專利名稱：圖像形成方法、透光性電磁波屏蔽材料的制造方法及透光性電磁波屏蔽材料的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及圖像形成方法和透光性電磁波屏蔽材料的制造方法及透光性電磁波 屏蔽材料，該圖像形成方法可有利地利用在等離子體顯示面板(PDP)的前面濾波器、醫(yī)院 等需要電磁波屏蔽的建筑物的窗戶中所使用的透光性電磁波屏蔽材料的導(dǎo)電層的形成。
背景技術(shù)：
近年來，大屏幕顯示成為顯示器的主流，作為大屏幕顯示裝置，液晶顯示器與PDP 正逐漸普及。與液晶顯示器相比，PDP具有響應(yīng)速度快等優(yōu)點(diǎn)。然而，該P(yáng)DP中，由于為了圖 像顯示而在發(fā)光部進(jìn)行高頻率脈沖放電，因此有可能輻射不需要的電磁波、輻射成為紅外 線遙控器等的錯(cuò)誤操作的原因的紅外線，因此，以防止這些為目的，針對(duì)PDP提出了具有導(dǎo) 電性的各種PDP濾波器(電磁波屏蔽性透光窗材)。作為該電磁波屏蔽性透光窗材的導(dǎo)電 層，已知有例如⑴含有金屬銀的透明導(dǎo)電薄膜；⑵將金屬線或?qū)щ娦岳w維制成網(wǎng)狀而 得到的導(dǎo)電網(wǎng)；(3)將透明薄膜上的銅箔等層蝕刻加工成網(wǎng)狀，并設(shè)有開口部的材料；(4) 在透明薄膜上將導(dǎo)電性墨印刷成網(wǎng)狀而得到的材料等等。然而，(1)的透明導(dǎo)電薄膜無法得到充分的導(dǎo)電性，而(2)的導(dǎo)電網(wǎng)存在通常無法 得到良好的透光性的缺點(diǎn)。由于利用⑶的蝕刻加工和⑷圖案印刷可形成期望的網(wǎng)狀 的導(dǎo)電層，因此與導(dǎo)電性網(wǎng)相比，線寬、間距、網(wǎng)眼形狀的自由度顯著變大，也可以形成具有 線寬200μπι以下、開口率75%以上的細(xì)線且開口率高的網(wǎng)狀的導(dǎo)電層。但是，(3)存在在 蝕刻加工中需要設(shè)備、而且工序繁雜、成本高的不利。另一方面，(4)網(wǎng)狀的圖案印刷特別 容易且有利于形成上述導(dǎo)電層，只要形成具有這樣的細(xì)線且網(wǎng)眼粗的導(dǎo)電層的導(dǎo)電性印刷 膜，即可得到良好的透光性，并且可防止莫爾現(xiàn)象(moire phenomenon)。上述導(dǎo)電層的制造方法例如在專利文獻(xiàn)1 (日本專利第3017988)中有所記載。該 方法通過使用了墨脫模性優(yōu)異的滾筒的凹版膠版印刷將含有金屬粉末和樹脂的導(dǎo)電性墨 印刷至透明基板的表面而形成特定尺寸的圖案，然后使該圖案固化，接著通過電鍍而僅在 前述圖案的表面設(shè)置金屬覆膜。即，對(duì)進(jìn)行了凹版膠版印刷的特定尺寸的圖案(導(dǎo)電覆膜) 施加電鍍，從而消除在利用現(xiàn)有的絲網(wǎng)印刷法、照相凹版印刷法印刷線寬50μπι以下的圖 案時(shí)產(chǎn)生的、圖案線寬的偏差、斷線等的可能性。專利文獻(xiàn)1 日本專利第3017988

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的問題然而，根據(jù)本發(fā)明人的研究可知，即便在利用上述那樣的凹版印刷來形成網(wǎng)狀的 導(dǎo)電性墨的層時(shí)，也有可能無法在網(wǎng)格的交點(diǎn)部良好地形成導(dǎo)電性墨的層，即便在這樣的 層上施加電鍍也無法得到充分的導(dǎo)電性。因此，本發(fā)明的目的在于，提供簡便地形成無斷線的網(wǎng)狀圖像的圖像形成方法。
另外，本發(fā)明的目的在于，提供透光性電磁波屏蔽材料的制造方法，其可簡便地制 造具有無斷線的網(wǎng)狀的導(dǎo)電層、電磁波屏蔽性優(yōu)異的透光性電磁波屏蔽材料。
本發(fā)明的目的還在于，提供透光性電磁波屏蔽材料的制造方法，該制造方法可簡 便地制造如下透光性電磁波屏蔽材料，其具有無斷線的網(wǎng)狀的導(dǎo)電層且開口率高，因而電 磁波屏蔽性、透光性和可視性優(yōu)異。另外本發(fā)明的目的還在于，提供上述具有無斷線的網(wǎng)狀的導(dǎo)電層、電磁波屏蔽性 優(yōu)異的透光性電磁波屏蔽材料。用于解決問題的方案本發(fā)明在于一種圖像形成方法，其包括下述工序通過使用表面的凹部的圖案為網(wǎng)狀的滾筒的凹版印刷，將圖像形成用材料圖案印 刷至基板的表面，形成網(wǎng)狀圖像，其特征在于，滾筒表面的網(wǎng)狀圖案的網(wǎng)格的交點(diǎn)部分中的、凹部的底部的面積被縮減。以下列舉出上述本發(fā)明的圖像形成方法的優(yōu)選方案。(1)凹部底部的面積縮減前的、網(wǎng)狀圖案的凸部的表面形狀為四邊形，且通過四邊 形的角的頂點(diǎn)的延長，交點(diǎn)部分中的、凹部的底部的面積被縮減。由此，得到的圖像的交點(diǎn) 部分中的圖像的缺失大大減少或消失。(2)上述交點(diǎn)部分中的、相對(duì)的四邊形的角的頂點(diǎn)間的距離(L)為30μπι以下(尤 其為10 30 μ m)。對(duì)于使得所得到的圖像的交點(diǎn)部分中的圖像的缺失大大減少或消失特 別有效。(3)上述交點(diǎn)部分中的、相對(duì)的四邊形的角部具有銳角的等腰三角形的形狀，且其 底邊的長度(a)為30 μ m以下(尤其為10 30 μ m)。對(duì)于使得所得到的圖像的交點(diǎn)部分 中的圖像的缺失大大減少或消失尤其有效。(4)凹版印刷為照相凹版印刷或照相凹版膠版印刷(Gravure offset printing)。 可進(jìn)行精度高的印刷。另外，本發(fā)明還在于一種透光性電磁波屏蔽材料的制造方法，其特征在于，該制造 方法包括通過使用表面的凹部的圖案為網(wǎng)狀的滾筒的凹版印刷將化學(xué)鍍前處理劑圖案印 刷至透明基板的表面而形成網(wǎng)狀前處理層的工序；以及在前處理層上利用化學(xué)鍍處理而形成網(wǎng)狀的金屬導(dǎo)電層的工序，其中滾筒表面的網(wǎng)狀圖案的網(wǎng)格的交點(diǎn)部分中的、凹部的底部的面積被縮減。以下列舉出上述本發(fā)明的透光性電磁波屏蔽材料的制造方法的優(yōu)選方案。(1)化學(xué)鍍前處理劑為包含復(fù)合金屬氧化物和/或復(fù)合金屬氧化物水合物、以及 合成樹脂的液體。在上述方法中尤為適宜。(2)化學(xué)鍍前處理劑為包含硅烷偶聯(lián)劑與唑(azole)系化合物的混合物或反應(yīng)產(chǎn) 物、以及貴金屬化合物的液體。(3)進(jìn)行化學(xué)鍍之后還進(jìn)行電鍍?？傻玫絻?yōu)異的導(dǎo)電性。前述圖像形成方法的優(yōu)選方案⑴ ⑷也可適用于該制造方法。進(jìn)而，本發(fā)明還在于一種透光性電磁波屏蔽材料的制造方法，該制造方法包括下 述工序
通過使用表面的凹部的圖案為網(wǎng)狀的滾筒的凹版印刷，將含有金屬微粒和粘結(jié)劑 樹脂的導(dǎo)電性墨圖案印刷至透明基板的表面，形成網(wǎng)狀導(dǎo)電層，其特征在于，滾筒表面的網(wǎng)狀圖案的網(wǎng)格的交點(diǎn)部分中的、凹部的底部的面積被縮減。 以下列舉出上述本發(fā)明的透光性電磁波屏蔽材料的制造方法的優(yōu)選方案。(1)在上述網(wǎng)狀導(dǎo)電層上進(jìn)行電鍍。前述圖像形成方法的優(yōu)選方案⑴ ⑷也可適用于該制造方法。進(jìn)而，本發(fā)明還在于一種透光性電磁波屏蔽材料，其特征在于，具有透明基板、在 其上設(shè)置的網(wǎng)狀的金屬導(dǎo)電層，并且，網(wǎng)狀圖案的網(wǎng)格的交點(diǎn)部分的面積被縮減。以下列舉出上述本發(fā)明的透光性電磁波屏蔽材料的優(yōu)選方案。(1)透明基板與金屬導(dǎo)電層之間設(shè)有網(wǎng)狀的前處理層。(2)網(wǎng)格的交點(diǎn)部分的形狀為四邊形，且通過四邊形的角凹陷，交點(diǎn)部分中的、凹 部的底部的面積被縮減。本發(fā)明的透光性電磁波屏蔽材料以及利用前述本發(fā)明的制造方法得到的透光性 電磁波屏蔽材料，可有利地用于顯示器用濾波器，尤其是等離子體顯示面板用濾波器。發(fā)明效果本發(fā)明的圖像形成方法中，凹版印刷所用的滾筒的表面的凹部的圖案(圖樣)為 網(wǎng)狀，其網(wǎng)格的交點(diǎn)部分中的、凹部的底部的面積被縮減。由此，在印刷得到的網(wǎng)狀的圖像 中，在其交點(diǎn)部分圖像的缺損基本消失，因此可得到清晰的網(wǎng)格圖像。由于本發(fā)明的透光性電磁波屏蔽材料的制造方法利用上述圖像形成方法，因此由 此形成的網(wǎng)狀導(dǎo)電層在其交點(diǎn)部分導(dǎo)電層的缺損基本消失，因而網(wǎng)狀導(dǎo)電層的交點(diǎn)部基本 沒有斷線。因此，這樣得到的透光性電磁波屏蔽材料具有優(yōu)異的導(dǎo)電性，并且還提供良好的 外觀。另外，由于無斷線，因此可減小網(wǎng)格的線寬，因而可得到具有優(yōu)異的電磁波屏蔽性、且 開口率高、即透明性優(yōu)異的透光性電磁波屏蔽材料。因此，利用本發(fā)明的制造方法得到的透光性電磁波屏蔽材料可以是具有優(yōu)異的電 磁波屏蔽性、且開口率高、即透明性優(yōu)異的材料。


