專利名稱：：圖像處理器、圖像處理方法及噴墨打印機的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及在通過使用布置有多個基片(chip)的連接頭、在打印介質(zhì)上打印圖像時使用的圖像處理方法，其中，各基片配備有用于排出相同顏色的墨的噴嘴陣列。
背景技術(shù)：
：傳統(tǒng)上，提出了一種整行(fullline)式噴墨打印機，其中，相對于布置有噴嘴、且布置寬度足以覆蓋與打印介質(zhì)的寬度相對應(yīng)的區(qū)域的打印頭，在與噴嘴的排列方向交叉的方向上運送打印介質(zhì)，從而在打印介質(zhì)上打印圖像。近年來，該整行式噴墨打印機由于能夠進行高速輸出而備受關(guān)注。該整行式噴墨打印機采用布置有大量噴嘴的細長打印頭。然而，當針對這種打印頭一起制造許多噴嘴時，會降低制造過程中的成品率(yieldrate)。因此，通常以如下方式制造新近的整行式噴墨打印機，即制備各自布置有預(yù)定數(shù)量的噴嘴的多個相同類型的基片，并以連續(xù)定位噴嘴的方式布置這些基片。圖IA和圖IB是各自描述日本特開平05-057965(1993)號公報中公開的連接頭的構(gòu)成示例的圖。在圖IA中，有多個基片202被布置為在與各基片的噴嘴排列方向相同的y方向上延伸，在各基片中，形成有多個噴嘴201。此時，通過以如下方式在χ方向上交替移位來在y方向上布置彼此相鄰的基片，即噴嘴在y方向上的排列間距恒定，而且在一個基片與另一基片之間的連接部分(重疊區(qū)域)恒定。通常以如下方式配置連接頭，即在y方向上連續(xù)布置多個基片，由此形成基片的預(yù)定重疊區(qū)域。以恒定頻率從多個噴嘴中排出墨，同時，以對應(yīng)于該頻率的速度在χ方向上運送打印介質(zhì)，由此在打印介質(zhì)上打印圖像。圖IB是示出在一個基片上形成四個噴嘴陣列的示例的圖。在多個噴嘴陣列由此形成在一個基片上的構(gòu)造中，通過多個噴嘴可以在打印介質(zhì)上交替打印在運送方向(X方向)上延伸的同一行。因此，即使在基片中包含具有諸如未排出或排出方向偏移的排出缺陷的噴嘴，也不會在X方向上連續(xù)存在由這種缺陷噴嘴打印的點，因此，能夠輸出具有分散排出特性的均勻圖像。在新近的整行式噴墨打印機中，通常在一個基片上形成多個噴嘴陣列，如圖IB所示。順便提及，在上述連接頭的重疊區(qū)域中，打印在χ方向上延伸的同一行的噴嘴的數(shù)量大于非重疊區(qū)域中的噴嘴的數(shù)量。例如，在圖IA的情況下，在非重疊區(qū)域中，打印同一行的噴嘴的數(shù)量為1，而在重疊區(qū)域中，打印同一行的噴嘴的數(shù)量為2。在圖IB的情況下，在非重疊區(qū)域中，打印同一行的噴嘴的數(shù)量為4，而在重疊區(qū)域中，打印同一行的噴嘴的數(shù)量為8。在日本特開平05-057965(199號公報中，通過使用由此包含在重疊區(qū)域中的所有噴嘴交替打印點，來維持χ方向上的點的連續(xù)性，或者限制由y方向上的排出特性的變化而導致的表面不均勻性。特別是，由于在日本特開平05-057965(1993)號公報中，使用用于逐漸改變與噴嘴位置相對應(yīng)的重疊區(qū)域中的多個基片之間的打印率(打印容許率)的所謂的“灰階掩?！?，因此，y方向上的點的連續(xù)性更加平滑。然而，與在非重疊區(qū)域中進行打印相比，在重疊區(qū)域中進行打印時，用于進行打印的噴嘴的定位區(qū)域在X方向上更長。因此可以確認，在X方向上運送的打印介質(zhì)略微傾斜的情況下，在圖像中很容易出現(xiàn)由傾斜導致的影響。圖2A和圖2B是描述打印介質(zhì)的運送方向與基片的重疊區(qū)域中的圖像副作用之間的狀態(tài)的圖。這里，為了簡化，示出了打印頭500的示例，在打印頭500中，以如下方式布置了基片501和基片502，即各基片具有在其上形成的兩個噴嘴陣列，從而在y方向上具有與各噴嘴陣列的四個噴嘴相對應(yīng)的重疊區(qū)域。參照圖2A，在重疊區(qū)域包含的區(qū)域中，通過基片501的兩個噴嘴和基片502的兩個噴嘴(共四個噴嘴)，來打印在X方向上延伸的同一行。當在X方向上將打印介質(zhì)精確地運送至打印頭500時，在X方向上延伸的同一行505上打印要由噴嘴503A、503B、504A、以及504B打印的點。也就是說，如果通過噴嘴5(X3B和504A將墨朝向打印介質(zhì)的同一位置排出，則在打印介質(zhì)上形成由506表示的兩個重疊點。另一方面，圖2B是在偏離χ方向θ的方向上運送打印介質(zhì)的情況。在這種情況下，沒有在X方向上延伸的同一行505上打印由噴嘴503Α、503Β、504Α、以及504Β打印的點。也就是說，如果通過噴嘴50和504A將墨朝向打印介質(zhì)的同一位置排出，則在打印介質(zhì)上形成如點508和點509所示的兩個分離點。此時，在將噴嘴50和噴嘴504A在χ方向上的距離定義為a的情況下，可以由公式c=aXtanθ來表示兩個分離點之間的距離C。存在如下一些情況，即在重疊區(qū)域中，噴嘴陣列之間的打印位置的這種移位，改變了點在打印介質(zhì)上的覆蓋區(qū)域、從而影響了圖像濃度，或者容易凸顯點的顆粒性、從而使圖像本身劣化。此外，由于可以確認重疊區(qū)域與非重疊區(qū)域之間的濃度或顆粒性的差異，因此將該差異識別為圖像中的不均勻性。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明系考慮到前述問題而做出的，并且本發(fā)明的目的在于提供一種圖像處理方法，通過該圖像處理方法，在使用具有重疊區(qū)域的連接頭的整行式噴墨打印機中，即使打印介質(zhì)的運送方向有些傾斜，也不會出現(xiàn)圖像濃度變化或顆粒性的劣化。本發(fā)明的第一方面是一種圖像處理器，其處理在通過使用配備有多個基片的打印頭在打印介質(zhì)上打印圖像時使用的圖像數(shù)據(jù)，所述多個基片的各個具有多個噴嘴陣列，在所述多個噴嘴陣列的各個中，在第一方向上布置有用于排出墨的多個噴嘴，其中，在各基片中，所述多個噴嘴陣列在與所述第一方向交叉的第二方向上被彼此平行地布置，并且，所述多個基片被布置為使得在所述第二方向上具有重疊區(qū)域，所述圖像處理器包括分配單元，其被配置為將與所述重疊區(qū)域相對應(yīng)的圖像數(shù)據(jù)，分配給與所述重疊區(qū)域相對應(yīng)的兩個基片上的所述多個噴嘴陣列，其中，所述分配單元以使得在所述重疊區(qū)域中存在多個區(qū)域的方式，分配與所述重疊區(qū)域相對應(yīng)的所述圖像數(shù)據(jù)，在所述多個區(qū)域的各個中，所述兩個基片的各個上的至少一個噴嘴陣列的打印容許率隨接近所述基片的端部而減小。本發(fā)明的第二方面是一種圖像處理方法，用于處理在通過使用配備有多個基片的打印頭在打印介質(zhì)上打印圖像時使用的圖像數(shù)據(jù)，所述多個基片的各個具有多個噴嘴陣列，在所述多個噴嘴陣列的各個中，在第一方向上布置有用于排出墨的多個噴嘴，其中，在各基片中，所述多個噴嘴陣列在與所述第一方向交叉的第二方向上被彼此平行地布置，并且，所述多個基片被布置為使得在所述第二方向上具有重疊區(qū)域，所述圖像處理方法包括如下步驟將與所述重疊區(qū)域相對應(yīng)的圖像數(shù)據(jù)，分配給與所述重疊區(qū)域相對應(yīng)的兩個基片上的所述多個噴嘴陣列，其中，所述分配步驟以使得在所述重疊區(qū)域中存在多個區(qū)域的方式，分配與所述重疊區(qū)域相對應(yīng)的所述圖像數(shù)據(jù)，在所述多個區(qū)域的各個中，所述兩個基片的各個上的至少一個噴嘴陣列的打印容許率隨接近所述基片的端部而減小。本發(fā)明的第三方面是一種噴墨打印機，該噴墨打印機包括打印單元，其被配置為通過使用配備有多個基片的打印頭將圖像打印在打印介質(zhì)上，所述多個基片的各個具有多個噴嘴陣列，在所述多個噴嘴陣列的各個中，在第一方向上布置有用于排出墨的多個噴嘴，其中，在各基片中，所述多個噴嘴陣列在與所述第一方向交叉的第二方向上被彼此平行地布置，并且，所述多個基片被布置為使得在所述第二方向上具有重疊區(qū)域，分配單元，其被配置為將與所述重疊區(qū)域相對應(yīng)的圖像數(shù)據(jù)，分配給與所述重疊區(qū)域相對應(yīng)的兩個基片上的所述多個噴嘴陣列，其中，所述分配單元以使得在所述重疊區(qū)域中存在多個區(qū)域的方式，分配與所述重疊區(qū)域相對應(yīng)的所述圖像數(shù)據(jù)，在所述多個區(qū)域的各個中，所述兩個基片的各個上的至少一個噴嘴陣列的打印容許率隨接近所述基片的端部而減小。