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非等高齒梳理針布的制作方法

文檔序號:10136487閱讀:317來源:國知局
非等高齒梳理針布的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型專利申請涉及的是紡織梳理設(shè)備中包括的固定分梳件和活動蓋板,它適用于棉紡、毛紡、麻紡、無紡布、絹紡等系統(tǒng)使用。
【背景技術(shù)】
[0002]梳理設(shè)備中,與主梳齒部件相對配合的分梳件包括固定設(shè)置的固定分梳件和活動蓋板,以下統(tǒng)稱為分梳件,兩者配合,在梳理中加強(qiáng)分梳、梳理和去短絨、去棉籽等除雜質(zhì)作用,對梳理質(zhì)量和梳理效率具有決定作用?,F(xiàn)有分梳件的針布針齒均為等齒高結(jié)構(gòu)。但,輸入的纖維流狀況是復(fù)雜的,包括層分布厚薄不均,存在大小不一、狀態(tài)不同的棉束等等。梳理運(yùn)行中,等齒高分梳件難以梳穿、梳松較厚的纖維層,對大于一定束結(jié)程度的棉束,也難以發(fā)揮分梳作用,而且會出現(xiàn)局部分梳負(fù)荷加大,造成纖維和針齒的損傷,也直接影響梳理質(zhì)量。這一技術(shù)問題對于細(xì)長纖維的梳理表現(xiàn)尤為突出,導(dǎo)致梳理產(chǎn)量和質(zhì)量均受影響,提升難度大。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型的發(fā)明目的在于改變分梳件針布現(xiàn)有傳統(tǒng)結(jié)構(gòu),使之在工作中加強(qiáng)分梳、梳理以及除雜作用的同時(shí),提高纖維梳理質(zhì)量和梳理效率,提供一種非等高齒梳理針布。本實(shí)用新型提供的非等高齒梳理針布技術(shù)方案,其主要技術(shù)內(nèi)容是:一種非等高齒梳理針布,由非均齒高針布單元排列布置構(gòu)成,所述的非均齒高針布單元為針布齒頂所形成的面呈波浪走向的針布單元,相鄰非均齒高針布單元之間波浪走向相銜接。
[0004]在上述的技術(shù)方案中,所述的非均齒高針布單元具有橫向波浪走向。所述的橫向是垂直于梳理運(yùn)轉(zhuǎn)的方向。
[0005]在上述的技術(shù)方案中,所述的非均齒高針布單元具有縱向波浪走向。所述的縱向是梳理運(yùn)轉(zhuǎn)的方向。
[0006]在上述的整體技術(shù)方案中,所述的非均齒高針布單元的齒面具有橫向和縱向雙向復(fù)合波浪走向。
[0007]本實(shí)用新型的非等高齒梳理針布技術(shù)方案,其技術(shù)效果是明顯的,分梳件針布齒面呈波浪形,具有漸高和漸低的走向趨勢變化,與相對的梳理部件之間形成更寬容的纖維流流入空間,使纖維流中偏大的棉束,如細(xì)長纖維混合束,更易于進(jìn)入梳理間隙被緩梳,在緩存、容納的瞬間促使纖維束在不等高針齒之間的移動,針布上呈趨高走向分布的針齒對浮在纖維流表面的纖維發(fā)揮梳理作用,還易于刺入小棉束,對小棉束發(fā)揮分梳梳理作用,呈低走向分布的針齒更容易、更多的刺入纖維流中的大棉束,發(fā)揮梳理作用,分解其纖維的抱合力,使其更全面的松解,其后再被相銜接的高趨勢走向的針齒剌入,進(jìn)一步被分梳、松解,其分梳作用緩和,減小了對纖維的梳理損傷,降低梳理中產(chǎn)生的短絨量,所述的作用尤其對于細(xì)長纖維而言更為重要,梳理質(zhì)量得以有效提高,克服了現(xiàn)有分梳件對偏大的棉束因分梳阻力等原因而難以疏解、分梳的技術(shù)問題,影響梳理質(zhì)量和梳理效率。另外,因高趨勢走向的針布針齒和低趨勢走向的針布針齒協(xié)同參與梳理,兩者使細(xì)長纖維的側(cè)滑分梳作用大大提高,纖維流中的單纖維和各種大小的棉束能夠得到不同側(cè)滑梳理強(qiáng)度作用,其參與分梳的總齒數(shù)較等齒高針布增多,呈現(xiàn)立體多層面的不同分梳強(qiáng)度的梳理,分梳作用更全面,梳理效果更高,有利于發(fā)揮高產(chǎn)梳理的潛能,能夠適應(yīng)高產(chǎn)運(yùn)行條件,得到高梳理質(zhì)量,實(shí)現(xiàn)高梳理產(chǎn)量和高梳理質(zhì)量雙贏的技術(shù)目的,經(jīng)實(shí)驗(yàn)證明,應(yīng)用于梳理設(shè)備,在保證原梳理質(zhì)量的條件下,其產(chǎn)量提高了一倍。尤其是保證細(xì)長纖維梳理質(zhì)量和梳理效率。再者,本方案提高了對各種形態(tài)和大小的棉束的疏解和分梳能力,避免了偏小的棉束成為雜質(zhì)被去除,提高了纖維流梳理效率和纖維利用率,除短絨、除棉結(jié)、去雜質(zhì)能力也隨之增強(qiáng)。
【附圖說明】
[0008]圖1為現(xiàn)有的等齒尚針布。
[0009]圖2和圖3分別為橫向或縱向波浪走向的針布原理圖和結(jié)構(gòu)示意圖。