圖1是用于說明本發(fā)明的透光性電磁波屏蔽材料的制造方法的1個(gè)實(shí)例的截面示 意圖。圖2是表示滾筒11表面的凹部的圖案的圖。圖3是圖2的凹部的圖案的部分放大圖。圖4是表示本發(fā)明的透光性電磁波屏蔽材料的制造方法的有代表性的1個(gè)實(shí)例的 截面示意圖。圖5是表示本發(fā)明的透光性電磁波屏蔽材料的制造方法的另外1個(gè)實(shí)例的截面示 意圖。圖6是表示本發(fā)明的透光性電磁波屏蔽材料的制造方法的另外1個(gè)實(shí)例的截面示 意圖。附圖標(biāo)記說明
11 滾筒12前處理劑14透明基板 15 刮刀16 輥17凸部表面I8間隙(凹部)41、51、61 透明基板42、52前處理劑63導(dǎo)電性墨43、53金屬導(dǎo)電層
具體實(shí)施例方式參照附圖對(duì)本發(fā)明的圖像形成方法、透光性電磁波屏蔽材料的制造方法和透光性 電磁波屏蔽材料進(jìn)行說明。將用于說明本發(fā)明的透光性電磁波屏蔽材料的制造方法的有代表性的1個(gè)實(shí)例 的截面示意圖示于圖1。圖1示出了下述工序利用作為凹版印刷的1種的照相凹版印刷，將化學(xué)鍍前處理 劑印刷至透明基板的表面，形成網(wǎng)狀的前處理層。使在表面上具有雕刻的網(wǎng)格圖案的滾筒 11按箭頭方向轉(zhuǎn)動(dòng)，利用刮刀15賦予其網(wǎng)格圖案面以化學(xué)鍍前處理劑12，由此化學(xué)鍍前處 理劑12被保持在雕刻的網(wǎng)格圖案的凹部。轉(zhuǎn)動(dòng)的具有化學(xué)鍍前處理劑12的滾筒11與由 輥16傳送的透明基板14相接觸，從而使雕刻的網(wǎng)格像的凹部的化學(xué)鍍前處理劑12轉(zhuǎn)印至 透明基板14的表面，形成前處理劑層(干燥后成為前處理層)。在上述工序中，使用導(dǎo)電性墨代替化學(xué)鍍前處理劑時(shí)，可形成導(dǎo)電層。上述工序不 僅使用上述的前處理劑、導(dǎo)電性墨，還可使用圖像形成用墨等圖像形成材料來用于形成圖像。對(duì)上述形成的前處理劑層進(jìn)行干燥(溶劑易于蒸發(fā)時(shí)也可不干燥)，在得到的前 處理層上施加化學(xué)鍍。由此可得到網(wǎng)狀金屬導(dǎo)電層。而在使用導(dǎo)電性墨時(shí)，形成導(dǎo)電層，可 根據(jù)需要施加電鍍等。本發(fā)明中，滾筒11表面的凹部的圖案為網(wǎng)狀，其網(wǎng)格的交點(diǎn)部分中的、凹部的底 部的面積被縮減。由此，通過干燥前處理劑層而得到的前處理層的交點(diǎn)部基本觀察不到斷 線，因此可減小網(wǎng)格的線寬。使用凹部的底部的面積未被縮減的滾筒時(shí)，在交點(diǎn)部的中央附 近，前處理層易產(chǎn)生缺損部分，得到的導(dǎo)電層也會(huì)產(chǎn)生缺損部分。因而，利用本發(fā)明的制造 方法得到的透光性電磁波屏蔽材料沒有上述缺損，因此具有良好的導(dǎo)電性，并且外觀也良 好。滾筒11表面的凸部表面形狀一般分別為多邊形，三角形、四邊形、五邊形、六邊形 等任何形狀的多邊形均可，但從易于形成網(wǎng)格的觀點(diǎn)考慮，四邊形是優(yōu)選的。將優(yōu)選的滾筒11表面的凹部的圖案示于圖2。圖2是從上面俯視滾筒11表面的 平面圖，多數(shù)的凸部表面17成規(guī)則排列，利用它們的間隙(凹部)18形成網(wǎng)格，并且這些間隙(凹部)18的交點(diǎn)部分18'的面積被縮減。凸部表面17的形狀在其表面積增大之前為 四邊形。箭頭為滾筒的轉(zhuǎn)動(dòng)方向(即印刷方向)，如圖2所示，四邊形的所有角都有所增大， 至少在沿滾筒的轉(zhuǎn)動(dòng)方向(即相對(duì)于刮刀15的刮方向的垂直方向)相對(duì)的2個(gè)角的面積 有所增大即可。將圖2的凹部的圖案的部分放大圖示于圖3(箭頭為滾筒的轉(zhuǎn)動(dòng)方向(即印刷方 向))。這里示出了將交點(diǎn)部分的凹部面積的縮減進(jìn)行到什么程度是優(yōu)選的。即，凸部表面 17的形狀在其表面積增大之前為四邊形，具有由虛線表示的角部。凹部的交點(diǎn)部分中的、 相對(duì)的凸部的四邊形的角的頂點(diǎn)延長(由此交點(diǎn)部分的凹部面積被縮減)，而其頂點(diǎn)間的 距離(L)優(yōu)選為32 μ m以下，進(jìn)一步優(yōu)選為30 μ m以下，特別優(yōu)選為10 30 μ m。由此，使 得到的圖像的交點(diǎn)部分中的圖像的缺失大大減少或易于消失。另外，交點(diǎn)部分中的、相對(duì)的 凸部的四邊形的角部，如圖3所示具有銳角的等腰三角形的形狀是優(yōu)選。該等腰三角形的 底邊的長度(a)也優(yōu)選為32 μ m以下，更優(yōu)選為30 μ m以下，特別優(yōu)選為10 30 μ m。由 此，得到的圖像的交點(diǎn)部分中的圖像的缺失大大減少或易于消失。上述等腰三角形的形狀 基本呈等腰三角形即可，例如銳角的角度為小于90度、20度以上，等腰的二邊基本相等、例 如10 8 8 10。另外，角部的增大部分的形狀可以是近似于等腰三角形的橢圓狀。前述凹版印刷優(yōu)選為照相凹版印刷或照相凹版膠版印刷，由此可進(jìn)行精度高的印 刷。本發(fā)明的透光性電磁波屏蔽材料的制造方法優(yōu)選利用下述3種方法透光性電磁波屏蔽材料的制造方法(A)，包括使用包含復(fù)合金屬氧化物和/或復(fù) 合金屬氧化物水合物、以及合成樹脂的液體作為化學(xué)鍍前處理劑來進(jìn)行圖案印刷而形成網(wǎng) 狀前處理層的工序；以及在前處理層上利用化學(xué)鍍處理而形成網(wǎng)狀的金屬導(dǎo)電層的工序。透光性電磁波屏蔽材料的制造方法(B)，包括使用包含硅烷偶聯(lián)劑與唑系化合 物的混合物或反應(yīng)產(chǎn)物、以及貴金屬化合物的液體作為化學(xué)鍍前處理劑來進(jìn)行圖案印刷而 形成網(wǎng)狀前處理層的工序；以及在前處理層上利用化學(xué)鍍處理而形成網(wǎng)狀的金屬導(dǎo)電層的工序。透光性電磁波屏蔽材料的制造方法(C)，包括將包含金屬微粒和粘結(jié)劑樹脂的 導(dǎo)電性墨圖案印刷至透明基板的表面而形成網(wǎng)狀導(dǎo)電層的工序。關(guān)于各個(gè)方法，以下進(jìn)行詳述。首先，參照

上述㈧的本發(fā)明的電磁波屏蔽性透光窗材的制造方法。將說明本發(fā)明中適宜的網(wǎng)狀的金屬導(dǎo)電層的形成方法(A)的截面示意圖示于圖 4。首先，如(Al)、(A2)所示，在透明薄膜等透明基板41上，將含有復(fù)合金屬氧化物和/或 復(fù)合金屬氧化物水合物、以及合成樹脂的化學(xué)鍍前處理劑按本發(fā)明的方法印刷成網(wǎng)狀，干 燥后，在透明基板41上形成網(wǎng)狀的前處理層42。并且，對(duì)前處理層42進(jìn)行化學(xué)鍍，從而在 前述前處理層42上形成由金屬等導(dǎo)電材料構(gòu)成的網(wǎng)狀的金屬導(dǎo)電層43。含有復(fù)合金屬氧化物和/或復(fù)合金屬氧化物水合物、以及合成樹脂的化學(xué)鍍前 處理劑，如前所述通過使用了特定形狀的凹版的凹版印刷進(jìn)行印刷，因此可將化學(xué)鍍前處 理劑基本按 設(shè)計(jì)的尺寸的形狀進(jìn)行印刷(一般網(wǎng)格的交點(diǎn)的形狀的面積有稍微變小的傾 向)。因此，可高精度地形成不產(chǎn)生條紋和灰霧、具有微細(xì)圖案的網(wǎng)狀的前處理層。通過在這樣的網(wǎng)狀的前處理層上進(jìn)行化學(xué)鍍處理，可形成線寬小的微細(xì)的網(wǎng)狀的金屬導(dǎo)電層。作為用于前述化學(xué)鍍前處理劑的復(fù)合金屬氧化物和復(fù)合金屬氧化物水合物，優(yōu)選 使用含有選自由Pd、Ag、Si、Ti和ττ組成的組中的至少2種金屬元素的物質(zhì)。更優(yōu)選的是， 可舉出含有Pd或Ag金屬元素和、Si、Ti或ττ金屬元素的物質(zhì)。這樣的復(fù)合金屬氧化物和 復(fù)合金屬氧化物水合物具有高的鍍金屬析出能力，進(jìn)而具有在前處理劑中的穩(wěn)定性及分散 性優(yōu)異的特性。
