專利名稱：：壓電致動機構的制作方法壓電致動機構
背景技術：
：噴墨打印裝置，例如噴墨打印機，是一種能夠通過向介質片上噴射墨水從而在像紙一樣的介質片上形成圖像的裝置。按需點滴式噴墨打印裝置典型地包括兩種不同的類型熱噴墨打印裝置和壓電噴墨打印裝置。熱噴墨打印裝置通過對墨水進行加熱來噴射墨水，這使得墨水中形成氣泡，而氣泡導致待噴射的(一個或多個)墨滴形成。壓電噴墨打印裝置的墨水噴射是通過致動一個壓電致動機構從而驅動待噴射的(一個或多個)墨滴來實現(xiàn)的。然而，壓電致動機構相比熱噴墨打印裝置通常更易受到機械串擾的影響。當對一個噴墨腔室施加壓力導致了一個或多個相鄰的噴墨腔室被至少部分地施加壓力時，就產生了機械串擾。在能夠導致圖像質量問題和其他類型問題的情況下，串擾是成問題的。圖1A、1B和1C是根據(jù)本公開各種變型實施例的、用于壓電噴墨打印裝置的壓電致動機構的示意圖。圖2A、2B和2C是示意圖，其根據(jù)本公開的不同實施例示出了當各種電壓被施加到該機構的各種電極上時，壓電致動機構如何響應。圖3A、3B和3C是示意圖，其根據(jù)本公開的不同實施例示出了當分別根據(jù)圖2A、2B和2C施加電壓時，電場在壓電致動機構中如何分布。圖4A、4B、4C、4D和4E是示意圖，其根據(jù)本公開的不同實施例示出了當各種電壓被施加到壓電致動機構的各種電極上時，在壓電致動機構內將如何產生位移。圖5A和5B是根據(jù)本公開其他變型實施例的、用于壓電噴墨打印裝置的壓電致動機構的示意圖。圖6A和6B是示意圖，其根據(jù)本公開的不同實施例示出了當各種電壓被施加到圖5A和5B的壓電致動機構的各種電極上時，在壓電致動機構內將如何產生位移。圖7是根據(jù)本公開一個實施例的方法的流程圖。具體實施例方式圖1A示出了根據(jù)本公開一個實施例的用于壓電噴墨打印裝置100的噴墨壓電致動機構102，圖1B更詳細地示出了根據(jù)本公開一個實施例的壓電致動機構102。請注意圖1并沒有按比例繪制。在圖1A中，壓電噴墨打印裝置100可以是噴墨打印機、具有噴墨打印能力的一體化(AIO，all-in-one)裝置、工業(yè)印刷機或者其他類型的噴墨打印裝置。本領域普通技術人員能夠意識到，在常規(guī)操作中，壓電噴墨打印裝置IOO將來自墨水供應體的墨水以墨滴形式噴射到介質片上。這種墨水噴射方式允許圖像形成在介質片上。噴墨壓電致動機構102因而被選擇性地致動，以使這些墨滴被噴射到介質片上，從而根據(jù)需要在介質片上形成圖像?，F(xiàn)在參見圖1A和圖1B，其中圖1B詳細地示出了圖1A的噴墨壓電致動機構102的一部分，壓電致動機構102包括襯底110，在襯底110中形成有多個腔室，例如腔室112。因此，可以說襯底110限定了這些腔室。這些腔室是由側壁分隔開的空隙。例如，腔室112具有左側壁152L和右側壁152R，它們可被統(tǒng)稱為側壁152。也可以說襯底110限定了這些側壁。襯底110可以是硅、陶瓷、玻璃、不銹鋼或者易于微加工并且不與墨水發(fā)生反應的其他類型的材料。噴墨壓電致動機構102進一步包括布置在襯底110上的隔膜114。隔膜114可以是柔性的，而且可以是硅、陶瓷、玻璃、不銹鋼或者其他類型的材料。隔膜114也可被稱為膜片。隔膜114特別地被牢固地安裝到襯底110的側壁。壓電致動機構102還包括布置在隔膜114上的公共電極116。公共電極116之所以被認為是公共的，是因為公共電極116是由限定在襯底110內的所有腔室所共用的。