專利名稱：具有復合鍍層的板材及采用該板材的便攜式電子裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種板材，尤其涉及一種具有復合鍍層的板材及一種采用該板材的便攜式電子裝置。
背景技術(shù)：
現(xiàn)今社會，移動電話的使用越來越廣泛，使得電磁波輻射的污染越來越大，電磁波不僅會影響產(chǎn)品本身的正常運作，還可能造成人體的傷害。當不需要的電壓或電流存在且嚴重影響裝置的功(性)能時稱發(fā)生電磁波干擾(Electromagnetic hterference簡稱 EMI)，所有改變或克服此種干擾的方法稱為電磁波干擾控制(或反制)(EMIcontrol，簡稱 EMIC)。以目前來說，最普遍的防范外界電磁波干擾的方法是增加電子產(chǎn)品外包裝對電磁波的遮蔽能力。具有高導電能力的金屬對電磁波具有極佳的吸收效果及反射效果。手機外觀件采用鍍金屬材料可以有效的遮蔽電磁波，克服電磁干擾。然而手機外觀件采用金屬材料也會將手機訊號的電磁波遮蔽，故又會產(chǎn)生收訊不良的狀況。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，提供一種用于既能遮蔽電磁波，又能防止收訊不良的具有復合鍍層的板材及一種采用該板材的便攜式電子裝置實屬必要。一種具有復合鍍層的板材，包括一金屬基材及一復合鍍層。所述復合鍍層包括一形成于該金屬基材表面的絕緣的透明光學薄膜層以及一形成于該光學薄膜層表面的抗指紋漆層。所述抗指紋漆層用于消除所述光學薄膜層因薄膜干涉而產(chǎn)生的薄層色。一種便攜式電子裝置，包括外觀件，所述外觀件采用所述具有復合鍍層的板材制成。相比于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明所述的具有復合鍍層的板材的基材為金屬材料，所以可以有效遮蔽電磁波；另外，該具有復合鍍層的板材的光學薄膜層及抗指紋漆層為絕緣材料， 可使電磁波有效穿透，所以能防止收訊不良；同時，根據(jù)薄膜干涉原理，所述抗指紋漆層還可以有效消除所述光學薄膜層因薄膜干涉而產(chǎn)生的薄層色，故還能保持板材的金屬外觀。本發(fā)明所述的便攜式電子裝置采用了所述具有復合鍍層的板材，所以可以有效遮蔽電磁波，防止收訊不良，并且還能保持金屬外觀。


圖1是本發(fā)明第一實施例的具有復合鍍層的板材的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是本發(fā)明第二實施例的具有復合鍍層的板材的結(jié)構(gòu)示意圖。圖3是本發(fā)明第三實施例的便攜式電子裝置的示意圖。主要元件符號說明板材10，20
金屬基材12，22復合鍍層14，M光學薄膜層141，241抗指紋漆層142，M2金屬薄膜層243便攜式電子裝置30外觀件具體實施例方式請參閱圖1，本技術(shù)方案第一實施例提供一種具有復合鍍層的板材10，包括一金屬基材12及一復合鍍層14。所述金屬基材12可以是純金屬，如Ni、Cu、Cr、Co、Ag或Au等，也可以是合金，如
不銹鋼、鋁合金、鎂合金、鋅合金等。所述復合鍍層14包括一形成于該金屬基材12表面的絕緣的光學薄膜層141 以及一形成于該光學薄膜層141表面的抗指紋漆層142。所述光學薄膜層141的材料可以為二氧化鈦、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鋁、二氧化硅或二氧化鋯等，且為透明材料。從成本考慮，優(yōu)選為二氧化硅。所述抗指紋漆層142為透明的高分子抗指紋漆 (Anti-Fingerprint Panting，AFP)。所述抗指紋漆層142用于消除貼附于金屬基材12表面的所述光學薄膜層141因薄膜干涉而產(chǎn)生的薄層色。也即，為保持所述金屬基材12的金屬本色，可以運用薄膜干涉原理計算調(diào)整所述光學薄膜層141及所述抗指紋漆層142的厚度，得到表面顏色與所述金屬基材12顏色接近或相同的所述板材10。