其中，從前述特性特別優(yōu)異的觀點(diǎn)考慮，特別優(yōu)選使用下述式(I)表示的復(fù)合金 屬氧化物水合物，M1x · M2O2 · η (H2O)…(I)(式中，M1表示Pd或Ag；M2表示Si、Ti或& ；當(dāng)M1為Pd時(shí)、χ為1，當(dāng)M1為Ag時(shí)、 χ為2 ;η為1 20的整數(shù))。在前述式(I)中，M1為Pd或Ag，但優(yōu)選為Pd。而M2為3丨、11或&，但優(yōu)選為11。 由此，可得到具有高的鍍敷析出能力的復(fù)合金屬氧化物水合物。作為前述復(fù)合金屬氧化物水合物，可列舉出例如PdSi03、A&Si03、PdTi03、Ag2Ti03、 PdZrO3以及A^TiO3等的水合物。上述復(fù)合金屬氧化物水合物可如下得到將各自的相當(dāng)?shù)慕饘冫}例如鹽酸鹽、硫 酸鹽、硝酸鹽、鹵化物、鹵氧化物(oxyhalides)，相當(dāng)?shù)慕饘傺趸锏乃衔锏茸鳛樵?，?用將它們加熱、水解的方法等而得到。另外，作為復(fù)合金屬氧化物，優(yōu)選使用Mi^M^jM^M2和X與上述式⑴同義)表 示的物質(zhì)。用于化學(xué)鍍前處理劑的復(fù)合金屬氧化物和復(fù)合金屬氧化物水合物的平均粒徑為 0. 01 10 μ m，特別優(yōu)選使用平均粒徑為0. 05 3 μ m的物質(zhì)。由此，可得到具有聚集被抑 制的高的分散性和催化活性的復(fù)合金屬氧化物和前述復(fù)合金屬氧化物水合物。此外，本發(fā)明中，復(fù)合金屬氧化物和復(fù)合金屬氧化物水合物的平均粒徑為用電子 顯微鏡(優(yōu)選透射型電子顯微鏡)以100萬倍左右的倍率對(duì)復(fù)合金屬氧化物和/或復(fù)合金 屬氧化物水合物進(jìn)行觀測(cè)，由至少100個(gè)顆粒的面積圓當(dāng)量直徑求得的數(shù)值的平均值。相對(duì)于100質(zhì)量份合成樹脂，復(fù)合金屬氧化物和/或復(fù)合金屬氧化物水合物的含 量優(yōu)選為10 60質(zhì)量份，特別優(yōu)選為10 40質(zhì)量份。當(dāng)含量低于10質(zhì)量份時(shí)，有可能 無法得到充分的鍍敷析出能力，當(dāng)超過60質(zhì)量份時(shí)，有可能形成由于這些復(fù)合金屬氧化物 的聚集引起的條紋和灰霧?；瘜W(xué)鍍前處理劑由于含有合成樹脂，可提高與透明基板和導(dǎo)電層的密合性，前處 理層變得難以剝離，可更高精度地形成導(dǎo)電層。合成樹脂只要能確保與透明基板和導(dǎo)電層的密合性即可，并沒有特別的限定。作 為優(yōu)選的例子，可列舉出丙烯酸酯樹脂、聚酯樹脂、聚氨酯樹脂、氯乙烯樹脂、以及乙烯乙酸 乙烯酯共聚物樹脂等。通過使用它們，可得到與透明基板和導(dǎo)電層的高密合性，可在前處理 層上高精度地形成導(dǎo)電層。另外，這些合成樹脂可單獨(dú)使用，除此之外還可混合使用2種以 上。作為丙烯酸酯樹脂，可使用例如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸己 酯等丙烯酸烷基酯類，甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸己酯等甲基丙烯酸烷基酯類的均聚物、共聚物，而特別優(yōu)選的是甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸 乙酯或甲基丙烯酸丁酯等的均聚物、共聚物。作為聚酯樹脂，可列舉出例如聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚對(duì)苯二甲酸丁二醇酯、聚 對(duì)苯二甲酸丙二醇酯、聚2，6_萘二甲酸乙二醇酯(2，6-p0lyethylene naphthalate)等。 作為聚氨酯樹脂，可列舉出例如聚酯系聚氨酯樹脂、聚醚系聚氨酯樹脂、聚碳酸酯 系聚氨酯樹脂等。其中，聚酯系聚氨酯樹脂是優(yōu)選的。作為上述聚氨酯樹脂，可使用例如由聚酯系多元醇與多異氰酸酯化合物的反應(yīng)產(chǎn) 物構(gòu)成的聚酯系聚氨酯樹脂。聚酯系聚氨酯樹脂的平均分子量一般為1萬 50萬。作為聚酯系多元醇，可列舉出例如低分子二元醇與二羧酸反應(yīng)而得到的縮合聚酯 二元醇，通過內(nèi)酯的開環(huán)聚合而得到的聚內(nèi)酯二元醇、聚碳酸酯二元醇等。此外，作為低分 子二元醇，可列舉出乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、丙二醇、丁二醇等二元醇，三羥甲基丙烷、 三羥甲基乙烷、己三醇、丙三醇等三元醇，山梨醇等六元醇(hexaol)。作為前述二羧酸，有 琥珀酸、己二酸、癸二酸、戊二酸、壬二酸、馬來酸、富馬酸等脂肪族二羧酸類、對(duì)苯二甲酸、 間苯二甲酸等芳香族二羧酸類等，這些可單獨(dú)使用或使用2種以上。另外，前述內(nèi)酯可使用 ε-己內(nèi)酯等。并且，作為聚酯系多元醇，可列舉出例如聚己二酸乙二醇酯、聚己二酸丁二醇 酯、聚己二酸己二醇酯、聚己二酸新戊二醇酯、聚己二酸亞乙基亞丁基酯(polyethylene butyleneadipate)、聚己二酸亞丁基六亞丁基酉旨(polybutylenehexabutylene adipate)、 聚己二酸二亞乙基酯、聚己二酸(聚丁二醚)酯(polybolytetramethylene ether) adipate)、聚壬二酸乙二醇酯、聚癸二酸乙二醇酯、聚壬二酸丁二醇酯、聚癸二酸丁二醇酯、 聚六亞甲基碳酸酯二元醇等，這些可單獨(dú)使用或使用2種以上。作為多異氰酸酯化合物，例如有芳香族二異氰酸酯(例如4，4’ _ 二苯基甲烷二異 氰酸酯、2，4_甲苯二異氰酸酯、1，5_萘二異氰酸酯、正異氰酸根合苯基磺?；惽杷狨ァ㈤g 異氰酸根合苯基磺?；惽杷狨セ?qū)Ξ惽杷岣媳交酋；惽杷狨サ?；脂肪族二異氰 酸酯(例如1，6_六亞甲基二異氰酸酯等)；脂環(huán)式二異氰酸酯(例如異佛爾酮二異氰酸 酯、氫化苯二甲撐二異氰酸酯、氫化二苯甲烷二異氰酸酯等)等多異氰酸酯，或這些各種異 氰酸酯的加成物或多聚體等，這些可單獨(dú)使用或使用2種以上。聚酯系多元醇與多異氰酸酯化合物的使用比率并沒有特別的限定，通?？稍诰埘?系多元醇多異氰酸酯化合物=1 0.01 0.5左右(摩爾比)的范圍內(nèi)，根據(jù)使用的化 合物的種類等適宜地決定。使用聚酯系聚氨酯樹脂時(shí)，化學(xué)鍍前處理劑優(yōu)選還含有多異氰酸酯固化劑?？墒?用上述的多異氰酸酯化合物作為多異氰酸酯固化劑。相對(duì)于100質(zhì)量份聚酯系聚氨酯樹 月旨，固化劑的含量優(yōu)選為0. 1 5質(zhì)量份，特別優(yōu)選為0. 1 1. 0質(zhì)量份。聚氯乙烯樹脂為現(xiàn)有公知的氯乙烯的單獨(dú)聚合物、即均聚物樹脂，或現(xiàn)有公知的 各種共聚物樹脂，并沒有特別的限定。作為共聚物樹脂，可使用現(xiàn)有公知的共聚物樹脂，可 列舉出氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物樹脂、氯乙烯-丙酸乙烯酯共聚物樹脂等氯乙烯與乙烯 酯類的共聚物樹脂，氯乙烯_丙烯酸丁酯共聚物樹脂、氯乙烯_丙烯酸2-乙基己酯共聚物 樹脂等氯乙烯與丙烯酸酯類的共聚物樹脂，氯乙烯-乙烯共聚物樹脂、氯乙烯-丙烯共聚物 樹脂等氯乙烯與烯烴類的共聚物樹脂，氯乙烯_丙烯腈共聚物樹脂等。特別優(yōu)選使用氯乙烯均聚物樹脂、乙烯-氯乙烯共聚物樹脂、乙酸乙烯酯-氯乙烯共聚物樹脂等。作為合成樹脂，從可得到高密合性的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選分子末端具有含有活性氫的 官能團(tuán)的物質(zhì)。