通過以下參照附圖對示例性實施例的描述，本發(fā)明的其他特征將變得清楚。圖IA和IB是描述連接頭的構(gòu)成示例的圖；圖2A和2B是描述打印介質(zhì)的運送方向以及重疊區(qū)域中的圖像副作用的狀態(tài)的圖；圖3是整行式噴墨打印機的俯視圖；圖4是示出適用于本發(fā)明的系統(tǒng)構(gòu)成示例的圖；圖5是描述連接頭中的重疊區(qū)域的概要的圖；圖6是描述在使用連接頭打印點的情況下的圖像處理的框圖；圖7A至7C是描述重疊區(qū)域附近的噴嘴的使用狀態(tài)的圖；圖8A至8C是描述重疊區(qū)域附近的噴嘴的使用狀態(tài)的另一示例的圖；圖9是示出在使用連接頭打印點的情況下的圖像處理的框圖；圖10是示出在使用具有三個噴嘴陣列的連接頭打印點的情況下的圖像處理的框圖；圖IlA至IlD是描述重疊區(qū)域附近的噴嘴的使用狀態(tài)的圖；圖12是描述第二實施例中的圖像處理的過程的框圖；圖13是描述圖像數(shù)據(jù)分割處理單元和量化處理單元的處理的圖；圖14A和14B是示出誤差分散矩陣的示例的圖；圖15A和15B是描述由于在兩個點組之間不具有互補關(guān)系而產(chǎn)生的效果的圖；圖16是示出在使用具有四個噴嘴陣列的連接頭的情況下的圖像處理的框圖；圖17A至17E是描述重疊區(qū)域附近的噴嘴的使用狀態(tài)的圖；圖18是示出在使用具有三個噴嘴陣列的連接頭打印點的情況下的圖像處理的框圖；圖19是示出在使用連接頭打印點的情況下的圖像處理的框圖；圖20是描述量化處理過程的示例的流程圖；以及圖21A至21G是示出使用閾值表中描述的閾值的量化結(jié)果與輸入值之間的對應(yīng)關(guān)系的圖。具體實施例方式圖3是示出用作本發(fā)明中的圖像處理器的整行式噴墨打印機的俯視圖。通過旋轉(zhuǎn)運送輥105來在圖的χ方向(第一方向)上以預(yù)定速度運送打印介質(zhì)106，并且與運送路徑平行地布置分別排出黑色、青色、品紅色和黃色墨的四個連接頭101至104。稍后將詳細描述各連接頭，但是，各自具有兩個噴嘴陣列的基片基本在y方向(第二方向)上連續(xù)布置，布置寬度與打印介質(zhì)106相同，如圖2A和2B所示。當打印頭101至104在以預(yù)定速度在χ方向上運送的打印介質(zhì)上，以對應(yīng)于運送速度的預(yù)定頻率排出墨時，在打印介質(zhì)上打印一頁的圖像。圖4是示出適用于本發(fā)明的系統(tǒng)構(gòu)成示例的圖。本實施例中的噴墨打印機100被連接至作為圖像數(shù)據(jù)提供器的主機設(shè)備300。主機設(shè)備300主要由以下塊構(gòu)成。在主機設(shè)備300中，CPU301基于存儲在硬盤HDD303和RAM302中的程序，執(zhí)行整個打印機的處理。RAM302是易失性存儲器，并且在其中臨時存儲程序和數(shù)據(jù)。HDD303是非易失性存儲器，并且在其中存儲程序和數(shù)據(jù)。數(shù)據(jù)傳輸I/F304是用于建立與打印機100之間的數(shù)據(jù)通信的接口。鍵盤鼠標I/F305是用于控制諸如鍵盤或鼠標的HID(人機接口設(shè)備，humaninterfacedevice)的I/F，并接收來自用戶的輸入。顯示I/F306是用于將數(shù)據(jù)顯示在顯示器上的塊。另一方面，打印機100主要由以下塊構(gòu)成。CPU311基于存儲在R0M313和RAM312中的程序，執(zhí)行處理。RAM312是易失性存儲器，并且在其中臨時存儲程序和數(shù)據(jù)。ROM313是非易失性存儲器，并且在其中存儲程序和數(shù)據(jù)。數(shù)據(jù)傳輸I/F314是用于建立與主機設(shè)備300之間的數(shù)據(jù)通信的塊。主機設(shè)備300中的數(shù)據(jù)傳輸I/F304與打印機100中的數(shù)據(jù)傳輸I/F314之間的物理連接方法包括使用USB、IEEE1324、LAN等。頭控制器315向用于實際執(zhí)行排出的打印頭提供打印數(shù)據(jù)，以執(zhí)行打印控制。作為其特定的實現(xiàn)示例，存在如下方法，即頭控制器315用于從RAM312的預(yù)定地址讀取必要的參數(shù)和數(shù)據(jù)。當CPU311將必要的參數(shù)和數(shù)據(jù)寫入RAM312的預(yù)定地址時，激活頭控制器315以執(zhí)行實際的打印操作。圖像處理加速器316是用于以比CPU311快的速度執(zhí)行圖像處理的塊。作為其特定的實現(xiàn)示例，存在如下方法，即圖像處理加速器316用于從RAM312的預(yù)定地址讀取必要的參數(shù)和數(shù)據(jù)。當CPU311將必要的參數(shù)和數(shù)據(jù)寫入RAM312的預(yù)定地址時，激活圖像處理加速器316以執(zhí)行打印操作。圖像處理加速器316未必是必需的塊，而僅通過CPU311的處理也可以實現(xiàn)圖像處理。圖5是描述本實施例中使用的連接頭101至104中的重疊區(qū)域的概要的圖。以如下方式配置實際的打印頭，即在與打印介質(zhì)的運送方向交叉的y方向上，布置各自具有多個噴嘴陣列的多個基片。這里，為了簡便，圖5示出了位于兩個基片601和602之間的重疊區(qū)域?；?01和602各自具有兩個噴嘴陣列(噴嘴陣列A和噴嘴陣列B)，并且各噴嘴陣列具有將墨作為小滴排出的多個噴嘴，所述多個噴嘴以1200dpi(點/英寸)的密度排列在y方向上。在本實施例中，為了簡便，各噴嘴陣列具有12個噴嘴，并且在重疊區(qū)域中包含其中的8個噴嘴。下文中，將參照幾個實施例來具體描述作為本發(fā)明中的特征的圖像處理。(第一實施例)圖6是描述在使用連接頭101至104打印點的情況下的圖像處理的處理的框圖。在本實施例中，可以將多值圖像數(shù)據(jù)輸入單元401、調(diào)色板(pallet)轉(zhuǎn)換處理單元402、灰階校正處理單元403以及量化處理單元404視為主機設(shè)備300的CPU301中設(shè)置的單元。從多值圖像數(shù)據(jù)輸入單元401輸入RGB的多值圖像數(shù)據(jù)056值)。針對各像素，通過調(diào)色板轉(zhuǎn)換處理單元402，將該輸入的圖像數(shù)據(jù)(多值RGB數(shù)據(jù))轉(zhuǎn)換為與墨顏色(CMYK)相對應(yīng)的四組多值圖像數(shù)據(jù)(各墨的多值數(shù)據(jù))。調(diào)色板轉(zhuǎn)換處理單元402配備有三維查找表(LUT)，在該三維查找表中，RGB值與CMYK值一一對應(yīng)地相互關(guān)聯(lián)。通過使用LUT—次將RGB值轉(zhuǎn)換為各墨的多值數(shù)據(jù)(C、M、Y和K)。對于移出表格點值的輸入值，可以由臨近格點的輸出值，來插值計算輸出值。針對CMYK中的各個，彼此獨立、并行地執(zhí)行以下處理。在灰階校正處理單元403中，對各墨的多值數(shù)據(jù)(C、M、Y和K)分別執(zhí)行基本的轉(zhuǎn)換處理，使得在打印介質(zhì)上打印的圖像的濃度與輸入濃度數(shù)據(jù)呈線性。此外，在量化處理單元404中，對轉(zhuǎn)換后的各顏色的多值數(shù)據(jù)(C、M、Y和K)執(zhí)行二值化處理(量化處理)。這里，由于以黑色(K)為例對該處理進行說明，因此，在量化處理單元404中，對黑色(K)的多值數(shù)據(jù)執(zhí)行量化處理，以在本實施例中將256值的黑色多值數(shù)據(jù)量化為17灰階的多值數(shù)據(jù)。在這種情況下，本實施例采用普通多值誤差擴散系統(tǒng)作為量化處理。然而，本發(fā)明不限于這種量化處理，例如，本發(fā)明可以采用諸如已知的抖動矩陣處理的偽中間灰階處理，或者可以根據(jù)輸出圖像的應(yīng)用來采用簡單的量化。將量化后的各顏色的17灰階的數(shù)據(jù)從主機設(shè)備300發(fā)送至打印機100。通過打印機100中的CPU311或圖像處理加速器316來執(zhí)行以下處理。在打印機100中，首先在指數(shù)展開處理單元405中執(zhí)行指數(shù)展開。在ROM313中，針對300dpi的17值數(shù)據(jù)中的各個準備指數(shù)圖案，在該指數(shù)圖案中，針對1200dpi的16個像素中的各個，定義打印(1)或不打印(0)。