1.一種快速二維均勻輻照掃描方法，其特征在于，所述掃描方法包括：
步驟1、將帶電粒子束流擴束成截面為特定分布的且具有一定寬高比例的束斑；根據(jù)束流宏脈沖的長度，計算出單次線掃描的時間；
步驟2、根據(jù)束流宏脈沖的重復(fù)頻率，計算出單次步進掃描的時間間隔；
步驟3、根據(jù)需要掃描的樣品面積和束斑面積，計算得到完成一次面掃描的時間；
步驟4、在束流的出口，根據(jù)計算的線掃描時間，采用連續(xù)變化的快變化磁場向截面尺寸小的方向進行一個維度的線掃描；
步驟5、在束流的出口，根據(jù)計算的步進掃描時間，采用高變化頻率的穩(wěn)態(tài)磁場向截面尺寸大的方向進行第二個維度的步進掃描。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的快速二維均勻輻照掃描方法，其特征在于，采用多塊四極磁鐵，對帶電粒子束進行橫截面方向的擴束，使得束斑截面具有一定寬高比例。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的快速二維均勻輻照掃描方法，其特征在于，采用沖擊型磁鐵產(chǎn)生快變化的線掃描磁場。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的快速二維均勻輻照掃描方法，其特征在于，所述沖擊型磁鐵，可以選擇鎳鋅鐵氧體磁鐵。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的快速二維均勻輻照掃描方法，其特征在于，所述沖擊型磁鐵，其供電采用斷續(xù)三角波電流波形的高頻脈沖數(shù)字電源。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的快速二維均勻輻照掃描方法，其特征在于，采用快響應(yīng)的磁鐵產(chǎn)生穩(wěn)態(tài)步進掃描磁場。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的快速二維均勻輻照掃描方法，其特征在于，掃描磁鐵處的真空室采用鍍膜陶瓷真空室。