作為含有活性氫的官能團(tuán)，只要具有活性氫即可，并沒有特別的限定，可列 舉出伯氨基、仲氨基、亞氨基、酰胺基、酰胼基、脒基、羥基、氫過氧基、羧基、甲酰基、氨基甲 酰基、磺酸基、亞磺酸基、次磺酸基、硫醇基、硫代甲?；?、吡咯基、咪唑基、哌啶基、吲唑基、 咔唑基等。伯氨基、仲氨基、亞氨基、酰胺基、酰亞胺基、羥基、甲酰基、羧基、磺酸基或硫醇基 是優(yōu)選的。伯氨基、仲氨基、酰胺基或羥基是特別優(yōu)選的。此外，這些基團(tuán)可被鹵素原子、碳 原子數(shù)1 20的烴基取代。其中，羥基、羰基和氨基是優(yōu)選的。相對(duì)于化學(xué)鍍前處理劑的總量，化學(xué)鍍前處理劑中的合成樹脂的含量優(yōu)選為 40 90質(zhì)量％，特別優(yōu)選為60 80質(zhì)量％。由此，可形成具有高密合性的前處理層。另外，化學(xué)鍍前處理劑還可含有無機(jī)微粒。通過含有 無機(jī)微粒，可提高印刷精度， 可形成精度更高的導(dǎo)電層。作為優(yōu)選的無機(jī)微粒，可列舉出二氧化硅、碳酸鈣、氧化鋁、滑 石、云母、玻璃片、金屬晶須、陶瓷晶須、硫酸鈣晶須、蒙脫石等。這些可單獨(dú)使用1種，也可 混合使用2種以上。無機(jī)微粒的平均粒徑優(yōu)選為0. 01 5 μ m，特別優(yōu)選為0. 1 3 μ m。當(dāng)無機(jī)微粒的 平均粒徑低于0. 01 μ m時(shí)，有可能無法通過添加無機(jī)微粒將印刷精度提高至期望的程度， 當(dāng)超過5 μ m時(shí)，有可能變得易于產(chǎn)生條紋和灰霧。相對(duì)于100質(zhì)量份合成樹脂，化學(xué)鍍前處理劑中的無機(jī)微粒的含量優(yōu)選為0. 01 10質(zhì)量份，特別優(yōu)選為1 5質(zhì)量份。由此，可得到具有高的印刷適性的前處理劑。另外，化學(xué)鍍前處理劑還可含有觸變劑。根據(jù)前述觸變劑，可通過調(diào)整前處理劑的 流動(dòng)性而提高印刷精度，可形成精度更高的導(dǎo)電層。作為觸變劑，只要為現(xiàn)有公知的物質(zhì)即 可使用?？蓛?yōu)選使用酰胺蠟、氫化蓖麻油、蜜蠟、巴西棕櫚蠟、硬脂酸酰胺、羥基硬脂酸亞乙 基雙酰胺等。相對(duì)于100質(zhì)量份前述合成樹脂，化學(xué)鍍前處理劑中的觸變劑的含量優(yōu)選為 0. 1 10質(zhì)量份，特別優(yōu)選為1 5質(zhì)量份。由此，可得到具有高的印刷適性的前處理劑。本發(fā)明的化學(xué)鍍前處理劑還可含有黑色著色劑。由此，可提高印刷精度，并且對(duì)于 所得到的透光性電磁波屏蔽材料可賦予自透明基板側(cè)看時(shí)的防眩效果。作為優(yōu)選的黑色著色劑，可列舉出炭黑、鈦黑、黑色氧化鐵、石墨和活性炭等。這些 可單獨(dú)使用1種，也可混合使用2種以上。其中炭黑是優(yōu)選的。作為炭黑，可列舉出乙炔黑、 槽法炭黑、爐法炭黑等。炭黑的平均粒徑優(yōu)選為0. 1 lOOOnm，特別優(yōu)選為5 500nm。相對(duì)于100質(zhì)量份合成樹脂，化學(xué)鍍前處理劑中的黑色著色劑的含量優(yōu)選為 0. 1 10質(zhì)量份，特別優(yōu)選為1 5質(zhì)量份。由此，可高精度地形成具有防眩效果的前處理 層。使用黑色著色劑時(shí)，優(yōu)選使用市售的黑墨來制備化學(xué)鍍前處理劑。作為這樣的黑 墨，有東洋油墨制造株式會(huì)社制SS8911、JUJO CHEMICAL CO.，LTD.制EXG-3590、大日精化工 業(yè)株式會(huì)社制NT-HiLamic 795R墨等。例如，在使用東洋油墨制造株式會(huì)社制SS8911時(shí)， 在溶劑中，除炭黑外還含有氯乙烯和丙烯酸酯樹脂等。因此，只要為前述市售品，即可容易 地制備含有合成樹脂和黑色著色劑的化學(xué)鍍前處理劑。另外，化學(xué)鍍前處理劑可含有適當(dāng)?shù)娜軇?。作為溶劑，可列舉出水、甲醇、乙醇、2-丙醇、丙酮、甲苯、乙二醇、聚乙二醇、二甲基甲酰胺、二甲基亞砜、二噁烷等。這些可單獨(dú) 使用1種，也可混合使用2種以上?；瘜W(xué)鍍前處理劑可根據(jù)需要進(jìn)一步含有體質(zhì)顏料、表面活性劑等各種添加劑。 本發(fā)明的方法中，利用具有特定的網(wǎng)格圖案的凹版印刷，將上述的化學(xué)鍍前處理 齊U網(wǎng)狀印刷在透明基板上，從而在透明基板上形成網(wǎng)狀的前處理層。由此，可利用簡便的方 法形成期望的具有微細(xì)圖案的前處理層。為了通過印刷得到無斷線、具有微細(xì)的線寬和間隙(間距)的前處理層，化學(xué)鍍前 處理劑的粘度優(yōu)選的是，在25°C下優(yōu)選為500 5000cps，更優(yōu)選為1000 3000cps。這樣印刷化學(xué)鍍前處理劑之后，優(yōu)選在80 160°C，更優(yōu)選在90 130°C下加熱 來干燥是優(yōu)選的。干燥溫度低于80°C時(shí)，溶劑的蒸發(fā)速度慢，有可能無法得到充分的成膜 性，超過160°C時(shí)，化合物有可能發(fā)生熱分解。在涂布后進(jìn)行熱干燥時(shí)的干燥時(shí)間優(yōu)選為5 秒鐘 5分鐘。前處理層的厚度一般為0.01 5μπι，優(yōu)選為0. 1 2μπι。由此，可確保與透明基 板和導(dǎo)電層的高密合性。本發(fā)明的方法中，在如上所述地在透明基板上形成網(wǎng)狀的前處理層的工序之后、 在形成網(wǎng)狀的金屬導(dǎo)電層的工序之前，對(duì)前處理層42進(jìn)行還原處理是優(yōu)選的。通過進(jìn)行還 原處理，可使前處理層42所含的化學(xué)鍍催化劑、即復(fù)合金屬氧化物和復(fù)合金屬氧化物水合 物所含的金屬種還原，并僅使作為活性成分的金屬種以超微粒狀均勻地析出。由于這樣還 原析出的金屬種具有高催化活性且穩(wěn)定，因此可提高前處理層42與透明基板的密合性、以 及可提高化學(xué)鍍的析出速度，進(jìn)而可減少復(fù)合金屬氧化物和復(fù)合金屬氧化物水合物的使用 量。還原處理只要為可使前處理層所含的復(fù)合金屬氧化物和前述復(fù)合金屬氧化物水 合物還原、金屬化的方法即可，并沒有特別的限定。具體而言，優(yōu)選使用(i)用含有還原劑 的溶液對(duì)形成有前述前處理層的透明基板進(jìn)行處理的液相還原法；(ii)使形成有前述前 處理層的透明基板與還原性氣體相接觸的氣相還原法等。在液相還原法中，作為使用含有還原劑的溶液進(jìn)行處理的方法，可使用例如在含 有還原劑的溶液中浸漬形成有前處理層的透明基板的方法，在透明基板的形成有前處理層 的面上噴涂含有還原劑的溶液的方法等。含有還原劑的溶液通過使規(guī)定的還原劑分散或溶解到水等溶劑中而進(jìn)行制備。作 為前述還原劑，并沒有特別的限定，可列舉出甲酰胺、二甲基甲酰胺、二乙基甲酰胺、二甲基 乙酰胺、二甲基丙烯酰胺、硼氫化鈉、硼氫化鉀、葡萄糖、氨基硼烷、二甲胺硼烷(DMAB)、三甲 胺硼烷(TMAB)、胼、二乙胺硼烷、甲醛、乙醛酸、咪唑、抗壞血酸、羥胺、硫酸羥胺、鹽酸羥胺、 次磷酸、次磷酸鈉等次磷酸鹽、硫酸羥胺、亞硫酸鈉等亞硫酸鹽、連二亞硫酸鹽(Na2S2O4 也 稱連二亞硫酸鈉)等。還原劑若使用與后續(xù)工序所用的化學(xué)鍍?cè)≈兴倪€原劑相同的物 質(zhì)，則可對(duì)還原處理后的前述透明基板不進(jìn)行水洗處理而進(jìn)行化學(xué)鍍，并且使化學(xué)鍍?cè)〉?組成變化的風(fēng)險(xiǎn)也較小。作為還原劑，從可得到高還原性的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選使用氨基硼烷、二甲胺硼烷、次 磷酸鈉、硫酸羥胺、連二亞硫酸鹽以及福爾馬林。含有還原劑的溶液中的還原劑的含量優(yōu)選為0. 01 200g/L，特別優(yōu)選為0. 1 100g/L。還原劑的濃度過低時(shí)，充分進(jìn)行還原處理的所需時(shí)間有可能變長，還原劑的濃度過 高時(shí)，析出的鍍敷催化劑有可能脫落。在液相還原法中，作為使用含有還原劑的溶液進(jìn)行處理的方法，從可得到前處理 層所含的復(fù)合金屬氧化物和前述復(fù)合金屬氧化物水合物的高還原性的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選使用 在含有還原劑的溶液中浸漬形成有前處理層的透明基板的方法。