在本實施例中，優(yōu)選所述抗指紋漆層142為具有納米結(jié)構(gòu)的高分子抗指紋漆，因納米材料具有多孔性微結(jié)構(gòu)，能更有效的降低薄層色的產(chǎn)生。將物體的顏色用L-亮度，a_紅綠色，b_黃藍色來表示，在本實施例中，量測得到所述金屬基材12 (SUB 304號不銹鋼)顏色的(L，a, b)值為(85. 75，2. 67，6. 5)，在所述金屬基材12上僅鍍上600nm厚度的二氧化硅電介質(zhì)薄膜，得到所述板材10顏色的(L，a, b)值為(81.78,3. 22，12. 02)，可以看出所述板材10顏色的L、a、b值都與所述金屬基材12有較大差異。將所述金屬基材12上二氧化硅電介質(zhì)薄膜的厚度改為2200nm，得到所述板材10 顏色的(L，a, b)值為(80.01,2. 56,6. 57)，可以看出除了 L值外，所述板材10顏色的a，b 值與所述金屬基材12基本相同。在所述金屬基材12上先鍍3nm厚度的Al金屬膜，再鍍上 2200nm厚度的二氧化硅電介質(zhì)薄膜，得到所述板材10顏色的(L，a, b)值為(85. 37,2. 65， 6. 57)，可以看出，所述板材10顏色的L，a, b值與所述金屬基材12的顏色的L，a, b值對應相同或相近。如果所述金屬基材12的顏色為(Ll，al，bl)，則需要鍍覆所述復合鍍層14后的基材12的表面(也即所述板材10的表面)的顏色(L2，a2，b2)的值與(Ll，al，bl)相同或接近，此可以通過運用薄膜干涉原理計算調(diào)整所述光學薄膜層141與所述抗指紋漆層142的厚度得到。優(yōu)選所述光學薄膜層141的厚度范圍在1700-1900nm，最佳值為1900nm，優(yōu)選所述抗指紋漆層142的厚度范圍在1000-1500nm，最佳值為1500nm。所述光學薄膜層141的形成方式可以為真空鍍，如濺鍍、蒸鍍或離子鍍，所述抗指紋漆層142的形成方式可以為噴涂。請參閱圖2，本技術(shù)方案第二實施例提供一種具有復合鍍層的板材20，包括一金屬基材22及一復合鍍層24。所述金屬基材22可以是純金屬，如Ni、Cu、Cr、Co、Ag或Au等，也可以是合金，如
不銹鋼、鋁合金、鎂合金、鋅合金等。所述復合鍍層M包括一形成于該金屬基材22表面的金屬薄膜層M3，一形成于該金屬薄膜層243表面的絕緣的光學薄膜層Ml以及一形成于該光學薄膜層241表面的抗指紋漆層M2。所述光學薄膜層241的材料可以為二氧化鈦、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鋁、二氧化硅或二氧化鋯等，且為透明材料。從成本考慮，優(yōu)選為二氧化硅。所述金屬薄膜層M3的材料可以為鋁、銀、鈦或鎢等，優(yōu)選該金屬薄膜層243的材料為鋁。所述抗指紋漆層142用于消除所述光學薄膜層141因薄膜干涉而產(chǎn)生的薄層色， 所述金屬薄膜層243用以襯托所述光學薄膜層241更加透明。也即，為保持所述金屬基材 12的金屬本色，可以運用薄膜干涉原理計算調(diào)整所述金屬薄膜層M3、光學薄膜層141及所述抗指紋漆層142的厚度，得到表面顏色與所述金屬基材12顏色接近或相同的所述板材 10。在本實施例中，優(yōu)選所述抗指紋漆層142為具有納米結(jié)構(gòu)的高分子抗指紋漆，因納米材料具有多孔性微結(jié)構(gòu)，能更有效的降低薄層色的產(chǎn)生。將物體的顏色用L-亮度，a-紅綠色，b-黃藍色來表示，如果所述金屬表面221的顏色為(L3，a3，b3)，則需要形成所述復合鍍層M后的金屬基材22的表面(也即所述板材 20的表面)的顏色(L4，a4，b4)的值分別與(L3，a3，b;3)相等或接近，此可以通過運用薄膜干涉原理計算調(diào)整金屬薄膜層M3、所述光學薄膜層241以及所述抗指紋漆層242的厚度得至IJ。