專利名稱：耐溶劑的可成像元件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及平版印刷。具體地，本發(fā)明涉及用作平版印版前體的可成像元件，該前體具有良好的耐溶劑性。
背景技術(shù)：
在常規(guī)或“濕”平版印刷中，稱為圖像區(qū)域的吸墨區(qū)域在親水性表面上產(chǎn)生。當(dāng)表面由水潤濕和施加油墨時(shí)，親水性區(qū)域保留水和排斥油墨，而吸墨區(qū)域接收油墨和排斥水。將油墨轉(zhuǎn)移到要在其上復(fù)制圖像的材料的表面。典型地，首先將油墨轉(zhuǎn)移到中間氈，它反過來將油墨轉(zhuǎn)移到要在其上復(fù)制圖像的材料的表面。
用作平版印版前體的可成像元件典型地包括在基材的親水性表面上施加的可成像層?？沙上駥影ㄒ环N或多種輻射敏感組分，它可分散在合適的基料中?；蛘?，輻射敏感組分也可以是基料材料。在成像之后，可成像層的成像區(qū)域或未成像區(qū)域由合適的顯影劑去除，露出下面的基材的親水性表面。如果去除成像區(qū)域，則前體是正片型的。相反，如果去除未成像區(qū)域，則前體是負(fù)片型的。在每種情況下，保留的可成像層的區(qū)域(即圖像區(qū)域)是吸墨的，而由顯影工藝露出的親水性表面的區(qū)域接收水和水溶液，典型地潤版液，并排斥油墨。
可成像元件采用紫外和/或可見輻射的常規(guī)成像通過掩模進(jìn)行，該掩模具有清楚和不透明的區(qū)域。成像在掩模的清楚區(qū)域下的區(qū)域中進(jìn)行但不在不透明區(qū)域下的區(qū)域中進(jìn)行。然而，不需要通過掩模成像的直接數(shù)字成像在印刷工業(yè)中日益重要起來。已開發(fā)出用于制備平版印版的可成像元件以用于紅外激光器。可熱成像的單層元件公開于例如West，U.S.Pat.No.6,090,532；Parsons，U.S.Pat.No.6,280,899；McCullough，U.S.Pat.No.6,596,469；和WO99/21715，所有文獻(xiàn)的公開內(nèi)容都在此引入作為參考?？蔁岢上竦亩鄬釉_于例如Shimazu，U.S.Pat.No.6,294,311，U.S.Pat.No.6,352,812，和U.S.Pat.No.6,593,055；Patel，U.S.Pat.No.6,352,811；Savariar-Hauck，U.S.Pat.No.6,358,669，和U.S.Pat.No.6,528,228；和Kitson，2004/0067432 A1；所有文獻(xiàn)的公開內(nèi)容都在此引入作為參考。
在使用中，平版印版與潤版液接觸。此外，印版經(jīng)常經(jīng)歷侵蝕性氈洗滌，如“UV洗滌”以去除可紫外固化的油墨。然而，許多這些體系具有對潤版液和/或侵蝕性氈洗滌有限的抵抗性。因此，需要用作平版印版前體的可熱成像元件，它們具有耐這些溶劑的性能。
發(fā)明概述在一方面，本發(fā)明是具有優(yōu)異耐化學(xué)品性能的可成像元件。該可成像元件包括基材，在基材上的底層，和在底層上的頂層；其中該元件包括光熱轉(zhuǎn)化材料；頂層是吸墨的；在熱成像之前，頂層不可由堿性顯影劑去除；在熱成像以在頂層中形成成像區(qū)域之后，成像區(qū)域可由堿性顯影劑去除；底層可由堿性顯影劑去除，和頂層包括選自下述共聚物的共聚物所述共聚物包括聚合形式的組(a)的單體和組(b)的單體，其中組(a)的單體選自 和其混合物；組(b)的單體選自
丙烯腈、甲基丙烯腈、苯乙烯、羥基苯乙烯、CH(R11)CH(CO2R12)、CH(R11)CH(CON(R12)2)、CH2CH(OR12)和其混合物；R1、R2、R4和R5各自獨(dú)立地是氫、苯基、取代苯基、鹵素、1-6個(gè)碳原子的烷基、1-6個(gè)碳原子的烷氧基、1-7個(gè)碳原子的酰基、1-7個(gè)碳原子的酰氧基、1-7個(gè)碳原子的烷氧羰基或其混合物；R3、R6和R7各自是-CH2-；每個(gè)R8和R9各自獨(dú)立地是氫或甲基或其混合物；每個(gè)R10是氫、羥基、1-6個(gè)碳原子的烷基、苯基、取代苯基、芐基或其混合物；和每個(gè)R11是氫、甲基或其混合物；每個(gè)R12是氫、1-6個(gè)碳原子的烷基、苯基、取代苯基或其混合物；和共聚物包括至少約15mol％組(a)的單體，和至少約10mol％組(b)的單體。
在另一方面，本發(fā)明是通過熱成像和顯影可成像元件形成圖像的方法，該元件包括頂層，該頂層包括在基材上的共聚物。在另一方面，本發(fā)明是通過成像和顯影可成像元件形成的圖像。
發(fā)明詳述除非上下文另有說明，在說明書和權(quán)利要求中，術(shù)語聚合物材料、共聚物、組(a)的單體、組(b)的單體、加入的聚合物、光熱轉(zhuǎn)化材料、表面活性劑和相似的術(shù)語也包括這種材料的混合物。除非另外規(guī)定，所有的百分比為重量百分比且所有的溫度為攝氏度(℃)。熱成像表示采用熱體，如熱頭，或采用紅外輻射成像。
多層可成像元件在一方面，本發(fā)明是多層可成像元件，該元件包括基材、在基材上的底層和在底層上的頂層。該元件也包括光熱轉(zhuǎn)化材料。頂層是吸墨的，并優(yōu)選基本沒有光熱轉(zhuǎn)化材料。在熱成像之前，頂層不可由堿性顯影劑去除，但在熱成像之后頂層的成像區(qū)域可由顯影劑去除。底層可以由顯影劑去除。
頂層頂層包括共聚物或共聚物的混合物，該共聚物包括聚合形式的組(a)的單體和組(b)的單體。盡管少量的其它單體可以在共聚物中存在，但典型地不需要它們以便共聚物基本由組(a)的單體和組(b)的單體組成。
共聚物典型地基本由或由聚合形式的組(a)的單體和組(b)的單體組成。共聚物包括至少約15mol％組(a)的單體和至少約10mol％組(b)的單體。共聚物典型地包括約15mol％-約90mol％組(a)的單體，和約10mol％-約85mol％，優(yōu)選約15mol％-約50mol％組(b)的單體。當(dāng)缺電子烯烴，如馬來酸酐或馬來酰亞胺用作組(b)的單體時(shí)，典型地產(chǎn)生1∶1交替共聚物(即50mol％組(a)的單體和50mol％組(b)的單體)。
頂層典型地包括70wt％，更典型地至少90wt％，和甚至更典型地至少95wt％共聚物。當(dāng)頂層不包括光熱轉(zhuǎn)化材料時(shí)，頂層典型地包括至少98-99wt％共聚物。