[0010]圖4和圖5分別為有橫向和縱向雙向復(fù)合波浪走向的針布原理圖和結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0011]本實(shí)用新型公開的非等高齒梳理針布,可以設(shè)計(jì)作為固定分梳件或活動蓋板針布,廣泛適用于棉紡、毛紡、麻紡、無紡布、絹紡等梳理部件。本非等高齒梳理針布由非均齒高針布單元連續(xù)排列布置構(gòu)成,所述的非均齒高針布單元為單元各針齒齒頂形狀呈波浪走向的針布單元,相鄰非均齒高針布單元之間波浪走向相銜接連續(xù)。所述的波浪走向幅度,其最尚齒尚Η與最低齒尚h是相對常規(guī)針布設(shè)計(jì)齒尚形成的面m為標(biāo)準(zhǔn)齒尚面,向上最大尚差為+3mm,向下最大高差為_3mm。本技術(shù)方案的特點(diǎn)僅限定針布眾多針齒的齒頂頂面的走向形態(tài),而不受齒形或齒頂結(jié)構(gòu)所限。
[0012]其中的非均齒高針布單元可以是如圖2或圖3所示的,針布齒頂所形成的面具有單一方向的波浪變化走向,如波浪變化沿橫向走向,所述的橫向是垂直于梳理運(yùn)轉(zhuǎn)的方向;或波浪變化沿縱向走向,所述的縱向是梳理運(yùn)轉(zhuǎn)的方向,或波浪變化與梳理運(yùn)轉(zhuǎn)方向呈任意夾角的方向走向;所述的非均齒高針布單元還可以如圖4或圖5所示,其單元齒面沿橫向和縱向兩個方向均呈波浪變化走向。
[0013]所述的非均齒高針布單元可以是具有一個波浪周期走向變化的針布單元,一個周期走向最好包括5道、9道或17道齒數(shù)。所述的非均齒高針布單元還可以是以多波浪相連續(xù)變化齒面為一變化模塊的針布單元,其中的多波浪變化可以包括有或不同幅度的、或不同周期的、或不同波浪變化走向的相連續(xù)組合的模塊單元。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種非等高齒梳理針布,其特征在于該梳理針布由非均齒高針布單元排列布置構(gòu)成,所述的非均齒高針布單元為針布齒頂所形成的面呈波浪走向的針布單元,相鄰非均齒高針布單元之間波浪走向相銜接。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的非等高齒梳理針布,其特征在于所述的非均齒高針布單元具有橫向波浪走向,所述的橫向是垂直于梳理運(yùn)轉(zhuǎn)的方向。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的非等高齒梳理針布,其特征在于所述的非均齒高針布單元具有縱向波浪走向,所述的縱向是梳理運(yùn)轉(zhuǎn)的方向。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的非等高齒梳理針布,其特征在于所述的非均齒高針布單元波浪變化與梳理運(yùn)轉(zhuǎn)方向呈任意夾角的方向走向。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的非等高齒梳理針布,其特征在于所述的非均齒高針布單元具有橫向和縱向雙向復(fù)合波浪走向。6.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3、4或5所述的非等高齒梳理針布,其特征在于所述的波浪走向幅度,其最尚齒尚(H)與最低齒尚(h)是相對常規(guī)針布設(shè)計(jì)齒尚形成的面(m)為標(biāo)準(zhǔn)齒尚面,向上最大高差為+3mm,向下最大高差為-3mm。7.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3、4或5所述的非等高齒梳理針布,其特征在于所述的非均齒高針布單元是具有一個波浪周期走向變化的針布單元,一個周期走向包括5道、或9道或17道齒數(shù)。8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的非等高齒梳理針布,其特征在于所述的非均齒高針布單元是具有一個波浪周期走向變化的針布單元,一個周期走向包括5道、或9道或17道齒數(shù)。9.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3、4或5所述的非等高齒梳理針布,其特征在于所述的非均齒高針布單元是以多波浪相連續(xù)變化齒面為一變化模塊的針布單元,其中的多波浪變化包括有或不同幅度的、或不同周期的、或不同波浪變化走向的相連續(xù)組合的模塊單元。
【專利摘要】本實(shí)用新型提供的非等高齒梳理針布,由非均齒高針布單元排列布置構(gòu)成,所述的非均齒高針布單元為針布齒頂所形成的面呈波浪走向的針布單元。本技術(shù)方案提高了分梳、松解作用,減小了對纖維的梳理損傷,降低了短絨量,提高了梳理質(zhì)量,而且呈立體多層面梳理狀態(tài),實(shí)現(xiàn)了高梳理產(chǎn)量和高梳理質(zhì)量雙贏的技術(shù)目的。
【IPC分類】D01G15/84
【公開號】CN205046241
【申請?zhí)枴緾N201520299442
【發(fā)明人】孫鵬子, 趙業(yè)平, 曹繼鵬, 李敏, 徐允振, 張明光, 韓賢國
【申請人】孫鵬子
【公開日】2016年2月24日
【申請日】2015年5月11日
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