制圖工具的制作方法
【專利摘要】一種制圖工具，其包括刻度層，所述刻度層具有外表面和與所述外表面相對的內(nèi)表面，所述外表面上設有刻度。所述制圖工具還包括底層和發(fā)光層，所述底層具有頂面和與所述頂面相對的底面，所述發(fā)光層配置于所述頂面和所述內(nèi)表面之間。本實用新型的制圖工具可讓使用者在光線不良的情況下較容易看清刻度，有利于保護使用者的視力。
【專利說明】制圖工具
【技術(shù)領域】
[0001]本實用新型是有關(guān)于一種制圖工具，特別是關(guān)于一種教學和學習用制圖工具。
【背景技術(shù)】
[0002]在數(shù)學教學或?qū)W習過程中，老師或?qū)W生經(jīng)常要用到制圖工具，以繪制弧線或直線，制圖時一般依靠外界光線觀看制圖工具上的刻度，然而當外界光線不良或有物體遮擋光線時，使用者較難看清制圖工具上的刻度，使用較為不便，且容易對眼睛造成傷害。
實用新型內(nèi)容
[0003]本實用新型主要解決的技術(shù)問題是提供一種制圖工具，可讓使用者在光線不良的情況下較容易看清刻度，有利于保護使用者的視力。
[0004]為解決上述技術(shù)問題，本實用新型采用的一個技術(shù)方案是:一種制圖工具，其包括刻度層，所述刻度層具有外表面和與所述外表面相對的內(nèi)表面，所述外表面上設有刻度。所述制圖工具還包括底層和發(fā)光層，所述底層具有頂面和與所述頂面相對的底面，所述發(fā)光層配置于所述頂面和所述內(nèi)表面之間。
[0005]在本實用新型一個較佳實施例中，所述制圖工具上還設有量角器。
[0006]在本實用新型一個較佳實施例中，所述底層、所述發(fā)光層和所述刻度層上均開設有半圓形環(huán)形孔，而形成所述量角器。
[0007]在本實用新型一個較佳實施例中，所述刻度層的外表面的靠近所述半圓形環(huán)狀孔的位置設有量角刻度。
[0008]在本實用新型一個較佳實施例中，所述刻度層上設有用于繪制直線的側(cè)邊。
[0009]在本實用新型一個較佳實施例中，所述刻度層的外表面靠近所述側(cè)邊的位置設有直線刻度。
[0010]在本實用新型一個較佳實施例中，所述刻度層和所述底層為透明層。
[0011 ] 在本實用新型一個較佳實施例中，所述底層、所述發(fā)光層和所述刻度層的厚度相同或不同。
[0012]在本實用新型的制圖工具中，由于在底層和刻度層之間設置有發(fā)光層，發(fā)光層發(fā)出的光線可照亮刻度層上的刻度，在外界光線不良的情況下，使用者較容易看清制圖工具上的刻度，有利于保護使用者的視力。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0013]圖1所示為本實用新型的制圖工具的側(cè)面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0014]圖2所示為圖1的制圖工具的平面示意圖。
【具體實施方式】
[0015]下面結(jié)合附圖對本實用新型的較佳實施例進行詳細闡述，以使本實用新型的優(yōu)點和特征能更易于被本領域技術(shù)人員理解，從而對本實用新型的保護范圍做出更為清楚明確的界定。
[0016]圖1所示為本實用新型的制圖工具的側(cè)面結(jié)構(gòu)示意圖。圖2所示為圖1的制圖工具的平面示意圖。請參見圖1和圖2，本實施例的制圖工具10包括底層12、發(fā)光層13及刻度層14，發(fā)光層13配置于底層12和刻度層14之間。制圖工具10上還設有半圓形星角器15，底層12、發(fā)光層13及刻度層14大致均為長條狀結(jié)構(gòu)，三者上均開設有半圓形環(huán)狀孔152，從而形成所述量角器15，底層12、發(fā)光層13及刻度層14長寬方向上的尺寸完全相同，三者的厚度可相同或不同。
[0017]具體地，底層12和刻度層14均為透明層，底層12具有頂面12a和與頂面12a相對的底面12b，頂面12a用于承載發(fā)光層13。亥[J度層14具有外表面14a和與外表面14a相對的內(nèi)表面14b，外表面14a上設有刻度?？潭葘?4上設有用于繪制直線的側(cè)邊141，刻度層14的外表面14a靠近側(cè)邊141的位置設有直線刻度141a，直線刻度141a用于量測直線的長度。