通過參照這些圖案來執(zhí)行數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換，300dpi的17值的多值數(shù)據(jù)被轉(zhuǎn)換為1200dpi的二值數(shù)據(jù)。在接下來的陣列分配單元406中，各顏色的二值數(shù)據(jù)被分配給各基片中設(shè)置的噴嘴陣列A和噴嘴陣列B中的任一者。結(jié)果，各二值數(shù)據(jù)被分配給由A陣列的噴嘴打印的噴嘴陣列A的二值數(shù)據(jù)407A、以及由B陣列的噴嘴打印的噴嘴陣列B的二值數(shù)據(jù)407B。此外，對噴嘴陣列A的二值數(shù)據(jù)407A執(zhí)行噴嘴陣列A的掩模處理408A，二值數(shù)據(jù)407A被分割為與布置在打印頭上的多個基片相對應(yīng)的數(shù)據(jù)。此外，對噴嘴陣列B的二值數(shù)據(jù)407B執(zhí)行噴嘴陣列B的掩模處理408B，二值數(shù)據(jù)407B同樣被分割為與布置在打印頭上的多個基片相對應(yīng)的數(shù)據(jù)。掩模處理使用預(yù)先針對多個基片中的各個準備的掩模圖案，在該掩模圖案中，根據(jù)各數(shù)據(jù)的位置來限定容許或不容許打印。此外，實際上通過與允許在數(shù)據(jù)的位置處打印的掩模圖案相對應(yīng)的基片，來打印各數(shù)據(jù)。此時，在關(guān)注二值數(shù)據(jù)的位置包含在打印頭的非重疊區(qū)域中的情況下，由于能夠使用相應(yīng)的數(shù)據(jù)的基片被限制為一個基片，因此產(chǎn)生各掩模圖案，使得在該基片中進行打印。另一方面，在關(guān)注二值數(shù)據(jù)的位置包含在打印頭的重疊區(qū)域中的情況下，由于兩個基片能夠使用相應(yīng)的數(shù)據(jù)，因此產(chǎn)生各掩模圖案，使得在兩個基片中進行打印。圖6示出了如下狀態(tài)，即在圖5所示的打印頭中，通過噴嘴陣列A的掩模處理408A以及噴嘴陣列B的掩模處理408B，將二值數(shù)據(jù)中的各個分割到兩個基片601和602中的兩個噴嘴陣列A和B。稍后將詳細描述將打印數(shù)據(jù)分配給重疊區(qū)域中的兩個基片的分配方法(分割方法)。此外，前述掩模圖案以與指數(shù)圖案相同的方式，被預(yù)先存儲在打印機內(nèi)的ROM313中。當完成了如上所述的一系列處理時，根據(jù)與各基片和各噴嘴陣列相對應(yīng)的二值數(shù)據(jù)執(zhí)行實際的排出操作。圖7A至7C是描述本實施例中的重疊區(qū)域附近的各噴嘴的使用狀態(tài)的圖。在圖7A中，在兩個基片601和602中布置的各噴嘴中，以黑色圈顯示用于打印的噴嘴，以白色圈顯示不用于打印的噴嘴。圖7B示出了噴嘴陣列A中的、與基片601和基片602中的各個的噴嘴位置相對應(yīng)的打印容許率，圖7C示出了噴嘴陣列B中的、與基片601和基片602中的各個的噴嘴位置相對應(yīng)的打印容許率。打印容許率表示可由各噴嘴打印點的像素的位置當中的、根據(jù)上述掩模圖案實際允許打印點的像素的比率，并且，最大比率為100%，最小比率為0%。然而，在本實施例中，由于通過陣列分配單元406，將二值數(shù)據(jù)分配給噴嘴陣列A的二值數(shù)據(jù)以及噴嘴陣列B的二值數(shù)據(jù)各50%，因此，在圖7B和圖7C的各個中的打印容許率的最大值為50%。應(yīng)當指出，在圖7A中，以白色圈示出打印容許率為0%的噴嘴。與八個噴嘴相對應(yīng)的重疊區(qū)域，被分割為與四個噴嘴相對應(yīng)的重疊區(qū)域1和與四個噴嘴相對應(yīng)的重疊區(qū)域2，對各重疊區(qū)域執(zhí)行不同的處理。在重疊區(qū)域1中，不通過基片601的噴嘴陣列B打印點，而通過如下三個陣列打印點，即基片602的噴嘴陣列A和噴嘴陣列B、以及基片601的噴嘴陣列A。在該區(qū)域中，基片602的噴嘴陣列B的打印容許率為50%恒定。如圖7B所示，基片601中的噴嘴陣列A的打印容許率、以及基片602中的噴嘴陣列A的打印容許率根據(jù)位置而變化，并且，兩個打印容許率之和為50%恒定。也就是說，在重疊區(qū)域1中，基片602中的噴嘴陣列B、基片601中的噴嘴陣列A、以及基片602中的噴嘴陣列A的打印容許率之和為100%。另一方面，在重疊區(qū)域2中，不通過基片602的噴嘴陣列A打印點，而通過如下三個陣列打印點，即基片601的噴嘴陣列A和噴嘴陣列B、以及基片602的噴嘴陣列B。在該區(qū)域中，基片601的噴嘴陣列A的打印容許率為50%恒定。如圖7C所示，基片601中的噴嘴陣列B的打印容許率、以及基片602中的噴嘴陣列B的打印容許率根據(jù)位置而變化，并且，兩個打印容許率之和為50%恒定。也就是說，在重疊區(qū)域2中，基片601中的噴嘴陣列A、基片601中的噴嘴陣列B、以及基片602中的噴嘴陣列B的打印容許率之和為100%。在本實施例中，執(zhí)行陣列分配處理或掩模處理，以滿足以上關(guān)系。在執(zhí)行以上打印的情況下，在重疊區(qū)域1中，基片601和602中的各個中的噴嘴陣列A的打印容許率，在基片601和602的四個噴嘴陣列之間變化，在重疊區(qū)域2中，基片601和602中的各個中的噴嘴陣列B的打印容許率變化。也就是說，本發(fā)明具有如下特征，即在基片601和602中的各個配備有噴嘴陣列A和噴嘴陣列B兩個噴嘴陣列的情況下，四個噴嘴陣列的打印容許率變化的區(qū)域沒有被定義為一個區(qū)域，而是被分割為彼此移位的兩個區(qū)域。在這種情況下，在重疊區(qū)域1中，用于打印的三個噴嘴陣列的χ方向上的寬度，對應(yīng)于基片601中的噴嘴陣列A與基片602中的噴嘴陣列A之間的距離d。另外，在重疊區(qū)域2中，用于打印的三個噴嘴陣列的χ方向上的寬度，對應(yīng)于基片601中的噴嘴陣列B與基片602中的噴嘴陣列B之間的距離e。距離d和e中的任一個均小于四個噴嘴陣列的寬度，即基片601中的噴嘴陣列B與基片602中的噴嘴陣列A之間的χ方向上的距離a。因此，即使如圖2B所述，發(fā)生了打印介質(zhì)的運送的傾斜，也可以由公式c=dXtane(或eXtane)<aXtan6來表達兩個分離點之間的距離，并且將打印位置移位限制為小于使用所有四個噴嘴陣列的情況?？紤]如下構(gòu)造，即基片601和602中的四個噴嘴陣列的打印容許率改變的區(qū)域被分割為兩個區(qū)域，并且兩個區(qū)域相互移位，例如，以下構(gòu)造也可以包含在該構(gòu)造中。也就是說，在重疊區(qū)域1中，可以通過基片601中的噴嘴陣列B、基片602中的噴嘴陣列B以及基片602中的噴嘴陣列A這三個陣列來打印點。另外，基片602中的噴嘴陣列B的打印容許率恒定為50%，而基片601中的噴嘴陣列B以及基片602中的噴嘴陣列A中的各個的打印容許率改變。另一方面，在重疊區(qū)域2中，可以通過基片601中的噴嘴陣列A、基片601中的噴嘴陣列B以及基片602中的噴嘴陣列B這三個陣列來打印點。另外，基片601中的噴嘴陣列A的打印容許率恒定為50%，而基片601中的噴嘴陣列B以及基片602中的噴嘴陣列B中的各個的打印容許率改變。根據(jù)該構(gòu)造，在重疊區(qū)域1中，用于打印的三個噴嘴陣列的χ方向上的寬度，對應(yīng)于基片601中的噴嘴陣列B與基片602中的噴嘴陣列A之間的距離a，并保持等于使用四個噴嘴陣列時的寬度。然而，在重疊區(qū)域2中，用于打印的三個噴嘴陣列的χ方向上的寬度，對應(yīng)于基片601中的噴嘴陣列B與基片602中的噴嘴陣列B之間的距離e，以使得能夠?qū)⒋蛴∥恢靡莆幌拗茷檩^小。通過由此將打印容許率改變的區(qū)域分割為多個區(qū)域，在這些區(qū)域中的至少一個區(qū)域中，不使用位于運送方向上的最外側(cè)的兩個噴嘴陣列二者。因此，能夠在重疊區(qū)域的至少一部分中，降低濃度變化或顆粒性的劣化。然而，優(yōu)選如下方式，即打印數(shù)據(jù)被分配給噴嘴陣列，使得在打印容許率改變的所有區(qū)域中，在多個噴嘴陣列中的至少一個位于運送方向上的最外側(cè)的噴嘴陣列，不用于圖7A至7C所示的打印。如上所述，根據(jù)本實施例，即使在打印介質(zhì)的運送方向上包含傾斜的情況下，也可以限制點之間的打印位置移位，以防止?jié)舛茸兓蛲癸@顆粒性。圖8A至8C是以與圖7A至7C相同的方式、描述本實施例中的重疊區(qū)域附近的各噴嘴的使用狀態(tài)的另一示例的圖。