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一種光學(xué)用聚酯薄膜及其制備方法

文檔序號(hào):2458299閱讀:319來(lái)源:國(guó)知局

專利名稱::一種光學(xué)用聚酯薄膜及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域
:本發(fā)明涉及一種聚酯薄膜,特別是涉及具有良好的粘附性、透明度、平整性,抗劃傷性、收巻性及再加工性的光學(xué)聚酯薄膜,該薄膜適用于LCD、CRT、PDP、EL等顯示裝置領(lǐng)域以及高檔IMD膜內(nèi)裝飾加工領(lǐng)域。
背景技術(shù)
:聚酯薄膜由于具有優(yōu)異的光學(xué)性能、良好的表面附著性、良好的機(jī)械性能和耐熱性能,在近年來(lái)得到廣泛應(yīng)用。雙向拉伸光學(xué)聚酯薄膜由于相對(duì)于其他塑料薄膜具有良好的尺寸穩(wěn)定性、耐化學(xué)性、高透明性及良好的加工性而被大量應(yīng)用于各種光學(xué)用聚酯薄膜材料的深加工,特別應(yīng)用于LCD、CRT、PDP、EL等顯示裝置領(lǐng)域、以及高檔IMD膜內(nèi)裝飾加工領(lǐng)域。通常,對(duì)光學(xué)聚酯薄膜材料的深加工過(guò)程,就是通過(guò)印刷、涂覆、蒸鍍、濺射、流延等方式對(duì)聚酯薄膜進(jìn)行后處理并賦予薄膜特有功能的過(guò)程。在薄膜的制造和深加工過(guò)程中,總是伴隨著不斷的放巻和收巻過(guò)程,在這過(guò)程中薄膜通過(guò)一些輥?zhàn)訒r(shí)由于與輥?zhàn)幽Σ烈约皬妮佔(zhàn)臃蛛x而在薄膜表面上產(chǎn)生劃痕。具體地說(shuō),在完全透明薄膜的情況中,由于薄膜的表面粗糙度低而操作性能差,因此涂布性能差,在后處理過(guò)程中容易產(chǎn)生劃痕。除了在后處理過(guò)程中產(chǎn)生這樣的表面缺陷外,在制造雙軸拉伸聚酯薄膜的過(guò)程中由于薄膜經(jīng)過(guò)許多輥?zhàn)樱绻诩庸み^(guò)程中薄膜的操作性差,則薄膜表面就產(chǎn)生許多缺陷。特別是當(dāng)這樣的薄膜被用于制造顯示器領(lǐng)域中的光學(xué)產(chǎn)品時(shí),由于薄膜的表面問(wèn)題會(huì)使其產(chǎn)品產(chǎn)生嚴(yán)重的缺陷。用于顯示裝置領(lǐng)域的雙軸拉伸聚酯薄膜主要作用(1)觸摸的面板,它由于要用于無(wú)機(jī)EL和液晶顯示的硬涂層等而要經(jīng)受離線(off_line)涂覆,該硬涂層在沉積透明的和傳電的IT0(銦錫氧化物)之后在其上涂銀,然后涂發(fā)光材料;(2)用在擴(kuò)散膜上的基板,它相應(yīng)于LCD監(jiān)控器、棱鏡透鏡片以及保護(hù)薄膜中薄膜的背光單元;(3)用于抑制光反射的抗反射(AR)基板,即用于阻止由顯示器中的外部光線產(chǎn)生的閃光;(4)以及用于等離子顯示板(PDP)中的近紅外光阻檔板。用于高檔IMD膜內(nèi)裝飾加工領(lǐng)域的雙軸拉伸聚酯薄膜主要作用用于IML的薄膜要求具有良好的熱穩(wěn)定性、印刷性、耐沖擊、耐劃傷及良好的化學(xué)穩(wěn)定性。上述雙軸拉伸聚酯薄膜中,用作基膜的薄膜必須具有加工穩(wěn)定性和透明性、光傳輸性、良好抗劃傷性和平整性。劃痕特別會(huì)引起電子器件的缺陷(黑點(diǎn)),這是由于在對(duì)應(yīng)有缺陷的部分上透明薄膜的不均勻涂層以及在后加工如硬涂層過(guò)程中的不均勻涂層之故。因此,在雙軸拉伸聚酯薄膜作為光學(xué)薄膜的應(yīng)用中,要獲得良好的透明性、粘附性等,就不允許在薄膜表面存有微小的缺陷。