浸漬透明基板時(shí)，含有前述還原劑的溶液的溫度優(yōu)選為20 90°C，特別優(yōu)選為 40 80°C。另外，浸漬時(shí)間至少為1分鐘以上，優(yōu)選為1 10分鐘左右。另一方面，使用氣相還原法進(jìn)行還原處理時(shí)，作為還原性氣體，只要為氫氣、乙硼 烷氣體等具有還原性的氣體即可，并沒有特別的限定。使用還原氣體進(jìn)行還原處理時(shí)的反 應(yīng)溫度和反應(yīng)時(shí)間根據(jù)使用的還原氣體的種類等適宜地決定即可。下面，本發(fā)明的方法中，在如上所述地得到的前處理層上進(jìn)行化學(xué)鍍處理，從而實(shí) 施形成網(wǎng)狀的金屬導(dǎo)電層的工序。通過進(jìn)行化學(xué)鍍處理，微細(xì)的金屬顆粒沉積形成為濃厚 的連續(xù)覆膜，可僅在前處理層上有選擇性地得到金屬導(dǎo)電層。鍍金屬只要是具有導(dǎo)電性而可鍍敷的金屬即可使用，可以是金屬單質(zhì)、合金、導(dǎo)電 性金屬氧化物等，也可以是均勻的金屬薄膜、或由經(jīng)過同樣的涂布而得到的微細(xì)的微粒等 構(gòu)成的物質(zhì)。作為化學(xué)鍍中的鍍金屬，可使用鋁、鎳、銦、鉻、金、釩、錫、鎘、銀、鉬、銅、鈦、鈷、鉛 等。尤其從可得到有高電磁波屏蔽性的導(dǎo)電層的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選的是，優(yōu)選使用銀、銅或鋁。 用這些鍍金屬形成的導(dǎo)電層與前處理層的密合性優(yōu)異，并且適宜兼顧透光性與電磁波屏蔽 性?；瘜W(xué)鍍可使用化學(xué)鍍?cè)“闯Ｒ?guī)方法在常溫或加熱下進(jìn)行。即，可適宜地選擇在對(duì) 作為基本組成含有鍍金屬鹽、螯合劑、PH調(diào)節(jié)劑、還原劑等的鍍液進(jìn)行建浴而得到的物質(zhì)中 浸漬鍍敷基材來進(jìn)行化學(xué)鍍，或者以將構(gòu)成鍍液分成2份液以上而添加的方式施加鍍敷處理等。若舉出作為化學(xué)鍍的1個(gè)例子，則可采用如下方法在形成由Cu構(gòu)成的導(dǎo)電層時(shí)， 將具有前處理層和錨涂層的透明基板在PH調(diào)整為12 13. 5、特別優(yōu)選為12. 5 13的下 述溶液中、在50 90°C浸漬30秒鐘 60分鐘的方法，其中前述溶液含有1 100g/L、特 別優(yōu)選5 50g/L硫酸銅等的水溶性銅鹽，0. 5 10g/L、特別優(yōu)選1 5g/L甲醛等還原劑， 20 100g/L、特別優(yōu)選30 70g/L EDTA等絡(luò)合劑。進(jìn)行化學(xué)鍍時(shí)可搖動(dòng)、轉(zhuǎn)動(dòng)被鍍敷的基板，也可攪拌其附近的空氣。網(wǎng)狀(格子狀)的金屬導(dǎo)電層的線寬一般為20μπι以下，優(yōu)選為5 15μπι，特別 優(yōu)選具有5 12 μ m。線的間距優(yōu)選為200 μ m以下。另外，開口率優(yōu)選為75 95%，特別 優(yōu)選為80 95%。導(dǎo)電層的線所圍成的開口部的形狀可為圓、橢圓、方形(四邊形、六邊形)等任意 的形狀，而一般為方形，特別優(yōu)選為正方形。上述(A)的方法中，可在網(wǎng)狀的導(dǎo)電層上進(jìn)行電鍍處理(后述)而形成金屬鍍層。 另外，還可對(duì)該金屬鍍層進(jìn)行黑化處理(后述)，例如，可進(jìn)行金屬膜的氧化處理、鉻合金等 的黑色 鍍、黑或暗色系墨的涂布等。下面，參照

前述⑶的本發(fā)明的電磁波屏蔽性透光窗材的制造方法。
將說明本發(fā)明中適宜的電磁波屏蔽性透光窗材的制造方法(B)的示意圖示于圖 5。如(B1)、(B2)所示，在透明薄膜等透明基板51上，將含有硅烷偶聯(lián)劑與唑系化合物的混 合物或反應(yīng)產(chǎn)物、以及貴金屬化合物的化學(xué)鍍前處理劑，按本發(fā)明的方法印刷成網(wǎng)狀，在透 明基板51上形成網(wǎng)狀的前處理層52。然后，通過進(jìn)行化學(xué)鍍?cè)谇疤幚韺?2上形成由金屬 等導(dǎo)電材料構(gòu)成的網(wǎng)狀的金屬導(dǎo)電層53。在上述方法中，利用具有本發(fā)明的特定形狀的凹版表面的凹版印刷，將化學(xué)鍍前 處理劑印刷至透明基板51，因此可基本按設(shè)計(jì)尺寸的形狀形成前處理劑，從而可形成基本 符合設(shè)計(jì)尺寸、線寬小的微細(xì)的網(wǎng)狀的金屬導(dǎo)電層53(—般網(wǎng)格的交點(diǎn)的形狀的面積有稍 微變小的傾向)。另外，通過使用上述化學(xué)鍍前處理劑，將硅烷偶聯(lián)劑、唑系化合物以及貴金 屬化合物在前處理層中以原子水平分散，因此可高精度地形成不產(chǎn)生條紋和灰霧、具有微 細(xì)圖案的網(wǎng)狀的前處理層。通過在這樣的網(wǎng)狀的前處理層上進(jìn)行化學(xué)鍍處理，可形成線寬 小的微細(xì)的網(wǎng)狀的金屬導(dǎo)電層。
在本發(fā)明的方法(B)中，用作化學(xué)鍍前處理劑的前述硅烷偶聯(lián)劑優(yōu)選使用一分子 中具有擁有金屬補(bǔ)捉能力的官能團(tuán)的物質(zhì)。由此，可形成能有效發(fā)揮化學(xué)鍍催化劑即貴金 屬化合物的活性的電子狀態(tài)、取向狀態(tài)，可得到與被鍍材料的高密合性。作為硅烷偶聯(lián)劑，可舉出含環(huán)氧基硅烷化合物。作為含環(huán)氧基硅烷化合物，可列舉 出例如Y -環(huán)氧丙氧基丙基三烷氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧 基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、3-環(huán)氧丙氧基丙基甲基二乙 氧基硅烷、2-(3，4_環(huán)氧環(huán)己基)乙基三甲氧基硅烷等。這些可單獨(dú)使用，也可組合使用2 種以上。尤其從得到的前處理層表現(xiàn)出與透明基板和導(dǎo)電層的高密合性觀點(diǎn)考慮，Y-環(huán) 氧丙氧基丙基三烷氧基硅烷是優(yōu)選的。接著，作為用于化學(xué)鍍前處理劑的唑系化合物，可列舉出咪唑、噁唑、噻唑、硒唑、 吡唑、異噁唑、異噻唑、三唑、噁二唑、噻二唑、四唑、噁三唑、噻三唑、地巴唑、吲唑、苯并咪 唑、苯并三唑、吲唑等。雖然不限定于這些物質(zhì)，但從與硅烷偶聯(lián)劑所具有的環(huán)氧基等官能 團(tuán)和貴金屬化合物的反應(yīng)性優(yōu)異的觀點(diǎn)考慮，咪唑是特別優(yōu)選的。在化學(xué)鍍前處理劑中，硅烷偶聯(lián)劑與唑系化合物可僅僅只進(jìn)行混合，也可預(yù)先使 它們反應(yīng)而形成反應(yīng)產(chǎn)物。由此，可將貴金屬化合物在前處理層中以原子水平進(jìn)行更高分 散，并且可提高所得到的前處理層的透光性。為了使硅烷偶聯(lián)劑與唑系化合物反應(yīng)，優(yōu)選例如在80 200°C下，相對(duì)于1摩爾唑 系化合物混合0. 1 10摩爾的硅烷偶聯(lián)劑，反應(yīng)5分鐘 2小時(shí)。此時(shí)，溶劑一般是不要 的，但也可使用水，還有氯仿、二噁烷、甲醇、乙醇等有機(jī)溶劑。在如此得到的前述硅烷偶聯(lián) 劑與前述唑系化合物的反應(yīng)產(chǎn)物中混合貴金屬化合物，從而可得到化學(xué)鍍前處理劑。接著，用于化學(xué)鍍前處理劑的貴金屬化合物是在化學(xué)鍍處理中表現(xiàn)出可使銅、鋁 等金屬選擇性地析出 生長的催化效果的物質(zhì)。例如，從可得到高催化活性的觀點(diǎn)考慮，優(yōu) 選使用含有鈀、銀、鉬和金等金屬原子的化合物。作為這樣的化合物，可使用上述金屬原子 的氯化物、氫氧化物、氧化物、硫酸鹽、銨鹽等的胺絡(luò)合物等，特別優(yōu)選鈀化合物，尤其優(yōu)選 氯化鈀。相對(duì)于唑系化合物與硅烷偶聯(lián)劑，化學(xué)鍍前處理劑優(yōu)選含有0. 001 50摩爾％， 更優(yōu)選含有0. 1 20摩爾％貴金屬化合物。當(dāng)貴金屬化合物的濃度低于0. 