在本實施例中，與八個噴嘴相對應(yīng)的重疊區(qū)域被分割為與兩個噴嘴相對應(yīng)的重疊區(qū)域1、與四個噴嘴相對應(yīng)的重疊區(qū)域2以及與兩個噴嘴相對應(yīng)的重疊區(qū)域3，對各重疊區(qū)域執(zhí)行不同的處理。在重疊區(qū)域1中，不通過基片601的噴嘴陣列B打印點，而通過如下三個陣列打印點，即基片602的噴嘴陣列A和噴嘴陣列B、以及基片601的噴嘴陣列A。在該區(qū)域中，基片602的噴嘴陣列B的打印容許率為50%恒定。如圖8B所示，基片601中的噴嘴陣列A的打印容許率、以及基片602中的噴嘴陣列A的打印容許率根據(jù)位置而變化，并且，兩個打印容許率之和為50%恒定。也就是說，在重疊區(qū)域1中，基片602中的噴嘴陣列B、基片601中的噴嘴陣列A、以及基片602中的噴嘴陣列A的打印容許率之和為100%。在重疊區(qū)域2中，通過所有的噴嘴陣列打印點，即基片601中的噴嘴陣列A、基片602中的噴嘴陣列A、基片601中的噴嘴陣列B、以及基片602中的噴嘴陣列B。特別地，如圖8B所示，基片601中的噴嘴陣列A的打印容許率、以及基片602中的噴嘴陣列A的打印容許率根據(jù)位置而變化，并且，兩個打印容許率之和為50%恒定。另外，如圖8C所示，基片601中的噴嘴陣列B的打印容許率、以及基片602中的噴嘴陣列B的打印容許率也根據(jù)位置而變化，并且，兩個打印容許率之和為50%恒定。另外，在重疊區(qū)域2中，基片601中的噴嘴陣列A、基片601中的噴嘴陣列B、基片602中的噴嘴陣列A、以及基片602中的噴嘴陣列B的打印容許率之和為100%。另一方面，在重疊區(qū)域3中，不通過基片602的噴嘴陣列A打印點，而通過如下三個陣列打印點，即基片601的噴嘴陣列A和噴嘴陣列B、以及基片602的噴嘴陣列B。在該區(qū)域中，基片601的噴嘴陣列A的打印容許率為50%恒定。如圖8C所示，基片601中的噴嘴陣列B的打印容許率、以及基片602中的噴嘴陣列B的打印容許率根據(jù)位置而變化，并且，兩個打印容許率之和為50%恒定。也就是說，在重疊區(qū)域3中，基片601中的噴嘴陣列B、基片601中的噴嘴陣列A、以及基片602中的噴嘴陣列B的打印容許率之和為100%。在本實施例中，在重疊區(qū)域1以及重疊區(qū)域2中，基片601和602中的各個中的噴嘴陣列A的打印容許率在基片601和602的四個噴嘴陣列之間變化，在重疊區(qū)域2以及重疊區(qū)域3中，基片601和602中的各個中的噴嘴陣列B的打印容許率變化。在兩個基片601和602中的四個噴嘴陣列的打印容許率變化的區(qū)域、被由此分割為彼此移位的兩個區(qū)域的情況下，其部分可能重疊。應(yīng)當指出，相反地，打印容許率變化的區(qū)域可能相互遠離。在重疊區(qū)域1和3中，由于要使用的噴嘴陣列的χ方向上的寬度e和d中的各個，小于四個噴嘴陣列的X方向上的寬度a，因此，可以限制由運送的傾斜而導致的打印位置移位，其原因與圖7A至7C所描述的相同。然而，在重疊區(qū)域2中，由于使用所有四個噴嘴陣列，因此，不可以限制由運送的傾斜而導致的打印位置移位。然而，根據(jù)圖8A至8C中的構(gòu)造，由于對于噴嘴位置、打印容許率可以比圖7A至7C更加漸進地改變，因此，能夠更好地實現(xiàn)日本特開平05-057965(1993)號公報中公開的灰階掩模的效果。應(yīng)當指出，在圖8A至8C中，打印容許率改變的區(qū)域部分重疊的示例，被顯示為本實施例的另一示例，但是，相反地，在重疊區(qū)域中，打印容許率改變的區(qū)域也可以相互遠離。根據(jù)上述本實施例，重疊區(qū)域中的打印容許率改變的區(qū)域，被分割為重疊區(qū)域中存在的多個區(qū)域。因此，在重疊區(qū)域的至少一部分中，可以限制點之間的打印位置移位，以防止?jié)舛茸兓蛲癸@顆粒性。尤其在打印容許率改變的所有區(qū)域中、打印數(shù)據(jù)被分配給多個噴嘴陣列、從而使得在多個噴嘴陣列當中的位于運送方向上的最外側(cè)的至少一個噴嘴陣列不用于打印的情況下，進一步增強了防止?jié)舛茸兓蛲癸@顆粒性的效果。(第一實施例的變型例1)圖9是描述在使用連接頭101至104打印點的情況下的本變型例中的圖像處理的處理的框圖。由于直到指數(shù)展開處理單元1005為止的處理與圖6所示的第一實施例中相同，因此，省略其描述。在本變型例中，在基片分配處理單元1006中，從指數(shù)展開處理單元1005接收的各顏色的二值數(shù)據(jù)被分配給多個基片。結(jié)果，各二值數(shù)據(jù)被分配給由第一基片打印的二值數(shù)據(jù)1007A以及由第二基片打印的二值數(shù)據(jù)1007B。之后，對被分配給第一基片中布置的噴嘴陣列A和噴嘴陣列B中的任一者的、第一基片的二值數(shù)據(jù)1007A，執(zhí)行第一基片的陣列分配處理1008A。另外，對也被分配給第二基片中布置的噴嘴陣列A和噴嘴陣列B中的任一者的、第二基片的二值數(shù)據(jù)1007B，執(zhí)行第二基片的陣列分配處理1008B。當完成上述一系列處理時，根據(jù)與各基片和各噴嘴陣列相對應(yīng)的二值數(shù)據(jù)，執(zhí)行實際的排出操作。如上所述，當從指數(shù)展開處理輸入的數(shù)據(jù)被首先分配至各基片、然后被分配至各噴嘴陣列時，能夠以與圖7A至7C或圖8A至8C中相同的方式，實現(xiàn)重疊區(qū)域附近的各噴嘴的使用狀態(tài)。因此，即使在根據(jù)圖9所示的處理執(zhí)行圖像處理的情況下，也能夠獲得與以上實施例相似的效果。(第一實施例的變型例2)圖10是描述在使用在一個基片上具有三個噴嘴陣列的連接頭進行打印的情況下的圖像處理的處理的框圖。由于直到指數(shù)展開處理單元1205的處理與圖6所示的第一實施例中相同，因此，省略其描述。在本變型例的陣列分配單元1206中，各顏色的二值數(shù)據(jù)被分配給各基片中設(shè)置的噴嘴陣列A、噴嘴陣列B以及噴嘴陣列C中的任一者。結(jié)果，各二值數(shù)據(jù)被分配給噴嘴陣列A打印的噴嘴陣列A的二值數(shù)據(jù)1207A、噴嘴陣列B打印的噴嘴陣列B的二值數(shù)據(jù)1207B、以及噴嘴陣列C打印的噴嘴陣列C的二值數(shù)據(jù)1207C。此外，對被分割為與布置在打印頭上的多個基片相對應(yīng)的數(shù)據(jù)的、噴嘴陣列A的二值數(shù)據(jù)1207A，執(zhí)行噴嘴陣列A的掩模處理1208A。另外，對被分割為與布置在打印頭上的多個基片相對應(yīng)的數(shù)據(jù)的、噴嘴陣列B的二值數(shù)據(jù)1207B，執(zhí)行噴嘴陣列B的掩模處理1208B。此外，對被分割為與布置在打印頭上的多個基片相對應(yīng)的數(shù)據(jù)的、噴嘴陣列C的二值數(shù)據(jù)1207C，執(zhí)行噴嘴陣列C的掩模處理1208C。當完成上述一系列處理時，根據(jù)與各基片和各噴嘴陣列相對應(yīng)的二值數(shù)據(jù)，執(zhí)行實際的排出操作。圖IlA至IlD是以與圖7A至7C中相同的方式、描述本實施例中的重疊區(qū)域附近的各噴嘴的使用狀態(tài)的另一示例的圖。在本實施例中，與八個噴嘴相對應(yīng)的重疊區(qū)域被分割為與三個噴嘴相對應(yīng)的重疊區(qū)域1、與兩個噴嘴相對應(yīng)的重疊區(qū)域2以及與三個噴嘴相對應(yīng)的重疊區(qū)域3，對各重疊區(qū)域執(zhí)行不同的處理。在重疊區(qū)域1中，不通過基片1301的噴嘴陣列B和噴嘴陣列C打印點，而通過如下四個陣列打印點，即基片1302的噴嘴陣列A至C、以及基片1301的噴嘴陣列A。在重疊區(qū)域2中，不通過基片1301的噴嘴陣列C和基片1302的噴嘴陣列A打印點，而通過如下四個陣列打印點，即基片1301的噴嘴陣列A和噴嘴陣列B、以及基片1302的噴嘴陣列B和噴嘴陣列C。在重疊區(qū)域3中，不通過基片1302的噴嘴陣列A和噴嘴陣列B打印點，而通過如下四個陣列打印點，即基片1301的噴嘴陣列A至C、以及基片1302的噴嘴陣列C。在執(zhí)行以上打印的情況下，在重疊區(qū)域1中，用于打印的噴嘴陣列的χ方向上的寬度，對應(yīng)于基片1301中的噴嘴陣列A與基片1302中的噴嘴陣列A之間的距離h。另外，在重疊區(qū)域2中，用于打印的噴嘴陣列的χ方向上的寬度，對應(yīng)于基片1301中的噴嘴陣列B與基片1302中的噴嘴陣列B之間的距離i。