噴墨壓電致動機構102進一步包括布置在公共電極116上的壓電陶瓷片118。在圖1A的實施例中，壓電陶瓷片118是未圖案化的連續(xù)片。這對于一些在襯底118中形成圖案相對困難和/或昂貴的工藝是有利的，例如鋸割、刻蝕或激光燒蝕。壓電陶瓷片118可由如下材料制造，例如鈦酸鋇、鈦鋯酸鉛(PZT，leadzirconiumtitanate)或摻雜有少量金屬的PZT，這些金屬包括例如鈮或鑭。壓電陶瓷片118具有如下特性，即當片118受到電場作用時將會伸展、收縮、拉伸和/或壓縮，而這最終導致墨滴被壓電致動機構102噴射出。因此，壓電陶瓷片118是一種壓電材料，即一種根據(jù)被施加電場的大小以受控方式成比例地改變尺寸的材料。對于附接到腔室112上方的隔膜114的壓電陶瓷片118的矩形區(qū)域，其寬度的變化導致隔膜114彎曲。隔膜114進入到腔室112中的位移產生了將墨水推出孔口、噴射墨滴的正壓力。與之相反，遠離腔室112的位移會產生將墨水從墨水供應體吸入腔室112的負壓力，這是本領域普通技術人員均能意識到的。噴墨壓電致動機構102還包括圖案化電極層120。圖案化電極層120作為連續(xù)電極層開始，像公共電極116那樣，該連續(xù)電極層被圖案化為形成用于每個限定在襯底110內的腔室的多個電極。例如，用腔室112作為例子，存在用于腔室112的左側壁電極154L、中心電極154C和右側壁電極154R，其共同被稱為電極154。電極154是分離的，因此它們能彼此電隔離。這樣，在一個實施例中，每個電極154能具有施加到該電極的電壓而不導致該電壓被施加到其他電極154。電極154L被稱為左側壁電極，因為其基本處于腔室112的左側壁152L的中部上。同樣地，電極154R被稱為右側壁電極，因為其基本處于腔室112的右側壁152R的中部上。電極154C被稱為中心電極，因為其基本處于腔室112自身的中部上，特別地處于腔室112的中心上。存在用于限定在襯底110內每個腔室的中心、左側壁和右側壁電極。特別地，每個腔室均具有其自己的中心電極。然而，除了限定在襯底110內的第一(最左邊的)腔室以外，用于每個腔室的左側壁電極也是用于前面(靠左邊)相鄰腔室的右側壁電極。同樣地，除了第一個(最左邊的)腔室以外，每個腔室的左側壁也是前面(靠左邊)相鄰腔室的右側壁。類似地，除了限定在襯底110內的最后一個(最右邊的)腔室以外，用于每個腔室的右側壁電極也是用于后繼(靠右邊)相鄰腔室的左側壁電極。同樣地，除了最后一個(最右邊的)腔室以外，每個腔室的右側壁也是后繼(靠右邊)相鄰腔室的左側壁。請注意為了圖示說明的清楚性，圖1A和1B沒有按比例繪制。在一個實施例中，襯底110可具有760微米的厚度，隔膜114可具有30微米的厚度，公共電極116可具有1微米的厚度，壓電陶瓷片118可具有15微米的厚度，以及電極層120可具有0.2微米的厚度。在該實施例中，每個限定在襯底110內的腔室均可具有410微米的寬度和90微米的深度，這些腔室的側壁中的每一個均可具有50微米的寬度和與腔室相同的深度。此外，在一個實施例中，用于腔室的中心電極中的每一個的寬度均可基本在相應腔室60%的寬度上延伸，使得中心電極不在該腔室的側壁上延伸。例如，中心電極154C的寬度可基本在腔室112的60%的寬度上延伸。在該實施例中，除了第一個(最左邊的)和最后一個(最右邊的)腔室以外，用于其他腔室的側壁電極中的每一個的寬度均可基本在兩個相應腔室6%的寬度上延伸。例如，電極154L的寬度可基本在腔室112的6%的寬度(腔室112的左邊)上延伸，以及基本在腔室112左邊的腔室6%的寬度(該腔室的右邊)上延伸。