001摩爾％時(shí)，無法得到充分的催化活性而有可能無法形成具有期望的厚度的導(dǎo)電層，當(dāng)超過50摩爾％ 時(shí)，有可能無法得到與添加量的增加相應(yīng)的、由貴金屬化合物帶來的催化效果。另外，化學(xué)鍍前處理劑可含有適當(dāng)?shù)娜軇?。作為溶劑，可列舉出水、甲醇、乙醇、 2_丙醇、丙酮、甲苯、乙二醇、聚乙二醇、二甲基甲酰胺、二甲基亞砜、二噁烷等。這些可單獨(dú) 使用1種，也可混合使用2種以上。 化學(xué)鍍前處理劑可根據(jù)需要進(jìn)一步含有體質(zhì)顏料、表面活性劑、著色劑等各種添 加劑。為了通過印刷得到具有微細(xì)的線寬和間隙(間距)的前處理層，化學(xué)鍍前處理劑 (B)的粘度在25°C下優(yōu)選為500 5000cps，更優(yōu)選為1000 3000cps。在印刷化學(xué)鍍前處理劑時(shí)，使用照相凹版印刷等凹版印刷。印刷速度優(yōu)選為5 50m/分鐘。這樣印刷化學(xué)鍍前處理劑之后，可優(yōu)選在80 160°C、更優(yōu)選在90 130°C下加 熱來干燥。干燥溫度低于80°C時(shí)，溶劑的蒸發(fā)速度慢、有可能無法得到充分的成膜性，超過 160°C時(shí)，化合物有可能發(fā)生熱分解。在涂布后進(jìn)行熱干燥時(shí)的干燥時(shí)間優(yōu)選為5秒鐘 5 分鐘。本發(fā)明的(B)方法與本發(fā)明的(A)方法相同，在前處理層上進(jìn)行化學(xué)鍍處理。也 可在得到的網(wǎng)狀的金屬導(dǎo)電層上進(jìn)行電鍍處理而形成金屬鍍層。另外，可對(duì)該金屬鍍層進(jìn) 行黑化處理，例如可進(jìn)行金屬膜的氧化處理、鉻合金等的黑色鍍、黑或暗色系墨的涂布等。網(wǎng)狀的金屬導(dǎo)電層的線寬一般為20 μ m以下，優(yōu)選為5 15 μ m，特別優(yōu)選具有 5 12 μ m。線的間距優(yōu)選為200 μ m以下。另外，開口率優(yōu)選為75 95 %，特別優(yōu)選為 80 95%。導(dǎo)電層的線所圍成的開口部的形狀可為圓、橢圓、方形(四邊形、六邊形)等任意 的形狀，而一般為方形，特別優(yōu)選為正方形。參照

前述(C)的本發(fā)明的電磁波屏蔽性透光窗材的制造方法。將說明本發(fā)明中適宜的透光性電磁波屏蔽性窗材的形成方法(C)的示意圖示于 圖6。如(Cl)所示，在透明基板61上將含有導(dǎo)電性顆粒和粘結(jié)劑樹脂的導(dǎo)電性墨按本發(fā)明 的方法印刷成網(wǎng)狀，從而形成網(wǎng)狀的導(dǎo)電層63。如前所述，通過使用了特定形狀的凹版的凹版印刷來印刷導(dǎo)電性墨，因此可基本 按設(shè)計(jì)的尺寸的形狀印刷網(wǎng)狀的導(dǎo)電層(一般網(wǎng)格的交點(diǎn)的形狀的面積有稍微變小的傾 向)。因此，可高精度地形成不產(chǎn)生條紋和灰霧、具有微細(xì)圖案的網(wǎng)狀的導(dǎo)電層。作為用于上述導(dǎo)電性墨的導(dǎo)電性顆粒，可列舉出鋁、鎳、銦、鉻、金、釩、錫、鎘、銀、 鉬、銅、鈦、鈷、鉛等金屬、合金；或IT0、氧化銦、氧化錫、氧化鋅、氧化銦-氧化錫(ΙΤ0、所謂 的摻銦氧化錫)、氧化錫-氧化銻(ΑΤΟ、所謂的摻銻氧化錫)、氧化鋅-氧化鋁(ΖΑ0、所謂的 摻鋁氧化鋅)等導(dǎo)電性氧化物等。這些可單獨(dú)使用1種，也可混合使用2種以上。其中，作為前述導(dǎo)電性顆粒，可優(yōu)選列舉出銀、銅、金、鎳、銦和錫。只要為這些導(dǎo)電 性顆粒，即可提高得到的網(wǎng)狀導(dǎo)電層的導(dǎo)電性。導(dǎo)電性顆粒的平均粒徑優(yōu)選為IOnm 10 μ m、特別優(yōu)選為IOnm 5 μ m。相對(duì)于100質(zhì)量份粘結(jié)劑樹脂，導(dǎo)電性墨中的導(dǎo)電性顆粒的含量優(yōu)選為400 1000質(zhì)量份，特別優(yōu)選為400 800質(zhì)量份。由此，可形成導(dǎo)電性顆粒彼此間的接觸性優(yōu)異的導(dǎo)電層。作為用于導(dǎo)電性墨的粘結(jié)劑樹脂，可列舉出丙烯酸酯樹脂、聚酯樹脂、環(huán)氧樹脂、 聚氨酯樹脂、酚醛樹脂、馬來酸樹脂、三聚氰胺樹脂、脲醛樹脂、聚酰亞胺樹脂、含硅樹脂等。 進(jìn)而，在這些樹脂中優(yōu)選熱固化性樹脂。
為了調(diào)整至適度的粘度，導(dǎo)電性墨還可含有溶劑。作為溶劑，可列舉出己醇、辛醇、 壬醇、癸醇、十一醇、十二醇、十三醇、十四醇、十五醇、硬脂醇、蠟醇、環(huán)己醇、萜品醇等醇；乙 二醇單丁醚(丁基溶纖劑)、乙二醇單苯醚、二乙二醇、二乙二醇單丁醚(丁基卡必醇)、乙 酸溶纖劑(cellosolve acetate)、丁基溶纖劑乙酸酯、卡必醇乙酸酯、丁基卡必醇乙酸酯等 烷基醚。導(dǎo)電性墨還可進(jìn)一步含有黑色著色劑。由此，可提高印刷精度，并且對(duì)于所得到的 電磁波屏蔽性透光性窗材可賦予自透明基板側(cè)看時(shí)的防眩效果。作為黑色著色劑，優(yōu)選使用炭黑、鈦黑、黑色氧化鐵、石墨和活性炭等。這些可單獨(dú) 使用1種，也可混合使用2種以上。其中炭黑是優(yōu)選的。作為炭黑，可列舉出乙炔黑、槽法 炭黑、爐法炭黑等。炭黑的平均粒徑優(yōu)選為0. 1 lOOOnm，特別優(yōu)選為5 500nm。相對(duì)于100質(zhì)量份粘結(jié)劑樹脂，導(dǎo)電性墨中的黑色著色劑的含量優(yōu)選為0. 1 10 質(zhì)量份，特別優(yōu)選為1 5質(zhì)量份。導(dǎo)電性墨可進(jìn)一步含有表面活性劑等分散劑、增塑劑、消泡劑、固化劑等現(xiàn)有公知 的助劑。將上述的導(dǎo)電性墨在透明基板上印刷成網(wǎng)狀時(shí)，為了抑制斷線的發(fā)生，還為了通 過印刷具有微細(xì)的線寬和間隙(間距)，導(dǎo)電性墨的粘度優(yōu)選的是，在25°C下優(yōu)選為100 lOOOOcps，更優(yōu)選為 500 5000cps。網(wǎng)狀的導(dǎo)電層的線寬一般為20 μ m以下，優(yōu)選為5 15 μ m，特別優(yōu)選具有5 12μπι。線的間距優(yōu)選為200μπι以下。另外，開口率優(yōu)選為75 95%，特別優(yōu)選為80 95%。此外，開口率是根據(jù)網(wǎng)格的線寬以及1英寸寬度中存在的線的數(shù)量進(jìn)行計(jì)算而求得 的。導(dǎo)電層的線所圍成的開口部的形狀可為圓、橢圓、方形(四邊形、六邊形)等任意 的形狀，而一般為方形，特別優(yōu)選為正方形。對(duì)于利用本發(fā)明的方法(包括上述(A) (C))得到的網(wǎng)狀的(金屬)導(dǎo)電層，可 進(jìn)一步進(jìn)行電鍍處理(對(duì)于(C)而言為化學(xué)鍍處理或電鍍處理)而在導(dǎo)電層上形成金屬鍍 層。另外，可在該鍍層上形成前述防眩層，也可進(jìn)行下述的黑化處理。作為用于鍍敷處理的材質(zhì)，只要為金屬鍍層具有優(yōu)異的電磁波屏蔽效果的材料即 可，并沒有特別的限定，可列舉出例如銅、鎳、鉻、鋅、錫、銀和金等金屬。這些可使用單獨(dú)1 種，也可使用2種以上的合金。金屬鍍層的厚度優(yōu)選為0. 1 10 μπι，更優(yōu)選為2 5 μ m。當(dāng)前述厚度低于0. Iym 時(shí)，無法賦予充分的電磁波屏蔽效果，另一方面，當(dāng)超過10 μ m時(shí)，在鍍層形成時(shí)，由于鍍敷 在寬度方向也擴(kuò)展，會(huì)造成線寬變粗、導(dǎo)電層的開口率變低。作為金屬鍍層中的表面電阻率，優(yōu)選為3Ω/□以下，更優(yōu)選為1Ω/□以下。當(dāng)鍍 層的表面電阻率超過3 Ω/ □時(shí)，導(dǎo)電性有可能不充分，且電磁波屏蔽效果有可能變得不充 分。