此外，在重疊區(qū)域3中，用于打印的噴嘴陣列的χ方向上的寬度，對應(yīng)于基片1301中的噴嘴陣列C與基片1302中的噴嘴陣列C之間的距離j。距離h、i和j中的任一個均小于六個噴嘴陣列的χ方向上的寬度，即基片1301中的噴嘴陣列C與基片1302中的噴嘴陣列A之間的距離g。因此，即使如圖2B所述，發(fā)生了打印介質(zhì)的運送的傾斜，也可以由公式c=hXtanθ(iXtanθ,jXtanθ)<gXtanθ來表達兩個分離點之間的距離，并且將打印位置移位限制為小于使用所有六個噴嘴陣列的情況。根據(jù)本變型例，在使用具有三個噴嘴陣列的基片的情況下，通過將打印容許率改變的區(qū)域分割為多個區(qū)域，在多個區(qū)域中的至少一個區(qū)域中，不使用位于運送方向上的最外側(cè)的兩個噴嘴陣列二者。因此，即使在打印介質(zhì)的運送方向傾斜的情況下，也能夠在重疊12區(qū)域的至少一部分中限制點之間的打印位置移位，以防止?jié)舛茸兓蛲癸@顆粒性。尤其在打印容許率改變的所有區(qū)域中、打印數(shù)據(jù)被分配給噴嘴陣列、從而使得在多個噴嘴陣列當中的位于運送方向上的最外側(cè)的至少一個噴嘴陣列不用于打印的情況下，進一步增強了防止?jié)舛茸兓蛲癸@顆粒性的效果。(第二實施例)第二實施例的目的在于，除了第一實施例中描述的效果之外，通過同時使用日本特開2000-103088號公報或日本特開2001-150700號公報中公開的處理方法，進一步增強圖像質(zhì)量。圖12是描述在使用連接頭101至104打印點的情況下的第二實施例中的圖像處理的處理的框圖。由于直到灰階校正處理單元1403的處理與圖6所示的第一實施例中相同，因此，省略其描述。在本實施例中，在圖像數(shù)據(jù)分割處理單元1404中，從灰階校正處理單元1403接收的各顏色的多值數(shù)據(jù)被分配給噴嘴陣列A和噴嘴陣列B，像多值數(shù)據(jù)一樣。之后，對噴嘴陣列A的多值數(shù)據(jù)1502執(zhí)行噴嘴陣列A的量化處理1406A，以生成噴嘴陣列A的二值數(shù)據(jù)。另外，對噴嘴陣列B的多值數(shù)據(jù)1503執(zhí)行噴嘴陣列B的量化處理1406B，以生成噴嘴陣列B的二值數(shù)據(jù)。圖13是描述圖像數(shù)據(jù)分割處理單元1404中的多值數(shù)據(jù)分割方法、以及量化處理單元1406A和1406B中的二值數(shù)據(jù)生成處理的狀態(tài)的圖。針對各像素，從灰階校正處理單元1403輸入的數(shù)據(jù)1501是以0至255的范圍表達的多值數(shù)據(jù)。圖像數(shù)據(jù)分割處理單元1404針對各像素將該值分割為兩個數(shù)據(jù)(將該值與系數(shù)0.5相乘)，以生成噴嘴陣列A的多值數(shù)據(jù)1502以及噴嘴陣列B的多值數(shù)據(jù)1503。之后，在各量化處理單元中，使用誤差擴散方法對被分割為兩個數(shù)據(jù)的多值數(shù)據(jù)執(zhí)行二值化處理，以對各像素進行二值化，來提供打印(1)或不打印(O)0此時，當在噴嘴陣列A的誤差擴散處理中使用的誤差分配矩陣、不同于在噴嘴陣列B的誤差擴散處理中使用的誤差分配矩陣時，可以使二值化之后的結(jié)果在二者之間不同。例如，在噴嘴陣列A的量化處理單元1406A中，通過使用圖14A所示的誤差分配矩陣，從噴嘴陣列A的多值數(shù)據(jù)1502中獲得噴嘴陣列A的二值數(shù)據(jù)。另外，在噴嘴陣列B的量化處理單元1406B中，通過使用圖14B所示的誤差分配矩陣，從噴嘴陣列B的多值數(shù)據(jù)1503中獲得噴嘴陣列B的二值數(shù)據(jù)。結(jié)果，通過比較噴嘴陣列A的二值數(shù)據(jù)與噴嘴陣列B的二值數(shù)據(jù)，存在在噴嘴陣列A和噴嘴陣列B中的任一者中進行打印(1)的像素，并且存在在噴嘴陣列A和噴嘴陣列B二者中都進行打?、诺南袼?。也就是說，當執(zhí)行以上圖像處理時，能夠以如下方式布置點，即噴嘴陣列A的二值數(shù)據(jù)與噴嘴陣列B的二值數(shù)據(jù)不具有互補關(guān)系。圖15A和15B是描述由于在兩個點組之間沒有產(chǎn)生互補關(guān)系而導致的優(yōu)點的圖。圖15A示出了噴嘴陣列A打印的點(黑色圈)與噴嘴陣列B打印的點(白色圈)互補的狀態(tài)。在這種情況下，當噴嘴陣列A的打印位置與噴嘴陣列B的打印位置、在右、左、上和下方向中的任一方向上僅僅相對移位一個像素時，黑色圈和白色圈完全重疊，因此，白色片材區(qū)域被曝光。也就是說，根據(jù)具有如圖15A的情況下的互補關(guān)系的打印方法，由打印機的誤差而導致的微小的打印位置移位很容易影響圖像質(zhì)量。另一方面，圖15B示出了噴嘴陣列A打印的點與噴嘴陣列B打印的點彼此之間不具有互補關(guān)系的狀態(tài)。在圖中，黑色圈表示噴嘴陣列A打印的點，白色圈表示噴嘴陣列B打印的點，灰色圈表示噴嘴陣列A和噴嘴陣列B重疊打印的點。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，即使在噴嘴陣列A打印的點組和噴嘴陣列B打印的點組在右、左、上和下方向中的任一方向上發(fā)生移位的情況下，點在打印介質(zhì)上的覆蓋率也不會變化太多。這是因為新出現(xiàn)了噴嘴陣列A打印的點與噴嘴陣列B打印的點重疊的部分，但是存在本來應(yīng)當重疊打印的兩個點不重疊的部分。以此方式，當執(zhí)行噴嘴陣列A打印的點與噴嘴陣列B打印的點之間不產(chǎn)生互補關(guān)系的處理時，即使在噴嘴陣列A與噴嘴陣列B之間發(fā)生打印位置移位，也可以限制濃度變化。應(yīng)當指出，在日本特開2000-103088號公報或日本特開2001-150700號公報中公開了在多值數(shù)據(jù)的階段，對稍后將通過不同的處理對其進行二值化的數(shù)據(jù)進行分割的方法、以及根據(jù)該方法的效果。以如下方式配置本實施例，即通過將日本特開平05-057965(1993)號公報或日本特開2001-150700號公報的構(gòu)造添加到本發(fā)明的特征構(gòu)造，能夠一起實現(xiàn)二者的功能和效果。再次參照圖12，在量化處理之后，對被分割為與布置在打印頭上的多個基片相對應(yīng)的數(shù)據(jù)的、噴嘴陣列A的二值數(shù)據(jù)，執(zhí)行噴嘴陣列A的掩模處理1407A。另外，對被分割為與布置在打印頭上的多個基片相對應(yīng)的數(shù)據(jù)的、噴嘴陣列B的二值數(shù)據(jù)，執(zhí)行噴嘴陣列B的掩模處理1407B。針對將打印數(shù)據(jù)分配給重疊區(qū)域中的兩個基片的分配方法(分割方法)，當采用使用圖7A至7C或圖8A至8C描述的第一實施例的方法時，能夠獲得類似的效果。另一方面，由于本實施例使各基片中的噴嘴陣列的打印位置之間不具有互補關(guān)系，因此，限制了由噴嘴陣列之間的打印位置移位引起的濃度變化或顆粒性。結(jié)果，即使在打印介質(zhì)的運送方向中包含傾斜的情況下，或者即使在噴嘴陣列之間發(fā)生打印位置移位的情況下，也能夠限制由該事件引起的負面效果，以防止?jié)舛茸兓蛲癸@顆粒性。(第二實施例的變型例1)圖16是描述在使用如圖17A所示在一個基片上具有四個噴嘴陣列的連接頭進行打印的情況下的本變型例中的圖像處理的處理的框圖。由于直到灰階校正處理單元1903的處理與圖12所示的第二實施例中相同，因此，省略其描述。在本變型例中，在圖像數(shù)據(jù)分割處理單元1904中，從灰階校正處理單元1903接收的各顏色的多值數(shù)據(jù)被按照多值數(shù)據(jù)的原樣，分配給第一噴嘴陣列組的多值數(shù)據(jù)1905A和第二噴嘴陣列組的多值數(shù)據(jù)1905B。通過參照圖17A，在本變型例中，第一噴嘴陣列組包括四個噴嘴陣列中的噴嘴陣列A和噴嘴陣列B。此外，第二噴嘴陣列組包括四個噴嘴陣列中的噴嘴陣列C和噴嘴陣列D。之后，對第一噴嘴陣列組的多值數(shù)據(jù)1905A執(zhí)行第一噴嘴陣列組的量化處理1906A,以將其轉(zhuǎn)換為第一噴嘴陣列組的二值數(shù)據(jù)。對第二噴嘴陣列組的多值數(shù)據(jù)1905B執(zhí)行第二噴嘴陣列組的量化處理1906B，以將其轉(zhuǎn)換為第二噴嘴陣列組的二值數(shù)據(jù)。