組(a)的單體是選自如下的降冰片烯或降冰片烯衍生物 和其混合物。
組(b)的單體選自 丙烯腈、甲基丙烯腈、苯乙烯、羥基苯乙烯、CH(R11)CH(CO2R12)、CH(R11)CH(CON(R12)2)、CH2CH(OR12)和其混合物。
R1、R2、R4和R5各自獨(dú)立地是氫、苯基、取代苯基、鹵素、1-6個(gè)碳原子的烷基、1-6個(gè)碳原子的烷氧基、1-7個(gè)碳原子的?；?、1-7個(gè)碳原子的酰氧基、1-7個(gè)碳原子的烷氧羰基或其混合物。取代苯基包括例如2-甲基苯基、3-甲基苯基、4-甲基苯基、4-叔丁基苯基、4-甲氧基苯基、3-乙氧基苯基、4-氰基苯基、4-氯苯基、4-氟苯基、4-乙酰氧基苯基、4-羧基苯基、4-羧基甲基苯基、4-羧基乙基苯基、3，5-二氯苯基和2，4，6-三甲基苯基。鹵素包括氟(F)、氯(Cl)和溴(Br)。1-6個(gè)碳原子的烷基包括例如甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、仲丁基、異丁基、叔丁基、正戊基、異戊基、新戊基、正己基、異己基、1，1-二甲基-丁基、2，2-二甲基-丁基、環(huán)丙基、環(huán)丁基、環(huán)戊基、甲基環(huán)戊基和環(huán)己基。1-6個(gè)碳原子的烷氧基是-OR基團(tuán)，其中R是1-6個(gè)碳原子的烷基，如以上所列舉。例子是甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基和叔丁氧基。1-7個(gè)碳原子的?；?C(O)R基團(tuán)，其中R是1-6個(gè)碳原子的烷基，如以上所列舉。例子是CH3CO-(乙?；?、CH3CH2CO-、CH3(CH2)2CO-、CH3(CH2)3CO-、(CH3)3CCO-和(CH3)3CCH2CO-。1-7個(gè)碳原子的酰氧基是-OC(O)R基團(tuán)，其中R是1-6個(gè)碳原子的烷基，如以上所列舉。例子是H3CC(O)O-(乙酰氧基)、CH3CH2C(O)O-、CH3(CH2)2C(O)O-、CH3(CH2)3C(O)O-、(CH3)3CC(O)O-和(CH3)3CCH2C(O)O-。1-7個(gè)碳原子的烷氧羰基是-CO2R基團(tuán)，其中R是1-6個(gè)碳原子的烷基，如以上所列舉。例子是-CO2CH3(甲酯基)、-CO2CH2CH3、-CO2(CH2)2CH3、-CO2(CH2)3CH3、-CO2C(CH3)3(羰基-叔丁氧基)、-CO2CH2C(CH3)3、-CO2(CH2)4CH3和-CO2(CH2)5CH3。
R3、R6和R7各自是-CH2-。
每個(gè)R8和R9各自獨(dú)立地是氫或甲基或其混合物，典型地是氫。
R10是氫、羥基、1-6個(gè)碳原子的烷基、苯基、取代苯基、芐基或其混合物。1-6個(gè)碳原子的烷基和取代苯基的例子在以上給出。R10典型地是氫、羥基、甲基、苯基、環(huán)己基、芐基或其混合物。
每個(gè)R11獨(dú)立地是氫、甲基或其混合物。
每個(gè)R12獨(dú)立地是氫、1-6個(gè)碳原子的烷基、苯基或其混合物，典型地是氫、甲基或其混合物。
共聚物的制備降冰片烯和一些取代降冰片烯，即組(a)的單體是市購的。如對本領(lǐng)域技術(shù)人員顯然的那樣，組(a)的某些單體可以由Diels-Alder反應(yīng)制備。許多取代降冰片烯可以由環(huán)戊二烯與適當(dāng)烯烴的Diels-Alder反應(yīng)制備。環(huán)戊二烯典型地通過熱裂化環(huán)戊二烯二聚體而制備。5-降冰片烯-2-甲酸叔丁酯例如可以由環(huán)戊二烯與丙烯酸叔丁酯的Diels-Alder反應(yīng)制備。對應(yīng)的2-羥基丙基酯可以由環(huán)戊二烯與丙烯酸2-羥丙酯的Diels-Alder反應(yīng)制備。取代降冰片烯的制備和它們轉(zhuǎn)化成共聚物公開于例如Jung，U.S.Pat.No.6,593,441；Jung，U.S.Pat.No.6,632,903；Willson，U.S.Pat.No.6,103,445；A.J.Pasquale等人，Macromolecules，34，8064-8071(2001)，和J.Byers等人，J.Photopolvm.Sci Technol.，11(3)，465-474(1998)，該文獻(xiàn)的公開內(nèi)容在此引入作為參考。
共聚物可以由自由基聚合制備。在典型的制備中，將組(a)單體和組(b)單體共聚。自由基聚合是本領(lǐng)域技術(shù)人員公知的并描述于例如Macromolecules，Vol.2，第2版，H.G.Elias，Plenum，紐約，1984的第20和21章中。有用的自由基引發(fā)劑是過氧化物如過氧化苯甲酰，氫過氧化物如氫過氧化枯基和偶氮化合物如2，2′-偶氮二(異丁腈)(AIBN)。鏈轉(zhuǎn)移劑如十二烷基硫醇可用于控制化合物的分子量。當(dāng)缺電子烯烴，如馬來酸酐或馬來酰亞胺用作組(b)單體時(shí)，典型地產(chǎn)生1∶1交替共聚物。用于自由基聚合的合適溶劑包括對反應(yīng)物是惰性而不另外不利地影響反應(yīng)的液體，例如水；酯如乙酸乙酯和乙酸丁酯；酮如甲乙酮、甲基異丁基酮、甲基丙基酮和丙酮；醇如甲醇、乙醇、異丙醇、正丙醇、2-甲氧基乙醇(Methyl CELLOSOLVE)、正丁醇；醚如二烷和四氫呋喃；和其混合物。
組(a)的單體包括例如降冰片烯(雙環(huán)[2.2.1]庚-2-烯)和它的衍生物，如5-降冰片烯-2-甲酸甲酯、5-降冰片烯-2-甲酸叔丁酯和5-降冰片烯-2-甲酸的其它酯；順式-5-降冰片烯-內(nèi)-2，3-二甲酸酐和相應(yīng)的酰亞胺，如N-甲基、N-羥基、N-苯基、N-環(huán)己基和N-芐基酰亞胺；四環(huán)十二碳烯(四環(huán)[4.4.0.12，5.17，10]十二碳-3-烯)和它的衍生物，如(四環(huán)[4.4.0.12，5.17，10]十二碳-3-烯-8-甲酸酯，例如(四環(huán)[4.4.0.12，5.17，10]十二碳-3-烯)-8-甲酸甲酯、(四環(huán)[4.4.0.12，5.17，10]十二碳-3-烯)-8-甲酸乙酯和(四環(huán)[4.4.0.12，5.17，10]十二碳-3-烯)-8-甲酸叔丁酯；(四環(huán)[4.4.0.12，5.17，10]十二碳-3-烯-內(nèi)-8，9-二甲酸及其相應(yīng)的酰亞胺，如N-甲基、N-羥基、N-苯基、N-環(huán)己基和N-芐基酰亞胺；和其混合物。