而且,在薄膜平整性方面,若薄膜平整性差,在生產(chǎn)基膜的過(guò)程中由于產(chǎn)生不均勻的抗拉強(qiáng)度,導(dǎo)致部分滑動(dòng),因此在薄膜表面引起劃痕和其他缺陷。薄膜平整性差在后加工涂布過(guò)程中也引起涂布量的不均勻量,從而生產(chǎn)出低價(jià)值的不均勻涂覆產(chǎn)品。因此,光學(xué)薄膜尤其需要達(dá)到良好的平整性。當(dāng)生產(chǎn)雙軸拉伸聚酯薄膜時(shí),常規(guī)使用的一種方法是在雙軸拉伸聚酯薄膜基膜上形成的底涂層中包含無(wú)機(jī)填料以避免劃痕。然而,在生產(chǎn)雙軸拉伸聚酯薄膜的過(guò)程中為形成底涂層的途布過(guò)程最常用的方法是在線途布,在線涂布又分為線內(nèi)涂布和線上涂布,兩種涂布過(guò)程的生產(chǎn)工序都包括有原料的熔融、擠出和冷卻以及使用該原料制造薄片,然后在生產(chǎn)薄膜時(shí)在其上施用液體涂料,主要區(qū)別就在于線內(nèi)涂布是在單軸縱向拉伸之前或之后(典型地在單軸拉伸之后進(jìn)行),而線上涂布是在雙軸取向拉伸之后進(jìn)行,不論是在拉伸前后的那一個(gè)階段涂布都需要用大量的水作為溶劑,并隨后進(jìn)行加熱干燥,這樣得到的底涂層的厚度很難保持在〉lMm以上。因此,涂布過(guò)程中所使用的無(wú)機(jī)填料在粒度大小方面具有一定的限制。如果使用粒度較大的填料,固定填料的涂層厚度比較小,從而在輥?zhàn)舆\(yùn)行中即使微小的磨擦,填料也會(huì)與涂層分離。因此,不可能達(dá)到良好薄膜操作性的初始目的,而且,由于分離出填料而輥?zhàn)颖晃廴?。比上述?wèn)題更為嚴(yán)重的是,由于在在線涂布過(guò)程中的縱向輥?zhàn)舆\(yùn)行速度(在大多數(shù)情況,縱向拉伸是借助于從動(dòng)的輥與正要隨動(dòng)的輥之間的運(yùn)行速度差異進(jìn)行薄膜拉伸的)使單軸拉伸過(guò)程出現(xiàn)的大多數(shù)缺陷是不可能避免的,因?yàn)樗鲈诰€涂布一般是在生產(chǎn)雙軸取向聚酯薄膜過(guò)程中的縱向單軸拉伸后進(jìn)行的。在涂布過(guò)程中所使用的無(wú)機(jī)填料數(shù)量大于適當(dāng)量時(shí)將導(dǎo)致與后處理原料之間的粘附性降低,并因而給產(chǎn)品物理性能造成負(fù)面影響。如果在薄膜中沒(méi)有使用填料,在由輥?zhàn)愚D(zhuǎn)動(dòng)而進(jìn)行縱向拉伸的過(guò)程中,由于拉力不均勻,則薄片熔融和擠壓后降低了薄膜的平整性。在后處理過(guò)程中薄膜不平整引起涂布不均勻,導(dǎo)致其加工性能和運(yùn)行性能產(chǎn)生嚴(yán)重的問(wèn)題。另外,為了改善常規(guī)雙軸拉伸聚酯薄膜的透明度,有人已經(jīng)不再使用填料。但不使用填料易造成薄膜平整性差和劃痕等問(wèn)題。同樣,為了避免薄膜產(chǎn)生劃痕,改善抗劃性,在線涂布過(guò)程中的底涂層中應(yīng)含有填料,從而在引起大多數(shù)劃痕的縱向拉伸過(guò)程中為避免產(chǎn)生劃痕有一個(gè)臨界限度。這樣的縱向拉伸過(guò)程在在線涂布之前進(jìn)行,也就是說(shuō),該過(guò)程是在薄膜上層形成底涂層之前進(jìn)行。因此,不可能解決帶有底涂層的薄膜在縱、橫向拉伸過(guò)程中所產(chǎn)生的劃痕問(wèn)題。在縱、橫向拉伸過(guò)程中產(chǎn)生的缺陷,通過(guò)涂覆底涂層,使相關(guān)缺陷比實(shí)際缺陷大的透鏡效果顯得更突出,導(dǎo)致對(duì)產(chǎn)品的價(jià)值產(chǎn)生更壞的影響。