通過第一噴嘴陣列組的陣列分配處理1907A，將由此生成的第一噴嘴陣列組的二值數(shù)據(jù)分配給噴嘴陣列A的二值數(shù)據(jù)和噴嘴陣列B的二值數(shù)據(jù)。此外，通過第二噴嘴陣列組的陣列分配處理1907B,將第二噴嘴陣列組的二值數(shù)據(jù)分配給噴嘴陣列C的二值數(shù)據(jù)和噴嘴陣列D的二值數(shù)據(jù)。此外，對被分割到布置在打印頭上的多個基片的噴嘴陣列A的二值數(shù)據(jù)，執(zhí)行噴嘴陣列A的掩模處理1908A。對被分割到布置在打印頭上的多個基片的噴嘴陣列B的二值數(shù)據(jù)，執(zhí)行噴嘴陣列B的掩模處理1908B。對被分割到布置在打印頭上的多個基片的噴嘴陣列C的二值數(shù)據(jù)，執(zhí)行噴嘴陣列C的掩模處理1908C。對被分割到布置在打印頭上的多個基片的噴嘴陣列D的二值數(shù)據(jù)，執(zhí)行噴嘴陣列D的掩模處理1908D。當完成了如上所述的一系列處理時，根據(jù)與各基片和各噴嘴陣列相對應(yīng)的二值數(shù)據(jù)執(zhí)行實際的排出操作。圖17A至17E是描述本變型例中的重疊區(qū)域附近的各噴嘴的使用狀態(tài)的圖。在圖17A中，在兩個基片2101和2102中布置的各噴嘴中，以黑色圈顯示用于打印的噴嘴，以白色圈顯示不用于打印的噴嘴。圖17B示出了噴嘴陣列A中的、與基片2101和基片2102中的各個的噴嘴位置相對應(yīng)的打印容許率。另外，圖17C示出了噴嘴陣列B中的、與基片2101和基片2102中的各個的噴嘴位置相對應(yīng)的打印容許率，圖17D示出了噴嘴陣列C中的、與基片2101和基片2102中的各個的噴嘴位置相對應(yīng)的打印容許率。圖17E示出了噴嘴陣列D中的、與基片2101和基片2102中的各個的噴嘴位置相對應(yīng)的打印容許率。應(yīng)當指出，在圖17A中，以白色圈顯示打印容許率為0%的噴嘴。在本變型例中，與八個噴嘴相對應(yīng)的重疊區(qū)域被分割為各自具有兩個噴嘴的重疊區(qū)域1至4，對各重疊區(qū)域執(zhí)行不同的處理。在重疊區(qū)域1中，不通過基片2101的噴嘴陣列B至D打印點，而通過如下五個陣列打印點，即基片2102的噴嘴陣列A至D、以及基片2101的噴嘴陣列A。在該區(qū)域中，基片2102的噴嘴陣列B至D的打印容許率均為25%恒定。如圖17B所示，基片2101中的噴嘴陣列A的打印容許率、以及基片2102中的噴嘴陣列A的打印容許率根據(jù)位置而變化，并且，兩個打印容許率之和為25%恒定。也就是說，在重疊區(qū)域1中，基片2101中的噴嘴陣列A、以及基片2102中的噴嘴陣列A至D的打印容許率之和為100%。在重疊區(qū)域2中，不通過基片2102的噴嘴陣列A、以及基片2101的噴嘴陣列C和噴嘴陣列D打印點，而通過如下五個陣列打印點，即基片2102的噴嘴陣列B至D、以及基片2101的噴嘴陣列A和B。在重疊區(qū)域3中，不通過基片2102的噴嘴陣列A和B、以及基片2101的噴嘴陣列D打印點，而通過如下五個陣列打印點，即基片2101的噴嘴陣列A至C、以及基片2102的噴嘴陣列C和D。在重疊區(qū)域4中，不通過基片2102的噴嘴陣列A至C打印點，而通過如下五個陣列打印點，即基片2101的噴嘴陣列A至D、以及基片2102的噴嘴陣列D。在本變型例中，執(zhí)行陣列分配處理或掩模處理，以滿足以上關(guān)系以及圖17B至17D中的打印容許率。在以上述打印容許率打印點的情況下，在重疊區(qū)域1中，用于打印的噴嘴陣列的χ方向上的寬度對應(yīng)于基片2101中的噴嘴陣列A與基片2102中的噴嘴陣列A之間的距離1。另外，在重疊區(qū)域2中，用于打印的噴嘴陣列的χ方向上的寬度對應(yīng)于基片2101中的噴嘴陣列B與基片2102中的噴嘴陣列B之間的距離m。在重疊區(qū)域3中，用于打印的噴嘴陣列的χ方向上的寬度對應(yīng)于基片2101中的噴嘴陣列C與基片2102中的噴嘴陣列C之間的距離η。另外，在重疊區(qū)域4中，用于打印的噴嘴陣列的χ方向上的寬度對應(yīng)于基片2101中的噴嘴陣列D與基片2102中的噴嘴陣列D之間的距離ο。距離1、m、η和ο中的任一個均小于χ方向上的八個噴嘴陣列的寬度，即從基片2101中的噴嘴陣列D到基片2102中的噴嘴陣列A的χ方向上的距離k。因此，即使如圖2B所述，發(fā)生了打印介質(zhì)的運送的傾斜，也可以由公式C=IXtane<kXtan6(l=m=n=o)來表達兩個分離點之間的距離，并且將打印位置移位限制為小于使用所有八個噴嘴陣列的情況。根據(jù)本變型例，在使用具有三個或更多個噴嘴陣列的基片的情況下，通過將打印容許率改變的區(qū)域分割為多個區(qū)域，在這些區(qū)域中的至少一個區(qū)域中，不使用位于運送方向上的最外側(cè)的兩個噴嘴陣列二者。此外，在打印容許率改變的所有區(qū)域中，分配打印數(shù)據(jù)，使得在多個噴嘴陣列中的位于運送方向上的最外側(cè)的至少一個噴嘴陣列不用于打印。除了上述構(gòu)造之外，由于本實施例使各基片中的噴嘴陣列的打印位置之間不具有互補關(guān)系，因此，以與日本特開2000-103088號公報或日本特開2001-150700號公報中相同的方式，防止凸顯由噴嘴陣列之間的打印位置移位導致的濃度變化或顆粒性。結(jié)果，即使在打印介質(zhì)的運送方向中包含傾斜的情況下，或者即使在噴嘴陣列之間分別發(fā)生打印位置移位的情況下，也能夠限制點之間的打印位置移位，以防止凸顯濃度變化或顆粒性。(第二實施例的變型例2)圖18是描述在使用在一個基片上具有三個噴嘴陣列的連接頭打印點的情況下的本變型例中的圖像處理的處理的框圖。由于直到灰階校正處理單元2203的處理與圖12所示的第二實施例中相同，因此，省略其描述。在本變型例的圖像數(shù)據(jù)分割處理單元2204中，從灰階校正處理單元2203接收的各顏色的多值數(shù)據(jù)被按照多值數(shù)據(jù)的原樣分割為三個數(shù)據(jù)，即噴嘴陣列A的多值數(shù)據(jù)2205A、噴嘴陣列B的多值數(shù)據(jù)2205B以及噴嘴陣列C的多值數(shù)據(jù)2205C。之后，對噴嘴陣列A的多值數(shù)據(jù)2205A執(zhí)行噴嘴陣列A的量化處理2206A，以將其轉(zhuǎn)換為噴嘴陣列A的二值數(shù)據(jù)。對噴嘴陣列B的多值數(shù)據(jù)2205B執(zhí)行噴嘴陣列B的量化處理2206B，以將其轉(zhuǎn)換為噴嘴陣列B的二值數(shù)據(jù)。此外，對噴嘴陣列C的多值數(shù)據(jù)2205C執(zhí)行噴嘴陣列C的量化處理2206C,以將其轉(zhuǎn)換為噴嘴陣列C的二值數(shù)據(jù)。通過噴嘴陣列A的掩模處理單元2207A，將由此生成的噴嘴陣列A的二值數(shù)據(jù)分割到布置在打印頭上的多個基片中。通過噴嘴陣列B的掩模處理單元2207B，將噴嘴陣列B的二值數(shù)據(jù)分割到布置在打印頭上的多個基片中。另外，通過噴嘴陣列C的掩模處理單元2207C，將噴嘴陣列C的二值數(shù)據(jù)分割到布置在打印頭上的多個基片中。對于將打印數(shù)據(jù)分配給重疊區(qū)域中的兩個基片的分配方法(分割方法)，采用已經(jīng)使用圖1IA至1IC描述的方法，能夠獲得與上述實施例類似的效果。當完成了如上所述的一系列處理時，根據(jù)與各基片和各噴嘴陣列相對應(yīng)的二值數(shù)據(jù)執(zhí)行實際的排出操作。根據(jù)本變型例，在由此使用具有三個或更多個噴嘴陣列的一個基片的構(gòu)造中，分割多值數(shù)據(jù)以生成被分別量化的、與多個噴嘴陣列中的各個相對應(yīng)的多值數(shù)據(jù)。此外，在重疊區(qū)域中，將打印容許率改變的區(qū)域分割為多個區(qū)域，所述多個區(qū)域被彼此移位布置。此外，在打印容許率改變的所有區(qū)域中，將打印數(shù)據(jù)分配給多個噴嘴陣列，使得在多個噴嘴陣列中的位于運送方向上的最外側(cè)的至少一個噴嘴陣列不用于打印。結(jié)果，即使在打印介質(zhì)的運送方向中包含傾斜的情況下，或者即使在噴嘴陣列之間分別發(fā)生打印位置移位的情況下，也能夠限制點之間的打印位置移位，以防止凸顯濃度變化或顆粒性。(第三實施例)圖19是描述在使用連接頭101至104打印點的情況下的本實施例中的圖像處理的處理的框圖。由于直到圖像數(shù)據(jù)分割處理單元2304的處理與圖12所示的第二實施例中相同，因此，省略其描述。