專利名稱：液體噴射頭及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及液體噴射頭和用于制備液體噴射頭的方法。
背景技術(shù)：
用于噴射液體的液體噴射頭的典型例子是被應(yīng)用于將墨噴射到記錄介質(zhì)上以執(zhí)行記錄的噴墨記錄系統(tǒng)的噴墨記錄頭。噴墨記錄頭通常包括墨通道(channel)、設(shè)置在所述通道的部分中的噴射能量產(chǎn)生器、以及通過由噴射能量產(chǎn)生器產(chǎn)生的能量來噴射墨的微細(xì)墨孑L。為了提高具有能量產(chǎn)生器件的基板和形成液體通道的壁的部件之間的粘著性 (adhesion)，日本專利公開No. 11-348290公開了一種技術(shù)其中，用由聚醚酰胺形成的、設(shè)置在其間的中間層來接合基板和形成通道的壁的部件。另一方面，日本專利公開No. 2009-274266公開了一種方法其中，與關(guān)于噴墨記錄頭歷史的信息對應(yīng)的字符的空缺(blank)圖案被形成于中間層中，所述中間層設(shè)置在具有能量產(chǎn)生器的基板和液體通道的壁之間，從而追隨(follow)通道的壁。近來，通道的圖案已不斷變得更微細(xì)，并且需要形成具有更微細(xì)的對應(yīng)圖案的中間層。鑒于例如對中間層與形成通道壁的部件之間的位置關(guān)系的約束以及中間層與形成通道壁的部件之間的接觸面積，中間層可以這樣被形成，使得其端面基本垂直于、或接近垂直于基板的表面。然而，如果如日本專利公開No. 2009-274266中公開的那樣在中間層中形成空缺圖案以顯示關(guān)于噴墨記錄頭的信息，那么取決于在中間層上的層的透明度，可能難以視覺辨認(rèn)信息顯示圖案的輪廓，并且可能因此難以識別所述圖案。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明提供一種可靠的、易于識別的并且結(jié)構(gòu)簡單的液體噴射頭(其中，在與通道壁對應(yīng)的圖案中以高精度形成的并具有易于識別的符號顯示圖案的層被設(shè)置于基板和通道壁之間)，并且還提供一種以高產(chǎn)量制備這樣的液體噴射頭的方法。根據(jù)本發(fā)明一個方面的液體噴射頭包括基板，所述基板具有被配置為產(chǎn)生用于從孔噴射液體的能量的能量產(chǎn)生器件；透明的通道壁部件，所述透明的通道壁部件形成通向所述孔的通道的內(nèi)壁；以及中間層，所述中間層被設(shè)置在所述基板的表面和所述通道壁部件之間并與它們接觸，并且具有與所述通道壁部件的折射率不同的折射率。所述中間層具有第一外端面和第二外端面，所述第一外端面在從所述孔向所述基板的方向上觀看時(shí)形成符號的輪廓并與所述基板的所述表面成第一角度，所述第二外端面面對所述通道并與所述基板的所述表面成第二角度。所述第一角度是鈍角。所述第二角度小于所述第一角度。從參照附圖對示例性實(shí)施例的以下描述，本發(fā)明的進(jìn)一步的特征將變得明顯。


圖IA和IB是根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的液體噴射頭的示意性透視圖。圖2A至2C是示出本發(fā)明第一實(shí)施例的示意圖。圖3A和;3B是示出本發(fā)明第一實(shí)施例的示意圖。圖4A1至4D1以及4A2至4D2是示出本發(fā)明第二實(shí)施例的示意圖。圖5是示出本發(fā)明第二實(shí)施例的示意圖。圖6A和6B是示出本發(fā)明第一實(shí)施例的示意圖。圖7是示出本發(fā)明第一實(shí)施例的示意圖。