為改善光學(xué)聚酯薄膜基膜的自粘性,提高爽滑性,專利號(hào)為ZL200410045143.0的中國(guó)專利介紹了一種光學(xué)用聚酯薄膜,該薄膜的基底層采用兩種不同的顆粒填料,其平均直徑分別為0.03Mm0.05Mm的微粒填料和1.OMm10.OMm的填料,然后在該基底層上涂布底涂層,形成固體成份含量為2%10%的底涂層液體。由于不同微粒填料的加入,使得光學(xué)聚酯薄膜的透明度在一定程度上遭到破壞,增加了光學(xué)聚酯薄膜的發(fā)霧程度,這在許多應(yīng)用領(lǐng)域是不希望看到的,另外經(jīng)過(guò)涂布底涂層后小顆粒填料會(huì)被部分掩埋,會(huì)影響薄膜的收巻性和再加工性能。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種光學(xué)用聚酯薄膜,該光學(xué)用聚酯薄具有良好的粘附性、透明度、平整性,特別是具有良好的抗劃傷性、收巻性及再加工性。本發(fā)明要解決的另一個(gè)技術(shù)問(wèn)題是提供這種光學(xué)用聚酯薄膜的制備方法。解決上述問(wèn)題的技術(shù)方案為上述光學(xué)用聚酯薄膜,包含基膜,在基膜的至少一面上涂有底涂層,所述基膜中含有單一粒徑的填料,底涂層中含有粘合劑和平均粒徑不同的大小兩種微粒的填料,大顆粒填料的平均粒徑是小顆粒填料的平均粒徑的2倍以上。上述光學(xué)用聚酯薄膜,所述底涂層中的大顆粒填料和小顆粒填料的重量比小于1:1。上述光學(xué)用聚酯薄膜,所述底涂層中的小顆粒填料的平均粒徑為《0.1um。上述光學(xué)用聚酯薄膜,所述底涂層中的粘合劑是聚偏二氯乙烯樹(shù)脂、聚丙烯酸酯樹(shù)脂、聚氨酯樹(shù)脂、聚酯樹(shù)脂、環(huán)氧樹(shù)脂、聚酰亞胺樹(shù)脂中的一種或幾種。上述光學(xué)用聚酯薄膜,所述底涂層中的填料是二氧化硅、硫酸鋇、碳酸鈣、高嶺土、三氧化二鋁、二氧化鈦、交聯(lián)聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯中的一種或幾種。上述光學(xué)用聚酯薄膜,所述基膜中的填料是二氧化硅、硫酸鋇、碳酸鈣、高嶺土、三氧化二鋁、二氧化鈦、交聯(lián)聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯中的一種或幾種。一種光學(xué)用聚酯薄膜的制備方法,它包括以下步驟a.將基膜原料送入相應(yīng)擠出系統(tǒng)熔融擠出;b.基膜熔體經(jīng)模頭在轉(zhuǎn)動(dòng)的冷卻輥上形成無(wú)定型的鑄塑厚片;c.將冷卻后的厚片預(yù)熱后縱向拉伸3.03.8倍;d.將底涂液涂在經(jīng)縱向拉伸后的膜片的一個(gè)面或兩個(gè)面上;e.將涂好底層的膜片經(jīng)預(yù)熱后橫向拉伸3.04.0倍;f.將拉伸后的薄膜熱定型,冷卻后收巻,得到光學(xué)用聚酯薄膜。上述光學(xué)用聚酯薄膜的制備方法,所述熔融擠出溫度為26(TC30(TC。上述光學(xué)用聚酯薄膜的制備方法,所述熱定型溫度為18(TC25(TC。本發(fā)明提到的基膜是指沒(méi)有經(jīng)過(guò)預(yù)處理僅僅通過(guò)單軸取向拉伸或雙軸取向拉伸的聚酯薄膜,基膜中含有單一粒徑的填料,采用這樣的填料,可以改善光學(xué)聚酯薄膜的抗劃傷性和薄膜的收巻性,提高耐熱性能,增加滑爽性,同時(shí)對(duì)薄膜的光學(xué)性能特別是霧度影響較小。上述填料可以是無(wú)機(jī)顆粒或有機(jī)顆粒,具體的說(shuō)可以選自二氧化硅、硫酸鋇、碳酸鈣、高嶺土、三氧化二鋁、二氧化鈦、交聯(lián)聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯中的一種或幾種,優(yōu)選二氧化硅、硫酸鋇及交聯(lián)聚苯乙烯。