圖像處理方法和圖像處理裝置制造方法
【專利摘要】提供圖像處理方法，其包括圖像記錄，其中由多個(gè)激光繪制的線組成的圖像通過(guò)將平行激光照射在隔開預(yù)定距離的記錄介質(zhì)上加熱進(jìn)行記錄，其中在圖像記錄中，在組成圖像的多個(gè)激光繪制的線中，形成以不同能量繪制的至少兩個(gè)單元的線，每個(gè)由彼此臨近并且具有不同的照射能量的一對(duì)激光繪制的線組成。
【專利說(shuō)明】圖像處理方法和圖像處理裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及圖像處理方法和圖像處理裝置。

【背景技術(shù)】
[0002] 作為用于在介質(zhì)上的表面不規(guī)則性或遠(yuǎn)程記錄或擦除的情況下在熱可逆記錄介 質(zhì)（下文中，其也可被稱為"記錄介質(zhì)"或"介質(zhì)"）上均勻地記錄或擦除圖像的方法，已經(jīng) 提出了制造激光的各種方法（參見(jiàn)PTLl等）。因此，已經(jīng)提供了通過(guò)激光的圖像處理方法、 能夠使得高功率激光照射在熱可逆記錄介質(zhì)上并且控制其位置的激光記錄裝置（激光打 標(biāo)機(jī)（laser marker))。當(dāng)使用該激光打標(biāo)機(jī)將激光照射在熱可逆記錄介質(zhì)上時(shí)，熱可逆 記錄介質(zhì)中的光熱轉(zhuǎn)換材料吸收光并將其轉(zhuǎn)化為熱，并且可通過(guò)熱進(jìn)行圖像處理和圖像擦 除。例如，作為用于通過(guò)激光進(jìn)行圖像記錄和圖像擦除的方法，已經(jīng)提出了用于通過(guò)近紅外 激光記錄的方法，其中結(jié)合無(wú)色染料、可逆顯色劑和各種光熱轉(zhuǎn)換材料（參見(jiàn)PTL2)。
[0003] 這里，用于在使用激光的圖像記錄和圖像擦除中掃描激光的方法的實(shí)例包括圖1 和圖2圖解的那些。這里，在圖1和圖2中，實(shí)線箭頭表示激光繪制操作（標(biāo)記操作），以及 虛線箭頭表示移動(dòng)的繪制點(diǎn)的跳躍操作（空轉(zhuǎn)操作）。
[0004] 在圖1中，從第一起點(diǎn)至第一終點(diǎn)繪制第一激光繪制的線201，并且照射和掃描激 光以便從第二起點(diǎn)至第二終點(diǎn)與第一激光繪制的線201平行繪制臨近第一激光繪制的線 201的第二激光繪制的線202。
[0005] 根據(jù)圖1中圖解的激光掃描，短的圖像記錄時(shí)間中的繪制是可能的，在轉(zhuǎn)向部分 具有較小的減速。然而，由于就在印刷第一激光繪制的線201的終點(diǎn)之后印刷第二激光繪 制的線202的起點(diǎn)的熱積累影響，熱可逆記錄介質(zhì)在激光繪制的線的轉(zhuǎn)向部分被過(guò)度地加 熱。結(jié)果，存在不均勻圖像密度和減少的重復(fù)耐久性的問(wèn)題。
[0006] 圖2圖解了用于照射和掃描激光的方法，其中從第一起點(diǎn)至第一終點(diǎn)繪制第一激 光繪制的線211 ;從第一終點(diǎn)至第二起點(diǎn)掃描激光而不照射；并且從第二起點(diǎn)至第二終點(diǎn) 與第一激光繪制的線211平行繪制臨近第一激光繪制的線211的第二激光的線212 (參見(jiàn) PTL3)。
[0007] 根據(jù)圖2中圖解的該激光掃描，可改善在轉(zhuǎn)向部分的速度減小和熱積累的影響， 并且可以避免在熱可逆記錄介質(zhì)上的過(guò)多能量應(yīng)用。因此，重復(fù)耐久性改善。然而，沒(méi)有激 光照射的虛線部分長(zhǎng)，并且因此圖像記錄時(shí)間和圖像擦除時(shí)間長(zhǎng)。同樣地，在激光掃描方法 中，作為減少熱積累影響的替代方案，在繪制第一激光繪制的線211之后以冷態(tài)記錄第二 激光繪制的線212。因此，不能使用熱積累，并且需要高能量。因此，不能提高掃描速度，并 且存在不能減少圖像記錄時(shí)間的問(wèn)題。
[0008] 而且，本發(fā)明 申請(qǐng)人:早期已經(jīng)提出了圖3中圖解的用于照射和掃描激光的方法以 便從第一起點(diǎn)至第一終點(diǎn)繪制第一激光繪制的線221，并且然后，從第二起點(diǎn)朝向第二終點(diǎn) 繪制臨近第一激光繪制的線221的第二激光繪制的線222,第二終點(diǎn)位于相對(duì)于平行于第 一激光繪制的線221的線與第一起點(diǎn)傾斜的方向的線上（見(jiàn)PTL4)。
[0009] 根據(jù)圖3中圖解的此提議，可以抑制在實(shí)心圖像部分和擦除部分處的不均勻密 度，并且可改善實(shí)心圖像的重復(fù)耐久性。同時(shí)，可減少圖像印刷和擦除時(shí)間。然而，由于對(duì) 角地記錄第二激光繪制的線222,所以存在圖像的末端部分缺少的問(wèn)題，這取決于圖像的類 型。
[0010] 在通過(guò)掃描激光繪制的圖像中，尤其在繪制條形碼圖像的情況下，需要高的圖像 密度和精確的線寬度，為了改善的可讀性，必須通過(guò)照射高能量激光繪制圖像。然而，在現(xiàn) 有技術(shù)中描述的用于掃描激光的所有方法中，沒(méi)有充分地解決在轉(zhuǎn)向部分處的激光繪制的 線的熱積累影響。因此，當(dāng)圖像是由多個(gè)激光繪制的線形成的任意線寬度的圖表時(shí)，其需要 高的圖像密度和精確的線寬度并且需要可讀性的改善，尤其是條形碼圖像，繪制具有高的 圖像密度和精確的線寬度的圖像，以及重復(fù)地繪制具有高可讀性的圖像目前是困難的。
[0011] 引用列表
[0012] 專利文獻(xiàn)
[0013] PTLl日本專利申請(qǐng)?zhí)亻_（JP-A)號(hào)2000-136022
[0014] PTL2 JP-A 號(hào) 11-151856
[0015] PTL3 JP-A 號(hào) 2008-213439
[0016] PTL4 JP-A 號(hào) 2011-116116


【發(fā)明內(nèi)容】

[0017] 技術(shù)問(wèn)題
[0018] 本發(fā)明旨在提供圖像處理方法，其能夠使得以高的圖像密度和精確的線寬度有效 地繪制，并且實(shí)現(xiàn)具有優(yōu)越的重復(fù)耐久性的圖像，即使圖像是由多個(gè)激光繪制的線形成的 任意線寬度的圖表，其需要高的圖像密度和精確的線寬度并且需要可讀性的改善，尤其是 條形碼圖像。
[0019] 問(wèn)題的解決方案
[0020] 作為用于解決問(wèn)題的手段的本發(fā)明的圖像處理方法包括圖像記錄步驟，其中由多 個(gè)激光繪制的線組成的圖像通過(guò)照射平行的激光在隔開預(yù)定距離的記錄介質(zhì)上加熱進(jìn)行 記錄，其中在圖像記錄步驟中，在組成圖像的多個(gè)激光繪制的線中，形成以不同能量繪制的 至少兩個(gè)單元的線，每個(gè)由彼此臨近并且具有不同的照射能量的一對(duì)激光繪制的線組成。
[0021] 發(fā)明的有益效果