組(b)的單體包括例如丙烯腈、甲基丙烯腈、羥基苯乙烯、丙烯酸酯如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸丁酯和丙烯酸苯酯；甲基丙烯酸酯如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸丁酯和甲基丙烯酸苯酯；甲基丙烯酰胺和丙烯酰胺，如甲基丙烯酰胺、丙烯酰胺、N，N-二甲基丙烯酰胺、N，N-二甲基甲基丙烯酰胺及對氨基苯甲酸的丙烯酰胺和甲基丙烯酰胺；馬來酸酐；馬來酰亞胺，如N-苯基馬來酰亞胺、N-環(huán)己基馬來酰亞胺、N-芐基馬來酰亞胺、N-甲基馬來酰亞胺、N-羥基馬來酰亞胺；乙烯基醚，如甲基乙烯基醚和乙基乙烯基醚；和其混合物。
一種或多種其它加入的聚合物也可以在頂層中存在。當(dāng)存在時(shí)，加入的聚合物占頂層的約0.1wt％-約50wt％，優(yōu)選約1wt％-約20wt％。加入的聚合物典型地是酚醛樹脂，如酚醛清漆樹脂甲階酚醛樹脂或聚乙烯基苯酚。當(dāng)存在時(shí)優(yōu)選的加入的聚合物是酚醛清漆樹脂。
酚醛清漆樹脂是市購的并且是本領(lǐng)域技術(shù)人員公知的。它們典型地在酸催化劑存在下由酚，如苯酚、間甲酚、鄰甲酚、對甲酚等與醛，如甲醛、低聚甲醛、乙醛等或酮，如丙酮的縮合反應(yīng)制備。重均分子量典型地為約1,000-15,000。典型的酚醛清漆樹脂包括例如苯酚-甲醛樹脂、甲酚-甲醛樹脂、苯酚-甲酚-甲醛樹脂、對叔丁基苯酚-甲醛樹脂和沒食子酚-丙酮樹脂。重均分子量為至少10,000的溶劑溶解性酚醛清漆樹脂；包括至少10mol％對甲酚和重均分子量為至少8,000的溶劑溶解性間甲酚/對甲酚酚醛清漆樹脂；和其混合物可以是特別有用的。
頂層也可包括其它成分如染料和表面活性劑，它們是可成像元件的常規(guī)成分。表面活性劑，如氟化表面活性劑或聚乙氧基化二甲基聚硅氧烷共聚物，或表面活性劑的混合物可以存在以有助于在涂料溶劑中分散其它成分和/或用作涂覆助劑。染料可以存在以協(xié)助成像和/或顯影元件的目視觀察。印出染料在加工期間區(qū)分成像區(qū)域與未成像區(qū)域。對比染料區(qū)分顯影的可成像元件即獲得的平版印版中的未成像區(qū)域與成像區(qū)域。
底層當(dāng)存在時(shí)，底層在頂層和基材之間。它在基材之上并典型地在基材上。底層包括可由顯影劑去除，優(yōu)選溶于顯影劑的聚合物材料。此外，聚合物材料優(yōu)選不溶于用于涂覆頂層的溶劑使得頂層可以涂覆在底層上而不溶解底層。其它成分、另外的聚合物、光熱轉(zhuǎn)化材料和表面活性劑也可以在底層中存在。有用的聚合物材料包括羧基官能丙烯酸類、醋酸乙烯酯/巴豆酸酯/新癸酸乙烯酯共聚物、苯乙烯馬來酸酐共聚物、酚醛樹脂、馬來酸化木材松香和其混合物。提供耐潤版液和侵蝕性洗滌兩者的性能的底層公開于Shimazu，U.S.Pat.No.6,294,311。
特別有用的聚合物材料是聚乙烯醇縮醛和共聚物，包括聚合形式的N-取代馬來酰亞胺，特別是N-苯基馬來酰亞胺；甲基丙烯酰胺，特別是甲基丙烯酰胺；和丙烯酸和/或甲基丙烯酸，特別是甲基丙烯酸。此類型的優(yōu)選聚合物材料是N-苯基馬來酰亞胺、甲基丙烯酰胺和甲基丙烯酸的共聚物，更優(yōu)選包含約25-約75mol％，優(yōu)選約35-約60mol％N-苯基馬來酰亞胺；約10-約50mol％，優(yōu)選約15-約40mol％甲基丙烯酰胺；和約5-約30mol％，優(yōu)選約10-約30mol％甲基丙烯酸的那些。其它親水性單體，如甲基丙烯酸羥乙酯可用于代替一些或所有甲基丙烯酰胺。其它堿溶性單體，如丙烯酸可用于代替一些或所有甲基丙烯酸。這些聚合物材料溶于乳酸甲酯/甲醇/二氧戊環(huán)(15∶42.5∶42.5wt％)混合物，它可用作底層的涂料溶劑。然而，它們較差地溶于溶劑如丙酮和甲苯，該丙酮和甲苯可用作在底層上涂覆頂層的溶劑而不溶解底層。公開于2003年8月14日提交的美國專利申請10/641,888；2004年4月8日提交的美國專利申請10/820,546；和美國專利6,893,783(Kitson等人)的可焙燒底層也可以使用。
底層也可包括一種或多種其它聚合物材料，條件是這些聚合物材料的加入不有害地影響底層的耐化學(xué)品性能和溶解性能。當(dāng)存在時(shí)，優(yōu)選的其它聚合物材料是酚醛清漆樹脂，可以加入它們以由顯影后焙燒工藝改進(jìn)印刷元件的運(yùn)行長度。
光熱轉(zhuǎn)化材料要采用紅外輻射成像的可成像元件典型地包括紅外吸收劑，稱為光熱轉(zhuǎn)化材料。光熱轉(zhuǎn)化材料吸收輻射并將它轉(zhuǎn)化成熱量。光熱轉(zhuǎn)化材料可以存在于頂層中、底層中和/或頂層和底層之間的單獨(dú)的吸收劑層中。盡管光熱轉(zhuǎn)化材料對于采用熱體成像不是必須的，但包含光熱轉(zhuǎn)化材料的可成像元件也可以由熱體，如熱頭或熱頭的陣列成像。
光熱轉(zhuǎn)化材料可以是能吸收輻射和將它轉(zhuǎn)化成熱量的任何材料。合適的材料包括染料和顏料。典型的顏料包括例如炭黑、酞菁綠、尼格羅黑堿(Nigrosine Base)、氧化鐵(III)、氧化錳、普魯士藍(lán)和巴黎藍(lán)。顏料粒子的尺寸應(yīng)當(dāng)不大于包含顏料的層的厚度。優(yōu)選，粒子的尺寸為層厚度的一半或更小。
光熱轉(zhuǎn)化材料可以是具有適當(dāng)吸收光譜和溶解度的染料。優(yōu)選是染料，特別是在750nm-1200nm范圍中具有高消光系數(shù)的染料。合適染料的例子包括如下類別次甲基、多次甲基、芳基次甲基、花青、半花青、streptocyanine、方酸(squarylium)、吡喃、oxonol、萘醌、蒽醌、卟啉、偶氮、croconium、三芳基胺、噻唑、吲哚、唑、吲哚花青、吲哚三碳菁、氧雜三碳菁、酞菁、硫代花青、硫雜三碳菁、份菁、隱菁、萘酞菁(naphthalocyanine)、聚苯胺、聚吡咯、聚噻吩、硫?qū)僭卮拎喎蓟碗p(硫?qū)僭卮拎?多次甲基、氧吲嗪、吡唑啉偶氮和嗪類別。吸收染料公開于許多公開文獻(xiàn)，例如Nagasaka，EP 0,823,327；DeBoer，U.S.Pat.No.4,973,572；Jandrue，U.S.Pat.No.5,244,771；Patel，U.S.Pat.No.5,208,135；和Chapman，U.S.Pat.No.5,401,618。有用吸收染料的其它例子包括ADS-830A和ADS-1064(American Dye Source，Montreal，加拿大)，EC2117(FEW，Wolfen，德國)，Cyasorb IR 99和Cyasorb IR 165(Glendale ProtectiveTechnology)，Epolite IV-62B和Epolite III-178(Epolite)，SpectralR 830A和SpectralR 840A(Spectra Colors)，以及其結(jié)構(gòu)如下所示的IR染料，及其結(jié)構(gòu)如下所示的IR染料A和IR染料B。