同樣地，電極154R的寬度可基本在腔室112的6%的寬度(腔室112的右邊)上延伸，以及基本在腔室112右邊的腔室6%的寬度(該腔室的左邊)上延伸。根據(jù)本公開實施例，圖1C示出了圖1A的壓電致動機構102的頂視圖。這樣，包括電極154L、154C和154R在內的電極是可見的。圖1C還可見到壓電陶瓷片118。在一個實施例中，每個電極均跨越約3毫米(mm)的長度，使得電極下面的腔室的長度也是3mm。請注意圖1C沒有按比例繪制。根據(jù)本公開不同實施例，圖2A、2B和2C示出了壓電致動機構102如何響應于各種電壓被施加到電極154上。壓電致動機構102的響應性被具體地描述成與腔室112有關。因此，圖2A、2B和2C示出了腔室112及其側壁152L和154R，還示出了隔膜114、公共電極116、壓電陶瓷片118和用于腔室112的電極154。在圖2A中，相對于公共地電極116的正電壓202被施加到中心電極154C，左電極154L和右電極154R被留成是浮動的。也就是說，電極154L和154R沒有被施加電壓，并且電極154L和154R也沒有接地。響應于施加到電極154C的電壓202，壓電陶瓷片118在電極154C下方的區(qū)域內主動收縮，如同圖2A中向內指向的箭頭對所指示的那樣。此外，因為壓電陶瓷片118附接到隔膜114，而隔膜114附接到側壁152L和152R，壓電陶瓷片118在電極154L和154R中的每一個與腔室112之間的區(qū)域內收縮。通過牢固地附接到壓電陶瓷片118，隔膜114的頂部不得不壓縮。隔膜114因此朝向腔室112彎曲并且沿其腔室側部分承受拉伸。凈效應是壓電陶瓷片118并進而隔膜114被偏移到腔室112內，降低了腔室112的容量。在圖2B中，負電壓204被施加到電極154L和154R中的每一個，中心電極154C被留成是浮動的，使得電極154C沒有被施加電壓并且也沒有接地。響應于施加到電極154L和154R的電壓204，壓電陶瓷片118在電極154L和154R中的每一個的下方區(qū)域內主動伸展，如同圖2B中向外指向的箭頭對所指示的那樣。此外，因為壓電陶瓷片118附接到隔膜114，而隔膜114附接到側壁152L和152R，壓電陶瓷片118在電極154C下方的區(qū)域內收縮。凈效應又是壓電陶瓷片118并進而隔膜114被偏移到腔室112內，降低了腔室112的容量。當圖2B中所施加的電壓104與圖2A中所施加的電壓202大小相等，圖2B中的這種位移小于圖2A中的位移。在圖2C中，正電壓202被施加到電極154C并且負電壓204被施加到電極154L和154R中的每一個。響應于施加到電極154C的電壓202，壓電陶瓷片118在電極154C下方的區(qū)域內主動收縮，如同圖2C中向內指向的箭頭對所指示的那樣。同樣地，響應于施加到6電極154L和154R中的每一個的電壓204，壓電陶瓷片118在電極154L和154R中的每一個的下方區(qū)域內主動伸展，如同圖2C中向外指向的箭頭對所指示的那樣。凈效應又是壓電陶瓷片118并進而隔膜114被偏移到腔室112內，降低了腔室112的容量。當圖2C和圖2B中所施加的電壓104與圖2C和圖2A中所施加的電壓202大小相等，圖2C中的這種位移大于圖2A中的位移和圖2B中的位移。根據(jù)本公開不同實施例，圖3A、3B和3C示意性地示出了當壓電致動機構102分別根據(jù)圖2A、2B和2C具有施加到電極154的電壓時所產生的電場。例如，圖3A示出了在圖2A的區(qū)域210內產生的電場。