[0022] 根據(jù)本發(fā)明，可以解決常規(guī)的問(wèn)題，可以實(shí)現(xiàn)目標(biāo)，并且有可能提供圖像處理方 法，其能夠使得以高的圖像密度和精確的線寬度有效地繪制，并且實(shí)現(xiàn)具有優(yōu)越的重復(fù)耐 久性的圖像，即使圖像是由多個(gè)激光繪制的線形成的任意線寬度的圖表，其需要高的圖像 密度和精確的線寬度并且需要可讀性的改善，尤其是條形碼圖像。
[0023] 附圖簡(jiǎn)述
[0024] 圖1是圖解通過(guò)常規(guī)圖像處理方法的圖像記錄的一個(gè)實(shí)例的示意圖。
[0025] 圖2是圖解通過(guò)常規(guī)圖像處理方法的圖像記錄的另一個(gè)實(shí)例的示意圖。
[0026] 圖3是圖解通過(guò)常規(guī)圖像處理方法的圖像記錄的另一個(gè)實(shí)例的示意圖。
[0027] 圖4是圖解通過(guò)本發(fā)明的圖像處理方法的圖像記錄的一個(gè)實(shí)例的示意圖。
[0028] 圖5是圖解通過(guò)本發(fā)明的圖像處理方法的圖像記錄的另一個(gè)實(shí)例的示意圖。
[0029] 圖6是圖解照射能量和坐標(biāo)位置之間的關(guān)系的一個(gè)實(shí)例的圖。
[0030] 圖7是圖解照射能量和坐標(biāo)位置之間的關(guān)系的另一個(gè)實(shí)例的圖。
[0031] 圖8A是圖解熱可逆記錄介質(zhì)的層結(jié)構(gòu)的一個(gè)實(shí)例的示意性截面圖。
[0032] 圖8B是圖解熱可逆記錄介質(zhì)的層結(jié)構(gòu)的另一個(gè)實(shí)例的示意性截面圖。
[0033] 圖8C是圖解熱可逆記錄介質(zhì)的層結(jié)構(gòu)的另一個(gè)實(shí)例的示意性截面圖。
[0034] 圖8D是圖解熱可逆記錄介質(zhì)的層結(jié)構(gòu)的另一個(gè)實(shí)例的示意性截面圖。
[0035] 圖9A是圖解熱可逆記錄介質(zhì)的顏色形成和顏色擦除特性的圖。
[0036] 圖9B是圖解熱可逆記錄介質(zhì)的顏色形成和顏色擦除機(jī)制的示意性解釋圖。
[0037] 圖10是圖解本發(fā)明的圖像處理裝置的一個(gè)實(shí)例的示意圖。
[0038] 實(shí)施方式的描述
[0039] (圖像處理方法和圖像處理裝置）
[0040] 本發(fā)明的圖像處理方法包括圖像記錄步驟，并且其進(jìn)一步包括圖像擦除步驟和根 據(jù)需要適當(dāng)?shù)剡x擇的其它步驟。
[0041] 本發(fā)明的圖像處理裝置用于本發(fā)明的圖像處理方法。其包括激光發(fā)射單元和用于 在記錄介質(zhì)的激光照射表面上掃描激光的激光掃描單元，并且其進(jìn)一步包括根據(jù)需要適當(dāng) 地選擇的其它單元。
[0042] 在下文中，詳細(xì)解釋了本發(fā)明的圖像處理方法和圖像處理裝置。
[0043] 〈圖像記錄步驟〉
[0044] 圖像記錄步驟是通過(guò)照射隔開預(yù)定距離的平行激光用于加熱記錄介質(zhì)的步驟，以 便記錄由多個(gè)激光繪制的線組成的圖像。
[0045] 這里，一般而言，圖像意味著由多個(gè)激光繪制的線形成的任意線寬度的線圖。其 實(shí)例包括二維碼，比如條形碼和QR碼（注冊(cè)商標(biāo)）和組成填充（fill)、圖形、白和黑相反的 字母、黑白相反的字符、輪廓字符和粗體字母的線；該條形碼是有利的。條形碼的實(shí)例包括 ITF、C0DE128、C0DE39、JAN、EAN、UPC 和 NW-7。
[0046] 條形碼由窄條、寬條或其組合組成，并且最細(xì)尺寸的條被稱作窄條。
[0047] 條形碼的高度沒(méi)有特別地限制，并且其可根據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x擇。但是，其優(yōu)選3_ 至40mm，以及更優(yōu)選8mm至20mm。
[0048] 條形碼的長(zhǎng)度沒(méi)有特別地限制，并且其可根據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x擇。但是，其優(yōu)選5mm 至 150mm。
[0049] 在繪制條形碼中一條激光繪制的線的厚度（直徑）沒(méi)有特別地限制，并且其可根 據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x擇。但是，其優(yōu)選125 μ m至1，000 μ m。
[0050] 作為在繪制條形碼中臨近的激光繪制的線的中心之間的最短距離的間隔（間距） 優(yōu)選為一條激光繪制的線的厚度（直徑）的20%至90%，以及更優(yōu)選40%至80%。
[0051] 在本發(fā)明中，在圖像記錄步驟中，（1)在組成圖像的多個(gè)激光繪制的線中，形成以 不同能量繪制的至少兩個(gè)單元的線，每個(gè)單元由彼此臨近并且具有不同的照射能量的一對(duì) 激光繪制的線組成；優(yōu)選地，（2)在組成圖像的多個(gè)激光繪制的線中，除首先被照射的激光 繪制的線之外的激光繪制的線具有照射能量以便線終點(diǎn)處的照射能量被設(shè)定為從線起點(diǎn) 處的照射能量以逐步的方式增加。因此，不過(guò)度地加熱轉(zhuǎn)向部分。結(jié)果，可以繪制沒(méi)有不均 勻的密度和具有高圖像質(zhì)量以及優(yōu)越的重復(fù)耐久性的圖像。因此，甚至可以有效地以高的 圖像密度和精確的線寬度繪制條形碼圖像。
[0052] 在圖像記錄步驟中，如上所述，（1)在組成圖像的多個(gè)激光繪制的線中，形成以不 同能量繪制的至少兩個(gè)單元的線，每個(gè)單元由彼此臨近并且具有不同的照射能量的一對(duì)激 光繪制的線組成。因此，可以有效地降低整個(gè)圖像的照射能量。當(dāng)以不同能量繪制的線的 單元數(shù)小于2時(shí)，整個(gè)圖像的照射能量變得太高，并且存在激光繪制的線的轉(zhuǎn)向部分處的 重復(fù)耐久性降低的情況。
[0053] 在組成圖像的多個(gè)激光繪制的線中，以不同能量繪制的線的單元數(shù)取決于組成圖 像的激光繪制的線的數(shù)目而變化并且不可以被無(wú)條件地限定，每個(gè)單元由彼此臨近并且具 有不同的照射能量的一對(duì)激光繪制的線組成。但是，例如當(dāng)組成圖像的激光繪制的線的數(shù) 目為3時(shí)，其優(yōu)選為2。同樣地，當(dāng)組成圖像的激光繪制的線的數(shù)目為5時(shí)，以不同能量繪制 的線的單元圖像數(shù)優(yōu)選為2至4。此外，當(dāng)組成圖像的激光繪制的線的數(shù)目為8時(shí)，以不同 能量繪制的線的單元數(shù)優(yōu)選為2至7,并且更優(yōu)選5至7。而且，當(dāng)組成圖像的激光繪制的 線的數(shù)目為10時(shí)，以不同能量繪制的線的單元數(shù)優(yōu)選為2至9,并且更優(yōu)選7至9。