IR染料A
IR染料B水溶性光熱轉(zhuǎn)化材料包括例如具有一個(gè)或多個(gè)硫酸根和/或磺酸根的花青染料。包含2-4個(gè)磺酸根的其它紅外吸收花青陰離子公開于例如West，U.S.Pat.No.5,107,063；Pearce，U.S.Pat.No.5,972,838；Chapman，U.S.Pat.No.6,187,502；Fabricius，U.S.Pat.No.5,330,884；和日本未決公開申請63-033477。具有多磺酸根陰離子的花青染料的制備公開于例如U.S.公開2005/0113546。N-烷基硫酸酯花青化合物的制備公開于例如U.S.公開2005/0130059。
元件中存在的光熱轉(zhuǎn)化數(shù)量通常足以在成像波長下提供至少0.05的光學(xué)密度，和優(yōu)選約0.5到至少約2-3的光學(xué)密度。如本領(lǐng)域技術(shù)人員公知的那樣，在特定波長下要求產(chǎn)生特定光學(xué)密度的化合物數(shù)量可以使用Beer定律確定。盡管存在的數(shù)量依賴于選擇的化合物，但當(dāng)光熱轉(zhuǎn)化材料僅在底層中或在頂層中存在時(shí)，它典型地占層的約0.2wt％-約8wt％，更典型地約0.5wt％-約4wt％。
其它層光熱轉(zhuǎn)化材料可以在單獨(dú)的吸收劑層中存在。當(dāng)吸收劑層存在時(shí)，它在頂層和底層之間，或如果底層不存在，則它在頂層和基材之間。吸收劑層優(yōu)選基本由光熱轉(zhuǎn)化材料和任選的表面活性劑組成。可以使用較少的光熱轉(zhuǎn)化材料，如果它在單獨(dú)的吸收劑層中存在。吸收劑層優(yōu)選具有的厚度足以吸收至少包括90％，優(yōu)選至少99％的成像輻射。典型地，吸收劑層的涂層重量為約0.02g/m2-約2g/m2，優(yōu)選約0.05g/m2-約1.5g/m2。包括吸收劑層的元件公開于Shimazu，U.S.Pat.No.6,593,055。
為在可成像元件的制造和貯存期間最小化光熱轉(zhuǎn)化材料從底層到頂層的遷移，元件可包括在底層和頂層之間的阻擋層。阻擋層包括溶于顯影劑的聚合物材料。如果此聚合物材料不同于底層中的聚合物材料，則它優(yōu)選溶于至少一種底層中的聚合物材料不溶解于其中的有機(jī)溶劑中。用于阻擋層的優(yōu)選聚合物材料是聚乙烯醇。當(dāng)阻擋層中的聚合物材料不同于底層中的聚合物材料時(shí)，阻擋層應(yīng)當(dāng)小于底層厚度的約五分之一，優(yōu)選小于底層厚度的十分之一。包括阻擋層的可成像元件公開于Patel，U.S.Pat.No.6,723,490。
基材基材包括載體，它可以是通常用于制備可成像元件的任何材料，該元件用作平版印版。載體優(yōu)選是堅(jiān)固、穩(wěn)定和柔韌的。它應(yīng)當(dāng)耐使用條件下的尺寸變化使得顏色記錄在全色圖像中登記。典型地，它可以是任何自支撐材料，包括例如聚合物膜如聚對苯二甲酸乙二醇酯膜、陶瓷、金屬或剛性紙，或任何這些材料的層壓材料。金屬載體包括鋁、鋅、鈦和其合金。
典型地，聚合物膜包含在一個(gè)或兩個(gè)表面上的亞涂層以改進(jìn)對隨后層的粘合。此層的性質(zhì)依賴于基材和隨后層的組成。膠層材料的例子是粘合促進(jìn)材料，如烷氧基硅烷、氨基丙基三乙氧基硅烷、縮水甘油氧基丙基三乙氧基硅烷和環(huán)氧官能聚合物以及在攝影膠片中聚酯基底上使用的常規(guī)膠層材料。
當(dāng)基材包括鋁或鋁合金的片時(shí)，它應(yīng)當(dāng)具有足夠的厚度以支持來自印刷的磨損和足夠薄以環(huán)繞印刷機(jī)中的圓筒體，典型地為約100μm-約600μm。將它典型地由本領(lǐng)域已知的各種方法清潔、粗糙化和陽極化。初始，典型地采用表面活性劑、有機(jī)溶劑或堿性水溶液進(jìn)行脫脂處理以從片材的表面去除油和油脂。然后可以由以下的公知技術(shù)粗糙化例如機(jī)械粗糙化，例如球拋光；刷拋光；沖擊拋光和軟皮拋光；化學(xué)粗糙化，其中通過選擇性溶解表面而粗糙化表面；或電化學(xué)粗糙化；或這種化學(xué)、機(jī)械和/或電化學(xué)處理的組合(多次磨版)。基材的蝕刻使用熱酸性(如硫酸或磷酸)溶液或堿性溶液(如氫氧化鈉或與氫氧化鈉混合的磷酸三鈉)進(jìn)行。可以進(jìn)行陽極氧化以形成表面的氧化鋁親水層，典型地至少0.3g/m2重量的氧化鋁層。在電解溶液中使用載體作為陽極通過電流而進(jìn)行陽極氧化，該電解溶液包括電解質(zhì)，例如硫酸、磷酸、鉻酸、硼酸、檸檬酸、草酸或其混合物。陽極氧化公開于例如Fromson，U.S.Pat.No.3,280,734和Chu，U.S.Pat.No.5,152,158。
然后可以將清潔、粗糙化和陽極化的載體采用堿性金屬硅酸鹽，如含水硅酸鉀、硅酸鈉或典型地硅酸鈉親水化。親水化描述于例如Jewett，U.S.Pat.No.2,714,066和Fromson，U.S.Pat.No.3,181,461。在堿金屬硅酸鹽的水溶液中浸入或電解載體。
典型地，基材包括在鋁載體和上覆層之間的間層。可以通過采用例如硅酸鹽、糊精、六氟硅酸、磷酸鹽/氟化物、聚乙烯基膦酸(PVPA)、乙烯基膦酸共聚物或水溶性重氮樹脂處理鋁載體而形成間層。包括(1)膦酸基團(tuán)和/或磷酸根和(2)酸基團(tuán)和/或包括亞烷基二醇或聚亞烷基二醇側(cè)鏈的基團(tuán)的共聚物用作間層材料，也公開于2004年8月20日提交的美國專利申請10/922,782，該文獻(xiàn)的公開內(nèi)容在此引入作為參考。包括(1)酸基團(tuán)和/或膦酸基團(tuán)和(2)由三個(gè)烷氧基和/或苯氧基取代的甲硅烷基的共聚物用作間層材料，公開于2004年8月27日提交的美國專利申請10/928,339，該文獻(xiàn)的公開內(nèi)容在此引入作為參考。