同樣地，圖3B示出了在圖2B的區(qū)域212內產生的電場，圖3C示出了在圖2C的區(qū)域214內產生的電場。電場的大小和方向典型地由電場線來描述，電場線在圖3A、3B和3C中由虛線箭頭表示。然后，在圖3A中，當電壓202被施加到中心電極154C并且將左電極154L和右電極154R留成是浮動的，電場在區(qū)域210內從中心電極154C延伸穿過壓電片118到達公共電極116。這由片118內的從電極154C到電極116的虛線箭頭來表示。公共電極116充當?shù)?。已經關于圖2A進行描述了的壓電片118內的主動收縮還導致隔膜114在更靠近壓電片118的區(qū)域內壓縮，如同隔膜114中面向內的箭頭對所指示的那樣。相比之下，隔膜114的更遠離壓電片118的區(qū)域如同隔膜114中面向外的箭頭對所指示的那樣拉伸。因此，存在一個能被限定在隔膜114內的假想中性面302，在該假想中性面302處隔膜114既不壓縮也不拉伸。在圖3B中，當電壓204被施加到左電極154L和右電極154R并且將中心電極154C留成是浮動的，電場在區(qū)域212內從公共電極116延伸穿過壓電片118到達左電極154L。這由片118內的從電極116到電極154L的虛線箭頭來表示。公共電極116充當?shù)亍Ｒ呀涥P于圖2B進行描述了的壓電片118內的主動伸展還導致隔膜114在更靠近壓電片118的區(qū)域內壓縮，如同隔膜114中面向內的箭頭對所指示的那樣。相比之下，隔膜114的更遠離壓電片118的區(qū)域如同隔膜114中面向外的箭頭對所指示的那樣拉伸。和前面一樣，存在一個能被限定在隔膜114內的假想中性面302，在該假想中性面302處隔膜114既不壓縮也不拉伸。在圖3C中，當電壓202被施加到中心電極154C并且電壓204被施加到左電極154L和右電極154R，電場在區(qū)域212內沿三條路線延伸穿過壓電片118，如片118內的虛線箭頭所示。第一，電場如同圖3A中那樣在壓電片118內從電極154C延伸到公共電極116。第二，電場如同圖3B中那樣在壓電片118內從公共電極116延伸到電極154L。第三，電場還如同圖3C中那樣在壓電片118內從電極154C延伸到電極154L。公共電極116充當?shù)?。已經關于圖2C進行描述了的壓電片118內的主動伸展和收縮還導致隔膜114在電極154C下方更靠近壓電片118的區(qū)域內壓縮。類似地，隔膜114被導致在電極154L下方更靠近壓電片118的區(qū)域內拉伸，并且在電極154L下方的區(qū)域內更遠離壓電片118的區(qū)域內壓縮。和前面一樣，存在一個能被限定在隔膜114內的假想中性面302，在該假想中性面302處隔膜114既不壓縮也不拉伸。根據(jù)本公開不同實施例，圖4A、4B、4C、4D和4E示出了由施加到各種電極154的電壓引起的、關于壓電致動機構102的腔室112的位移。圖4A-4E是有限元分析(FEA)示意圖的表現(xiàn)形式。為了圖示說明的方便和清楚，隔膜114、公共電極116、壓電陶瓷片118和電7極154在圖4A、4B、4C、4D和4E中被共同表示為壓電致動機構102的部分402。這樣，在圖4A、4B、4C、4D和4E中僅表示了襯底114、由襯底110限定的腔室112以及也由襯底110限定的側壁152L和152R。圖4A、4B、4C、4D和4E的實施例中的腔室112具有3000微米的長度(未示出)，該長度不包括側壁152L和152R的寬度，側壁152L和152R中每一個可具有50微米的寬度。