[0054] 在組成圖像的多個(gè)激光繪制的線中，用不同能量繪制的線的第一單元是首先繪制 的第一和第二激光繪制的線的組合。考慮整個(gè)圖像的照射能量的有效減少，優(yōu)選第一線具 有大于第二線的照射能量。
[0055] 在組成圖像的多個(gè)激光繪制的線中，形成以不同能量繪制的至少兩個(gè)單元的線， 每個(gè)單元由彼此臨近并且具有不同的照射能量的一對(duì)激光繪制的線組成；換句話說(shuō)，在組 成圖像的多個(gè)激光繪制的線中，按激光照射的順序，偶數(shù)繪制的線具有的照射能量小于臨 近的奇數(shù)繪制的線。當(dāng)增加或減低能量的位置是連續(xù)的時(shí)，優(yōu)選具有高能量的激光繪制的 線和具有低能量的激光繪制的線被交替地布置。
[0056] 同樣地，如上所述，（2)在組成圖像的多個(gè)激光繪制的線中，優(yōu)選除首先被照射的 激光繪制的線之外的激光繪制的線具有照射能量以便線終點(diǎn)處的照射能量被設(shè)定為以逐 步的方式大于線起點(diǎn)處的照射能量。因此，可完全消除圖像的不均勻密度和熱積累。
[0057] 具體地，除首先被照射的激光繪制的線之外的每個(gè)激光繪制的線的線起點(diǎn)和線終 點(diǎn)之間的線段被分為多個(gè)單位線段，并且照射能量?jī)?yōu)選為從線起點(diǎn)朝著線終點(diǎn)在每個(gè)單位 線段處以逐步的方式增加。因此，可以避免過(guò)度加熱激光繪制的線的轉(zhuǎn)向部分，并且可以繪 制沒(méi)有不均勻的密度并且具有高圖像質(zhì)量以及優(yōu)越的重復(fù)耐久性的圖像。
[0058] 例如，如圖6所示，除首先被照射的激光繪制的線之外的每條激光繪制的線的起 點(diǎn)和終點(diǎn)之間的線段被分為8個(gè)單位線段，并且用以逐步的方式增加的照射能量分8個(gè)步 驟從線起點(diǎn)朝向線終點(diǎn)繪制圖像。
[0059] 同樣地，如圖7所示，除首先被照射的激光繪制的線之外的每條激光繪制的線的 起點(diǎn)和終點(diǎn)之間的線段被分為8個(gè)單位線段，并且用均勻增加的照射能量分4個(gè)步驟在首 先4個(gè)單位線段處從起點(diǎn)并且用增加的和恒定的照射能量在最后4個(gè)單位線段中分4個(gè)步 驟朝向終點(diǎn)繪制圖像。
[0060] 在組成圖像的多個(gè)激光繪制的線中，首先被照射的激光繪制的線優(yōu)選具有均勻照 射能量分布的照射能量并且具有最大照射能量。由于圖像密度可以增加而不單獨(dú)調(diào)整激光 繪制的線的照射能量，所以在同時(shí)繪制由單一線組成的圖像的情況下這是優(yōu)選的，消除對(duì) 復(fù)雜控制的需要。
[0061] 這里，例如，如圖4所示，用以下繪制圖像：用于繪制激光繪制的線A的照射能量大 于用于繪制激光繪制的線B的照射能量；用于繪制激光繪制的線C的照射能量大于用于繪 制激光繪制的線B的照射能量；用于繪制激光繪制的線D的照射能量小于用于繪制激光繪 制的線C的照射能量；以及最后，用于繪制激光繪制的線E的照射能量大于用于繪制激光繪 制的線D的照射能量。這里，進(jìn)行繪制以便除首先繪制的激光繪制的線A之外的激光繪制 的線B到E的每條線終點(diǎn)處的照射能量從在各自線起點(diǎn)處的照射能量以逐步的方式增加。 因此，通過(guò)有效利用就在之前繪制的線的熱積累進(jìn)行繪圖，并且可改善重復(fù)耐久性同時(shí)保 持圖像質(zhì)量。
[0062] 如圖5所示，在通過(guò)掃描激光記錄圖像的情況下，通過(guò)交替地增加或減小用于僅 來(lái)自類似于上述圖4的激光繪制的線A到E的每條線的激光的照射能量來(lái)繪制圖像。可選 地，相反，可通過(guò)交替地增加或減小用于來(lái)自類似于圖4的激光繪制的線F到I的每條激光 繪制的線的激光的照射能量來(lái)繪制圖像。
[0063] 同樣地，對(duì)于每條激光繪制的線，除了激光的其激光照射能量交替地增加或減小 的那些線，激光繪制的線的照射能量?jī)?yōu)選等于具有減小的照射能量的激光繪制的線的照射 能量。當(dāng)其被設(shè)定為等于具有增加的照射能量的激光繪制的線時(shí)，由于熱積累的影響，存在 重復(fù)耐久性降低的情況。因此，雖然由于一些線--其激光的照射能量沒(méi)有交替地增加或 減小--的影響，存在圖像質(zhì)量在不顯著影響可讀性的范圍內(nèi)輕微降低的情況，但是與增 加或減小所有線的激光的照射能量的情況相比，減少出現(xiàn)殘留圖像的位置是可能的，這是 重復(fù)的印刷和擦除所關(guān)心的。
[0064] 增加或減小照射能量的范圍沒(méi)有特別地限制，并且沒(méi)有被毫無(wú)疑義地確定，這是 由于其很大程度上受激光輸出、掃描速度、光斑直徑、用于掃描的平行激光之間的間隔、從 繪制一條激光繪制的線的末端直到繪制下一條激光繪制的線的開始的等待時(shí)間等的影響。 但是，作為增加或減小照射能量的范圍的下限，優(yōu)選比例（Ee/匕）為80%或更高，更優(yōu)選 85%或更高，并且進(jìn)一步更優(yōu)選88%或更高，條件是Ee是偶數(shù)激光繪制的線的照射能量并 且E tl是奇數(shù)激光繪制的線的照射能量。另一方面，作為增加或減小照射能量的范圍的上限， 優(yōu)選比例（Ee/匕）為99 %或更低，更優(yōu)選95 %或更低，并且進(jìn)一步更優(yōu)選92 %或更低。 [0065] 當(dāng)比例（Ee/E。）低于80%時(shí)，圖像密度降低。結(jié)果，圖像線寬度變窄，并且存在圖 像質(zhì)量降低的情況。當(dāng)其超過(guò)99%時(shí)，沒(méi)有完全消除熱積累，并且存在重復(fù)耐久性降低的情 況。
[0066] 在本說(shuō)明書中，照射能量被限定為在圖像記錄步驟中照射激光的照射能量密度， 并且從激光繪制的線的起點(diǎn)和終點(diǎn)處的各自的照射能量以及作為線段的激光繪制的線的 照射能量單獨(dú)地將其限定。
[0067] 在激光繪制的線的起點(diǎn)和終點(diǎn)處的各自的照射能量由PAV*r)表示，其中P是在 圖像記錄步驟中激光繪制的線的起點(diǎn)或終點(diǎn)處的激光的平均功率；V是在圖像記錄步驟中 激光繪制的線的起點(diǎn)或終點(diǎn)處的激光的平均掃描速度；r是在圖像記錄步驟中在關(guān)于激光 的掃描方向垂直的方向上記錄介質(zhì)上的平均光斑直徑。
[0068] 同時(shí)，作為線段的激光繪制的線的照射能量表示為：PAV*r)，其中P是在圖像記 錄步驟中從激光繪制的線的起點(diǎn)到終點(diǎn)的激光的平均功率；V是在圖像記錄步驟中從激光 繪制的線的起點(diǎn)到終點(diǎn)的激光的平均掃描速度；r是在圖像記錄步驟中在關(guān)于激光的掃描 方向垂直的方向上記錄介質(zhì)上的平均光斑直徑。