形成金屬鍍層之后，可賦予其防眩性。在進(jìn)行該防眩化處理時(shí)，可對(duì)網(wǎng)狀導(dǎo)電層的 表面進(jìn)行黑化處理。例如可進(jìn)行導(dǎo)電層或鍍層的氧化處理、硫化處理，鉻合金等的黑色鍍， 黑或暗色系的墨的涂布等。 優(yōu)選利用導(dǎo)電層或鍍層的金屬的氧化處理或硫化處理進(jìn)行黑化處理。尤其從獲得 更為優(yōu)異的防眩效果、還有廢液處理的簡便性和環(huán)境安全性的觀點(diǎn)出發(fā)，氧化處理是優(yōu)選 的。進(jìn)行作為黑化處理的氧化處理時(shí)，作為黑化處理液，一般可使用次氯酸鹽與氫氧 化鈉的混合水溶液、亞氯酸鹽與氫氧化鈉的混合水溶液、過二硫酸與氫氧化鈉的混合水溶 液等，尤其從經(jīng)濟(jì)性的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選使用次氯酸鹽與氫氧化鈉的混合水溶液、或亞氯酸鹽 與氫氧化鈉的混合水溶液。進(jìn)行作為前述黑化處理的硫化處理時(shí)，作為黑化處理液，一般可使用硫化鉀、硫化 鋇以及硫化銨等的水溶液，優(yōu)選的是硫化鉀和硫化銨，尤其從可在低溫下使用的觀點(diǎn)考慮， 優(yōu)選使用硫化銨。 黑化處理層的厚度并沒有特別的限定，但一般為0. 01 1 μ m，優(yōu)選為0. 01 0. 5 μ m。當(dāng)前述厚度低于0. 01 μ m時(shí)，光的防眩效果有可能不充分，當(dāng)超過1 μ m時(shí)，斜視時(shí) 的表觀開口率有可能降低。在本發(fā)明的方法中，作為涂布前處理劑或?qū)щ娦阅耐该骰?，只要為具備透?性和撓性、能夠經(jīng)得起之后的處理的透明基板即可，并沒有特別的限定。作為透明基板的材 質(zhì)，可列舉出例如玻璃、聚酯(例聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚對(duì)苯二甲酸丁二醇酯)、 丙烯酸酯樹脂(例聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA))、聚碳酸酯(PC)、聚苯乙烯、纖維素三醋酸 酯、聚乙烯醇、聚氯乙烯、聚偏氯乙烯、聚乙烯、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚乙烯醇縮丁醛、 金屬離子交聯(lián)乙烯-甲基丙烯酸共聚物、聚氨酯、玻璃紙等，在這些當(dāng)中，優(yōu)選由加工處理 (加熱、溶劑、折彎)所導(dǎo)致的劣化少、透明性高的材料，即PET、PC、PMMA。另外，可以將這些 材質(zhì)形成的片、薄膜、或板用作透明基板。透明基板的厚度并沒有特別的限定，但從維持透光性電磁波屏蔽材料的透光性的 觀點(diǎn)考慮，越薄的越優(yōu)選，通常，根據(jù)使用時(shí)的形態(tài)、需要的機(jī)械強(qiáng)度，在0. 05 5mm的范圍 適宜地設(shè)定厚度。優(yōu)選將長條狀塑料薄膜用作本發(fā)明的透明基板，以輥對(duì)輥的方式，一邊連續(xù)地傳 送長條狀塑料薄膜，一邊連續(xù)地印刷、干燥前處理層、并進(jìn)行化學(xué)鍍處理等，或者連續(xù)地印 刷、干燥導(dǎo)電性墨、并根據(jù)需要進(jìn)行鍍敷處理等，從而可簡便地得到透光性電磁波屏蔽材 料。這樣得到的透光性電磁波屏蔽材料除粘合劑層外，還可具有硬涂層、防反射層、色 調(diào)補(bǔ)償濾波層、近紅外線吸收層等。這些各層的層疊的順序根據(jù)目的而決定。另外，為了 提高電磁波屏蔽功能，可在顯示器用濾波器中設(shè)置用于與PDP主體的接地電極相連接的電 極。作為優(yōu)選的透光性電磁波屏蔽材料，可列舉出下述材料在得到的網(wǎng)狀導(dǎo)電層的 表面設(shè)置有例如硬涂層和低折射率層等防反射層，在背面設(shè)置有近紅外線吸收層的材料； 或者在網(wǎng)狀導(dǎo)電層的表面借助于粘合劑層、或直接設(shè)置近紅外線吸收層，在背面設(shè)置有硬 涂層和低折射率層等防反射層的材料。
本發(fā)明的透光性電磁波屏蔽材料可適宜地適用于需要透光性的用途，例如產(chǎn)生電 磁波的各種電力設(shè)備的LCD、PDP、CRT等顯示裝置的顯示面，或設(shè)施、房屋的透明玻璃面、透 明面板面。由于本發(fā)明的透光性電磁波屏蔽材料具有高透光性和電磁波屏蔽性，因此可適 宜地用于前述顯示裝置的顯示器用濾波器，尤其可適宜地用于PDP用濾波器。實(shí)施例以下通過實(shí)施例說明本發(fā)明。本發(fā)明并不限定于以下的實(shí)施例。[實(shí)施例1](1)前處理劑的制備將復(fù)合金屬氧化物水合物顆粒(PdTiO3 · 6H20、平均粒徑0. 5 μ m)配合到雙組分固 化型聚酯系聚氨酯樹脂溶液中，其中相對(duì)于100質(zhì)量份聚酯系聚氨酯樹脂，配合30質(zhì)量份 復(fù)合金屬氧化物水合物顆粒，從而制得前處理劑(粘度2000CpS、25°C )。此外，前述雙組分固化型聚酯系聚氨酯樹脂溶液使用以100 0.5的質(zhì)量比含有 聚酯樹脂(Toyo-Morton, Ltd.制 AD-335A、Tg :10°C )和脂環(huán)族異氰酸酯(Toyo-Morton, Ltd.制CAT-10L)、固體成分濃度為10質(zhì)量％的物質(zhì)。2.網(wǎng)狀的前處理層的制備接著，將前述前處理劑在PET薄膜(厚度100 μ m)上利用照相凹版印刷而進(jìn)行圖 案化之后，在120°C、干燥5分鐘，從而在前述PET薄膜上形成網(wǎng)狀的前處理層。此外，照相 凹版印刷的凹版的網(wǎng)格形狀為凸部的1邊(線間隔)為254 μ m的正方形，正方形間的距 離(線寬)為20 μ m，圖3的正方形的相對(duì)的角間的距離(L)為29 μ m，圖3的正方形的相 對(duì)的角的等腰三角形的(a)為29μπι。得到的網(wǎng)狀的前處理層的線間隔為254μπι，線寬為 20 μ m，開口率為85%，厚度為0. 5μπι。3.前處理層的還原處理接著，將在上述步驟中得到的形成有前處理層的PET薄膜在60°C的次磷酸鈉溶液 (NaH2PO2濃度30g/L)中浸漬3分鐘，進(jìn)行前處理層的還原處理。4.金屬導(dǎo)電層的制備將在上述步驟中形成有經(jīng)過了還原處理的前處理層的PET薄膜在化學(xué)鍍銅液 (Meltex Inc.制Melplate CU-5100)中浸漬，在50°C、20分鐘下進(jìn)行化學(xué)鍍銅處理，得到網(wǎng) 狀的金屬導(dǎo)電層。前述金屬導(dǎo)電層的線寬為25μπι，線間隔為254μπι，開口率為81%，厚度 為 4 μ m05.金屬導(dǎo)電層的黑化處理進(jìn)而，針對(duì)在前述步驟中得到的形成有金屬導(dǎo)電層的PET薄膜進(jìn)行下述組成的黑 化處理。黑化處理液組成(水溶液)亞氯酸鈉10質(zhì)量％氫氧化鈉4質(zhì)量％黑化處理?xiàng)l件浴溫約60°C時(shí)間5分鐘通過該黑化處 理得到了金屬導(dǎo)電層的表面經(jīng)過了黑化處理的透光性電磁波屏蔽材料。得到的透光性電磁波屏蔽材料的表面的進(jìn)行了黑化處理的厚度平均為0. 5 μ m。其余 尺寸沒有變化。[實(shí)施例2]
使照相凹版印刷的凹版的網(wǎng)格形狀中的、圖3的正方形的相對(duì)的角間距離(L)為
30μ m，圖3的正方形的相對(duì)的角的等腰三角形的(a)為30 μ m，除此之外，與實(shí)施例1同樣 地制得透光性電磁波屏蔽材料。得到的網(wǎng)狀的前處理層的線間隔為254 μ m，線寬為20 μ m，開口率為85%，厚度為 0. 5μπι。另外，前述金屬導(dǎo)電層的線寬為25μπι，線間隔為254μπι，開口率為81%，厚度為 4 μ m，黑化處理層平均為0. 5 μ m。[實(shí)施例3]使照相凹版印刷的凹版的網(wǎng)格形狀中的、圖3的正方形的相對(duì)的角間距離(L)為
31μ m，圖3的正方形的相對(duì)的角的等腰三角形的(a)為31 μ m，除此之夕卜，與實(shí)施例1同樣 地制得透光性電磁波屏蔽材料。得到的網(wǎng)狀的前處理層的線間隔為254μπι，線寬為20 μ m，開口率為85%，厚度為 0. 5μπι。另外，前述金屬導(dǎo)電層的線寬為25μπι，線間隔為254μπι，開口率為81%，厚度為 4 μ m，黑化處理層平均為0. 5 μ m。[實(shí)施例4]使照相凹版印刷的凹版的網(wǎng)格形狀中的、圖3的正方形的相對(duì)的角間距離(L)為