載體的背側(cè)(即與頂層和底層相對的側(cè)面)可以由抗靜電劑和/或滑動層或不光滑層涂覆以改進(jìn)可成像元件的處理和“觸感”。
單層可成像元件在另一方面，本發(fā)明是通過熱成像和顯影可成像元件而形成圖像的方法，該元件包括在基材上的頂層。底層可以在可成像元件中存在或可不存在?？沙上裨ü鉄徂D(zhuǎn)化材料。
單層可成像元件不包括底層。頂層在基材上或元件由基材、吸收劑層和頂層組成。元件包括光熱轉(zhuǎn)化材料，它在頂層中和/或在吸收劑層中。頂層是吸墨的。在熱成像之前，頂層不可由堿性顯影劑去除，但在熱成像之后頂層的成像區(qū)域可以由顯影劑去除。頂層、吸收劑層、基材和光熱轉(zhuǎn)化材料每種如上所述。
制備可成像元件術(shù)語“溶劑”和“涂料溶劑”包括溶劑的混合物。使用這些術(shù)語，盡管一些或所有的材料可以懸浮或分散在溶劑中而不是在溶液中。涂料溶劑的選擇依賴于各個(gè)層中存在的組分的性質(zhì)?？沙上裨梢杂扇缦路绞街苽浒错樞蛟诨牡挠H水性表面上施加如果存在的底層；在底層上施加如果存在的吸收劑層或阻擋層；和然后使用常規(guī)技術(shù)施加頂層。
如果存在的話，底層可以由任何常規(guī)方法，如涂覆或?qū)訅菏┘印５湫偷貙⒊煞址稚⒒蛉芙庠诤线m的涂料溶劑中，并將獲得的混合物由常規(guī)方法如旋涂、棒涂、照相凹版涂覆、模頭涂覆、或輥涂而涂覆。底層可以例如從甲乙酮、1-甲氧基丙-2-醇、γ-丁內(nèi)酯和水的混合物；從二乙基酮、水、乳酸甲酯和γ-丁內(nèi)酯的混合物；和從二乙基酮、水和乳酸甲酯的混合物施加。
包括阻擋層的可成像元件的制備公開于Patel，U.S.Pat.No.6,723,490，該文獻(xiàn)的公開內(nèi)容在此引入作為參考。包括吸收劑層的可成像元件的制備公開于Shimazu，U.S.Pat.No.6,593,055。當(dāng)阻擋層和吸收劑層都不存在時(shí)，將頂層涂覆在底層上。為防止底層溶解并與頂層混合，頂層應(yīng)當(dāng)從其中底層基本不溶解的溶劑涂覆。因此，用于頂層的涂料溶劑應(yīng)當(dāng)是一種溶劑，在其中頂層的組分是足夠溶解性的使得可以形成頂層，并且在其中任何下面的層基本是不溶解的。典型地，用于涂覆下面的層的溶劑比用于涂覆頂層的溶劑更為極性。頂層可以例如從二乙基酮或從二乙基酮和1-甲氧基-2-丙基乙酸酯的混合物施加。中間干燥步驟，即在它之上涂覆頂層之前干燥底層以去除涂料溶劑也可用于防止層的混合。
或者，底層、頂層或兩個(gè)層可以由常規(guī)擠出涂覆方法從層組分的熔體混合物施加。典型地，這種的熔體混合物不包含揮發(fā)性有機(jī)溶劑。
當(dāng)元件不包含包括底層、吸收劑層或阻擋層時(shí)，將頂層直接涂覆到基材上。
成像和加工可成像元件可以采用發(fā)射調(diào)制近紅外或紅外輻射的激光器或激光器陣列熱成像，該輻射在由可成像元件吸收的波長范圍中。紅外輻射，特別地約800nm-約1200nm的紅外輻射典型地用于成像。成像方便地采用在約830nm、約1056nm或約1064nm下發(fā)射的激光器進(jìn)行。合適的市售成像設(shè)備包括圖像設(shè)定器如CREOTrendsetter(Creo，Burnaby，British Columbia，加拿大)，ScreenPlateRite型號4300，型號8600，和型號8800(Screen，RollingMeadows，芝加哥，伊利諾斯州，USA)和Gerber Crescent 42T(GerberSystems，South Windsor，CT，USA)。
或者，可成像元件可以使用熱體，如包含熱打印頭的常規(guī)設(shè)備熱成像。合適的設(shè)備至少一個(gè)熱頭但通常包括熱頭陣列，如用于熱傳真機(jī)和升華打印機(jī)的TDK型號LV5416，GS618-400熱繪圖機(jī)(OyoInstruments，Houston，TX，USA)，或型號VP-3500熱打印機(jī)(SeikoshaAmerica，Mahwah，NJ，USA)。
成像產(chǎn)生成像的元件，它包括成像(曝光)區(qū)域和互補(bǔ)未成像(未曝光)區(qū)域的潛像。為形成印版，或印刷形式，成像元件的顯影通過去除成像區(qū)域，露出下面基材的親水性表面而將潛像轉(zhuǎn)化成圖像。
顯影劑可以是任何液體或溶液，該液體或溶液可滲透和去除頂層的成像區(qū)域、如果存在的吸收劑層或阻擋層的下面區(qū)域和底層的下面區(qū)域而基本不影響互補(bǔ)未成像區(qū)域。進(jìn)行顯影足夠長的時(shí)間以在顯影劑中去除頂層的成像區(qū)域、如果存在的吸收劑層或阻擋層的下面區(qū)域和底層的下面區(qū)域，但不足以去除頂層的未成像區(qū)域。因此，成像區(qū)域描述為在顯影劑中“可溶”或“可去除”，這是由于與未成像區(qū)域相比它們在顯影劑中被更快地去除和溶解和/或分散。典型地，將底層溶于顯影劑中，將吸收劑層溶解或分散在顯影劑中，和將頂層分散在顯影劑中。
溶劑型堿性顯影劑典型地用于負(fù)片型可成像元件，是用于本發(fā)明的可成像元件的優(yōu)異顯影劑。溶劑型顯影劑包括有機(jī)溶劑或有機(jī)溶劑的混合物。顯影劑是單相。因此，有機(jī)溶劑必須與水混溶，或至少溶于顯影劑到將它加入到顯影劑中而不發(fā)生相分離的程度。如下溶劑和這些溶劑的混合物適用于顯影劑苯酚與環(huán)氧乙烷和環(huán)氧丙烷的反應(yīng)產(chǎn)物，如乙二醇苯基醚(苯氧基乙醇)；芐醇；乙二醇和丙二醇與具有六個(gè)或更少碳原子的酸的酯，及乙二醇、二甘醇和丙二醇與具有六個(gè)或更少碳原子的烷基的醚，如2-乙基乙醇和2-丁氧基乙醇?？梢允褂脝我挥袡C(jī)溶劑或有機(jī)溶劑的混合物。有機(jī)溶劑典型地在顯影劑中存在的濃度為約0.5wt％-約15wt％，基于顯影劑的重量，優(yōu)選約3wt％-約5wt％，基于顯影劑的重量。有用的市售溶劑型顯影劑包括ND-1Developer、956 Developer和955 Developer(Kodak PolychromeGraphics，Norwalk，CT，USA.)。其它有用的顯影劑包括pH為約7或以上的水溶液。典型的含水堿性顯影劑是pH為約8-約13.5，典型地至少約11，優(yōu)選至少約12的那些。有用的市售含水堿性顯影劑包括3000 Developer和9000 Developer(Kodak Polychrome Graphics，Norwalk，CT，USA)。