具體實(shí)施例方式現(xiàn)在將參照附圖來描述本發(fā)明的實(shí)施例。根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的液體噴射頭(以下稱作“頭”)可以被安裝在諸如打印機(jī)、復(fù)印機(jī)、具有通信系統(tǒng)的傳真機(jī)、具有打印機(jī)部分的字處理器、以及并入有各種類型的處理器的工業(yè)記錄裝置的設(shè)備上。根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的液體噴射頭還可以被用于諸如生物芯片制造、電子電路印刷以及化學(xué)制品噴濺的應(yīng)用中。圖IA是以切割后芯片形式示出的根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的液體噴射頭的部分切去透視圖。根據(jù)這個實(shí)施例的液體噴射頭包括硅基板12，在所述硅基板12上，被配置為產(chǎn)生用于噴射墨的能量的能量產(chǎn)生器件2以預(yù)定節(jié)距(pitch)被并排布置成兩行?；?2在所述兩行能量產(chǎn)生器件2之間具有共用供給口 13。在基板12上形成內(nèi)通道壁的通道壁部件 9具有位于能量產(chǎn)生器件2之上的孔11以及從共用供給口 13通向孔11的通道14。其中形成孔11的表面可具有斥液的最后處理(liquid-Impellent finish)。這個頭被這樣設(shè)置，使得其中形成共用供給口 13的表面面對記錄介質(zhì)的記錄表面。所述頭將由能量產(chǎn)生器件2產(chǎn)生的壓力施加到通過共用供給口 13填充到通道14中的諸如墨的液體，以將所述液體作為液滴(droplet)從孔11噴射到諸如紙的記錄介質(zhì)上，由此執(zhí)行記錄。在圖IB所示的另一例子中，圍繞部件101圍繞通道壁部件9的外圍。如果通道壁部件9由固化(cured)樹脂形成，那么圍繞部件101可由相同的固化樹脂形成。例如，如果圍繞部件101具有與通道壁部件9基本上相同的高度，那么它提供諸如改善的擦拭性能和對基板12的器件表面改善的保護(hù)的優(yōu)點(diǎn)。設(shè)置于液體噴射頭的端部附近的信息符號區(qū)域S(圖IA ；R(圖IB))具有與關(guān)于液體噴射頭的信息對應(yīng)的符號圖案。第一實(shí)施例圖2A至2C以及圖3A和是示出根據(jù)本發(fā)明第一實(shí)施例的頭的示意圖。圖2A 是圖IA所示的頭的在信息符號區(qū)域S中及周圍的上部的放大圖。圖2B是在從液體噴射頭的外側(cè)向內(nèi)側(cè)的方向上觀看時(shí)的、沿圖IA和2A的線IIB-IIB垂直于基板12的平面中獲取的液體噴射頭的截面圖。圖2C是在從液體噴射頭的外側(cè)向內(nèi)側(cè)的方向上觀看時(shí)的、沿圖IA 和2A的線IIC-IIC垂直于基板12的平面中獲取的液體噴射頭的截面圖。圖3A是圖IB所示的頭的在信息符號區(qū)域R中及周圍的上部的放大圖。圖:3B是在從液體噴射頭的外側(cè)向內(nèi)側(cè)的方向上觀看時(shí)的、沿圖IB和3A的線IIIB-IIIB垂直于基板12的平面中獲取的液體噴射頭的截面圖。
如圖2B所示，基板12包括基體(base) 10和覆蓋能量產(chǎn)生器件2的諸如絕緣層 (例如，SiN或SiC)或者耐氣蝕層(例如，鉭)的表面層4，所述能量產(chǎn)生器件2由諸如TaSiN 的生熱電阻器形成。表面層4形成基板12的表面。中間層1被設(shè)置于基板12的表面和通道壁部件9之間并與它們接觸。盡管在示出的例子中中間層1未在通道14中露出，但中間層1可以在通道14中露出。如果形成基板12的表面的表面層4由無機(jī)材料形成，并且通道壁部件9由諸如固化的環(huán)氧樹脂或聚酰亞胺的樹脂形成，那么中間層1可由聚酰亞胺或聚醚酰胺形成，以在表面層4和通道壁部件9之間提供良好的粘著性。中間層1的第二外端面7和基板12的表面之間的第二角部的第二角度φ小于后面描述的第一外端面3和基板12的表面之間的第一角部的第一角度θ。