在圖4A中，左側壁電極154L和右側壁電極154R具有施加到其上的_10伏電壓，而中心電極154C被允許為浮動，以選擇性地對腔室112進行致動。結果是壓電致動機構102在腔室112上方的部分402在其最高點(maximumpoint)被偏移-32.6納米(nm)，使得腔室112產生25.2皮升(pl)的容量下降。(請注意如本領域普通技術人員所能意識到的，位移和容量變化與腔室112的長度有關。)然而，在腔室112左邊的腔室(被稱為腔室404)上方的部分402以及在腔室112右邊的腔室(被稱為腔室406)上方的部分402也在其最高點被偏移了-17.3納米。腔室404和406自身的容量減小了12.6皮升。在腔室112被選擇性地致動時腔室404和406發(fā)生的部分致動是不利的，這種部分致動在本文中被稱作"串擾"。在圖4B中，左側壁電極154L和右側壁電極154R又一次具有施加到其上的-10伏電壓，但是中心電極154C接地，以選擇性地對腔室112進行致動。結果是壓電致動機構102在腔室112上方的部分402在其最高點被偏移-37.6內米，使得腔室112產生28.8皮升的容量下降。然而，在相鄰腔室404上方的部分402以及在相鄰腔室406上方的部分402也依然在其最高點被偏移了-20.0納米，腔室404和406中的每一個容量減小了13.8皮升。因此，圖4B中將中心電極154C接地，而不是在圖4A中使其浮動，并沒有提供串擾的降低。在圖4C中，中心電極154C具有施加到其上的+10伏電壓，而左側壁和右側壁電極154L和154R被允許為浮動。結果是腔室112上方的部分402在其最高點被偏移-53.5納米，使得腔室112獲得42.0皮升的容量下降。然而，在相鄰腔室404上方的部分402以及在相鄰腔室406上方的部分402也依然在其最高點被偏移了9.l納米，但是在相反方向，使得腔室404和406中的每一個容量增大了7.2皮升。因此，如圖4C中那樣僅向中心電極154C施加電壓依然導致了串擾。在圖4D中，中心電極154D具有施加到其上的+10伏電壓，而左側壁和右側壁電極154L和154R均接地。結果是腔室112上方的部分402在其最高點被偏移-58.6納米，使得腔室112獲得52.8皮升的容量下降。在相鄰腔室404上方的部分402以及在相鄰腔室406上方的部分402也依然在其最高點被偏移了7.2納米，又一次在相反方向。腔室404和406中的每一個容量增大了5.4皮升。因此，如圖4D中那樣將側壁電極154L和154R接地，而不是如圖4C中那樣使其浮動，降低了串擾。在圖4E中，中心電極154D又一次具有施加到其上的+10伏電壓，而左側壁和右側壁電極154L和154R的每一個均具有施加到其上的-10伏電壓。結果是腔室112上方的部分402在其最高點被偏移-97.3納米，使得腔室112的容量下降了75.6皮升。在相鄰腔室404上方的部分402以及在相鄰腔室406上方的部分402也于相同方向在其最高點被偏移了-9.5納米。腔室404和406中的每一個容量減小了6.0皮升。因此，相比圖4A、4B、4C和4D，圖4E中向電極154的每一個施加電壓提供了串擾的最大降低量，其中串擾可表示為相鄰腔室的位移或容量變化相對于選定腔室的位移或容量變化的百分比。此外，施加到電極154的電壓能夠變化以使串擾最小化到基本為零。例如，下面的表格示出了當向中心電極154C施加+10伏電壓時，施加到左側壁和右側壁電極154L和154R的(負)電壓能夠變化以使串擾最小化。