本發(fā)明所述單一粒徑的填料是指折光率與聚酯相近的、平均粒徑為2.0土0.5wm的微粒填料。本發(fā)明中,所述基膜材料為二元酸和二元醇的聚合物,其中,二元酸可以是直鏈脂肪二酸,但主要是芳香族二酸,如對(duì)苯二甲酸、對(duì)苯二乙酸、對(duì)萘二甲酸等,優(yōu)選對(duì)苯二甲酸和對(duì)萘二甲酸,更優(yōu)選對(duì)苯二甲酸;二元醇主要是碳原子數(shù)是24的脂肪族二醇,如乙二醇、丙二醇、丁二醇等,優(yōu)選乙二醇和丁二醇,更優(yōu)選乙二醇。除了上述成分外,聚酯切片還可以是加入少量的間苯二甲酸、鄰苯二甲酸、環(huán)己垸二甲醇、雙酚A或2,6—萘二甲酸等物質(zhì)的改性共聚酯。適合本發(fā)明的聚酯切片為特性粘度為0.55dL/g0.80dL/g的對(duì)苯二甲酸與乙二醇的縮聚物對(duì)苯二甲酸乙二醇酯,優(yōu)選特性粘度為0.60dL/g0.70dL/g的對(duì)苯二甲酸乙二醇酯。為使薄膜具有良好的可操作性,本發(fā)明在基膜的至少一面涂有底涂層。本發(fā)明所述底涂層,是通過(guò)在線涂布的方式涂布在基膜的至少一面上。底涂層中含有粘合劑和平均粒徑不同的大小兩種微粒填料。粘合劑作為底涂層的成膜物質(zhì),其與基膜具有優(yōu)良的粘附性,改善了基膜的惰性,并顯著改善加工性能。粘合劑可以是溶劑型的,也可以是水性的,優(yōu)選水性的,特別優(yōu)選水性的粘合劑分散體乳液。適合本發(fā)明的粘合劑可以選自聚偏二氯乙烯樹(shù)脂、聚丙烯酸酯樹(shù)脂、聚氨酯樹(shù)脂、聚酯樹(shù)脂、環(huán)氧樹(shù)脂、聚酰亞胺樹(shù)脂中的一種或幾種。底涂層中含有平均粒徑不同的大小兩種微粒填料,大顆粒填料的平均粒徑是小顆粒填料的平均粒徑的2倍以上;小顆粒填料的平均粒徑《0.1Hm;大顆粒填料和小顆粒填料的重量比為l:1。顆粒填料的平均粒徑越小,加入量越少,對(duì)薄膜的光學(xué)性能影響就越小。如果單獨(dú)使用一種小微粒顆粒填料,由于顆粒填料平均粒徑小于底涂層的厚度,就需要加入較多小顆粒填料才能起到抗劃作用,這樣會(huì)影響底層的附著性;而單獨(dú)使用一種平均粒徑較大的顆粒填料,加入量較多會(huì)影響薄膜的透光性并且使薄膜的霧度增加。為此,本發(fā)明通過(guò)平均粒徑不同的大小兩種微粒填料的組合使用,來(lái)解決上述問(wèn)題。在上述平均粒徑不同的大小兩種微粒填料的組合使用中,要求大顆粒填料的平均粒徑是小顆粒填料的平均粒徑的2倍以上;小顆粒填料的平均粒徑《0.1Um;大顆粒填料和小顆粒填料的重量比小于l:1,是由于底涂層厚度很薄不足lum,當(dāng)顆粒填料平均粒徑太小《2.0wm,底涂層表面凸起不明顯,不能起到爽滑作用;而當(dāng)平均粒徑較大^2.0wm的顆粒填料會(huì)將顆粒的大部分凸出處底涂層表面,這樣薄膜在輥?zhàn)娱g運(yùn)行中的微小的磨擦,造成部分顆粒填料與涂層的分離,對(duì)輥?zhàn)雍捅∧ぴ斐刹幌M奈廴荆虼?,顆粒填料的平均粒徑選擇很重要。另外本發(fā)明的底涂層采用高分子粘合劑,平均粒徑《0.1um的顆粒填料基本上不會(huì)影響涂層的光學(xué)性能,同時(shí)高分子粘合劑作為涂層材料涂布成膜后的最佳性能需要延時(shí)一定的時(shí)間才能呈現(xiàn)出來(lái),大顆粒填料的加入有助于在生產(chǎn)過(guò)程中及最佳性能形成的延時(shí)階段保護(hù)薄膜底涂層。底涂層中的填料可以為無(wú)機(jī)顆?;蛴袡C(jī)顆粒,具體的說(shuō)可以選自二氧化硅、硫酸鋇、碳酸鈣、高嶺土、三氧化二鋁、二氧化鈦、聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯中的一種或幾種構(gòu)成,優(yōu)選二氧化硅、改性聚甲基丙烯酸甲酯,特別優(yōu)選膠態(tài)二氧化硅、改性聚甲基丙烯酸甲酯的分散體乳液。