鑒于通道設(shè)計(jì)，第二外端面7和基板12的表面之間的第二角度φ可以是85°至小于100°。例如，如果中間層1由對通道壁部件9和基板12之間的提高的粘著性有貢獻(xiàn)的材料形成并且設(shè)置中間層1的區(qū)域的端部8被確定，那么可以在那些條件下使中間層1和基板12的表面之間的接觸面積與中間層1和通道壁部件9之間的接觸面積的和較大。如果第二角度φ是85°至小于90°，那么中間層1具有懸垂(overhang)形狀，這可通過使用剝離工藝來形成中間層1的對應(yīng)于第二外端面7的部分而形成，或通過使用負(fù)性光致抗蝕劑并在圖案曝光期間調(diào)整焦點(diǎn)位置來形成中間層1而形成?？商娲?，可通過使用抗蝕劑掩模的各向同性蝕刻來形成懸垂形狀。中間層1的厚度可以是、但不限于0. 5 μ m至10 μ m，并且如果厚度是1 μ m至5 μ m，那么可更容易地且以更小應(yīng)力來形成它。另一方面，如圖2C所示，中間層1的第一外端面3與基板12的表面成第一角度 θ 1、θ 2禾Π θ n。第一角度θ 1、θ 2禾Π θ η是鈍角并可以不同。如圖2Α所示，在從孔11向基板12的方向上觀看液體噴射頭時(shí)，第一外端面3形成與關(guān)于液體噴射頭的信息對應(yīng)的符號的輪廓?；?2的表面上的未被中間層1覆蓋的、 被第一外端面3圍繞的、并且與通道壁部件9接觸的區(qū)域具有與關(guān)于液體噴射頭的信息對應(yīng)的符號的形狀。通道壁部件9和中間層1具有不同的折射率，從而中間層1的輪廓可以被辨認(rèn)。在圖3Α中，作為符號的例子，連續(xù)的第一外端面3形成數(shù)字“7”、“0”和“7”的輪廓，其可以被辨認(rèn)為三位數(shù)字“707”?？赏ㄟ^從通道壁部件9側(cè)通過透明的通道壁部件9例如視覺地或使用傳感器來光學(xué)感測中間層1的邊緣，而辨認(rèn)中間層1的輪廓。在這種情況下，面對通道14并成第二角度φ的第二外端面7可以被辨認(rèn)為中間層1的輪廓。另一方面，由于第一角度Θ大于第二角度φ，所以第一外端面3具有較大的光學(xué)可感測范圍，從而用于信息顯示的第一外端面3 形成的中間層1的輪廓較容易辨認(rèn)。換句話說，盡管中間層1的第二外端面7幾乎垂直于基板12的表面，但第一外端面3是傾斜的。與幾乎垂直的表面相比，作為傾斜表面的第一外端面3較容易從上方來光學(xué)感測，特別是視覺感測。因此，與關(guān)于液體噴射頭的信息對應(yīng)的符號可以被容易地辨認(rèn)。第一角度θ可以是100°至115°。如果第一角度θ是100° 或更大，那么第一外端面3可以較容易地被光學(xué)辨認(rèn)。如果第一角度θ是115°或更小，那么斜面(slope)適度地寬，從而較容易找到它們在哪里開始(中間層1的上表面)以及它們在哪里結(jié)束(第一外端面3和基板12的表面之間的邊界)。第一外端面3傾斜的另一優(yōu)點(diǎn)是當(dāng)試圖將基板12的表面上的由第一外端面3圍繞的并與通道壁部件9接觸的區(qū)域的輪廓辨認(rèn)為符號時(shí)，較容易找到基板12的表面和中間層1之間的邊界。通道壁部件9可由諸如環(huán)氧樹脂或聚酰亞胺的樹脂或者諸如硅氮化物或硅氧化物的無機(jī)化合物形成。中間層1可由諸如聚酰亞胺或聚醚酰胺的熱塑性樹脂或者諸如硅氮化物、硅氧化物或硅碳化物的無機(jī)化合物形成。在包含圍繞部件101的例子中，如圖3A和:3B所示，包括第一外端面3的信息符號區(qū)域可被設(shè)置在中間層1的在圍繞部件101和基板12的表面之間的區(qū)域中。形成符號的輪廓的第一外端面3還可被設(shè)置為既在通道壁部件9之下又在圍繞部件101之下。在上述的例子中，如圖6A所示，中間層1的空缺圖案具有阿拉伯?dāng)?shù)字“7”的形狀； 作為替代，如圖6B所示，中間層1的剩余圖案可具有阿拉伯?dāng)?shù)字“7”的形狀。