<table>tableseeoriginaldocumentpage9</column></row><table>因此，當中心電極154C具有施加到其上的IO伏電壓并且左側壁和右側壁電極154L和154R中的每一個均具有施加到其上的-5伏電壓時，腔室112的容量下降60皮升，但是腔室404和406的容量完全沒有變化，使得串擾能夠說成是被消除了。關于圖4E的所給出的例子假設能夠獨立地選擇側壁電極152L和152R以及圖1中的所有側壁電極，使得能夠根據(jù)需要將不同電壓施加在不同側壁電極上。在某些情況下，該假設可能是現(xiàn)實的，例如本領域普通技術人員能夠意識到，因為每個側壁電極可能因此而需要分離引線，但是在不增加模具尺寸的情況下，這可能是無法實現(xiàn)的。因此，在一個實施例中，所有的側壁電極可彼此電耦接，使得施加在一個側壁電極上的電壓也施加到所有的側壁電極。也就是說，不管是否經由向指定腔室的相應中心電極施加電壓而選擇或致動該指定腔室，用于所有腔室的側壁電極均具有施加于其上的(相同的)電壓下面的表格示出了當向中心電極154C施加+10伏電壓時，施加到圖1的所有側壁電極(包括左側壁和右側壁電極154L和154R)的(負)電壓能夠變化以再次使串擾最小化。<table>tableseeoriginaldocumentpage10</column></row><table>因此，在這樣的實施例中，當向中心電極施加+10伏電壓以致動或選擇該中心電極相應的腔室時，向壓電致動機構102的所有側壁電極施加_2伏電壓使得串擾最小化。另外的操作方法可包括以某個電壓致動非噴射腔室的中心電極來平衡多個被致動的側壁電極的擴伸影響。到此為止所呈現(xiàn)的本公開的實施例與連續(xù)且未圖案化的壓電陶瓷片118有關。例如，噴墨打印裝置100的壓電致動機構102的壓電陶瓷片118是連續(xù)且未圖案化的。然而，在其他實施例中，壓電陶瓷片118可以是非連續(xù)并且被圖案化的。圖5A示出了根據(jù)本公開的這樣一個實施例的用于壓電噴墨打印裝置的壓電致動機構102，而圖5B更詳細地示出了根據(jù)本公開的這樣一個實施例的圖5A的壓電致動機構102。圖5A的打印裝置100以及圖5A和5B的壓電致動機構102除了壓電陶瓷片118是非連續(xù)且被圖案化的以外，與關于圖1A和1B所描述的是相同的。請注意圖5A沒有按比例繪制。更特別地，圖5A和5B的實施例中的壓電陶瓷片118形成了圖案，成為與電極層120內分離電極相應的部分。例如，對于分離電極154L、154C和154R，存在相應的壓電陶瓷部分502L、502C和502R，這些壓電陶瓷部分被共同成為壓電陶瓷部分502。壓電陶瓷部分502的寬度可至少基本與相應分離電極154的寬度相同。圖5A和5B中表示的其他組件是那些關于圖IA和IB已經描述過的，不再關于圖5A和5B提供這些組件的描述以避免冗余重復。在實踐中，圖案化的壓電陶瓷片具有略為不同于連續(xù)片上最優(yōu)的圖案化電極的寬度可能在寬度上是最優(yōu)的。根據(jù)本公開不同實施例，圖6A和6B示出了由于向各種電極154施加電壓而引起的、與圖5A和5B的壓電致動機構102的腔室112有關的位移。為了圖示說明的方便和清楚，隔膜114、公共電極116、非連續(xù)且圖案化壓電陶瓷片118和電極154在圖6A和6B中被共同表示為壓電致動機構102的部分602。這樣，在圖6A和6B中僅表示了襯底154、由襯底154限定的腔室112以及也由襯底110限定的側壁152L和152R。