顯影劑也可包括表面活性劑或表面活性劑的混合物。優(yōu)選的表面活性劑包括烷基萘磺酸酯的堿金屬鹽；典型地具有6-9個(gè)碳原子的脂族醇的硫酸單酯的堿金屬鹽；和典型地具有6-9個(gè)碳原子的堿金屬磺酸鹽。優(yōu)選的堿金屬是鈉。表面活性劑或表面活性劑的混合物典型地包括約0.5wt％-約15wt％，基于顯影劑的重量，優(yōu)選約3wt％-約8wt％，基于顯影劑的重量。顯影劑也可包括緩沖體系以保持pH相對恒定，典型地約5.0-約12.0，優(yōu)選約6.0-約11.0，更優(yōu)選約8.0-約10.0。許多緩沖體系是本領(lǐng)域技術(shù)人員已知的。典型地緩沖體系包括例如水溶性胺，如單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺或三異丙胺與磺酸，如苯磺酸或4-甲苯磺酸的組合；乙二胺四乙酸(EDTA)的四鈉鹽和EDTA的混合物；磷酸鹽的混合物，如單堿金屬磷酸鹽與三堿金屬磷酸鹽的混合物；和堿金屬硼酸鹽和硼酸的混合物。水典型地包括顯影劑的余量。
將顯影劑由如下方式典型地施加到前體采用足夠的力量噴淋元件以去除暴露區(qū)域?；蛘撸梢栽谘b配了浸入型顯影浴、采用水清洗的區(qū)段、膠接區(qū)段、干燥區(qū)段和電導(dǎo)率測量單元的處理器中進(jìn)行顯影，或可以采用顯影劑刷涂成像前體。在每種情況下，產(chǎn)生印版。顯影可以在市售噴淋處理器中進(jìn)行，如85 NS(Kodak PolychromeGraphics)。
在顯影之后，采用水清洗印版并干燥。干燥可以方便地由紅外輻射體或采用熱空氣進(jìn)行。在干燥之后，可以采用膠接溶液處理印版。膠接溶液包括一種或多種水溶性聚合物，例如纖維素、聚乙烯醇、聚甲基丙烯酸、聚甲基丙烯酰胺、聚乙烯基甲基醚、聚甲基丙烯酸羥乙酯、明膠和多糖如葡聚糖、出芽短梗孢糖、阿拉伯樹膠和藻酸。優(yōu)選的材料是阿拉伯樹膠。
也可以焙燒顯影和膠接的版以增加版的運(yùn)行長度。焙燒可以例如在約220℃-約240℃進(jìn)行約7分鐘-10分鐘，或在120℃的溫度下進(jìn)行30分鐘。
工業(yè)實(shí)用性本發(fā)明的可成像元件具有優(yōu)異的耐印刷間化學(xué)品如二醇醚和二丙酮醇的性能、良好的耐顯影劑性能和良好的濕度保存期限?？梢詫⑺鼈儫岢上窈筒捎煤畨A性顯影劑顯影以形成平版印版。一旦將可成像元件成像和顯影以形成平版印版，則可以由如下方式進(jìn)行印刷將潤版液和然后平版印刷油墨施加到在其表面上的圖像。潤版液由親水性基材的表面吸收，該表面由成像和顯影過程露出，并且油墨由未被顯影過程去除的層的區(qū)域吸收。然后使用膠版印刷氈直接或間接將油墨轉(zhuǎn)印到合適的接收材料(如布、紙、金屬、玻璃或塑料)上以在其上提供圖像的所需印記。
本發(fā)明的有利性能可以參考如下實(shí)施例觀察到，這些實(shí)施例舉例說明本發(fā)明但不限制本發(fā)明。
實(shí)施例術(shù)語表
評價(jià)過程顯影劑滴落測試 將大滴顯影劑以30sec間隔在22℃放置在頂層的表面上至多5min。記錄第一個(gè)可見侵蝕標(biāo)記的時(shí)間和完全去除頂層的時(shí)間。
耐溶劑性滴落測試 將大滴的2-丁氧基乙醇(丁基CELLOSOLVE)(水中80vol％)或二丙酮醇(水中80vol％)以2min間隔在22℃放置在頂層的表面上至多16min。觀察出現(xiàn)對頂層損害的時(shí)間。評價(jià)去除的頂層的量(1＝無去除；10＝完全去除)。
成像和加工測試 將可成像元件在CREOTrendsetter 3244上在8瓦使用圖0和

圖12內(nèi)部測試圖案熱成像。成像能量是136、115、100、88和79mJ/cm2。將獲得的成像的可成像元件在30℃在PK910II處理器(Kodak Polychrome Graphics，Norwalk，CT，USA)中使用DeveloperA和12sec的浸入時(shí)間顯影。評價(jià)獲得的平版印版的清除值(由顯影劑完全去除成像區(qū)域的最低成像能量)，和最好分辨率(印版表現(xiàn)最好的成像能量)。
實(shí)施例1將馬來酸酐(20.41g)、降冰片烯(19.59g)和干燥二氧戊環(huán)(136g)加入到裝配加熱套、攪拌器、溫度計(jì)和冷凝器的500ml反應(yīng)釜中。將混合物在氮?dú)鈿夥障录訜岬?0℃，并通過氮?dú)馊肟诠芡ㄟ^混合物氮?dú)夤呐?h。然后將氮?dú)馊肟诠軓娜芤喝〕霾⒓尤階IBN(0.3g)。將反應(yīng)混合物在60℃在氮?dú)鈿夥障录訜崃硗?4h。
將反應(yīng)混合物冷卻并傾入2L乙醚/己烷(50/50體積對體積)中。將共聚物濾出，采用乙醚/己烷洗滌幾次，并在50℃干燥48h。產(chǎn)量25g(62.5％)。
相信共聚物具有如下結(jié)構(gòu) 實(shí)施例2采用N-苯基馬來酰亞胺(25.91g)和降冰片烯(14.09g)重復(fù)實(shí)施例1的過程。在加入AIBN之后，在60℃持續(xù)加熱20h。產(chǎn)量19.0g(47.5％)。
相信共聚物具有如下結(jié)構(gòu)
實(shí)施例3可成像元件由如下過程制備。
底層將包含6.5wt％在2-丁酮/1-甲氧基-2-丙醇/γ-丁內(nèi)酯/水(按重量65∶15∶10∶10)的混合物中84.5wt％聚合物1、15wt％IR染料A和0.5wt％BYK 307的混合物的涂料溶液使用0.03in繞絲棒涂覆到基材A上，并將獲得的元件在135℃干燥35sec。底層的涂層重量1.5g/m2。
頂層將包含7.1wt％在二乙基酮/1-甲氧基-2-丙醇乙酸酯中99.1wt％實(shí)施例1中形成的共聚物、0.4wt％乙基紫和0.5wt％BYK 307的混合物的涂料溶液使用0.015cm(0.006in)繞絲棒涂覆到底層上，并將獲得的可成像元件在135℃干燥35sec。頂層的涂層重量0.7g/m2。