另外，字符不限于數(shù)字，而可以是數(shù)字和字母的混合，諸如“E”、“l(fā)”和“1”，或可以僅是字母。另外，數(shù)字不限于阿拉伯?dāng)?shù)字，而可以是羅馬數(shù)字或中文數(shù)字?？墒褂蔑@微鏡以適當(dāng)調(diào)整的放大率和焦距由人通過視覺辨認(rèn)、或者通過機(jī)器辨認(rèn)來讀取字符。人的視覺辨認(rèn)不需要特別的讀取器，并允許具有對字符輪廓的輕微誤差的容許的確定。還可以從使用這樣的器件所獲得的信息來辨認(rèn)字符所述器件能夠通過使用可見光之外的光測量通道壁部件9和中間層1之間的對比度，來獲取輪廓信息。在這種情況下，通道壁部件9可具有不干擾對用于測量的任何波長的光的測量的光吸收/反射性能。信息符號區(qū)域S或R包含與在通道壁部件9被設(shè)置在中間層1上之前事先確定的關(guān)于液體噴射頭的信息對應(yīng)的信息。一個例子是歷史信息。例如，通過在直徑大約為8英寸的晶片中形成通道和孔并將它切割成液體噴射頭芯片，來制備液體噴射頭。例如，如圖7 所示，由外端面3形成的數(shù)字指示在晶片15被切割成芯片之前基板12在晶片15中所處的位置。晶片15可以在相鄰芯片的第一外端面3之間被切割。在通道壁部件9的形成之前事先確定各通道壁部件9要在晶片上形成在哪里，并且該信息以字符的形式被保存作為關(guān)于液體噴射頭的信息。可以從分離的液體噴射頭讀取該信息，以檢查切割后的基板12在晶片中的位置?；谠撔畔?，可以回顧制備工藝用于改善。例如，可以回顧通道壁部件9的形成中的曝光期間的光掩模條件。符號可以是任何符號，諸如與關(guān)于液體噴射頭的信息對應(yīng)的符號。關(guān)于液體噴射頭的信息的例子包括各液體噴射頭的識別信息、用于形成通道壁部件9的曝光掩模的識別信息、關(guān)于制備日期和時(shí)間或制備地點(diǎn)的信息、以及關(guān)于產(chǎn)品數(shù)的信息。在形成通道壁部件9之前被確定的這種信息能夠通過形成對應(yīng)字符的輪廓的外端面3被顯示為字符。在上述的例子中，形成字符的形狀的第一外端面3被用作用于給液體噴射頭提供與關(guān)于液體噴射頭的信息對應(yīng)的信息的字符。然而，由第一外端面3形成的形狀并不限于字符，而在廣義上可以是可被辨認(rèn)的任何符號或標(biāo)記，并且它們可以與關(guān)于液體噴射頭的信息相關(guān)。例如，第一外端面3可以形成諸如鍵盤上的符號或撲克牌上的“辦”符號的符號。如同字符一樣，如上所述，這樣的符號可以與關(guān)于液體噴射頭的預(yù)定信息相關(guān)，并且形成那些符號的輪廓的第一外端面3可以被形成于液體噴射頭上。符號的例子包括字符和記號，所述字符和記號用于諸如數(shù)學(xué)和物理的學(xué)術(shù)領(lǐng)域，諸如音樂和美術(shù)的藝術(shù)領(lǐng)域，以及諸如建筑、會計(jì)、道路交通和商業(yè)的其他領(lǐng)域。另外，即使一般不被辨認(rèn)或用作與一些類型的事件有關(guān)的符號的形狀也可以通過定義那些形狀與關(guān)于液體噴射頭的信息之間的對應(yīng)關(guān)系而被用作符號。取決于所述符號所對應(yīng)的信息，第一外端面3可以被設(shè)置，從而在晶片中的所有液體噴射頭單元上形成相同符號的輪廓，或從而在液體噴射頭上形成諸如第一、第二、第三以及第η符號的不同符號。第二實(shí)施例現(xiàn)在將作為第二實(shí)施例描述用于制備液體噴射頭的方法的例子。圖4Α1至4D1以及4Α2至4D2是示出根據(jù)第二實(shí)施例的液體噴射頭的制備方法的示意截面圖。圖4Α1至4D1是沿圖IA的線IIB-IIB和圖IB的線IV-IV垂直于基板12的平面中獲取的、示出各步驟的示意截面圖。