[0069] 根據(jù)功率P、掃描速度V和激光的光斑直徑r表示激光的照射能量。用于改變激光 的照射能量的方法的實(shí)例包括僅改變P、僅改變V和僅改變r(jià)，但是其不限于此。用于改變 能量密度的這些方法可單獨(dú)或結(jié)合使用。
[0070] 在這些中，作為用于改變激光的照射能量的方法，優(yōu)選每一條激光繪制的線的照 射能量根據(jù)P改變，并且優(yōu)選分別在激光繪制的線的起點(diǎn)和終點(diǎn)處的照射能量根據(jù)V改變。
[0071] 用于控制激光的掃描速度的方法沒(méi)有特別地限制，并且其可根據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x 擇。其實(shí)例包括控制負(fù)責(zé)掃描鏡的操作的發(fā)動(dòng)機(jī)的旋轉(zhuǎn)速度的方法。
[0072] 用于控制激光的照射功率的方法沒(méi)有特別地限制，并且其可根據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x 擇。其實(shí)例包括改變光照射功率的設(shè)定的方法和在脈沖激光的情況下通過(guò)調(diào)整脈沖時(shí)間寬 度的控制方法。
[0073] 用于改變光照射功率的設(shè)定的方法的實(shí)例包括取決于記錄部分改變功率設(shè)定的 方法。作為通過(guò)調(diào)整脈沖時(shí)間寬度的控制方法，照射能量可由照射功率進(jìn)行調(diào)整，這通過(guò)取 決于記錄部分改變脈沖發(fā)射的時(shí)間寬度。
[0074] 在圖像記錄步驟中照射的激光的功率沒(méi)有特別地限制，并且其可根據(jù)目的適當(dāng)?shù)?選擇。但是，優(yōu)選IW或更高，更優(yōu)選3W或更高，并且進(jìn)一步更優(yōu)選5W或更高。當(dāng)激光的功 率低于IW時(shí)，需要時(shí)間用于圖像記錄，并且試圖縮短圖像記錄時(shí)間可導(dǎo)致不足的功率。同 樣地，激光的功率的上限沒(méi)有特別地限制，并且其可根據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x擇。但是，優(yōu)選200W 或更低，更優(yōu)選150W或更低，并且進(jìn)一步更優(yōu)選100W或更低。超過(guò)200W的激光的功率可 導(dǎo)致更大尺寸的圖像處理裝置（激光打標(biāo)機(jī)設(shè)備）。
[0075] 在圖像記錄步驟中照射的激光的掃描速度沒(méi)有特別地限制，并且其可根據(jù)目的適 當(dāng)?shù)剡x擇。但是，優(yōu)選300mm/s或更高，更優(yōu)選500mm/s或更高，并且進(jìn)一步更優(yōu)選700mm/ s或更高。當(dāng)掃描速度低于300mm/s時(shí),需要時(shí)間用于圖像記錄。同樣地,激光的掃描速度 的上限沒(méi)有特別地限制，并且其可根據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x擇。但是優(yōu)選15, OOOmm/s或更低，更 優(yōu)選10, 〇〇〇mm/s或更低，并且進(jìn)一步更優(yōu)選8, 000mm/s或更低。超過(guò)15, 000mm/s的掃描 速度使其難以控制掃描速度，并且均勻圖像的形成可能變得困難。
[0076] 在圖像記錄步驟中照射的激光的光斑直徑?jīng)]有特別地限制，并且其可根據(jù)目的適 當(dāng)?shù)剡x擇。但是，優(yōu)選0. 02mm或更大，更優(yōu)選0. Imm或更大，并且進(jìn)一步更優(yōu)選0. 15mm或 更大。同樣地，激光的光斑直徑的上限沒(méi)有特別地限制，并且其可根據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x擇。但 是，優(yōu)選3. Omm或更小，更優(yōu)選2. 5mm或更小，并且進(jìn)一步更優(yōu)選2. Omm或更小。當(dāng)光斑直 徑小于0. 02mm時(shí)，圖像的線寬度變窄，這可導(dǎo)致降低的可見(jiàn)度。同樣地，當(dāng)光斑直徑超過(guò) 3. Omm時(shí)，圖像的線寬度變厚，并且臨近的線重疊。因此，記錄小尺寸的圖像變得不可能。
[0077] 激光的激光發(fā)射工具可根據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x擇。其實(shí)例包括激光二極管、YAG激光 器、纖維激光器和CO 2激光器。在這些中，特別優(yōu)選激光二極管，因?yàn)槠渚哂胁ㄩL(zhǎng)的廣泛選 擇，提供光熱轉(zhuǎn)換材料的更多選擇，并且也因?yàn)樽鳛閳D像處理裝置激光源本身小，使得圖像 處理裝置的尺寸和價(jià)格降低。從激光發(fā)射單元發(fā)射的激光二極管、YAG激光或纖維激光的 波長(zhǎng)可從波長(zhǎng)可被光熱轉(zhuǎn)換材料吸收的范圍適當(dāng)?shù)剡x擇，并且優(yōu)選700nm或更大，更優(yōu)選 720nm或更大，并且特別優(yōu)選750nm或更大。激光的上限可根據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x擇。但是，優(yōu) 選1，500nm或更小，更優(yōu)選1，300nm或更小，并且特別優(yōu)選1，200nm或更小。
[0078] 小于700nm的波長(zhǎng)在可見(jiàn)光區(qū)域引起問(wèn)題，比如在圖像記錄和記錄介質(zhì)的著色期 間記錄介質(zhì)的減小的對(duì)比度。也存在記錄介質(zhì)劣化更可能發(fā)生在較短波長(zhǎng)的紫外光區(qū)域中 的問(wèn)題。
[0079] 同樣地，為了確保對(duì)重復(fù)的圖像處理的耐久性，加入到記錄介質(zhì)的光熱轉(zhuǎn)換材料 需要高的分解溫度。當(dāng)有機(jī)染料被用于光熱轉(zhuǎn)換材料時(shí)，獲得具有高分解溫度和長(zhǎng)吸收波 長(zhǎng)的光熱轉(zhuǎn)換材料是困難的。因此，激光的波長(zhǎng)優(yōu)選為l，500nm或更小。
[0080] 從CO2激光器發(fā)出的激光的波長(zhǎng)為10. 6 μ m，這在遠(yuǎn)紅外區(qū)域，并且介質(zhì)在其表面 吸收激光，而不添加用于吸收激光和生成熱的添加劑。同樣地，即使當(dāng)使用具有遠(yuǎn)紅外區(qū)域 中的波長(zhǎng)的激光時(shí)，也存在其中添加劑吸收可見(jiàn)光--雖然輕微地--的情況。因此，考慮 到防止圖像對(duì)比度的降低，不需要添加劑的CO 2激光器是有利的。
[0081] 〈圖像擦除步驟〉
[0082] 在作為記錄介質(zhì)的熱可逆記錄介質(zhì)上的圖像記錄包括通過(guò)加熱在其上已經(jīng)形成 圖像的熱可逆記錄介質(zhì)用于擦除在熱可逆記錄介質(zhì)上記錄的圖像的步驟。