實(shí)施例4重復(fù)實(shí)施例3的過程，區(qū)別在于在頂層中使用實(shí)施例2中形成的共聚物代替實(shí)施例1中形成的共聚物。
實(shí)施例5將實(shí)施例3和4中制備的可成像元件在采用顯影劑A的顯影劑滴落測試、耐溶劑性滴落測試及成像和加工測試中評價(jià)。結(jié)果見表1、2和3。SWORDExcelTM平版印版前體用于比較。
表1
表2
表3
實(shí)施例6將實(shí)施例3中制備的可成像元件在40℃和80％相對濕度下放入潮濕容器中0、1、3或5天并如在實(shí)施例5中評價(jià)。結(jié)果見表4、5和6。
表4
表5
表6
實(shí)施例7將實(shí)施例3中制備的可成像元件在顯影劑滴落測試中使用956顯影劑評價(jià)。也將它在成像和加工測試中評價(jià)，區(qū)別在于成像在126、119、105、100、95、90、86、82和79mJ/cm2進(jìn)行并將成像的可成像元件在956顯影劑中以3.5ft/min的加工速度顯影。結(jié)果是采用956顯影劑的滴落測試 120sec清除值 79mJ/cm2最好分辨率 105mJ/cm2實(shí)施例8使用沖壓機(jī)將SWORDExcelTM可成像元件和實(shí)施例3中生產(chǎn)的可成像元件每個(gè)切割成四個(gè)4in直徑的盤。將每個(gè)盤稱重并隨后浸入BC/水(按體積計(jì)80/20 1min)，清洗，在150℃烘箱中干燥30min，冷卻10min，并再稱重。然后將每個(gè)盤放入550℃的烘箱中1h以去除頂層和底層，冷卻10min，并稱重。計(jì)算通過在BC/水(80∶20)中浸泡而去除的頂層和底層的百分比。
通過在BC/水(80∶20)中浸泡2、4、8和16min重復(fù)測試。通過在DAA/水(80∶20)中浸泡1、2、4、8和16min重復(fù)測試。結(jié)果見表7。
表6在浸泡之后剩余的數(shù)量(％)
SWORDExcelTM可成像元件在1min內(nèi)損失頂層和底層的約29％，它對應(yīng)于頂層的損失。另外的逐漸重量損失是由于更耐溶劑底層的損失。在實(shí)施例3中制備的可成像元件耐BC/水(20∶20)和DAA/水(20∶20)兩者。
實(shí)施例9此實(shí)施例舉例說明單層印版前體。在2-丁酮/1-甲氧基丙-2-醇/γ-丁內(nèi)酯/水(65∶15∶10∶10)中制備包含如下成分的涂料溶液(基于組合物中總固體的wt％)37.7wt％LB-6564；31.5wt％DUREZ33816；16.9wt％實(shí)施例1的共聚物；1.45wt％IR染料A；0.45wt％IR染料C；3.9wt％XDSA；1.9wt％乙基紫；5.8wt％SILIKOPHENP50X；和0.4wt％BYK-307。采用繞絲棒將涂料溶液涂覆到基材B上，并在100℃干燥90sec。頂層的涂層重量1.5g/m2。
將獲得的單層可成像元件和Electra ExcelTM單層可成像元件在120、130、140、150、160、170和180mJ/cm2成像能量下使用CREOTrendsetter成像。將獲得的成像的可成像元件在包含GoldstarTM顯影劑的MERCURYMark V浸入處理器(Kodak Polychrome Graphics，Norwalk，CT，USA)中在23.0℃以750mm/min的加工速度加工。
采用Gretag MacBeth D19C顯像密度計(jì)(Gretag Macbeth ColorData Systems，Wirral，UK)評價(jià)生產(chǎn)的圖像。結(jié)果見表7。光學(xué)密度的降低是在顯影過程期間損失的頂層數(shù)量的量度。兩個(gè)可成像元件在顯影期間具有大約相同數(shù)量的光學(xué)密度降低。然而，當(dāng)在潤版液中浸沒24h時(shí)，本發(fā)明的可成像元件僅顯示非常少的光學(xué)密度損失。
表7
a觀察到最好分辨率的成像能量。
b印版的光學(xué)密度。
c在加工期間非成像區(qū)域的光學(xué)密度變化。
d當(dāng)將印版在潤版液中浸泡24h時(shí)光學(xué)密度的變化。潤版液包含10wt％異丙醇、6wt％ Astro Mark II(BW Darrah，St.Charles，IL，USA)和84％去離子水。
權(quán)利要求
1.一種可成像元件，包括基材，在基材上的底層，和在底層上的頂層；其中該元件包括光熱轉(zhuǎn)化材料；頂層是吸墨的；在熱成像之前，頂層不可由堿性顯影劑去除；在熱成像以在頂層中形成成像區(qū)域之后，成像區(qū)域可由堿性顯影劑去除；底層可由堿性顯影劑去除，和頂層包括選自下述共聚物的共聚物所述共聚物包括聚合形式的組(a)的單體和組(b)的單體，其中組(a)的單體選自 和其混合物；組(b)的單體選自 丙烯腈、甲基丙烯腈、苯乙烯、羥基苯乙烯、CH(R11)CH(CO2R12)、CH(R11)CH(CON(R12)2)、CH2CH(OR12)和其混合物；R1、R2、R4和R5各自獨(dú)立地是氫、苯基、取代苯基、鹵素、1-6個(gè)碳原子的烷基、1-6個(gè)碳原子的烷氧基、1-7個(gè)碳原子的?；?-7個(gè)碳原子的酰氧基、1-7個(gè)碳原子的烷氧羰基或其混合物；R3、R6和R7各自是-CH2-；每個(gè)R8和R9各自獨(dú)立地是氫或甲基或其混合物；每個(gè)R10是氫、羥基、1-6個(gè)碳原子的烷基、苯基、取代苯基、芐基或其混合物；和每個(gè)R11是氫、甲基或其混合物；每個(gè)R12是氫、1-6個(gè)碳原子的烷基、苯基、取代苯基或其混合物；和共聚物包括至少約15mol％組(a)的單體，和至少約10mol％組(b)的單體。
2.權(quán)利要求1的元件，其中組(b)的單體選自 和其混合物；和頂層包括至少90wt％共聚物。
3.權(quán)利要求1的元件，其中頂層基本沒有光熱轉(zhuǎn)化材料。
4.權(quán)利要求3的元件，其中組(a)的單體選自降冰片烯、四環(huán)十二碳烯和其混合物，而組(b)的單體選自馬來酸酐、馬來酰亞胺、N-苯基馬來酰亞胺、N-芐基馬來酰亞胺、N-環(huán)己基馬來酰亞胺和其混合物。
5.權(quán)利要求4的元件，其中組(a)的單體是降冰片烯。
6.權(quán)利要求1的元件，其中共聚物是降冰片烯和選自如下的單體的約1∶1共聚物∶馬來酸酐、馬來酰亞胺、N-苯基馬來酰亞胺、N-芐基馬來酰亞胺、N-環(huán)己基馬來酰亞胺和其混合物。