在基膜的至少一個(gè)面上涂覆底層的過(guò)程是在生產(chǎn)薄膜的方法的任一步驟完成的。用于在基膜上施加底涂層的方法可以是凹槽輥涂、貼膠、棒涂、噴涂、空氣刮刀涂、浸涂等己知涂布方法中的一種或多種??梢詫?duì)雙軸拉伸聚酯薄膜涂布底涂層,也可以涂覆在非拉伸聚酯薄膜或單軸拉伸聚酯薄膜之后進(jìn)行雙軸拉伸。后面的方法通常稱為在線涂布。在本發(fā)明中,優(yōu)選為后面的方法(在線涂布)。聚酯薄膜可通過(guò)常規(guī)技術(shù)如涂覆、共擠等方式制備。本發(fā)明中,光學(xué)聚酯薄膜基膜的基層聚酯樹(shù)脂在150—18(TC進(jìn)行結(jié)晶干燥處理,然后送入單螺桿擠出機(jī),在26(TC30(TC下熔融擠出;光學(xué)聚酯薄膜基膜的表層聚酯樹(shù)脂可以在150—18(TC進(jìn)行結(jié)晶干燥處理,送入單螺桿擠出機(jī)進(jìn)行熔融擠出,或者不進(jìn)行干燥處理,送入雙螺桿擠出機(jī)進(jìn)行熔融擠出,經(jīng)過(guò)拉伸后,在21(TC24(TC下熱定型。本發(fā)明可選本領(lǐng)域已知的加工工藝,如管膜工藝、平膜工藝,優(yōu)選平膜工藝,熔融的基層和表層聚酯熔體從T型模頭共擠出到驟冷的輥筒上,以保證共聚酯驟冷至無(wú)定型狀態(tài),然后拉伸取向,得到聚合物薄膜。聚合物薄膜的拉伸可以是單軸拉伸取向的,也可以是雙軸拉伸取向的,但優(yōu)選聚合物薄膜在平面的兩個(gè)相互垂直的方向上雙軸取向拉伸,以獲得令人滿意的機(jī)械和物理性能。本發(fā)明中,在線涂布底層涂布可以采用凹版輥涂布、微凹版輥涂布、轉(zhuǎn)移輥涂布或計(jì)量棒涂布等涂布方式。本發(fā)明的底涂液中,根據(jù)需要可以添加有膠粘劑、表面活性劑、防靜電劑、紫外吸收劑等等。.雙軸拉伸聚酯薄膜被纏繞在線軸上,因此,寬的薄膜在指定輥?zhàn)由线\(yùn)行時(shí)被巻繞。本發(fā)明的雙軸拉伸聚酯薄膜的基膜與其他材料能很好地粘結(jié),但如果需要,可以用電暈處理、電子束輻射、火焰處理等方法進(jìn)行表面處理,以獲得更好的印刷性或彩附性。采用本發(fā)明得到的光學(xué)用聚酯薄膜具有多層結(jié)構(gòu),其霧度值低,具有優(yōu)異的光學(xué)性能和平整性;良好的表面附著性、機(jī)械性能、耐熱性能,表面滑爽性和印刷性。本發(fā)明提供的光學(xué)聚酯薄膜的制備方法工藝簡(jiǎn)單,得到的產(chǎn)品不論是單面涂底還雙面涂底都具有良好的抗劃傷性、收巻性及再加工性,適合于LCD、CRT、PDP、EL等顯示裝置領(lǐng)域、以及高檔IMD膜內(nèi)裝飾加工領(lǐng)域等的深加工。具體實(shí)施例方式下面結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步說(shuō)明,但本發(fā)明的保護(hù)范圍不限于本發(fā)明提到的這些實(shí)施例。實(shí)施例1將特性粘度為0.65dl/g的聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯聚酯切片和平均粒徑為2.5um的交聯(lián)聚苯乙烯(PS)母料切片混合均勻,使最終交聯(lián)聚苯乙烯的含量為400卯m,將混合好的切片在17(TC結(jié)晶干燥,然后將結(jié)晶好的物料送入單螺桿擠出機(jī),在28(TC條件下熔融擠出。將上述熔融物料通過(guò)一共擠模頭,將熔體流延到一轉(zhuǎn)動(dòng)的冷卻滾筒上,成為無(wú)定型的鑄塑厚片。