[0083] 例如，圖像擦除步驟包括寬度方向準(zhǔn)直步驟、長(zhǎng)度方向光分布控制步驟、光束尺寸 調(diào)節(jié)步驟等，并且它們可通過(guò)寬度方向準(zhǔn)直單元、長(zhǎng)度方向光分布控制單元、光束尺寸調(diào)節(jié) 單元等執(zhí)行。
[0084] 用于加熱熱可逆記錄介質(zhì)的方法的實(shí)例包括常規(guī)的迄今為止已知的加熱方法 (例如，非接觸式加熱方法比如激光照射、熱風(fēng)、熱水和紅外加熱器，接觸式加熱方法比如熱 頭（thermal head)、熱模印、熱壓凸印和熱棍）。當(dāng)假定分配線時(shí)，由于其允許以非接觸的 方式擦除圖像，所以尤其優(yōu)選通過(guò)照射激光加熱熱可逆記錄介質(zhì)的方法。
[0085] 在圖像擦除步驟中照射的激光的功率沒(méi)有特別地限制，并且其可根據(jù)目的適當(dāng)?shù)?選擇，其中通過(guò)照射具有圓形光束的激光加熱熱可逆記錄介質(zhì)以擦除圖像。但是，優(yōu)選5W 或更高，更優(yōu)選7W或更高，并且進(jìn)一步更優(yōu)選IOW或更高。當(dāng)激光的功率低于5W時(shí)，需要時(shí) 間用于圖像擦除，并且試圖縮短圖像擦除時(shí)間導(dǎo)致不足的功率并且引起差的圖像擦除。同 樣地，激光的功率的上限沒(méi)有特別地限制，并且其可根據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x擇。但是，優(yōu)選200W 或更低，更優(yōu)選150W或更低，并且進(jìn)一步更優(yōu)選100W或更低。超過(guò)200W的激光功率可導(dǎo) 致激光設(shè)備的尺寸的增加。
[0086] 在圖像擦除步驟中照射的激光的掃描速度沒(méi)有特別地限制，并且其可根據(jù)目的適 當(dāng)?shù)剡x擇，其中通過(guò)照射具有圓形光束的激光加熱熱可逆記錄介質(zhì)以擦除圖像。但是，優(yōu)選 100mm/s或更高，更優(yōu)選200mm/s或更高，并且進(jìn)一步更優(yōu)選300mm/s或更高。當(dāng)掃描速度 低于100mm/ S時(shí)，需要時(shí)間用于圖像擦除。同樣地，激光的掃描速度的上限沒(méi)有特別地限 制，并且其可根據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x擇。但是，優(yōu)選20, 000mm/s或更低，更優(yōu)選15, 000mm/s或 更低，并且進(jìn)一步更優(yōu)選10, 〇〇〇mm/s或更低。當(dāng)掃描速度超過(guò)20, 000mm/s時(shí)，存在其中均 勻的圖像擦除變得困難的情況。
[0087] 在圖像擦除步驟中照射的激光的光斑直徑?jīng)]有特別地限制，并且其可根據(jù)目的適 當(dāng)?shù)剡x擇，其中通過(guò)照射具有圓形光束的激光加熱熱可逆記錄介質(zhì)以擦除圖像。但是，優(yōu)選 0. 5mm或更大，更優(yōu)選I. Omm或更大，并且進(jìn)一步更優(yōu)選2. Omm或更大。同樣地，激光的光斑 直徑的上限沒(méi)有特別地限制，并且其可根據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x擇。但是，優(yōu)選14. Omm或更小，更 優(yōu)選10. Omm或更小，并且進(jìn)一步更優(yōu)選7. Omm或更小。
[0088] 當(dāng)光斑直徑小于0.5mm時(shí)，存在需要時(shí)間用于圖像擦除的情況。同樣地，由于不足 的功率，超過(guò)14. Omm的光斑直徑可導(dǎo)致差的圖像擦除。
[0089] 在圖像擦除步驟中使用的激光發(fā)射單元可根據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x擇。其實(shí)例包括激光 二極管陣列、YAG激光器、纖維激光器和CO2激光器。在這些中，特別優(yōu)選激光二極管陣列， 因?yàn)槠涮峁挼牟ㄩL(zhǎng)選擇性并且由于小的激光源作為激光裝置能夠降低裝置尺寸和價(jià)格。
[0090] -激光二極管陣列-
[0091] 激光二極管陣列是激光二極管光源，其包含多個(gè)線性排列的激光二極管。其優(yōu)選 包含3到300、更優(yōu)選10到100個(gè)激光二極管。
[0092] 當(dāng)激光二極管的數(shù)目小時(shí)，存在其中不能增加照射功率的情況。當(dāng)其過(guò)多時(shí)，存在 其中需要用于冷卻激光二極管陣列的大冷卻設(shè)備的情況。這里，激光二極管被加熱用于發(fā) 射激光二極管陣列，并且其需要冷卻。結(jié)果，設(shè)備成本可能增加。
[0093] 激光二極管陣列的光源長(zhǎng)度沒(méi)有特別地限制，并且其可根據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x擇。但 是，優(yōu)選Imm到50mm，并且更優(yōu)選3mm到15mm。當(dāng)激光二極管陣列的光源長(zhǎng)度小于Imm時(shí)， 不能增加照射功率。當(dāng)其超過(guò)30_時(shí)，需要用于冷卻激光二極管陣列的大冷卻裝置，并且 設(shè)備成本可能增加。
[0094] 激光二極管陣列的激光的波長(zhǎng)沒(méi)有特別地限制，并且其可根據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x擇。 但是，優(yōu)選700nm或更大，更優(yōu)選720nm或更大，并且進(jìn)一步更優(yōu)選750nm或更大。激光的 波長(zhǎng)的上限可根據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x擇。但是，優(yōu)選1，500nm或更小，更優(yōu)選1，300mm或更小， 并且進(jìn)一步更優(yōu)選1，200nm或更小。
[0095] 當(dāng)激光的波長(zhǎng)被設(shè)定為小于700nm的波長(zhǎng)時(shí)，在可見(jiàn)光區(qū)域中存在問(wèn)題，即在圖 像記錄期間熱可逆記錄介質(zhì)的對(duì)比度減小，并且熱可逆記錄介質(zhì)被染色。在具有進(jìn)一步更 短波長(zhǎng)的紫外光區(qū)域，存在有可能發(fā)生熱可逆記錄介質(zhì)的劣化的問(wèn)題。同樣地，為了確保 對(duì)重復(fù)的圖像處理的耐久性，需要加入到熱可逆記錄介質(zhì)的光熱轉(zhuǎn)換材料具有高的分解溫 度。當(dāng)有機(jī)染料被用于光熱轉(zhuǎn)換材料時(shí)，獲得具有高分解溫度和長(zhǎng)吸收波長(zhǎng)的光熱轉(zhuǎn)換材 料是困難的。因此，激光的波長(zhǎng)優(yōu)選為l，500nm或更小。