7.權(quán)利要求6的元件，其中頂層基本沒有光熱轉(zhuǎn)化材料，并且底層包括共聚物，該共聚物包括聚合形式的25-約75mol％N-苯基馬來酰亞胺；約10-約50mol％甲基丙烯酰胺；和約5-約30mol％甲基丙烯酸；和頂層包括至少90wt％共聚物。
8.一種形成圖像的方法，該方法包括如下步驟(i)將可成像元件熱成像，該元件包括基材和在基材上的頂層；和在頂層中形成包括成像區(qū)域和互補(bǔ)的未成像區(qū)域的成像的可成像元件；其中元件包括光熱轉(zhuǎn)化材料；頂層是吸墨的；在熱成像之前，頂層不可由堿性顯影劑去除；在熱成像以在頂層中形成成像區(qū)域之后，成像區(qū)域可由堿性顯影劑去除；和頂層包括選自下述共聚物的共聚物所述共聚物包括聚合形式的組(a)的單體和組(b)的單體，其中組(a)的單體選自 和其混合物；組(b)的單體選自 丙烯腈、甲基丙烯腈、苯乙烯、羥基苯乙烯、CH(R11)CH(CO2R12)、CH(R11)CH(CON(R12)2)、CH2CH(OR12)和其混合物；R1、R2、R4和R5各自獨(dú)立地是氫、苯基、取代苯基、鹵素、1-6個(gè)碳原子的烷基、1-6個(gè)碳原子的烷氧基、1-7個(gè)碳原子的?；?-7個(gè)碳原子的酰氧基、1-7個(gè)碳原子的烷氧羰基或其混合物；R3、R6和R7各自是-CH2-；每個(gè)R8和R9各自獨(dú)立地是氫或甲基或其混合物；每個(gè)R10是氫、羥基、1-6個(gè)碳原子的烷基、苯基、取代苯基、芐基或其混合物；和每個(gè)R11是氫、甲基或其混合物；每個(gè)R12是氫、1-6個(gè)碳原子的烷基、苯基、取代苯基或其混合物；和共聚物包括至少約15mol％組(a)的單體，和至少約10mol％組(b)的單體；和(ii)通過采用堿性顯影劑顯影成像的可成像元件和去除成像區(qū)域形成圖像。
9.權(quán)利要求8的方法，其中頂層在基材上并且頂層包括光熱轉(zhuǎn)化材料。
10.權(quán)利要求9的方法，其中組(b)的單體選自 和其混合物；和頂層包括至少90wt％共聚物。
11.權(quán)利要求9的方法，其中組(a)的單體選自降冰片烯、四環(huán)十二碳烯和其混合物，而組(b)的單體選自馬來酸酐、馬來酰亞胺、N-苯基馬來酰亞胺、N-芐基馬來酰亞胺、N-環(huán)己基馬來酰亞胺和其混合物。
12.權(quán)利要求11的方法，其中組(a)的單體是降冰片烯。
13.權(quán)利要求12的方法，其中共聚物是降冰片烯和選自如下的單體的約1∶1共聚物∶馬來酸酐、馬來酰亞胺、N-苯基馬來酰亞胺、N-芐基馬來酰亞胺、N-環(huán)己基馬來酰亞胺、和其混合物；和頂層包括至少90wt％共聚物。
14.權(quán)利要求8的方法，其中元件另外包括在頂層和基材之間的底層；并且底層可由堿性顯影劑去除。
15.權(quán)利要求14的方法，其中頂層基本沒有光熱轉(zhuǎn)化材料，并且底層在基材上。
16.權(quán)利要求15的方法，其中組(b)的單體選自 和其混合物；和頂層包括至少90wt％共聚物。
17.權(quán)利要求15的方法，其中組(a)的單體選自降冰片烯、四環(huán)十二碳烯和其混合物，而組(b)的單體選自馬來酸酐、馬來酰亞胺、N-苯基馬來酰亞胺、N-芐基馬來酰亞胺、N-環(huán)己基馬來酰亞胺和其混合物。
18.權(quán)利要求的方法17，其中組(a)的單體是降冰片烯。
19.權(quán)利要求15的方法，其中共聚物是降冰片烯和選自如下的單體的約1∶1共聚物∶馬來酸酐、馬來酰亞胺、N-苯基馬來酰亞胺、N-芐基馬來酰亞胺、N-環(huán)己基馬來酰亞胺和其混合物。
20.權(quán)利要求19的方法，其中底層包括共聚物，該共聚物包括聚合形式的25-約75mol％N-苯基馬來酰亞胺；約10-約50mol％甲基丙烯酰胺；和約5-約30mol％甲基丙烯酸；和頂層包括至少90wt％共聚物。
21.由包括如下步驟的方法制備的圖像(i)將可成像元件熱成像，該元件包括基材和在基材上的頂層；和在頂層中形成包括成像區(qū)域和互補(bǔ)的未成像區(qū)域的成像的可成像元件；其中元件包括光熱轉(zhuǎn)化材料；頂層是吸墨的；在熱成像之前，頂層不可由堿性顯影劑去除；在熱成像以在頂層中形成成像區(qū)域之后，成像區(qū)域可由堿性顯影劑去除；和頂層包括選自下述共聚物的共聚物所述共聚物包括聚合形式的組(a)的單體和組(b)的單體，其中組(a)的單體選自 和其混合物；組(b)的單體選自 丙烯腈、甲基丙烯腈、苯乙烯、羥基苯乙烯、CH(R11)CH(CO2R12)、CH(R11)CH(CON(R12)2)、CH2CH(OR12)和其混合物；R1、R2、R4和R5各自獨(dú)立地是氫、苯基、取代苯基、鹵素、1-6個(gè)碳原子的烷基、1-6個(gè)碳原子的烷氧基、1-7個(gè)碳原子的?；?、1-7個(gè)碳原子的酰氧基、1-7個(gè)碳原子的烷氧羰基或其混合物；R3、R6和R7各自是-CH2-；每個(gè)R8和R9各自獨(dú)立地是氫或甲基或其混合物；每個(gè)R10是氫、羥基、1-6個(gè)碳原子的烷基、苯基、取代苯基、芐基或其混合物；和每個(gè)R11是氫、甲基或其混合物；每個(gè)R12是氫、1-6個(gè)碳原子的烷基、苯基、取代苯基或其混合物；和共聚物包括至少約15mol％組(a)的單體，和至少約10mol％組(b)的單體；和(ii)通過采用堿性顯影劑顯影成像的可成像元件和去除成像區(qū)域形成圖像。
22.權(quán)利要求21的圖像，其中元件另外包括在頂層和基材之間的底層；底層可由堿性顯影劑去除；底層在基材上；頂層基本沒有光熱轉(zhuǎn)化材料；組(a)的單體是降冰片烯；組(b)的單體選自馬來酸酐、馬來酰亞胺、N-苯基馬來酰亞胺、N-芐基馬來酰亞胺、N-環(huán)己基馬來酰亞胺和其混合物；和頂層包括至少90wt％共聚物。
全文摘要
公開了用作平版印版前體的可熱成像元件。元件包括基材、在基材上的底層和在底層上的頂層。頂層包括共聚物，該共聚物包括聚合形式的降冰片烯或降冰片烯衍生物。獲得的平版印版具有良好的耐印刷間化學(xué)品的性能。
文檔編號B41M5/36GK101048281SQ200580036939
公開日2007年10月3日 申請日期2005年10月19日 優(yōu)先權(quán)日2004年10月26日
發(fā)明者A·P·基特森 申請人:伊斯曼柯達(dá)公司