專利名稱：一種銀鹽擴(kuò)散轉(zhuǎn)移鋁基膠印版的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于印刷制版技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及到基于銀鹽擴(kuò)散轉(zhuǎn)移法制備的鋁基計算機(jī)直接制版膠印材料。
銀鹽擴(kuò)散轉(zhuǎn)移反轉(zhuǎn)原理在A.羅特和E.維德編寫的“照相鹵化銀擴(kuò)散過程”(“Photographic Silver Halide Diffusion Processes”,by Andr Rott and EdithWeyde,The Focal Press,London and New York,1972)一書中已有敘述。當(dāng)鹵化銀感光層曝光時，形成潛影，經(jīng)顯影液化學(xué)顯影，形成負(fù)像；未曝光的鹵化銀與顯影液中的銀絡(luò)合劑形成銀絡(luò)合離子擴(kuò)散到影像接受層，在影像接受層物理顯影核催化作用下形成正像。未曝光區(qū)(圖文部分)由于銀影像裸露在表面上呈親油性，曝光區(qū)(非圖文部分)由于明膠層經(jīng)水洗脫落露出鋁基表面而呈親水性，這樣便可以得到適合于普通膠印的印刷版。
80年代初，銀鹽擴(kuò)散轉(zhuǎn)移法制備膠印版，大部分是以涂塑紙基或滌綸片基作為支持體(US.Pat.4,355,090；4,563,410)，它的耐印率較低，一般在幾百印到一萬印之間。為了改善膠印版的耐印率，提出用電化學(xué)砂目化和陽極化表面處理的鋁基作為支持體(US.Pat.5,427,889；5,518,866)，其膠印版的影像質(zhì)量和耐印率都得到大大提高，應(yīng)用范圍更廣。伴隨著計算機(jī)技術(shù)的發(fā)展，排版、制版聯(lián)用，可顯著加快制版速度，降低成本。但上述專利存在的問題是，版材所用的物理顯影核種類不同和鹵化銀乳劑類型不同，都對版材性能有很大影響。特別是影像密度和耐印率差別較大。
本實(shí)用新型的目的在于為了克服已有的銀鹽擴(kuò)散轉(zhuǎn)移法制備膠印版的缺點(diǎn)，為了增加擴(kuò)散轉(zhuǎn)移影像的密度以及其附著在鋁基版上的牢固性，和提高銀鹽擴(kuò)散轉(zhuǎn)移鋁基膠印版的耐印率，從而提供一種銀鹽擴(kuò)散轉(zhuǎn)移鋁基膠印版。
本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的為了達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型提供的銀鹽擴(kuò)散轉(zhuǎn)移鋁基膠印版的組成，包括以下結(jié)構(gòu)以厚0.20～0.50mm的鋁基版為基板、其表面采用經(jīng)電化學(xué)和陽極化處理，生成1.5-4.0g/m2的Al2O3·H2O氧化膜層，其表面算術(shù)平均粗糙度(CLA)為Ra0.3～1.0μm，在上述處理好的氧化膜層上涂具有物理顯影核的影像接受層，該層由物理顯影核或者分散在高分子介質(zhì)中的物理顯影核組成，其中物理顯影核可以為Ag、Pt、Pd、Ag2S、PdS等重金屬或重金屬硫化物，涂布量為1-50mg/m2，高分子介質(zhì)可以為明膠、聚乙烯醇、聚乙二醇、聚乙烯以及取代聚乙烯等，涂布量為0.5～100mg/m2；在影像接受層上，再涂一氯碘化銀乳劑層，其中氯化銀的含量按重量百分比占80％～99.8％。顆粒平均大小為0.15～0.7μm，涂布量1.0～5.0g/m2(按AgNO3計算)。
本實(shí)用新型提供的銀鹽擴(kuò)散轉(zhuǎn)移鋁基膠印版使用與本實(shí)用新型相關(guān)的發(fā)明專利申請的顯影液顯影，顯影后的影像使影像密度比單一使用的硫代硫酸鈉可增加0.2～0.4，同時影像的牢固性也增加，因而耐印率可提高到10萬印以上。
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例和比較例對本實(shí)用新型進(jìn)一步說明


圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖本實(shí)用新型的實(shí)施例1使用效果上述的版材曝光后，浸入與本實(shí)用新型相關(guān)的顯影液(A)中顯影顯影溫度25℃，顯影時間30秒，經(jīng)銀絡(luò)合物的擴(kuò)散轉(zhuǎn)移在鋁基表面生成銀正像，在40℃下，經(jīng)過含有0.5％(重量百分比)木瓜酶的水洗液水洗30秒，除去化學(xué)顯影銀，裸露出親水性的鋁基底，再用固版液在30℃下處理15秒，即可上機(jī)印刷。所有實(shí)驗(yàn)的版材都在同樣的條件下用“吉平”精密名片膠印機(jī)印刷，所得結(jié)果見表1。
表1
實(shí)施例2參考實(shí)施例1，選用Ag2S作為物理顯影核層，改變版材中氯碘化銀乳劑的氯碘比，即AgCl∶AgI(重量比)90∶10,93∶7,96∶4,99∶1,100∶0。其他條件一樣。所得結(jié)果見表2。
表2
實(shí)施例3參考比較例1，選用Ag2S作為物理顯影核，乳劑的氯碘比為97∶3，改變氯碘化銀乳劑的顆粒尺寸，其他條件與比較例1相同。所得結(jié)果見表3。
表權(quán)利要求1.一種銀鹽擴(kuò)散轉(zhuǎn)移型鋁基膠印版，該版結(jié)構(gòu)包括一鋁基版做基板，其特征在于在基板表面采用經(jīng)電化學(xué)和陽極化處理，生成的1.5-4.0g/m2的Al2O3·H2O氧化膜層，并在其上涂一具有Ag、Pt、Pd、Ag2S、PdS重金屬或重金屬硫化物的物理顯影核的層影像接受層，最后一層是在影像接受層上再涂氯碘化銀乳劑層。
2.按權(quán)利要求1所述的一種銀鹽擴(kuò)散轉(zhuǎn)移型鋁基膠印版，其特征在于所述的基板為0.20～0.30mm厚的鋁基板
3.按權(quán)利要求1所述的一種銀鹽擴(kuò)散轉(zhuǎn)移型鋁基膠印版，其特征在于所述的Al2O3·H2O氧化膜層表面算術(shù)平均粗糙度(CLA)為Ra0.3～1.0μm。
4.按權(quán)利要求1所述的一種銀鹽擴(kuò)散轉(zhuǎn)移型鋁基膠印版，其特征在于所述的影像接受層的涂布量為1-50mg/m2。
5.按權(quán)利要求1所述的一種銀鹽擴(kuò)散轉(zhuǎn)移型鋁基膠印版，其特征在于所述的一氯碘化銀乳劑層，其顆粒平均大小為0.15～0.7μm，涂布量1.0～5.0g/m2，按AgNO3計算。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種銀鹽擴(kuò)散轉(zhuǎn)移鋁基膠印版。該版結(jié)構(gòu)包括一鋁基版做基板,在基板表面采用經(jīng)電化學(xué)和陽極化處理,生成1.5—4.0g/m
文檔編號B41N1/00GK2449917SQ00257849
公開日2001年9月26日 申請日期2000年10月16日 優(yōu)先權(quán)日2000年10月16日
發(fā)明者陳萍, 段培成, 張理, 于淑芳, 鄭德水 申請人:中國科學(xué)院感光化學(xué)研究所