[0018]發(fā)光層13配置于頂面12a和內(nèi)表面14b之間，其可為磷光發(fā)光層或突光發(fā)光層，且較佳為磷光發(fā)光層。發(fā)光層13在外界光線的照射下，其內(nèi)部電子會吸收光能而躍遷至激發(fā)態(tài)，然后慢慢地衰退至基態(tài)并發(fā)出光線。由于熒光材料與磷光材料之內(nèi)部電子的衰退速度不同，因此當外界入射的光線消失時，僅有磷光發(fā)光層可以持續(xù)發(fā)出光線。
[0019]量角器15用于測量角度的大小，也可用于繪制圓弧。亥 層14的外表面14a靠近半圓形環(huán)狀孔152的位置設有量角刻度152a。
[0020]需要說明的是，本實施例的制圖工具將直尺功能和量角功能集成為一體，能夠?qū)崿F(xiàn)直線及夾角的繪制， 但本實用新型不以此為限，在其他實施例中，制圖工具還可集成三角形繪制功能、四邊形繪制功能等等。
[0021]使用時，發(fā)光層13可在吸收外界光源的光能量后，發(fā)出光線照射刻度層14，以方便使用者很容易看清刻度，有利于保護視力且能在較短時間內(nèi)繪制出所需的圖形或測量出圖形尺寸。另外，在發(fā)光層13為磷光發(fā)光層的實施例中，即使外界光源移開，發(fā)光層13仍能持續(xù)發(fā)出光線，而照亮刻度層14。因此，在外界光照不良的情況下，采用制圖工具10可方便制圖，有效保護視力。
[0022]需要注意的是，雖然圖1和圖2所示的制圖工具10可用于教學和學習，但本實用新型并不限定制圖工具的應用領域，例如，包括底層、發(fā)光層和刻度層的制圖工具也可用于工程測繪。
[0023]綜上所述，本實用新型的制圖工具具有以下的優(yōu)點:
[0024]1.在本實用新型的制圖工具中，由于在底層和刻度層之間設置有發(fā)光層，發(fā)光層發(fā)出的光線可照亮刻度層上的刻度，在外界光線不良的情況下，使用者較容易看清制圖工具上的刻度，有利于保護使用者的視力。
[0025]2.在本實用新型的制圖工具的一個實施例中，制圖工具將直尺功能、量角功能、三角形繪制功能及四邊形繪制功能集成為一體，使用方便。
[0026]以上所述僅為本實用新型的實施例，并非因此限制本實用新型的專利范圍，凡是利用本實用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關(guān)的【技術(shù)領域】，均同理包括在本實用新型的專利保護范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種制圖工具，其包括刻度層，所述刻度層具有外表面和與所述外表面相對的內(nèi)表面，所述外表面上設有刻度，其特征在于，所述制圖工具還包括底層和發(fā)光層，所述底層具有頂面和與所述頂面相對的底面，所述發(fā)光層配置于所述頂面和所述內(nèi)表面之間。
2.如權(quán)利要求1所述的制圖工具，其特征在于，所述制圖工具上還設有量角器。
3.如權(quán)利要求2所述的制圖工具，其特征在于，所述底層、所述發(fā)光層和所述刻度層上均開設有半圓形環(huán)形孔，而形成所述量角器。
4.如權(quán)利要求3所述的制圖工具，其特征在于，所述刻度層的外表面的靠近所述半圓形環(huán)狀孔的位置設有量角刻度。
5.如權(quán)利要求1所述的制圖工具，其特征在于，所述刻度層上設有用于繪制直線的側(cè)邊。
6.如權(quán)利要求5所述的制圖工具，其特征在于，所述刻度層的外表面靠近所述側(cè)邊的位置設有直線刻度。
7.如權(quán)利要求1所述的制圖工具，其特征在于，所述刻度層和所述底層為透明層。
8.如權(quán)利要求1所述的制圖工具，其特征在于，所述底層、所述發(fā)光層和所述刻度層的厚度相同或不同。
【文檔編號】B32B33/00GK203600847SQ201320813145
【公開日】2014年5月21日 申請日期:2013年12月12日 優(yōu)先權(quán)日:2013年12月12日
【發(fā)明者】徐鴻鵬, 張勇, 余小飛, 尹社會, 劉斌, 張付臣, 肖凡 申請人:河南工業(yè)職業(yè)技術(shù)學院