在圖6A中，中心電極154C具有施加到其上的+10伏電壓，而左側壁和右側壁電極154L和154R被允許為浮動，以選擇性地對腔室112進行致動。結果是壓電致動機構102在腔室112上方的部分402在其最高點被偏移-82.9納米，使得腔室112產生-57.6皮升的容量下降。在腔室112左邊的腔室(被稱為腔室404)上方的部分602以及在腔室112右邊的腔室(被稱為腔室406)上方的部分602也在相反方向在其最高點被偏移了2.67納米。腔室404和406的容量增大了0.6皮升。因此，圖6A的實施例中的串擾是相對最小化的。在圖6B中，左側壁電極154L和右側壁電極154R具有施加到其上的-IO伏電壓，并且中心電極154C具有施加到其上的+10伏電壓，以選擇性地對腔室112進行致動。結果是壓電致動機構102在腔室112上方的部分602在其最高點被偏移-95.17納米，使得腔室112的容量下降了69.6皮升。在相鄰腔室404上方的部分602以及在相鄰腔室406上方的部分602也被偏移，但僅在其最高點被偏移了-8.12納米，腔室404和406中的每一個容量僅減小了5.4皮升。因此，與圖6A相比，圖6B中的串擾降低了，串擾是期望腔室動作的一個百分比。最后，圖7示出了方法700，根據(jù)本發(fā)明的實施例，噴墨壓電致動機構102能通過該方法700被實施。方法700的執(zhí)行與選定的、或期望的腔室有關，其中為了示例目的特別地描述了腔室112。也就是說，所期望的是對腔室112進行致動以導致待噴射的墨滴。向用于腔室112的一個或多個電極154的每一個施加電壓(步驟702)。例如，可向側壁電極154L和154R施加電壓，而中心電極154C被允許為浮動的。作為另一個例子，可向側壁電極154L和154R施加電壓而中心電極154C接地。作為第三個例子，可向中心電極154C施加電壓，而側壁電極154L和154R接地或被允許為浮動。作為該第三個例子的一個替代例子，所有的側壁電極，而不僅僅是側壁電極154L和154R，可接地或被允許為浮動。作為進一步的例子，可向中心電極154C施加電壓，并且向側壁電極154L和154R施加(不同的)電壓。作為這個例子的類似替代例子，可向所有側壁電極施加電壓，而不僅僅是側壁電極154L和154R。向電極154施加電壓的結果是腔室112被致動，使得墨滴從噴墨打印裝置100壓電性地噴射(步驟704)。請注意本公開各種實施例中所描述的、并且可根據(jù)方法700進行操作的壓電致動機構102能夠是有利的。例如，通過選擇性地向電極154施加電壓并且對施加到電極154的電壓進行選擇可使串擾最小化。此外，相比必須使壓電陶瓷片118圖案化成非連續(xù)部分，在壓電陶瓷片118未被圖案化并且保持連續(xù)的實施例中，壓電致動機構102的制造可完成得更快速和/或更便宜。請注意，在那些本文已經描述的設計之外和/或代替那些本文已經描述的設計，也可實施其他設計來對指定腔室進行致動。例如，可向用于待致動腔室的分離中心電極施加第一電壓，并且可向用于所有腔室的分離側壁電極施加第二電壓。然后可向用于不同于待致動腔室的每個腔室的分離中心電極施加第三電壓。作為另一個例子，側壁電極可被分段或圖案化成兩個部分，使得只有緊鄰被致動腔室的部分具有施加到其上的電壓。請進一步注意，為了電訪問或為了可制造性，電極從上到下的相對位置可顛倒過來。