1.一種觸控面板，其特征在于包括一透明基板，該透明基板上形成有一第一透明導(dǎo)電層，該第一透明導(dǎo)電層經(jīng)由第一溝槽區(qū)分為一第一觸控區(qū)與一第一周邊區(qū)，使得該第一觸控區(qū)與該第一周邊區(qū)互為電性絕緣；第一對電極，分別形成于該第一觸控區(qū)內(nèi)相對兩側(cè)邊處；第一對導(dǎo)線，形成于該第一周邊區(qū)內(nèi)，分別與該第一對電極相連；一絕緣片，該絕緣片上形成有一第二透明導(dǎo)電層，該第二透明導(dǎo)電層經(jīng)由第二溝槽區(qū)分為一第二觸控區(qū)與一第二周邊區(qū)，使得該第二觸控區(qū)與該第二周邊區(qū)互為電性絕緣；第二對電極，分別形成于該第二觸控區(qū)內(nèi)相對兩側(cè)邊處；第二對導(dǎo)線，形成于該第二周邊區(qū)內(nèi)，分別與該第二對電極相連；以及一絕緣間隔物，設(shè)置于該絕緣片與該透明基板之間，使該絕緣片與該透明基板結(jié)合時(shí)該第一透明導(dǎo)電層與該第二透明導(dǎo)電層間呈一固定間距。
2.如權(quán)利要求1所述的觸控面板，其特征在于該透明基板是一玻璃基板，該絕緣片是一聚酯片。
3.如權(quán)利要求1所述的觸控面板，其特征在于該第一透明導(dǎo)電層和該第二透明導(dǎo)電層是由氧化銦錫所構(gòu)成。
4.一種觸控面板，其特征在于包括一透明基板，該透明基板上形成有一第一透明導(dǎo)電層；一絕緣片，該絕緣片上形成有一第二透明導(dǎo)電層，該第二透明導(dǎo)電層經(jīng)由一溝槽區(qū)分為一觸控區(qū)與一周邊區(qū)，使得該觸控區(qū)與該周邊區(qū)互為電性絕緣；以及一絕緣間隔物，設(shè)置于該絕緣片與該透明基板之間，使該絕緣片與該透明基板結(jié)合時(shí)該第一透明導(dǎo)電層與該第二透明導(dǎo)電層間呈一固定間距。
5.如權(quán)利要求4所述的觸控面板，其特征在于包括一對電極，分別形成于該觸控區(qū)內(nèi)相對兩側(cè)邊處；一對導(dǎo)線，形成于該周邊區(qū)內(nèi)，分別與該對電極相連。
6.如權(quán)利要求4所述的觸控面板，其特征在于該透明基板是一玻璃基板，該絕緣片是一聚酯片。
7.如權(quán)利要求4所述的觸控面板，其特征在于該第一透明導(dǎo)電層和該第二透明導(dǎo)電層是由氧化銦錫所構(gòu)成。
8.一種觸控面板制造方法，其特征在于包括下列步驟(a)提供一透明基板，該透明基板上形成有一第一透明導(dǎo)電層；(b)處理該第一透明導(dǎo)電層，形成一第一溝槽，經(jīng)由該第一溝槽將該第一透明導(dǎo)電層區(qū)分為互為電性絕緣的一第一觸控區(qū)與一第一周邊區(qū)；(c)形成第一對電極于該第一觸控區(qū)內(nèi)，分別位于該第一觸控區(qū)相對兩側(cè)邊處；(d)形成第一對導(dǎo)線于該第一周邊區(qū)內(nèi)，該第一對導(dǎo)線分別與該第一對電極相連；(e)提供一絕緣片，該絕緣片上形成有一第二透明導(dǎo)電層；(f)處理該第二透明導(dǎo)電層，形成一第二溝槽，經(jīng)由該第二溝槽將該第二透明導(dǎo)電層區(qū)分為互為電性絕緣的一第二觸控區(qū)與一第二周邊區(qū)；(g)形成第二對電極于該第二觸控區(qū)內(nèi)，分別位于該第二觸控區(qū)相對兩側(cè)邊處；(h)形成第二對導(dǎo)線于該第二周邊區(qū)內(nèi)，該第二對導(dǎo)線分別與該第二對電極相連；以及(i)設(shè)置一絕緣間隔物介于該絕緣片與該透明基板之間，使該絕緣片與該透明基板結(jié)合時(shí)該第一透明導(dǎo)電層與該第二透明導(dǎo)電層間呈一固定間距。
9.如權(quán)利要求8所述的觸控面板制造方法，其特征在于步驟(b)是利用激光處理。
10.如權(quán)利要求9所述的觸控面板制造方法，其特征在于該激光處理是選自由NdYAG激光、Argon激光、CO2激光、以及準(zhǔn)分子激光處理中的一種。
11.如權(quán)利要求8所述的觸控面板制造方法，其特征在于步驟(f)是利用激光處理。
12.如權(quán)利要求11所述的觸控面板制造方法，其特征在于該激光處理是選自由NdYAG激光、Argon激光、CO2激光、以及準(zhǔn)分子激光處理中的一種。
13.如權(quán)利要求8所述的觸控面板制造方法，其特征在于步驟(c)和(d)于同一步驟完成。
14.如權(quán)利要求8所述的觸控面板制造方法，其特征在于步驟(g)和(h)于同一步驟完成。