[0096] -寬度方向準(zhǔn)直步驟-
[0097] 寬度方向準(zhǔn)直步驟是通過(guò)準(zhǔn)直從激光二極管陣列照射的在寬度方向傳播的激光 用于形成線形光束的步驟，激光二極管陣列具有多個(gè)線性排列的激光二極管，并且其可通 過(guò)寬度方向準(zhǔn)直單元執(zhí)行。
[0098] 寬度方向準(zhǔn)直單元沒(méi)有特別地限制，并且其可根據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x擇。其實(shí)例包括 一個(gè)單面凸柱面透鏡和多個(gè)凸柱面透鏡的組合。
[0099] 激光二極管陣列的激光具有與長(zhǎng)度方向相比在寬度方向更大的漫射角。因此，排 列靠近激光二極管陣列的照射表面的寬度方向準(zhǔn)直單元是優(yōu)選的，由于其可以避免加寬光 束寬度并且因此減小透鏡尺寸。
[0100]-長(zhǎng)度方向光分布控制步驟-
[0101] 長(zhǎng)度方向光分布控制步驟是用于使在寬度方向準(zhǔn)直步驟中形成的線形光束的長(zhǎng) 度長(zhǎng)于激光二極管陣列的光源長(zhǎng)度，以及使其光分布在長(zhǎng)度方向上均勻的步驟，并且其可 以通過(guò)長(zhǎng)度方向光分布控制單元執(zhí)行。
[0102] 長(zhǎng)度方向光分布控制單元沒(méi)有特別地限制，并且其可根據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x擇。例如， 其可通過(guò)兩個(gè)球面透鏡、非球面柱面透鏡（長(zhǎng)度方向）或柱面透鏡（寬度方向）的組合進(jìn) 行實(shí)施。非球面柱面透鏡（長(zhǎng)度方向）包括菲涅耳透鏡、凸透鏡陣列和凹透鏡矩陣。
[0103] 在準(zhǔn)直單元的照射表面的一側(cè)上排列長(zhǎng)度方向光分布控制單元。
[0104] -光束尺寸調(diào)節(jié)步驟_
[0105] 光束尺寸調(diào)節(jié)步驟是用于調(diào)節(jié)線形光束的熱可逆記錄介質(zhì)上的長(zhǎng)度和寬度的至 少任何一個(gè)的步驟，線形光束長(zhǎng)于光源長(zhǎng)度、長(zhǎng)于激光二極管陣列并且其具有長(zhǎng)度方向上 的均勻光分布，并且其可以通過(guò)光束尺寸調(diào)整單元執(zhí)行。
[0106] 光束尺寸調(diào)節(jié)單元沒(méi)有特別地限制，并且其可根據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x擇。其實(shí)例包括： 改變柱面透鏡或球面透鏡的焦距；改變透鏡安裝位置；并且改變裝置和熱可逆記錄介質(zhì)之 間的工作距離。
[0107] 調(diào)整之后的線形光束的長(zhǎng)度沒(méi)有特別地限制，并且其可根據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x擇。但 是，優(yōu)選IOmm至300mm，并且更優(yōu)選30mm至160mm。光束長(zhǎng)度確定可擦除的面積。因此，短 的光束長(zhǎng)度減小擦除面積，并且長(zhǎng)的光束長(zhǎng)度導(dǎo)致添加能量至無(wú)需擦除的區(qū)域。這些可能 引起能量損失和損害。
[0108] 光束長(zhǎng)度優(yōu)選為兩倍、更優(yōu)選3倍于激光二極管陣列的光源長(zhǎng)度。當(dāng)光束長(zhǎng)度比 激光二極管陣列的光源長(zhǎng)度短時(shí)，為了確保長(zhǎng)的擦除區(qū)域，增加激光二極管陣列的光源長(zhǎng) 度變得有必要，這可導(dǎo)致增加的裝置成本和裝置尺寸。
[0109] 同樣地，調(diào)整后的線形光束的寬度沒(méi)有特別地限制，并且其可根據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x 擇。但是，優(yōu)選0.1mm至1〇_，并且更優(yōu)選0.2mm至5_。光束寬度可控制熱可逆記錄介質(zhì) 的加熱時(shí)間。當(dāng)光束寬度窄時(shí)，短的加熱時(shí)間降低可擦除性。當(dāng)光束寬度寬時(shí)，長(zhǎng)的加熱時(shí) 間導(dǎo)致在熱可逆記錄介質(zhì)上施加過(guò)多的能量，這需要高能量，并且在高速下擦除是不可能 的。有必要調(diào)整設(shè)備以便其具有適于熱可逆記錄介質(zhì)的擦除特性的光束寬度。
[0110] 由此調(diào)整的線形光束的功率沒(méi)有特別地限制，并且其可根據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x擇。但 是，優(yōu)選IOW或更大，更優(yōu)選20W或更大，并且進(jìn)一步更優(yōu)選20W或更大。當(dāng)激光的功率小于 IOW時(shí)，需要時(shí)間用于圖像擦除，并且試圖縮短圖像擦除時(shí)間導(dǎo)致不足的功率并且引起差的 圖像擦除。同樣地，激光的功率的上限沒(méi)有特別地限制，并且其可根據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x擇。但 是，優(yōu)選500W或更小，更優(yōu)選200W或更小，并且進(jìn)一步更優(yōu)選120W或更小。超過(guò)500W的 激光的功率可能導(dǎo)致激光二極管的光源的冷卻設(shè)備的尺寸增加。
[0111] 〈其它步驟和其它單元〉
[0112] 其它步驟的實(shí)例包括掃描步驟和控制步驟。其它單元的實(shí)例包括掃描單元和控制 單元。
[0113] _掃描步驟和掃描單兀_
[0114] 掃描步驟是用于在軸向方向上記錄介質(zhì)上掃描線形光束的步驟，線形光束比激光 二極管陣列的光源長(zhǎng)度長(zhǎng)并且在長(zhǎng)度方向上具有均勻的光分布，并且該步驟可通過(guò)掃描單 元執(zhí)行。
[0115] 掃描單元沒(méi)有特別地限制，只要可以在軸向方向上掃描線形光束，并且其可根據(jù) 目的適當(dāng)?shù)剡x擇。其實(shí)例包括單軸電鑄鏡、多角鏡和步進(jìn)電機(jī)鏡。
[0116] 利用單軸電鑄鏡和步進(jìn)電機(jī)鏡，精細(xì)地控制速度調(diào)整是可能的。利用多角鏡的速 度控制是困難的，但是其低價(jià)格。