圖4Α2至4D2是沿圖IA的線IIC-IIC和圖IB 的線ΙΙΙΒ-ΙΙΙΒ垂直于基板12的平面中獲取的、示出各步驟的示意截面圖。參照圖4Α1，硅基板12具有被配置為產(chǎn)生用于噴射液體的能量的能量產(chǎn)生器件2。 如圖4Α1和圖4Α2所示，形成基板12的表面的表面層4、用于形成中間層1的中間材料層 la、以及用作蝕刻中間材料層Ia的蝕刻掩模的掩模材料層fe按以上次序被層疊于硅基板 12上。然后參照圖4B1和4B2，掩模材料層fe被圖案化，以形成用于蝕刻中間材料層Ia 的蝕刻掩模5。如圖4B1所示，中間材料層Ia和蝕刻掩模5的與對應(yīng)于通道的區(qū)域相對的第四外端面16之間的第四角度E幾乎是直角。另一方面，如圖4B2所示，中間材料層Ia和蝕刻掩模5的在對應(yīng)于信息符號區(qū)域的區(qū)域中的第三外端面6之間的第三角度D是鈍角。 角度E小于角度D。第四外端面16對應(yīng)于第二外端面7，而第三外端面6對應(yīng)于第一外端面 3。可通過使用正性光致抗蝕劑形成掩模材料層如、并基于接近曝光(proximity exposure) 中掩模和光致抗蝕劑之間的間隙對于掩模內(nèi)的區(qū)域?qū)⒀谀２牧蠈觙e的上部曝光于衍射光，來形成第三外端面6。第三外端面6還可通過調(diào)整縮小投影曝光中的焦點(diǎn)位置以使它們與基板12的表面成鈍角D而被形成。圖5示出從其上向基板12觀看時(shí)圖4B2中所示的蝕刻掩模5。在向基板12的方向上觀看蝕刻掩模5的上表面時(shí)，中間材料層Ia被露出從而被第三外端面6圍繞，所述第三外端面6形成與關(guān)于液體噴射頭的信息對應(yīng)的符號的輪廓，并與基板12的表面成作為鈍角的第三角度。還可給液體噴射頭區(qū)段(segment)分配不同符號。在這種情況下，形成不同符號的輪廓的外端面通過使用全場(full-field)曝光裝置被形成在蝕刻掩模5上。然后參照圖4C1和4C2，使用蝕刻掩模5蝕刻中間材料層la，以在基板12的表面上形成具有第一外端面3和第二外端面7的中間層1。然后參照圖4D1和4D2，去除掩模5。之后，在中間層1上形成通道壁部件9，以形成如圖2B中所示的通道以及如圖2C 或3B中所示的信息符號區(qū)域。現(xiàn)在將參照以下的例子來具體描述本發(fā)明。例子 1首先，準(zhǔn)備基本上圓形晶片形狀的硅基板12，在其上布置有多個能量產(chǎn)生器件 2 (MW=TaSiN)以及多個驅(qū)動器和邏輯電路(未示出)，并且在其上形成有SiN表面層4。 然后通過旋涂用聚醚酰胺(可從Hitachi Chemical Co.，Ltd.得到的HIMAL(商品名)) 以2 μ m的厚度涂敷表面層4，并且將其在爐中在100°C烘烤30分鐘并然后在250°C烘烤60 分鐘，從而形成中間材料層la。然后通過旋涂用可從Tokyo Ohka Kogyo Co. ,Ltd.得到的 IP5700以5μπι的厚度涂敷中間材料層la，并將其在90°C進(jìn)行烘烤，從而形成掩模材料層 5a(見圖 4A1 和 4A2)。
接下來，掩模5的用于形成中間層1的與通道壁部件9對應(yīng)的部分的部分被形成。 通過對于每個液體噴射頭區(qū)段使用相同掩模在i線步進(jìn)機(jī)(stepper)(由Canon Kabushiki Kaisha制造)中將掩模材料層fe連續(xù)曝光。接下來，掩模5的用于形成中間層1的與信息符號區(qū)域?qū)?yīng)的部分的部分被形成。 掩模材料層5a以與光掩模一對一的關(guān)系在投影曝光裝置中被曝光。光掩模和硅基板12之間的曝光間隙是60 μ m。接下來，使用顯影劑(可從Tokyo Ohka Kogyo Co.，Ltd.得到的NMD-3 (商品名)) 對掩模材料層5a進(jìn)行顯影，以形成具有第四外端面16和第三外端面6的掩模5。