將此鑄塑厚片預(yù)熱到約9(TC,隨后以3.6的縱向拉伸倍數(shù)進(jìn)行縱向拉伸,然后在縱拉片上涂布底層,其中,底層涂液采用的粘合劑為聚丙烯酸酯樹(shù)脂乳液,填料為平均粒徑l.Oym的改性聚甲基丙烯酸甲酯乳液和均粒徑0.1um的改性聚甲基丙烯酸甲酯乳液,兩者的重量比為1:5。將涂有底層的縱拉片送到橫向拉幅機(jī)中,在約ll(TC條件下將片膜拉伸至橫向原始尺寸的4.0倍,將雙軸拉伸取向的聚合物膜在約22(TC的溫度條件下熱定型。最終得到厚度為175um的光學(xué)用聚酯薄膜。測(cè)其性能(見(jiàn)表l)。實(shí)施例2將特性粘度為0.60dl/g的聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯聚酯切片和平均粒徑為2.0um的二氧化硅母料切片混合均勻,使最終交聯(lián)聚苯乙烯的含量為450ppm,將混合好的切片在170r結(jié)晶干燥,然后將結(jié)晶好的物料送入單螺桿擠出機(jī),在272'C條件下熔融擠出。將上述熔融物料通過(guò)一共擠模頭,將熔體流延到一轉(zhuǎn)動(dòng)的冷卻滾筒上,成為無(wú)定型的鑄塑厚片。將此鑄塑厚片預(yù)熱到約9(TC,隨后以3.5的縱向拉伸倍數(shù)進(jìn)行縱向拉伸,然后在縱拉片上涂布底層,其中,底層涂液采用的粘合劑為聚酰亞胺樹(shù)脂乳液,填料為平均粒徑0.1wm的改性聚甲基丙烯酸甲酯乳液和平均粒徑0.03um的膠態(tài)二氧化硅,兩者的重量比為1:2。將涂有底層的縱拉片送到橫向拉幅機(jī)中,在約iicrc條件下將片膜拉伸至橫向原始尺寸的3.8倍,將雙軸拉伸取向的聚合物膜在約23(TC的溫度條件下熱定型。最終得到厚度為100um的光學(xué)用聚酯薄膜。測(cè)其性能(見(jiàn)表l)。實(shí)施例3將特性粘度為0.70dl/g的聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯聚酯切片和平均粒徑為1.5Um的硫酸鋇母料切片混合均勻,使最終交聯(lián)聚苯乙烯的含量為300卯m,將混合好的切片在17CTC結(jié)晶干燥,然后將結(jié)晶好的物料送入單螺桿擠出機(jī),在288'C條件下熔融擠出。將上述熔融物料通過(guò)一共擠模頭,將熔體流延到一轉(zhuǎn)動(dòng)的冷卻滾筒上,成為無(wú)定型的鑄塑厚片。將此鑄塑厚片預(yù)熱到約9(TC,隨后以3.1的縱向拉伸倍數(shù)進(jìn)行縱向拉伸,然后在縱拉片上涂布底層,其中,底層涂液采用的粘合劑為聚氨酯樹(shù)脂乳液,填料為平均粒徑1.0um的改性聚甲基丙烯酸甲酯乳液和平均粒徑0.03um的膠態(tài)二氧化硅,兩者的重量比為1:10。將涂有底層的縱拉片送到橫向拉幅機(jī)中,在約ll(TC條件下將片膜拉伸至橫向原始尺寸的3.3倍,將雙軸拉伸取向的聚合物膜在約235t;的溫度條件下熱定型。最終得到厚度為75um的光學(xué)用聚酯薄膜。測(cè)其性能(見(jiàn)表l)。實(shí)施例4采用上述實(shí)施例l中的方法生產(chǎn)光學(xué)用聚酯薄膜,只是在在縱拉片上涂布底層時(shí),底涂液采用的粘合劑聚氨酯樹(shù)脂和聚酯樹(shù)脂混合的乳液,填料為平均粒徑0.1lim的改性聚甲基丙烯酸甲酯乳液和平均粒徑0.03um的膠態(tài)二氧化硅,兩者的重量比為l:5。最終得到厚度為175um的光學(xué)用聚酯薄膜。測(cè)其性能(見(jiàn)表l)。實(shí)施例5采用上述實(shí)施例2中的方法生產(chǎn)光學(xué)用聚酯薄膜,只是在在縱拉片上涂布底層時(shí),底涂液采用的粘合劑為以聚偏二氯乙烯樹(shù)脂為主體的多元混合乳液,填料為平均粒徑l.Oixm的改性聚甲基丙烯酸甲酯乳液和平均粒徑0.03wm的膠態(tài)二氧化硅,兩者的重量比為1:20。