32μ m，圖3的正方形的相對(duì)的角的等腰三角形的(a)為32 μ m，除此之外，與實(shí)施例1同樣 地制得透光性電磁波屏蔽材料。得到的網(wǎng)狀的前處理層的線間隔為254 μ m，線寬為20 μ m，開口率為85%，厚度為 0. 5μπι。另外，前述金屬導(dǎo)電層的線寬為25μπι，線間隔為254μπι，開口率為81%，厚度為 4 μ m，黑化處理層平均為0. 5 μ m。[參考例1]使照相凹版印刷的凹版的網(wǎng)格形狀中的、圖3的正方形的相對(duì)的角間距離(L)為 35 μ m，圖3的正方形的相對(duì)的角的等腰三角形的(a)為35 μ m，除此之夕卜，與實(shí)施例1同樣 地制得透光性電磁波屏蔽材料。得到的網(wǎng)狀的前處理層的線間隔為254 μ m，線寬為20 μ m，開口率為85%，厚度為 0. 5μπι。另外，前述金屬導(dǎo)電層的線寬為25μπι，線間隔為254μπι，開口率為81%，厚度為 4 μ m，黑化處理層平均為0. 5 μ m。[透光性電磁波屏蔽材料的評(píng)價(jià)]1)交點(diǎn)部的斷線用顯微鏡(型號(hào)LHX-500、KEYENCE CORPORATION.制)對(duì)導(dǎo)電層形成后的導(dǎo)電層 表面進(jìn)行觀察，如下所述地進(jìn)行評(píng)價(jià)?！蛎?00個(gè)交點(diǎn)中，交點(diǎn)的斷線為3個(gè)以下〇每100個(gè)交點(diǎn)中，交點(diǎn)的斷線為超過3個(gè)、10個(gè)以下Δ 每100個(gè)交點(diǎn)中，交點(diǎn)的斷線為超過10個(gè)、20個(gè)以下X 每100個(gè)交點(diǎn)中，交點(diǎn)的斷線為超過20個(gè)2)表面電阻(Ω/口)
鍍層形成后，按照J(rèn)IS-C-2141測(cè)定其表面電阻。3)外觀鍍層形成后，以目視觀察其外觀，如下所述地進(jìn)行評(píng)價(jià)。 〇觀察不到外觀不良(不均勻、鍍層無光澤并呈暗灰色)；Δ 觀察到一部分外 觀不良(不均勻、鍍層無光澤并呈暗灰色)4)電磁波屏蔽性鍍層形成后，利用KEC法測(cè)定電磁波屏蔽性，如下所述地進(jìn)行評(píng)價(jià)。〇:40dB以上Δ :20dB 以上、低于 40dB結(jié)果示于表1。[表 1] 參考例1中得到的透光性電磁波屏蔽材料由于斷線多，因此印刷后的表面電阻 高(3Χ104Ω/0)，電鍍中產(chǎn)生鍍敷不均，觀察到外觀不良。另外還由于表面電阻不降低 (2 X IO2 Ω / □)，電磁屏也蔽性不充分。另外實(shí)施例1 4中得到的透光性電磁波屏蔽材料的網(wǎng)格的交點(diǎn)部分的四邊形的 形狀，利用前述顯微鏡觀察到角部稍微凹陷(無網(wǎng)格的正方形部分的角突出)。產(chǎn)業(yè)上的可利用件利用本發(fā)明的可簡便地形成無斷線的網(wǎng)狀圖像的圖像形成方法，可簡便地制造具 有無斷線的網(wǎng)狀的導(dǎo)電層、電磁波屏蔽性優(yōu)異的透光性電磁波屏蔽材料。這樣得到的透光 性電磁波屏蔽材料對(duì)于等離子體顯示面板(PDP)的前面濾波器、醫(yī)院等需要電磁波屏蔽的 建筑物的窗戶是有用的。
權(quán)利要求
一種圖像形成方法，其包括下述工序通過使用表面的凹部的圖案為網(wǎng)狀的滾筒的凹版印刷，將圖像形成用材料圖案印刷至基板的表面，形成網(wǎng)狀圖像，其特征在于，滾筒表面的網(wǎng)狀圖案的網(wǎng)格的交點(diǎn)部分中的、凹部的底部的面積被縮減。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的圖像形成方法，其中，凹部底部的面積縮減前的、網(wǎng)狀圖案的 凸部的表面形狀為四邊形，且通過四邊形的角的頂點(diǎn)的延長，交點(diǎn)部分中的、凹部的底部的 面積被縮減。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的圖像形成方法，其中，交點(diǎn)部分中的、相對(duì)的四邊形的角的頂 點(diǎn)間的距離(L)為30 μ m以下。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的圖像形成方法，其中，交點(diǎn)部分中的、相對(duì)的四邊形的角 部具有銳角的等腰三角形的形狀，且其底邊的長度(a)為30μπι以下。
5.一種透光性電磁波屏蔽材料的制造方法，其特征在于，該制造方法包括通過使用表面的凹部的圖案為網(wǎng)狀的滾筒的凹版印刷將化學(xué)鍍前處理劑圖案印刷至 透明基板的表面而形成網(wǎng)狀前處理層的工序；以及在前處理層上通過化學(xué)鍍處理形成網(wǎng)狀的金屬導(dǎo)電層的工序，其中，滾筒表面的網(wǎng)狀圖案的網(wǎng)格的交點(diǎn)部分中的、凹部的底部的面積被縮減。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制造方法，其中，化學(xué)鍍前處理劑為包含復(fù)合金屬氧化物和/ 或復(fù)合金屬氧化物水合物、以及合成樹脂的液體。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制造方法，其中，化學(xué)鍍前處理劑為包含硅烷偶聯(lián)劑與唑系 化合物的混合物或反應(yīng)產(chǎn)物、以及貴金屬化合物的液體。
8.—種透光性電磁波屏蔽材料的制造方法，該制造方法包括下述工序通過使用表面的凹部的圖案為網(wǎng)狀的滾筒的凹版印刷，將含有金屬微粒和粘結(jié)劑樹脂 的導(dǎo)電性墨圖案印刷至透明基板的表面，形成網(wǎng)狀導(dǎo)電層，其特征在于，滾筒表面的網(wǎng)狀圖案的網(wǎng)格的交點(diǎn)部分中的、凹部的底部的面積被縮減。
9.根據(jù)權(quán)利要求5 8任一項(xiàng)所述的制造方法，其中，凹部底部的面積縮減前的、網(wǎng)狀 圖案的凸部的表面形狀為四邊形，且通過四邊形的角的頂點(diǎn)的延長，交點(diǎn)部分中的、凹部的 底部的面積被縮減。
10.根據(jù)權(quán)利要求5 9任一項(xiàng)所述的制造方法，其中，交點(diǎn)部分中的、相對(duì)的四邊形的 角的頂點(diǎn)間的距離(L)為30 μ m以下。
11.根據(jù)權(quán)利要求5 10任一項(xiàng)所述的制造方法，其中，交點(diǎn)部分中的、相對(duì)的四邊形 的角部具有銳角的等腰三角形的形狀，且其底邊的長度(a)為30μπι以下。
12.根據(jù)權(quán)利要求5 7和9 11任一項(xiàng)所述的透光性電磁波屏蔽材料的制造方法， 其在進(jìn)行化學(xué)鍍之后還進(jìn)行電鍍。
13.—種透光性電磁波屏蔽材料，其特征在于，具有透明基板、在其上設(shè)置的網(wǎng)狀的金 屬導(dǎo)電層，并且，網(wǎng)狀圖案的網(wǎng)格的交點(diǎn)部分的面積被縮減。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的透光性電磁波屏蔽材料，其在透明基板與金屬導(dǎo)電層之間 設(shè)有網(wǎng)狀的前處理層。
15.根據(jù)權(quán)利要求13或14所述的透光性電磁波屏蔽材料，其中，網(wǎng)格的交點(diǎn)部分的形狀為四邊形 ，且通過四邊形的角凹陷，交點(diǎn)部分中的、凹部的底部的面積被縮減。
全文摘要
本發(fā)明提供簡便地形成無斷線的網(wǎng)狀圖像的圖像形成方法；以及提供簡便地制造具有無斷線的網(wǎng)狀的導(dǎo)電層、電磁波屏蔽性優(yōu)異的透光性電磁波屏蔽材料的方法。一種圖像形成方法，其包括通過使用表面的凹部的圖案為網(wǎng)狀的滾筒的凹版印刷將圖像形成用墨圖案印刷至基板的表面而形成網(wǎng)狀圖像的工序，其特征在于，滾筒表面的網(wǎng)狀圖案的網(wǎng)格的交點(diǎn)部分中的、凹部的底部的面積被縮減。一種透光性電磁波屏蔽材料的制造方法，其特征在于包括通過使用表面的凹部的圖案為網(wǎng)狀的滾筒的凹版印刷將化學(xué)鍍前處理劑圖案印刷至透明基板的表面而形成網(wǎng)狀前處理層的工序；以及利用化學(xué)鍍處理在前處理層上形成網(wǎng)狀的金屬導(dǎo)電層的工序，其中滾筒表面的網(wǎng)狀圖案的網(wǎng)格的交點(diǎn)部分中的、凹部的底部的面積被縮減。
文檔編號(hào)B41M1/06GK101869010SQ200880117109
公開日2010年10月20日 申請(qǐng)日期2008年11月11日 優(yōu)先權(quán)日2007年11月20日
發(fā)明者小坪秀史, 巖淵芳典, 竹之內(nèi)秀章, 笹木清美, 船木竜也 申請(qǐng)人:株式會(huì)社普利司通