專利名稱：一種旋轉(zhuǎn)型靶材的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及濺射鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種旋轉(zhuǎn)型靶材。
背景技術(shù)：
現(xiàn)今，基于物理氣相沉積原理的濺射鍍膜工藝，已廣泛應(yīng)用于液晶顯示設(shè)備、太陽(yáng)能電池、太陽(yáng)能真空管、半導(dǎo)體芯片等技術(shù)領(lǐng)域；而旋轉(zhuǎn)型靶材是濺射鍍膜工藝中常用的一種鍍膜耗材，旋轉(zhuǎn)型靶材一般由管狀金屬基材和鍍膜材料層構(gòu)成，正常做法是在管狀金屬基材外表面進(jìn)行表面清洗或者吹砂完后就直接噴涂鍍膜材料層，這種產(chǎn)品存在的問(wèn)題是， 鍍膜材料層與管狀金屬基材外表面結(jié)合強(qiáng)度較差，會(huì)影響旋轉(zhuǎn)型靶材在濺射鍍膜工藝中的正常使用。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種旋轉(zhuǎn)型靶材，鍍膜材料層與管狀金屬基材外表面結(jié)合強(qiáng)度高，提高其在濺射鍍膜工藝中使用的可靠性。為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型的技術(shù)方案是一種旋轉(zhuǎn)型靶材，包括管狀的金屬基材、鍍膜材料層，管狀的金屬基材兩端設(shè)有肩臺(tái)，管狀的金屬基材外表面除兩端肩臺(tái)外鍍有鎳鋁材料層，鎳鋁材料層外部再噴涂厚度均等的鍍膜材料層。優(yōu)選所述的管狀的金屬基材為管狀不銹鋼基材。所述的鍍膜材料層可為硅鋁材料層。本實(shí)用新型由于在管狀的金屬基材外表面除兩端肩臺(tái)外鍍有鎳鋁材料層，把鎳鋁材料層作為打底層，然后在鎳鋁材料層基礎(chǔ)上再噴涂厚度均等的鍍膜材料層，由于熱膨脹系數(shù)原因，這樣能使進(jìn)行打底完的管狀金屬基材外表面更好的與鍍膜材料層迭代，增強(qiáng)兩者結(jié)合強(qiáng)度，提高其在濺射鍍膜工藝中使用的可靠性。

圖1是本實(shí)用新型左視圖。圖2是圖1的A-A剖視圖。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖和具體的實(shí)施方式對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。圖1、圖2所示，一種旋轉(zhuǎn)型靶材，包括管狀的金屬基材1、鍍膜材料層2，管狀的金屬基材1兩端設(shè)有肩臺(tái)11，管狀的金屬基材1外表面除兩端肩臺(tái)11外鍍有鎳鋁材料層3， 鎳鋁材料層3外部再噴涂厚度均等的鍍膜材料層2。所述管狀的金屬基材1為管狀不銹鋼基材。所述的鍍膜材料層2為硅鋁材料層。以上僅是本實(shí)用新型一個(gè)較佳實(shí)施例，本領(lǐng)域的技術(shù)人員按權(quán)利要求作等同的改
3變都落入本案的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.一種旋轉(zhuǎn)型靶材，包括管狀的金屬基材、鍍膜材料層，管狀的金屬基材兩端設(shè)有肩臺(tái)，其特征在于管狀的金屬基材外表面除兩端肩臺(tái)外鍍有鎳鋁材料層，鎳鋁材料層外部再噴涂厚度均等的鍍膜材料層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種旋轉(zhuǎn)型靶材，其特征在于所述的管狀的金屬基材為管狀不銹鋼基材。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種旋轉(zhuǎn)型靶材，其特征在于所述的鍍膜材料層為硅鋁材料層。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)一種旋轉(zhuǎn)型靶材，包括管狀的金屬基材、鍍膜材料層，管狀的金屬基材兩端設(shè)有肩臺(tái)，管狀的金屬基材外表面除兩端肩臺(tái)外鍍有鎳鋁材料層，鎳鋁材料層外部再噴涂厚度均等的鍍膜材料層；優(yōu)選所述的管狀的金屬基材為管狀不銹鋼基材；所述的鍍膜材料層為硅鋁材料層；本實(shí)用新型鍍膜材料層與管狀金屬基材外表面結(jié)合強(qiáng)度高，提高其在濺射鍍膜工藝中使用的可靠性。
文檔編號(hào)B32B9/04GK202148348SQ201120227518
公開(kāi)日2012年2月22日 申請(qǐng)日期2011年6月30日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月30日
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