正反交錯提花抗紫外線耐寒面料的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種正反交錯提花抗紫外線耐寒面料，包括基布（1），基布（1）的正反兩面均設有提花層（2），提花層（2）包括若干個提花區(qū)域（21）和非提花區(qū)域（22），所述提花區(qū)域（21）和非提花區(qū)域（22）均呈塊狀且交錯排列，所述基布（1）由織物層制成，所述織物層外圍包覆有PU材料制成的具有彈性的涂層。正反交錯提花抗紫外線耐寒面料的正反面均設置交錯分布的提花區(qū)域和非提花區(qū)域，增強了面料的層次感。本發(fā)明具有防污、防水、抗紫外線，耐寒性能。
【專利說明】正反交錯提花抗紫外線耐寒面料

【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及一種面料，尤其涉及一種制作服裝、玩具的面料，屬于紡織面料領域。

【背景技術】
[0002]提花面料手感柔軟舒適，透氣性能好，頗受人們的喜愛?，F(xiàn)有的提花面料多為單面提花或雙面提花，層次感不強。且不具有防污、防水、抗紫外線，耐寒性能。


【發(fā)明內容】

[0003]本發(fā)明的目的在于克服上述不足，提供一種層次感強的正反交錯提花抗紫外線耐寒面料。
[0004]本發(fā)明的目的是這樣實現(xiàn)的:一種正反交錯提花抗紫外線耐寒面料，包括基布，所述基布的正反兩面均設有提花層，所述提花層包括若干個提花區(qū)域和非提花區(qū)域，所述提花區(qū)域呈塊狀，所述提花區(qū)域和非提花區(qū)域交錯排列，位于正反兩面的提花區(qū)域和非提花區(qū)域交錯對稱分布，所述基布由織物層制成，所述織物層外圍包覆有PU材料制成的具有彈性的涂層。
[0005]與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明的有益效果是:
1、正反交錯提花抗紫外線耐寒面料的正反面均設置交錯分布的提花區(qū)域和非提花區(qū)域，增強了面料的層次感。
[0006]2、本發(fā)明具有防污、防水、抗紫外線，耐寒性能。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0007]圖1為本發(fā)明正反交錯提花抗紫外線耐寒面料的平面示意圖。
[0008]圖2為圖1的A-A剖視圖。
[0009]其中:基布1、提花層2、提花區(qū)域21、非提花區(qū)域22。

【具體實施方式】
[0010]參見圖1和圖2，本發(fā)明涉及一種正反交錯提花抗紫外線耐寒面料，包括基布1，所述基布I的正反兩面均設有提花層2。所述提花層2包括若干個提花區(qū)域21和非提花區(qū)域22，所述提花區(qū)域21和非提花區(qū)域22均呈塊狀且交錯排列。位于正反兩面的提花區(qū)域21和非提花區(qū)域22交錯對稱分布。
[0011]所述基布I由織物層制成，所述織物層外圍包覆有材料制成的具有彈性的涂層。
【權利要求】
1.一種正反交錯提花抗紫外線耐寒面料，包括基布(1)，所述基布(I)的正反兩面均設有提花層(2)，其特征在于:所述提花層(2)包括若干個提花區(qū)域(21)和非提花區(qū)域(22)，所述提花區(qū)域(21)和非提花區(qū)域(22)均呈塊狀且交錯排列，位于正反兩面的提花區(qū)域(21)和非提花區(qū)域(22)交錯對稱分布，所述基布(I)由織物層制成，所述織物層外圍包覆有I3U材料制成的具有彈性的涂層。
【文檔編號】B32B33/00GK104290374SQ201310294300
【公開日】2015年1月21日 申請日期:2013年7月15日 優(yōu)先權日:2013年7月15日
【發(fā)明者】楊洪興 申請人:江陰東發(fā)制衣有限公司