最終得到厚度為100um的光學(xué)用聚酯薄膜。測(cè)其性能(見(jiàn)表l)。實(shí)施例611采用上述實(shí)施例3中的方法生產(chǎn)光學(xué)用聚酯薄膜,只是在在縱拉片上涂布底層時(shí),底涂液采用的粘合劑為聚酯樹(shù)脂乳液,填料為平均粒徑0.1Um的改性聚甲基丙烯酸甲酯乳液和平均粒徑0.03um的膠態(tài)二氧化硅,兩者的重量比為l:5。最終得到厚度為125um的光學(xué)用聚酯薄膜。測(cè)其性能(見(jiàn)表l)。比較例1將特性粘度為0.65dl/g的聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯聚酯切片與含有3.7ym二氧化硅添加劑的聚酯母料切片混合均勻,使最終二氧化硅的含量為100ppm,將此混合物料在170°C結(jié)晶干燥,然后將結(jié)晶好的物料送入單螺桿基礎(chǔ)機(jī),在28(TC條件下熔融擠出。將熔體流延到一轉(zhuǎn)動(dòng)的冷卻滾筒上,成為無(wú)定型的鑄塑厚片膜。將此鑄塑厚片預(yù)熱到約9(TC,隨后以3.6的縱向拉伸倍數(shù)進(jìn)行縱向拉伸,然后在縱拉片上涂布聚丙烯酸酯乳液,在底涂液中不含添加劑顆粒。將涂有底層的縱拉片送到橫向拉幅機(jī)中,在約ll(TC條件下將片膜拉伸至橫向原始尺寸的4.0倍,將雙軸拉伸取向的聚合物膜在約23(TC的溫度條件下熱定型。最終聚合物薄膜的厚度為175um。測(cè)其性能(見(jiàn)表l)比較例2將特性粘度為0.60dl/g的聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯聚酯切片在17(TC結(jié)晶干燥,然后將結(jié)晶好的物料送入單螺桿基礎(chǔ)機(jī),在272'C條件下熔融擠出。將熔體流延到一轉(zhuǎn)動(dòng)的冷卻滾筒上,成為無(wú)定型的鑄塑厚片膜。將此鑄塑厚片預(yù)熱到約9(TC,隨后以3.5的縱向拉伸倍數(shù)進(jìn)行縱向拉伸,然后在縱拉片上涂布環(huán)氧樹(shù)脂底層。將涂有底層的縱拉片送到橫向拉幅機(jī)中,在約ll(TC條件下將片膜拉伸至橫向原始尺寸的3.8倍,將雙軸拉伸取向的聚合物膜在約230'C的溫度條件下熱定型。最終聚合物薄膜的厚度為100um。測(cè)其性能(見(jiàn)表1)表l:性能數(shù)據(jù)表<table>tableseeoriginaldocumentpage12</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage13</column></row><table>表中各項(xiàng)性能的檢測(cè)方法1.厚度成巻薄膜片尾取樣,從距片邊30cm處開(kāi)始,沿薄膜橫向每10cm間距取一個(gè)點(diǎn),直至距另一邊30cm為止,等間距間隔測(cè)量并記錄各點(diǎn)的厚度,以ym為單位測(cè)準(zhǔn)值1Wm。2.透光率、霧度按ASTMD1003規(guī)定方法進(jìn)行測(cè)試。3.表面摩擦系數(shù)按ASTMD1894規(guī)定方法進(jìn)行測(cè)試。4.底層粘牢度HC即在光學(xué)聚酯薄膜表面涂布硬化涂層,UV固化后,用百格測(cè)試法測(cè)試硬化層粘牢度。5.收巻性膜巻無(wú)凸點(diǎn)為好;膜巻凸點(diǎn)數(shù)》1個(gè)差。權(quán)利要求1.一種光學(xué)用聚酯薄膜,它包含基膜,在基膜的至少一面上涂有底涂層,其特征在于,所述基膜中含有單一粒徑的填料,底涂層中含有粘合劑和平均粒徑不同的大小兩種微粒的填料,大顆粒填料的平均粒徑是小顆粒填料的平均粒徑的2倍以上。