第四角度E大約是90°，并且第三角度D大約是110° (見圖4B1和4B2)。第三外端面6被形成為使得形成與晶片中液體噴射頭區(qū)段的位置對應(yīng)的數(shù)字的輪廓，所述數(shù)字中的一個是數(shù)字 “10”。然后使用掩模5通過反應(yīng)離子蝕刻(RIE)對中間材料層Ia進(jìn)行蝕刻，并用去除劑(由 ROHM Co.，Ltd.制造的1112A(商品名))去除抗蝕劑，以形成中間層1(見圖4C1和4C2)。 第一角度θ大約是110°，并且第二角度φ大約是90°。第一外端面3被形成為使得形成與晶片中液體噴射頭區(qū)段的位置對應(yīng)的數(shù)字的輪廓。接下來，通過旋涂使用用于形成通道14的模板的正性光致抗蝕劑(可從Tokyo Ohka Kogyo Co.，Ltd.得到的0DUR(商品名))以14 μ m的厚度涂敷其上形成有中間層1的基板12的表面，并將其進(jìn)行曝光和顯影，以形成通道14的模板。為了形成通道壁部件9， 還通過旋涂來涂覆以下的組合物(composition)，以形成具有25 μ m的厚度的涂層(未示出)，從而它覆蓋整個中間層1，包括第一外端面3和第二外端面7 環(huán)氧樹脂EHPE-3150(可從Daicel Chemical Industries，Ltd.得到)100 質(zhì)量份陽離子光引發(fā)劑SP_172(可從Adeka Corporation得到)6質(zhì)量份二甲苯100質(zhì)量份在i線步進(jìn)機(jī)中對涂層進(jìn)行曝光，使用60%的二甲苯和40%的甲基異丁酮(MIBK) 的混合物對其進(jìn)行顯影，并將其在爐中在140°C固化60分鐘，以形成孔11。然后通過各向異性蝕刻在硅基板12中形成供給口(未示出)。接下來，用乳酸甲酯去除通道14的模板，以形成通道14(見圖2A)。
最后，通過切塊(dicing)將基本上圓形的基板12分割成多個液體噴射頭芯片。當(dāng)在從孔側(cè)到基板側(cè)的方向上通過通道壁部件9由顯微鏡觀察所得到的液體噴射頭之一的信息符號區(qū)域時(shí)，第一外端面3可以被辨認(rèn)為形成數(shù)字“10”的輪廓。例子2除了聚酰亞胺被用于中間材料層Ia以形成中間層1而不是例子1中所使用的聚醚酰胺外，以與例子1中相同的方式制備液體噴射頭。當(dāng)以與例子1中相同的方式觀察信息符號區(qū)域時(shí)，第一外端面3可以被辨認(rèn)為形成數(shù)字“10”的輪廓。如上所述，可通過在中間層的與通道相對的部分中形成幾乎垂直于基板表面的端面，來增加通道壁和基板之間的粘著強(qiáng)度。另一方面，可通過在用于顯示關(guān)于液體噴射頭的信息的區(qū)域中形成與基板表面成鈍角的傾斜表面，來容易地辨認(rèn)和識別關(guān)于液體噴射頭的信息。由此，可用簡單的結(jié)構(gòu)來形成可靠的且容易檢查對應(yīng)信息的液體噴射頭。盡管已經(jīng)參照示例性實(shí)施例描述了本發(fā)明，但要理解，本發(fā)明并不限于所公開的
9示例性實(shí)施例。所附的權(quán)利要求的范圍要被賦予最寬的解釋，從而包括所有這樣的修改以及等同的結(jié)構(gòu)和功能。
權(quán)利要求
1.一種液體噴射頭，包括基板，所述基板具有被配置為產(chǎn)生用于從孔噴射液體的能量的能量產(chǎn)生器件；透明的通道壁部件，所述透明的通道壁部件形成通向所述孔的通道的內(nèi)壁；以及中間層，所述中間層被設(shè)置在所述基板的表面和所述通道壁部件之間并與它們接觸， 并且具有與所述通道壁部件的折射率不同的折射率；其中，所述中間層具有第一外端面和第二外端面，所述第一外端面在從所述孔向所述基板的方向上觀看時(shí)形成符號的輪廓并與所述基板的所述表面成第一角度，所述第二外端面面對所述通道并與所述基板的所述表面成第二角度，所述第一角度是鈍角，所述第二角度小于所述第一角度。