[0117] 線形光束的掃描速度沒(méi)有特別地限制，并且其可根據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x擇。但是，優(yōu)選 2mm/s或更大，更優(yōu)選10mm/s或更大，并且進(jìn)一步更優(yōu)選20mm/s或更大。當(dāng)掃描速度小于 2mm/s時(shí)，需要時(shí)間用于圖像擦除。同樣地，激光的掃描速度的上限沒(méi)有特別地限制，并且其 可根據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x擇。但是，優(yōu)選1，〇〇〇mm/ S或更小，更優(yōu)選300mm/s或更小，并且進(jìn)一 步更優(yōu)選l〇〇mm/s或更小。當(dāng)掃描速度超過(guò)1，000mm/s時(shí)，存在其中均勻的圖像擦除困難 的情況。
[0118] 同樣地，優(yōu)選通過(guò)由傳送單元關(guān)于線形光束傳送記錄介質(zhì)并且通過(guò)在記錄介質(zhì)上 掃描線形光束擦除已經(jīng)記錄在記錄介質(zhì)上的圖像，線形光束比激光二極管陣列的光源長(zhǎng)度 長(zhǎng)并且在長(zhǎng)度方向上具有均勻的光分布。傳送單元的實(shí)例包括傳送器和平臺(tái)。在這種情況 下，優(yōu)選記錄介質(zhì)附著于盒子的表面并且優(yōu)選通過(guò)由傳送器傳送盒子而傳送記錄介質(zhì)。
[0119] -控制步驟和控制單元_
[0120] 控制步驟是用于控制所述步驟的步驟，并且其可優(yōu)選通過(guò)控制單元執(zhí)行。
[0121] 控制單元沒(méi)有特別地限制，只要其能夠控制每個(gè)單元的操作，并且其可根據(jù)目的 適當(dāng)?shù)剡x擇。其實(shí)例包括設(shè)備，如程序裝置和計(jì)算機(jī)。
[0122] 這里，參考圖10解釋本發(fā)明的圖像處理裝置的一個(gè)實(shí)例。該圖像處理裝置包括激 光照射單元、電源控制單元和程序單元。
[0123] 激光照射單元由激光振蕩器1、擴(kuò)束器2、掃描單元5等組成。在圖10中，附圖標(biāo) 記6表示f Θ透鏡。
[0124] 激光振蕩器1對(duì)于獲得具有高光強(qiáng)度和高指向性的激光是強(qiáng)制的。例如，將鏡布 置在激光介質(zhì)的兩側(cè)上，并且泵送激光介質(zhì)（供以能量）。這增加激發(fā)態(tài)中原子的數(shù)目，形 成粒子數(shù)反轉(zhuǎn)引起受激發(fā)射。其后，僅選擇性地放大光軸向方向上的光，這增強(qiáng)光的指向 性，并且從輸出鏡發(fā)射激光。
[0125] 掃描單元5由電流計(jì)4和附接至電流計(jì)4的鏡4A組成。從激光振蕩器1發(fā)射的 激光通過(guò)在X軸和y軸方向附接至電流計(jì)4的兩個(gè)鏡4A經(jīng)受高速掃描，并且因此在熱可逆 記錄介質(zhì)7上執(zhí)行圖像記錄或擦除。
[0126] 電源控制單元由以下組成：激發(fā)激光介質(zhì)的光源的驅(qū)動(dòng)電源；電流計(jì)的驅(qū)動(dòng)電 源；冷卻電源比如Peltier元件；和用于控制整個(gè)圖像處理裝置的控制單元。
[0127] 程序單元是如此單元：其用于輸入條件比如激光強(qiáng)度和激光掃描速度用于圖像記 錄或擦除以及用于通過(guò)觸控面板輸入或鍵盤輸入產(chǎn)生和編輯待記錄的字母等。
[0128] 這里，激光照射單元，即用于圖像記錄/擦除的頭部分被安裝在圖像處理裝置上， 并且除此之外，圖像處理裝置包括熱可逆記錄介質(zhì)的傳送單元、其控制單元和監(jiān)測(cè)單元 (觸控面板）。
[0129] 〈記錄介質(zhì)〉
[0130] 圖像處理方法沒(méi)有特別地限制，并且其可根據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x擇。例如，其可被用作 不可逆記錄介質(zhì)上的圖像處理方法。然而，優(yōu)選用于在可逆的熱可逆記錄介質(zhì)上執(zhí)行圖像 記錄和圖像擦除的圖像處理方法。
[0131] 優(yōu)選選擇發(fā)射的激光的波長(zhǎng)以便記錄介質(zhì)高效率地吸收激光。例如，用于本發(fā)明 的熱可逆記錄介質(zhì)包括光熱轉(zhuǎn)換材料，其具有高效率地吸收激光的作用并且生成熱。因此， 優(yōu)選選擇待發(fā)射的激光的波長(zhǎng)以便待包含的光熱轉(zhuǎn)換材料與其它材料相比高效率地吸收 激光。
[0132] 〈〈熱可逆記錄介質(zhì)》
[0133] 熱可逆記錄介質(zhì)優(yōu)選包括基底和在基底上包含光熱轉(zhuǎn)換材料的熱可逆記錄層，并 且其進(jìn)一步包括其它層，比如根據(jù)需要適當(dāng)?shù)剡x擇的第一氧隔離層、第二氧隔離層、紫外吸 收層、背層、保護(hù)層、中間層、底涂層、粘合層、膠黏層、著色層、空氣層和光反射層。這些層可 具有單層結(jié)構(gòu)或?qū)訅航Y(jié)構(gòu)。然而，為了減少在特定的波長(zhǎng)處被照射的激光的能量損失，布置 在光熱轉(zhuǎn)換層上的層優(yōu)選由在特定的波長(zhǎng)處具有低吸收的材料組成。
[0134] -基底-
[0135] 基底的形狀、結(jié)構(gòu)和尺寸沒(méi)有特別地限制，并且其可根據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x擇。形狀的 實(shí)例包括平面板件。作為結(jié)構(gòu)，其可具有單層結(jié)構(gòu)或?qū)訅航Y(jié)構(gòu)。取決于熱可逆記錄介質(zhì)的 尺寸，尺寸可適當(dāng)?shù)剡x擇。
[0136] 基底的材料的實(shí)例包括無(wú)機(jī)材料和有機(jī)材料。
[0137] 無(wú)機(jī)材料的實(shí)例包括玻璃、石英、硅、氧化硅、氧化鋁、Si02和金屬。
[0138] 有機(jī)材料的實(shí)例包括紙、纖維素衍生物比如纖維素三乙酯、聚對(duì)苯二甲酸乙二酯 的合成紙和膜、聚碳酸酯、聚苯乙烯和聚甲基丙烯酸甲酯。
[0139] 無(wú)機(jī)材料和有機(jī)材料可單獨(dú)或兩種或多種組合使用。在這些中，優(yōu)選有機(jī)材料。優(yōu) 選聚對(duì)苯二甲酸乙二酯的膜、聚碳酸酯或聚甲基丙烯酸甲酯，并且特別優(yōu)選聚對(duì)苯二甲酸 乙二酯。
[0140] 基底優(yōu)選通過(guò)電暈放電處理、氧化反應(yīng)處理（鉻酸等）、蝕刻處理、易粘合處理、抗 靜電處理等經(jīng)受表面改性，目的是改善涂層的粘合。
[0141] 優(yōu)選加入白色顏料比如氧化欽至基底以使基底白色。
[0142] 基底的平均厚度沒(méi)有特別地限制，并且其可根據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x擇。但是，優(yōu)選 10 μ m 至 2, 000 μ m，并且更優(yōu)選 50 μ m 至 1，000 μ m。
[0143] -熱可逆記錄層_
[0144] 在任何情況下，熱可逆記錄層包括無(wú)色染料作為供電子成色化合物和顯色劑作為 受電子化合物。其為熱可逆記錄層，其色調(diào)通過(guò)熱可逆地改變。根據(jù)需要，其包括粘合劑樹 脂和其它成分。