2.根據(jù)權(quán)利要求l所述薄膜,其特征在于,所述底涂層中的大顆粒填料和小顆粒填料的重量比小于l:l。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述光學(xué)用聚酯薄膜,其特征在于,所述底涂層中的小顆粒填料的平均粒徑為《0.lum。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述光學(xué)用聚酯薄膜,其特征在于,所述底涂層中的粘合劑是聚偏二氯乙烯樹(shù)脂、聚丙烯酸酯樹(shù)脂、聚氨酯樹(shù)脂、聚酯樹(shù)脂、環(huán)氧樹(shù)脂、聚酰亞胺樹(shù)脂中的一種或幾種。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述光學(xué)用聚酯薄膜,其特征在于,所述底涂層中的填料是二氧化硅、硫酸鋇、碳酸鈣、高嶺土、三氧化二鋁、二氧化鈦、交聯(lián)聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯中的一種或幾種。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述光學(xué)用聚酯薄膜,其特征在于,所述基膜中的填料是二氧化硅、硫酸鋇、碳酸鈣、高嶺土、三氧化二鋁、二氧化鈦、交聯(lián)聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯中的一種或幾種。7.—種制備如權(quán)利要求1、2、3、4、5或6所述光學(xué)用聚酯薄膜的方法,其特征在于,它包括以下步驟a.將基膜原料送入相應(yīng)擠出系統(tǒng)熔融擠出;b.基膜熔體經(jīng)模頭在轉(zhuǎn)動(dòng)的冷卻輥上形成無(wú)定型的鑄塑厚片;c.將冷卻后的厚片預(yù)熱后縱向拉伸3.03.8倍;d.將底涂液涂在經(jīng)縱向拉伸后的膜片的一個(gè)面或兩個(gè)面上;e.將涂好底層的膜片經(jīng)預(yù)熱后橫向拉伸3.04.0倍;f.將拉伸后的薄膜熱定型,冷卻后收巻,得到光學(xué)用聚酯薄膜。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述制備光學(xué)用聚酯薄膜方法,其特征在于,所述熔融擠出溫度為260。C300。C。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述光學(xué)用聚酯薄膜方法,其特征在于,所述熱定型溫度為18CTC250°C。全文摘要一種光學(xué)用聚酯薄膜及其制備方法,它包含基膜,在基膜的至少一面上涂有底涂層,所述基膜中含有單一粒徑的填料,底涂層中含有粘合劑和平均粒徑不同的大小兩種微粒的填料,大顆粒填料的平均粒徑是小顆粒填料的平均粒徑的2倍以上。本發(fā)明具有良好的粘附性、透明度、平整性,特別具有良好的抗劃傷性、收卷性及再加工性,適用于LCD、CRT、PDP、EL等顯示裝置領(lǐng)域以及高檔IMD膜內(nèi)裝飾加工領(lǐng)域。文檔編號(hào)B32B27/36GK101596802SQ2009100748公開(kāi)日2009年12月9日申請(qǐng)日期2009年7月10日優(yōu)先權(quán)日2009年7月10日發(fā)明者孫金峰,熊躍斌,王旭亮申請(qǐng)人:中國(guó)樂(lè)凱膠片集團(tuán)公司;合肥樂(lè)凱科技產(chǎn)業(yè)有限公司;保定樂(lè)凱薄膜有限責(zé)任公司
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