所述金屬薄膜層241的厚度為T，優(yōu)選厚度T的范圍為0 < T < 5nm。優(yōu)選所述光學薄膜層M3的厚度范圍在1700-1900nm，優(yōu)選所述抗指紋漆層M2的厚度范圍在1000-1500nm， 最佳值為1500nm。所述金屬薄膜層243及所述光學薄膜層241的形成方式可以為真空鍍， 如濺鍍、蒸鍍或離子鍍，所述抗指紋漆層242的形成方式可以為噴涂。請參閱圖3，本技術(shù)方案第三實施例提供一種便攜式電子裝置30，便攜式電子裝置30包括外觀件32，所述外觀件32采用上述第一實施例或第二實施例揭示的具有復合鍍層的板材10或20制成，在本實施例中，所述便攜式電子裝置30為手機，所述外觀件32為所述便攜式電子裝置30的外殼。相比于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明所述板材10，20的金屬基材12，22為金屬材料，故可以有效的遮蔽電磁波；另，所述光學薄膜層141、241及抗指紋漆層142、242為絕緣材料，可使電磁波有效穿透，所以能防止收訊不良；同時，根據(jù)薄膜干涉原理，所述抗指紋漆層142還可有效消除所述光學薄膜層141因薄膜干涉而產(chǎn)生的薄層色，使板材10，20還能保持金屬基材12，22的原有的金屬色澤外觀。本發(fā)明所述的便攜式電子裝置30采用了所述具有復合鍍層的板材10，20，所以可以有效遮蔽電磁波，防止收訊不良，并且還能保持金屬外觀。
權(quán)利要求
1.一種具有復合鍍層的板材，包括一金屬基材及一復合鍍層，所述復合鍍層包括一形成于該金屬基材表面的絕緣的透明光學薄膜層以及一形成于該光學薄膜層表面的透明抗指紋漆層，所述抗指紋漆層用于消除所述光學薄膜層因薄膜干涉而產(chǎn)生的薄層色。
2.如權(quán)利要求1所述的具有復合鍍層的板材，其特征在于，所述光學薄膜層的材料為二氧化鈦、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鋁、二氧化硅或二氧化鋯。
3.如權(quán)利要求2所述的具有復合鍍層的板材，其特征在于，所述光學薄膜層的材料為二氧化硅。
4.如權(quán)利要求1所述的具有復合鍍層的板材，其特征在于，所述抗指紋漆層含有納米高分子材料。
5.如權(quán)利要求1所述的具有復合鍍層的板材，其特征在于，所述光學薄膜層的厚度范圍為 1700-1900nm。
6.如權(quán)利要求1所述的具有復合鍍層的板材，其特征在于，所述抗指紋漆層的厚度范圍為 1000-1500nm。
7.如權(quán)利要求1所述的具有復合鍍層的板材，其特征在于，所述復合鍍層還包括一形成于所述金屬基材與所述光學薄膜層之間的金屬薄膜層。
8.如權(quán)利要求7所述的具有復合鍍層的板材，其特征在于，所述金屬薄膜層的材料為鋁、銀、鈦或鎢。
9.如權(quán)利要求7所述的具有復合鍍層的板材，其特征在于，所述金屬薄膜層的厚度為 T，厚度T的范圍為0 < T彡5nm。
10.一種便攜式電子裝置，包括外觀件，所述外觀件采用如權(quán)利要求1至9任一項所述的具有復合鍍層的板材制成。
全文摘要
一種具有復合鍍層的板材，包括一金屬基材及一復合鍍層。所述復合鍍層包括一形成于該金屬基材表面的絕緣的透明光學薄膜層以及一形成于該光學薄膜層表面的抗指紋漆層。所述抗指紋漆層用于消除所述光學薄膜層因薄膜干涉而產(chǎn)生的薄層色。本發(fā)明還提供一種便攜式電子裝置，其外觀件采用所述具有復合鍍層的板材制成。
文檔編號B32B15/04GK102555338SQ20101057879
公開日2012年7月11日 申請日期2010年12月8日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月8日
發(fā)明者王仲培 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司