[0145] 熱可逆記錄層可以是單層結(jié)構(gòu)或者第一熱可逆記錄層和第二熱可逆記錄層的多 層結(jié)構(gòu)。
[0146] 作為供電子成色化合物的無(wú)色染料--其色調(diào)通過(guò)熱可逆地改變--和作為受 電子化合物的可逆的顯色劑是能夠表達(dá)明顯改變的現(xiàn)象--其通過(guò)溫度改變可逆地發(fā) 生--的材料。加熱后，它們能夠通過(guò)加熱速度和冷卻速度之間的差異在相對(duì)有色的狀態(tài) 和脫色的狀態(tài)之間改變。
[0147] -無(wú)色染料-
[0148] 無(wú)色染料本身是無(wú)色的或略帶色的染料前體。無(wú)色染料沒(méi)有特別地限制，并且其 可從迄今已知的那些中適當(dāng)?shù)剡x擇，并且其實(shí)例包括三苯甲烷2-苯并[c]呋喃酮、三烯丙 基甲燒、突燒、吩噻嗪（phenothiadine)、硫代突燒、咕噸、Π 引哚鄰苯二甲酰（indophthalyl)、 螺批喃（spiropyran)、氮雜2-苯并[c]呋喃酮、色烯并批唑（chromenopyrazole)、次 苯甲烯（methine)、若丹明苯胺基內(nèi)酰胺、若丹明內(nèi)酰胺、喹唑啉、二氮雜咕噸和雙內(nèi)酯 (bislactone)的無(wú)色化合物。在這些中，2-苯并[c]呋喃酮無(wú)色染料比如突燒、三苯甲燒 2_苯并[c]呋喃酮和氮雜2-苯并[c]呋喃酮是特別優(yōu)選的，原因在于它們優(yōu)異的著色和脫 色性能、顏色和儲(chǔ)存性。它們可以單獨(dú)使用或者兩種或多種組合使用。通過(guò)層壓以各種色 調(diào)的顏色的層，多色或全彩色介質(zhì)是可能的。
[0149] -可逆顯色劑-
[0150] 可逆顯色劑沒(méi)有特別地限制，只要其通過(guò)熱實(shí)施可逆的著色或脫色，并且其可根 據(jù)目的適當(dāng)?shù)剡x擇。其合適的實(shí)例包括具有選自以下的一種或多種結(jié)構(gòu)的化合物：（1)具 有使無(wú)色染料顯色的顯色性質(zhì)的結(jié)構(gòu)（例如，酚式羥基基團(tuán)、羧酸基團(tuán)、磷酸基團(tuán)等），和 (2)控制分子間的內(nèi)聚力的結(jié)構(gòu)（例如，其中長(zhǎng)鏈烴基被連接的結(jié)構(gòu)）。這里，連接部分可 以通過(guò)含有包括雜原子的二價(jià)鍵或者更多價(jià)鍵基團(tuán)，并且長(zhǎng)鏈烴基團(tuán)可以包括相似的連接 基團(tuán)或芳基，或其二者。
[0151] 作為具有使無(wú)色染料顯色的顯色性質(zhì)的結(jié)構(gòu)（1)，特別優(yōu)選酚。
[0152] 作為控制分子間內(nèi)聚力的結(jié)構(gòu)（2)，優(yōu)選具有8個(gè)或更多碳原子的長(zhǎng)鏈烴基團(tuán)。碳 原子數(shù)目?jī)?yōu)選為11或更多，并且優(yōu)選碳原子數(shù)目的上限為40或更少，并且更優(yōu)選30或更 少。
[0153] 在可逆顯色劑中，優(yōu)選由以下通式（1)表示的酚化合物，并且更優(yōu)選由以下通式 (2)表示的酚化合物。

【權(quán)利要求】
1. 圖像處理方法，其包括： 圖像記錄，其中由多個(gè)激光繪制的線組成的圖像通過(guò)將平行的激光照射在隔開預(yù)定距 離的記錄介質(zhì)上加熱進(jìn)行記錄， 其中，在所述圖像記錄中，在組成所述圖像的所述多個(gè)激光繪制的線中，形成用不同能 量繪制的至少兩個(gè)單元的線，每個(gè)由彼此臨近并且具有不同的照射能量的一對(duì)激光繪制的 線組成。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖像處理方法， 其中，在組成所述圖像的所述多個(gè)激光繪制的線中，除首先被照射的激光繪制的線之 外的激光繪制的線具有照射能量，使得線終點(diǎn)處的照射能量被設(shè)定為從線起點(diǎn)處的照射能 量以逐步的方式增加。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的圖像處理方法， 其中，在組成所述圖像的所述多個(gè)激光繪制的線中，按激光照射的順序，偶數(shù)繪制的線 具有小于與所述偶數(shù)繪制的線臨近的奇數(shù)繪制的線的照射能量。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的圖像處理方法， 其中，在組成所述圖像的所述多個(gè)激光繪制的線中，首先被照射的所述激光繪制的線 具有最大的照射能量。
5. 根據(jù)權(quán)利要求2至4任一項(xiàng)所述的圖像處理方法， 其中每條所述激光繪制的線的所述線起點(diǎn)和所述線終點(diǎn)之間的線段被分為多個(gè)單位 線段，并且所述照射能量從所述線起點(diǎn)到所述線終點(diǎn)在每個(gè)所述單位線段處以逐步的方式 增加。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的圖像處理方法， 其中所述激光繪制的線的所述照射能量通過(guò)所述激光的照射功率進(jìn)行調(diào)整。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的圖像處理方法， 其中所述激光繪制的線的所述照射能量通過(guò)所述激光的掃描速度進(jìn)行調(diào)整。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的圖像處理方法， 其中所述激光是YAG激光、纖維激光或激光二極管光、或其任意組合。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1至8任一項(xiàng)所述的圖像處理方法， 其中所述記錄介質(zhì)是熱可逆記錄介質(zhì)， 其中所述熱可逆記錄介質(zhì)包括： 基底；和 所述基底上的熱可逆記錄層，其中所述熱可逆記錄層包括：吸收特定波長(zhǎng)的光并將所 述光轉(zhuǎn)化為熱的光熱轉(zhuǎn)換材料；無(wú)色染料；和可逆顯色劑， 其中所述熱可逆記錄層取決于溫度可逆地改變其色調(diào)。
10. 圖像處理裝置，其包括： 激光發(fā)射單元；和 激光掃描單元，其在所述記錄介質(zhì)的激光照射表面上掃描激光， 其中所述圖像處理裝置用于根據(jù)權(quán)利要求1至9的任一項(xiàng)所述的圖像處理方法。
【文檔編號(hào)】B41J2/32GK104364083SQ201380026860
【公開日】2015年2月18日 申請(qǐng)日期:2013年5月17日 優(yōu)先權(quán)日:2012年5月23日
【發(fā)明者】淺井敏明, 山本和孝, 石見(jiàn)知三, 堀田吉彥 申請(qǐng)人:株式會(huì)社理光