權利要求一種壓電致動機構(102)，包括襯底(110)，其具有多個限定在其內的腔室，每個腔室具有第一側壁和第二側壁；柔性隔膜(114)，其布置在所述襯底的所述腔室之上并且安裝到每個腔室的所述第一和第二側壁；公共電極(116)，其布置在所述柔性隔膜之上，所述公共電極對所有腔室是共用的；壓電陶瓷片(118)，其布置在所述公共電極之上；以及用于每個腔室的布置在所述腔室中心之上的分離中心電極，用于每個腔室的布置在所述腔室的所述第一側壁之上的第一分離側壁電極和布置在所述腔室(120)的所述第二側壁之上的第二分離側壁電極。2.如權利要求1所述的壓電致動機構，其特征在于，對于除第一個腔室和最后一個腔室之外的每個腔室該腔室的第一側壁是前面相鄰腔室的第二側壁，該腔室的第二側壁是后繼相鄰腔室的第一側壁；并且用于該腔室的第一分離側壁電極是用于前面相鄰腔室的第二分離側壁電極，用于該腔室的第二分離側壁電極是用于后繼相鄰腔室的第一分離側壁電極。3.如權利要求1所述的壓電致動機構，其特征在于，所述壓電陶瓷片是未圖案化的連續(xù)壓電陶瓷片。4.如權利要求3所述的壓電致動機構，其特征在于，每個腔室經由下列各項之一來致動向用于該腔室的所述第一分離側壁電極并且向用于該腔室的所述第二分離側壁電極施加電壓，而用于該腔室的所述分離中心電極被允許為浮動；向用于該腔室的所述第一分離側壁電極并且向用于該腔室的所述第二分離側壁電極施加電壓，而用于該腔室的所述分離中心電極接地；向用于該腔室的所述分離中心電極施加電壓，而用于該腔室的所述第一分離側壁電極和所述第二分離側壁電極被允許為浮動；禾口向用于該腔室的所述分離中心電極施加電壓，而用于該腔室的所述第一分離側壁電極和所述第二分離側壁電極接地。5.如權利要求3所述的壓電致動機構，其特征在于，每個腔室經由下列各項中的一個或多個來致動向用于該腔室的所述分離中心電極施加第一電壓，并且向用于該腔室的所述第一分離側壁電極和所述第二分離側壁電極均施加第二電壓；向用于該腔室的所述分離中心電極施加第一電壓，并且向用于所有腔室的所述第一分離側壁電極和所述第二分離側壁電極施加第二電壓；禾口向用于該腔室的所述分離中心電極施加第一電壓，向用于所有腔室的所述第一分離側壁電極和所述第二分離側壁電極施加第二電壓，并且向用于每個其他腔室的所述分離中心電極施加第三電壓。6.如權利要求1所述的壓電致動機構，其特征在于，所述壓電陶瓷片被圖案化成多個部分，每個部分對應于用于一個所述腔室的一個所述電極，并且寬度至少基本上相等該部分對應的那個電極的寬度。7.如權利要求6所述的壓電致動機構，其特征在于，每個腔室經由向用于該腔室的所述分離中心電極施加第一電壓并且向用于該腔室的所述第一分離側壁電極和所述第二分離側壁電極均施加第二電壓來致動。8.如權利要求1所述的壓電致動機構，其特征在于，用于每個腔室的所述分離中心電極在該腔室之上延伸，而不在用于該腔室的所述第一側壁或所述第二側壁之上延伸。9.如權利要求8所述的壓電致動機構，其特征在于，用于每個腔室的所述第一分離側壁電極在該腔室的第一側壁之上延伸并且在所述腔室的第一部分之上延伸；以及用于每個腔室的所述第二分離側壁電極在該腔室的第二側壁上延伸并且在該腔室的第二部分之上延伸10.如權利要求1所述的壓電致動機構，其特征在于，所述壓電致動機構是噴墨壓電致動機構，使得每個腔室的致動導致墨滴被噴射。全文摘要本發(fā)明提供一種壓電致動機構以通過向中心電極和側壁電極選擇性地施加電壓來使腔室間的串擾減至最小。文檔編號B41J2/045GK101765505SQ200880101121公開日2010年6月30日申請日期2008年7月30日優(yōu)先權日2007年7月31日發(fā)明者A·吉拉尼,D·皮德威爾貝基,T·S·克魯茲-烏里貝申請人:惠普開發(fā)有限公司