15.如權(quán)利要求8所述的觸控面板制造方法，其特征在于該第一對電極與該第一對導(dǎo)線的材料，是Ag、Cr、Mo、Al之中的一種金屬。
16.如權(quán)利要求8所述的觸控面板制造方法，其特征在于該第二對電極與該第二對導(dǎo)線的材料，是Ag、Cr、Mo、Al中的一種金屬。
17.一種觸控面板制造方法，其特征在于包括下列步驟(a)提供一透明基板，該透明基板上形成有一第一透明導(dǎo)電層；(b)提供一絕緣片，該絕緣片上形成有一第二透明導(dǎo)電層；(c)處理該第二透明導(dǎo)電層，形成一溝槽，經(jīng)由該溝槽將該第二透明導(dǎo)電層區(qū)分為互為電性絕緣的一觸控區(qū)與一周邊區(qū)；以及(d)設(shè)置一絕緣間隔物介于該絕緣片與該透明基板之間，當(dāng)該絕緣片與該透明基板接合時(shí)，絕緣間隔物得以確保該第一透明導(dǎo)電層與該第二透明導(dǎo)電層間呈一固定間距。
18.如權(quán)利要求17所述的觸控面板制造方法，其特征在于步驟(c)是利用激光處理。
19.如權(quán)利要求18所述的觸控面板制造方法，其特征在于該激光處理是選自由NdYAG激光、Argon激光、CO2激光、以及準(zhǔn)分子激光處理中的一種。
20.如權(quán)利要求17所述的觸控面板制造方法，其特征在于尚包括形成一對電極于該觸控區(qū)內(nèi)，分別位于該觸控區(qū)相對兩側(cè)邊處；以及形成一對導(dǎo)線于該周邊區(qū)內(nèi)，該對導(dǎo)線分別與該對電極相連；
21.如權(quán)利要求20所述的觸控面板制造方法，其特征在于該對電極與該對導(dǎo)線于同一步驟完成。
22.如權(quán)利要求21所述的觸控面板制造方法，其特征在于該對電極與該對導(dǎo)線的材料，是Ag、Cr、Mo、Al之中的一種金屬。
23.一種觸控面板制造方法，其特征在于包括下列步驟(a)提供一透明基板，該透明基板上形成有一第一透明導(dǎo)電層；(b)對該第一透明導(dǎo)電層施行激光處理，露出基板周邊區(qū)；(c)形成第一對電極于該第一透明導(dǎo)電層相對兩側(cè)邊處；(d)形成第一對導(dǎo)線于該基板周邊區(qū)內(nèi)，該第一對導(dǎo)線分別與該第一對電極相連；(e)提供一絕緣片，該絕緣片上形成有一第二透明導(dǎo)電層；(f)對該第二透明導(dǎo)電層施行激光處理，露出絕緣片周邊區(qū)；(g)形成第二對電極于該第二透明導(dǎo)電層相對兩側(cè)邊處；(h)形成第二對導(dǎo)線于該絕緣片周邊區(qū)內(nèi)，該第二對導(dǎo)線分別與該第二對電極相連；以及(i)設(shè)置一絕緣間隔物介于該絕緣片與該透明基板之間，當(dāng)該絕緣片與該透明基板結(jié)合時(shí)，絕緣間隔物得以確保該第一透明導(dǎo)電層與該第二透明導(dǎo)電層間呈一固定間距。
24.如權(quán)利要求23所述的觸控面板制造方法，其特征在于該激光處理是選自由NdYAG激光、Argon激光、CO2激光、以及準(zhǔn)分子激光處理中的一種。
25.如權(quán)利要求23所述的觸控面板制造方法，其特征在于步驟(c)和(d)于同一步驟完成。
26.如權(quán)利要求23所述的觸控面板制造方法，其特征在于步驟(g)和(h)于同一步驟完成。
27.如權(quán)利要求23所述的觸控面板制造方法，其特征在于該第一對電極與該第一對導(dǎo)線的材料，是Ag、Cr、Mo、Al之中的一種金屬。
28.如權(quán)利要求23所述的觸控面板制造方法，其特征在于該第二對電極與該第二對導(dǎo)線的材料是Ag、Cr、Mo、Al之中的一種金屬。
全文摘要
一種觸控面板及其制造方法,該觸控面板包括:一透明基板,其上形成第一透明導(dǎo)電層,該第一透明導(dǎo)電層經(jīng)由第一溝槽區(qū)分為一第一觸控區(qū)與一第一周邊區(qū),于該第一觸控區(qū)內(nèi)相對兩側(cè)邊設(shè)有第一對電極;一絕緣片上形成第二透明導(dǎo)電層,該第二透明導(dǎo)電層經(jīng)由第二溝槽區(qū)分為第二觸控區(qū)與第二周邊區(qū),于該第二觸控區(qū)內(nèi)相對兩側(cè)邊設(shè)有第二對電極,一絕緣間隔物設(shè)置于該絕緣片與該透明基板之間。本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)是制造程序簡化、優(yōu)良品率高。
文檔編號(hào)G09G5/12GK1336630SQ001211
公開日2002年2月20日 申請日期2000年7月27日 優(yōu)先權(quán)日2000年7月27日
發(fā)明者曾國浩 申請人:曾國浩