也就是說，在本實施例中，圖像數(shù)據(jù)也在多值的狀態(tài)下被與多個噴嘴陣列(這里為噴嘴陣列A和噴嘴陣列B)相對應(yīng)地分割。然而，本實施例的特征在于量化多個生成的多值數(shù)據(jù)時的量化處理。在本實施例中，在噴嘴陣列A和噴嘴陣列B的量化處理單元2306中，基于噴嘴陣列A的多值數(shù)據(jù)2305A和噴嘴陣列B的多值數(shù)據(jù)2305B二者，生成噴嘴陣列A的二值數(shù)據(jù)和噴嘴陣列B的二值數(shù)據(jù)。圖20是描述在量化處理單元2306中執(zhí)行的處理順序的示例的流程圖。在圖20中，要量化的兩個目標(即輸入的兩個多值數(shù)據(jù)Kl和K2)對應(yīng)于其值為0至255的噴嘴陣列A的多值數(shù)據(jù)2305A和噴嘴陣列B的多值數(shù)據(jù)2305B。另外，Klerr和K2err表示由已經(jīng)完成了量化處理的周圍像素生成的累積誤差值，并且Klttl和K2ttl中的各個是作為輸入的多值數(shù)據(jù)和累積誤差值之和的值。此外，在流程圖中，Kl'表示噴嘴陣列A的二值數(shù)據(jù)，K2'表示噴嘴陣列B的二值數(shù)據(jù)。在本處理中，在將Kl'或Κ2'的值確定為二值量化數(shù)據(jù)時使用的閾值(量化參數(shù))根據(jù)Klttl或K2ttl的值而變化。因此，預(yù)先準備根據(jù)Klttl或K2ttl的值確定閾值的表。這里，將在確定Kl'時與Klttl比較的閾值定義為Kltable[K2ttl]，將在確定K2'時與K2ttl比較的閾值定義為K2table[Klttl]。Kltable[K2ttl]是由K2ttl的值定義的值，K2table[Klttl]是由Klttl的值定義的值。當開始本處理時，首先在S21中，將累積值Klerr和K2err分別相加至輸入的多值數(shù)據(jù)Kl和K2，以獲得Klttl和K2ttl。接下來，在S22中，通過參照如以下的表1所示的閾值表，由在S21中得到的Klttl和K2ttl獲得兩個閾值Kltable[K2ttl]和K2table[Klttl]。使用K2ttl作為如下所示的表1中的閾值表的“參照值”，來得到閾值Kltable[K2ttl]。使用Klttl作為表1中的閾值表的“參照值”，來得到閾值K2table[Klttl]。接下來，在S23至S25中，確定Kl'的值，并且在幻6至S28中，確定Κ2‘的值。具體地說，在S23中，確定在S21中計算的Klttl是否大于在S22中獲得的閾值Kltable[K2ttl]。在確定為Klttl大于閾值的情況下，Kl'=1，并且與該輸出值(Kl‘=1)相對應(yīng)地計算累積誤差值Klerr(=Klttl-255)，以更新Klerr(S25)。另一方面，在確定為Klttl小于閾值的情況下，Kl'=0，并且與該輸出值(Kl'=0)相對應(yīng)地計算累積誤差值Klerr(=Klttl)，以更新Klerr(S24)。接下來，在S26中，確定在S21中計算的K2ttl是否大于在S22中獲得的閾值K2table[Klttl]。在確定為K2ttl大于閾值的情況下，K2'=1，并且與該輸出值(K2'=1)相對應(yīng)地計算累積誤差值K2err(=K2ttl-255)，以更新K2err(S28)。另一方面，在確定為K2ttl小于閾值的情況下，K2'=0，并且與該輸出值(K2'=0)相對應(yīng)地計算累積誤差值K2err(=K2ttl)，以更新I^err(S27)。之后，在S29中，根據(jù)圖14A或14B所示的誤差分配矩陣，將如上所述更新的累積誤差值Klerr和K2err，分散給尚未量化的周圍像素。在本實施例中，圖14A所示的誤差分配矩陣用于將累積誤差值Klerr分配給周圍像素，圖14B所示的誤差分配矩陣用于將累積誤差值K2err分配給周圍像素。以此方式，在本實施例中，基于噴嘴陣列B的多值數(shù)據(jù)(K2ttl)，來確定用于對噴嘴陣列A的多值數(shù)據(jù)(Klttl)執(zhí)行量化處理的閾值(量化參數(shù))。同樣地，基于噴嘴陣列A的多值數(shù)據(jù)(Klttl)，來確定用于對噴嘴陣列B的多值數(shù)據(jù)(K2ttl)執(zhí)行量化處理的閾值(量化參數(shù))。也就是說，基于對應(yīng)于兩個噴嘴陣列中的一個的多值數(shù)據(jù)與對應(yīng)于另一個噴嘴陣列的多值數(shù)據(jù)二者，既執(zhí)行與一個噴嘴陣列相對應(yīng)的多值數(shù)據(jù)的量化處理，又執(zhí)行與另一個噴嘴陣列相對應(yīng)的多值數(shù)據(jù)的量化處理。因此，例如，可以以如下方式與多值數(shù)據(jù)的值(即灰階)相對應(yīng)地進行點打印調(diào)整，即在由一個噴嘴陣列打印點的像素上，盡量不要通過另一個噴嘴陣列打印點，或者相反地，完全通過另一個噴嘴陣列打印點。也就是說，即使顆粒性的可見度或者濃度變化的幅度根據(jù)灰階而變化，也能夠與各灰階相對應(yīng)地適當調(diào)整這些等級。圖21A是描述執(zhí)行量化處理(二值化處理)的結(jié)果與輸入值(Klttl和K2ttl)之間的關(guān)系的圖通過使用下表1的閾值表中的圖21A的欄中描述的閾值、根據(jù)圖20的流程圖獲得結(jié)果。Klttl和K2ttl中的各個可以是0至255中的值，并且確定其打印(1)和不打印(0)，以使閾值128作為閾值表的如圖21A的欄中所示的邊界。圖中的點221是根本不打印點的區(qū)域(Kl'=0并且K2'=0)與重疊打印兩個點的區(qū)域(Kl'=1并且Κ2'=1)之間的邊界點。圖21Β是描述執(zhí)行量化處理(二值化處理)的結(jié)果與輸入值(Klttl和K2ttl)之間的關(guān)系的圖通過使用下表1的閾值表中的圖21B的欄中描述的閾值、根據(jù)圖20的流程圖獲得結(jié)果。圖中的點231是根本不打印點的區(qū)域(Kl'=0并且K2'=0)與僅僅打印一個點的區(qū)域(Kl'=1并且Κ2'=0，或者Kl'=0并且Κ2'=1)之間的邊界點。圖中的點232是重疊打印兩個點的區(qū)域(Kl'=1并且Κ2'=1)與僅僅打印一個點的區(qū)域(ΚΓ=1并且Κ2'=0，或者1(1'=0并且Κ2'=1)之間的邊界點。由于點231和點232彼此遠離一定程度，因此，與圖21Α的情況相比，增大了打印任一點的區(qū)域，而減小了兩個點都被打印的區(qū)域。也就是說，在圖21Β的情況下，點重疊率(重疊打印兩個點的比率)被降低到小于圖21Α的情況，這樣有利于將顆粒性限制到較低。當如圖21Α的情況存在點重疊率劇烈變化的點時，可能發(fā)生由灰階的微小變化而產(chǎn)生濃度不均勻的情況，但是，在圖21Β的情況下，由于點重疊率響應(yīng)于灰階的變化而平滑地變化，因此，很難產(chǎn)生這種濃度不均勻。下文中，將參照圖21C至21G，描述用于實現(xiàn)不同的點重疊率的閾值的幾個示例。應(yīng)當指出，圖21C至21G是以與圖21Α和21Β中相同的方式、分別示出使用下表1的閾值表中描述的閾值來執(zhí)行量化處理的結(jié)果(Kl'和Κ2')與輸入值(Klttl和K2ttl)之間的關(guān)系的圖。圖21C是示出點重疊率為圖21A與圖21B之間的值的情況的圖。在圖21A中的點221與圖21B中的點231之間的中間點處定義點241。另外，在圖21A中的點221與圖21B中的點232之間的中間點處定義點M2。圖21D示出了與圖21B的情況相比、進一步降低點重疊率的情況。在以3比2的比率從外部分割圖21A中的點221與圖21B中的點231的點處定義點251。另外，在以3比2的比率從外部分割圖21A中的點221與圖21B中的點232的點處定義點252。圖21E示出了與圖21A的情況相比、進一步增加點重疊率的情況。根據(jù)圖21E，更有可能出現(xiàn)從根本不打印點的區(qū)域(Kl'=0并且K2'=0)向重疊打印兩個點的區(qū)域(Kl'=1并且Κ2'=1)的轉(zhuǎn)變，從而使得能夠增加點重疊率。圖21F是示出點重疊率為圖21Α和圖21Ε之間的值的情況的圖。圖21G示出了與圖21Ε的情況相比、進一步增加點重疊率的情況。接下來，將具體描述使用下表1中示出的閾值表進行量化處理的方法。表1是用于在圖20中描述的流程圖中的S22中、獲得用于實現(xiàn)圖21A至21G所示的處理結(jié)果的閾值表。這里，將描述輸入值(Klttl和K2ttl)為“110和120”并且使用閾值表中的圖21B的欄中描述的閾值的情況。