2.如權(quán)利要求1所述的液體噴射頭，其中，所述通道壁部件包含固化的環(huán)氧樹脂，并且所述中間層包含熱塑性樹脂。
3.如權(quán)利要求1所述的液體噴射頭，其中，所述通道壁部件和所述中間層各包含無機(jī)化合物。
4.如權(quán)利要求1所述的液體噴射頭，其中，所述第一角度是100°至115°，并且所述第二角度是85°至小于100°。
5.如權(quán)利要求1所述的液體噴射頭，其中，所述基板上的由所述第一外端面圍繞的區(qū)域具有所述符號的形狀。
6.如權(quán)利要求1所述的液體噴射頭，其中，所述中間層的具有所述第一外端面的部分具有所述符號的形狀。
7.如權(quán)利要求1所述的液體噴射頭，還包括透明的圍繞部件，所述圍繞部件圍繞所述通道壁部件并具有與所述中間層的折射率不同的折射率，所述中間層被設(shè)置于所述基板的所述表面和所述圍繞部件之間并與它們接觸，所述第一外端面被所述圍繞部件覆蓋。
8.如權(quán)利要求1所述的液體噴射頭，其中，所述符號與關(guān)于所述液體噴射頭的信息對應(yīng)。
9.一種制備液體噴射頭的方法，所述液體噴射頭包括基板，所述基板具有被配置為產(chǎn)生用于從孔噴射液體的能量的能量產(chǎn)生器件；透明的通道壁部件，所述透明的通道壁部件形成通向所述孔的通道的內(nèi)壁；以及中間層，所述中間層被設(shè)置在所述基板的表面和所述通道壁部件之間并與它們接觸，并且具有與所述通道壁部件的折射率不同的折射率；所述方法包括以下步驟準(zhǔn)備具有表面的基板，在所述表面上依次設(shè)置用于形成所述中間層的中間材料層和用作用于蝕刻所述中間材料層的掩模的掩模材料層；從所述掩模材料層形成掩模，所述掩模具有第三外端面和第四外端面，所述第三外端面在從所述掩模之上向所述基板的方向上觀看時(shí)形成符號的輪廓并與所述基板的所述表面成第三角度，所述第四外端面面對與所述通道對應(yīng)的區(qū)域并與所述基板的所述表面成第四角度，所述第三角度是鈍角，所述第四角度小于所述第三角度；以及使用所述掩模蝕刻所述中間材料層以形成中間層，所述中間層具有第一外端面和第二外端面，所述第一外端面形成所述符號的輪廓并與所述基板的所述表面成第一角度，所述第二外端面面對所述通道并與所述基板的所述表面成第二角度，所述第一角度是鈍角，所述第二角度小于所述第一角度。
10.如權(quán)利要求9所述的制備液體噴射頭的方法，其中，所述中間層具有形成第一符號的輪廓的第一外端面和形成與所述第一符號不同的第二符號的輪廓的第一外端面，所述方法還包括在形成所述第一符號的輪廓的第一外端面和形成所述第二符號的輪廓的第一外端面之間分割所述基板的步驟。
11.如權(quán)利要求9所述的制備液體噴射頭的方法，其中，所述符號與關(guān)于所述液體噴射頭的信息對應(yīng)。
全文摘要
本發(fā)明涉及液體噴射頭及其制備方法。所述液體噴射頭包括基板，所述基板具有被配置為產(chǎn)生用于從孔噴射液體的能量的能量產(chǎn)生器件；透明的通道壁部件，所述透明的通道壁部件形成通向所述孔的通道的內(nèi)壁；以及中間層，所述中間層被設(shè)置在所述基板的表面和所述通道壁部件之間并與它們接觸，并且具有與所述通道壁部件的折射率不同的折射率。所述中間層具有第一外端面和第二外端面，所述第一外端面在從所述孔向所述基板的方向上觀看時(shí)形成符號的輪廓并與所述基板的所述表面成第一角度，所述第二外端面面對所述通道并與所述基板的所述表面成第二角度。所述第一角度是鈍角。所述第二角度小于所述第一角度。
文檔編號B41J2/16GK102343718SQ20111021130
公開日2012年2月8日 申請日期2011年7月27日 優(yōu)先權(quán)日2010年7月27日
發(fā)明者千田充, 山室純, 本田哲朗, 藤井謙兒 申請人:佳能株式會社