首先，在圖20的S22中，基于表1所示的閾值表和K2ttl(參照值)，得到閾值Kltable[K2ttl]。當參照值(K2ttl)為“120”時，閾值Kltable[K2ttl]為“120”。同樣地，基于閾值表和Klttl(參照值)，得到閾值K2table[Klttl]。當參照值(Klttl)為“100”時，閾值K2table[Klttl]為“101”。接下來，在圖20的S23中，將Klttl與閾值Kltable[K2ttl]進行比較，以進行確定。在這種情況下，由于Klttl(=100)<閾值Kltable[K2ttl](=120)，因此ΚΓ=0(S24)同樣地，在圖20中的S26中，將K2ttl與閾值K2table[Klttl]進行比較，以進行確定。在這種情況下，由于K2ttl(=120)彡閾值K2table[Klttl](=101)，因此K2'=1(S28)結(jié)果，如圖21Β所示，在“Klttl和K2ttl，，=“110和120”的情況下，“K1'和Κ2'”=“0和1”。根據(jù)如上所述的量化處理，通過基于噴嘴陣列A的多值數(shù)據(jù)與噴嘴陣列B的多值數(shù)據(jù)二者、來量化噴嘴陣列A的多值數(shù)據(jù)與噴嘴陣列B的多值數(shù)據(jù)，來控制兩個噴嘴陣列之間的點重疊率。因此，可以與灰階相對應(yīng)地將由一個噴嘴陣列打印的點與由另一個噴嘴陣列打印的點之間的重疊率，控制在優(yōu)選范圍內(nèi)。也就是說，通過與灰階相對應(yīng)地調(diào)整點重疊率，可以在所有濃度區(qū)域內(nèi)，避免由噴嘴陣列之間的打印位置移位導致的任何的濃度不均勻、顆粒性以及濃度缺乏。應(yīng)當指出，在表1中，以三個值的間隔示出了參照值，但是，在實際的表中，也在這些值之間準備閾值(例如，1至3)。然而，對于參照值，如表1所示準備非連續(xù)數(shù)，并且通過由附近參照值的插值處理可以得到其他值的轉(zhuǎn)換。[表1]權(quán)利要求1.一種圖像處理器，其處理在通過使用配備有多個基片的打印頭在打印介質(zhì)上打印圖像時使用的圖像數(shù)據(jù)，所述多個基片的各個具有多個噴嘴陣列，在所述多個噴嘴陣列的各個中，在第一方向上布置有用于排出墨的多個噴嘴，其中，在各基片中，所述多個噴嘴陣列在與所述第一方向交叉的第二方向上被彼此平行地布置，并且，所述多個基片被布置為使得在所述第二方向上具有重疊區(qū)域，所述圖像處理器包括分配單元，其被配置為將與所述重疊區(qū)域相對應(yīng)的圖像數(shù)據(jù)，分配給與所述重疊區(qū)域相對應(yīng)的兩個基片上的所述多個噴嘴陣列，其中，所述分配單元以使得在所述重疊區(qū)域中存在多個區(qū)域的方式，分配與所述重疊區(qū)域相對應(yīng)的所述圖像數(shù)據(jù)，在所述多個區(qū)域的各個中，所述兩個基片的各個上的至少一個噴嘴陣列的打印容許率隨接近所述基片的端部而減小。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖像處理器，其中，所述分配單元以如下方式將所述圖像數(shù)據(jù)分配給所述多個噴嘴陣列使得在所述打印容許率改變的所有所述區(qū)域中，位于所述區(qū)域中的所述多個噴嘴陣列當中的、位于所述第二方向的最外側(cè)的至少一個噴嘴陣列不排出墨O3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖像處理器，該圖像處理器還包括量化單元，其被配置為將多值的所述圖像數(shù)據(jù)量化為二值圖像數(shù)據(jù)，其中，通過使用對各像素定義允許打印或不允許打印的掩模圖案，所述分配單元將所述量化單元量化的所述二值圖像數(shù)據(jù)分配給所述多個基片上的所述多個噴嘴陣列。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖像處理器，該圖像處理器還包括多值數(shù)據(jù)分割單元，其被配置為分割多值的所述圖像數(shù)據(jù)，以生成與所述多個噴嘴陣列相對應(yīng)的多個多值數(shù)據(jù)；以及二值數(shù)據(jù)生成單元，其被配置為通過量化由所述多值數(shù)據(jù)分割單元獲得的所述多個多值數(shù)據(jù)，來生成與所述多個噴嘴陣列相對應(yīng)的多個二值數(shù)據(jù)，其中，通過使用對各像素定義允許打印或不允許打印的掩模圖案，所述分配單元將所述二值數(shù)據(jù)生成單元獲得的與所述多個噴嘴陣列相對應(yīng)的二值圖像數(shù)據(jù)，分配給所述多個基片上的所述多個噴嘴陣列。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的圖像處理器，其中，所述二值數(shù)據(jù)生成單元基于與所述多個噴嘴陣列相對應(yīng)的多個多值數(shù)據(jù)，來量化所述多個多值數(shù)據(jù)中的各個。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖像處理器，其中，所述分配單元以如下方式將所述圖像數(shù)據(jù)分配給所述多個噴嘴陣列使得在所述多個基片的各個中，位于所述第一方向上的最外端部的噴嘴的打印容許率小于位于中心部的噴嘴的打印容許率。7.一種圖像處理方法，用于處理在通過使用配備有多個基片的打印頭在打印介質(zhì)上打印圖像時使用的圖像數(shù)據(jù)，所述多個基片的各個具有多個噴嘴陣列，在所述多個噴嘴陣列的各個中，在第一方向上布置有用于排出墨的多個噴嘴，其中，在各基片中，所述多個噴嘴陣列在與所述第一方向交叉的第二方向上被彼此平行地布置，并且，所述多個基片被布置為使得在所述第二方向上具有重疊區(qū)域，所述圖像處理方法包括如下步驟將與所述重疊區(qū)域相對應(yīng)的圖像數(shù)據(jù)，分配給與所述重疊區(qū)域相對應(yīng)的兩個基片上的所述多個噴嘴陣列，其中，所述分配步驟以使得在所述重疊區(qū)域中存在多個區(qū)域的方式，分配與所述重疊區(qū)域相對應(yīng)的所述圖像數(shù)據(jù)，在所述多個區(qū)域的各個中，所述兩個基片的各個上的至少一個噴嘴陣列的打印容許率隨接近所述基片的端部而減小。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的圖像處理方法，其中，所述分配步驟以如下方式將所述圖像數(shù)據(jù)分配給所述多個噴嘴陣列使得在所述打印容許率改變的所有所述區(qū)域中，位于所述區(qū)域中的所述多個噴嘴陣列當中的、位于所述第二方向的最外側(cè)的至少一個噴嘴陣列不排9.一種噴墨打印機，該噴墨打印機包括打印單元，其被配置為通過使用配備有多個基片的打印頭將圖像打印在打印介質(zhì)上，所述多個基片的各個具有多個噴嘴陣列，在所述多個噴嘴陣列的各個中，在第一方向上布置有用于排出墨的多個噴嘴，其中，在各基片中，所述多個噴嘴陣列在與所述第一方向交叉的第二方向上被彼此平行地布置，并且，所述多個基片被布置為使得在所述第二方向上具有重疊區(qū)域，分配單元，其被配置為將與所述重疊區(qū)域相對應(yīng)的圖像數(shù)據(jù)，分配給與所述重疊區(qū)域相對應(yīng)的兩個基片上的所述多個噴嘴陣列，其中，所述分配單元以使得在所述重疊區(qū)域中存在多個區(qū)域的方式，分配與所述重疊區(qū)域相對應(yīng)的所述圖像數(shù)據(jù)，在所述多個區(qū)域的各個中，所述兩個基片的各個上的至少一個噴嘴陣列的打印容許率隨接近所述基片的端部而減小。全文摘要本發(fā)明提供圖像處理器、圖像處理方法及噴墨打印機。在所述圖像處理方法中，在使用具有重疊區(qū)域的連接頭的整行式噴墨打印機中，即使打印介質(zhì)的運送方向有些傾斜，也不會引起濃度變化或顆粒性的劣化。因此，將非重疊區(qū)域中的圖像數(shù)據(jù)分配給多個噴嘴陣列，使得從所有多個噴嘴陣列中排出墨。另一方面，將在重疊區(qū)域中打印容許率改變的區(qū)域分割為多個區(qū)域，并且將所述圖像數(shù)據(jù)分配給所述多個噴嘴陣列，使得這些區(qū)域被移位布置。文檔編號B41J2/01GK102294887SQ2011100343公開日2011年12月28日申請日期2011年1月28日優(yōu)先權(quán)日2010年6月24日發(fā)明者后藤文孝,小野光洋,山田顯季,望月勇吾,石川智一申請人:佳能株式會社