5]實(shí)施例1
[0026]如圖3、圖4和圖5所示，一種通用框架，包括形狀相互對(duì)應(yīng)的上框架和下框架，所述的上框架包括多段磁力邊條7，所述的磁力邊條7上設(shè)有一端部開(kāi)口的凹槽8，所述的凹槽8內(nèi)嵌有多塊薄板磁鐵9，薄板磁鐵9嵌在凹槽8內(nèi)，多段磁力邊條7依序首尾非接觸式連接形成矩形形狀的上框架，所述的下框架的框邊橫截面為翻倒的“Z”字形形狀，下框架的內(nèi)側(cè)設(shè)有一圈向上凸起的筋邊4，所述的筋邊4的高度等于或低于上框架的厚度，下框架的外側(cè)設(shè)有向下折彎的折邊2，筋邊4與折邊2之間為水平邊3，水平邊3的寬度等于或大于上框架的框邊寬度，所述的薄板磁鐵9為永久磁鐵，所述的永久磁鐵為釹鐵硼永磁鐵、鐵氧體永磁鐵或者釹鎳鈷永磁鐵，所述的下框架的水平邊3下表面至筋邊4上表面的距離為4mm，所述的上框架的框邊厚度< 4mm，所述的下框架上設(shè)有兩個(gè)相對(duì)設(shè)置的固定把手1，所述的固定把手I與下框架為一體成形結(jié)構(gòu)或者所述的固定把手I與下框架為分體結(jié)構(gòu)。
[0027]實(shí)施例2
[0028]如圖6所示，本實(shí)施例與實(shí)施例1的結(jié)構(gòu)和原理基本相同，不一樣的地方在于:其將原上框架底部設(shè)置凹槽8，在上框架底部凹槽8內(nèi)嵌薄板磁鐵9的方式，更改為在下框架的頂部設(shè)置凹槽8，在下框架頂部凹槽8內(nèi)嵌薄板磁鐵9的方式，即所述的上框架的外側(cè)設(shè)有向下彎折的折邊2，所述的下框架的頂部中間設(shè)有凹槽8，所述的凹槽8內(nèi)嵌有多塊薄板磁鐵9。
[0029]當(dāng)然，本實(shí)用新型通用框架除上述矩形形狀外，也可以為常見(jiàn)的圓形或橢圓形形狀。
[0030]如圖3所示，本實(shí)用新型通用框架的使用方法:1、將下框架設(shè)有筋邊4的一面朝上進(jìn)行放置，然后墊布5以及被加工物6依次按順序鋪開(kāi)放置在下框架上；2、上述被加工物6和墊布5完全鋪開(kāi)，并相對(duì)下框架位置確定后，依次在下框架框邊上的墊布5和被加工物6上面安裝嵌有薄板磁鐵9的磁力邊條7，由于磁力強(qiáng)力吸住，即將墊布5和被加工物6夾緊在上框架的磁力邊條7和下框架框邊之間；3、將墊布5和被加工物6從框架內(nèi)拆下時(shí)，在磁力邊條7的邊緣部，從下面掛住手指往上拉起，即將其剝離，拆卸方便。
[0031]如圖3、圖4所示，本實(shí)用新型通用框架的工作原理:在下框架上鋪裝墊布5以及被加工物6，因下框架內(nèi)側(cè)設(shè)有一圈向上凸起的筋邊4，筋邊4與下框架框邊之間形成臺(tái)階，鋪開(kāi)夾持時(shí)張力不會(huì)變?。辉诎惭b或刺繡時(shí)，墊布5和被加工物6向下框架內(nèi)側(cè)拉開(kāi)，受刺繡張力影響被加工物6張力增加時(shí)，張力拉緊被加工物6以及墊布5的同時(shí)將磁力邊條7向筋邊4 一側(cè)靠緊壓緊筋邊4，使上框架的磁力邊條7頂緊被加工物6以及墊布5至下框架筋邊4，有效阻止了被加工物6以及墊布5向內(nèi)移動(dòng)，讓張力保持，阻止被加工物6以及墊布5變松。
[0032]以上所述，僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并非對(duì)本實(shí)用新型作任何形式上的限制；凡本行業(yè)的普通技術(shù)人員均可按說(shuō)明書附圖所示和以上所述而順暢地實(shí)施本實(shí)用新型；但是，凡熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員在不脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案范圍內(nèi)，可利用以上所揭示的技術(shù)內(nèi)容而作出的些許更動(dòng)、修飾與演變的等同變化，均為本實(shí)用新型的等效實(shí)施例；同時(shí)，凡依據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)質(zhì)技術(shù)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何等同變化的更動(dòng)、修飾與演變等，均仍屬于本實(shí)用新型的技術(shù)方案的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種通用框架，其特征在于:包括形狀相互對(duì)應(yīng)的上框架和下框架，所述的上框架的底部中間設(shè)有凹槽(8)，所述的凹槽(8)內(nèi)嵌有多塊薄板磁鐵(9)，所述的下框架的框邊橫截面為翻倒的“Z”字形形狀，下框架的內(nèi)側(cè)設(shè)有一圈向上凸起的筋邊(4)，所述的筋邊(4)的高度等于或低于上框架的厚度，下框架的外側(cè)設(shè)有向下折彎的折邊(2)，筋邊(4)與折邊(2)之間為水平邊(3)，水平邊(3)的寬度等于或大于上框架的框邊寬度；或者所述的上框架的外側(cè)設(shè)有向下彎折的折邊(2)，所述的下框架的頂部中間設(shè)有凹槽(8)，所述的凹槽(8)內(nèi)嵌有多塊薄板磁鐵(9)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的通用框架，其特征在于:所述的下框架上設(shè)有兩個(gè)相對(duì)設(shè)置的固定把手(1 )，所述的固定把手(1)與下框架為一體成形結(jié)構(gòu)或者所述的固定把手(1)與下框架為分體結(jié)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的通用框架，其特征在于:所述的下框架的水平邊(3)下表面至筋邊(4)上表面的距離為4mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的通用框架，其特征在于:所述的上框架的框邊厚度<4_。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的通用框架，其特征在于:所述的上框架包括多段磁力邊條(7 )，所述的磁力邊條(7 )上設(shè)有一端部開(kāi)口的凹槽(8 )，所述的凹槽(8 )內(nèi)嵌有多塊薄板磁鐵(9)，薄板磁鐵(9)嵌在凹槽(8)內(nèi)，多段磁力邊條(7)依序首尾非接觸式連接形成矩形或圓形或橢圓形狀的上框架。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的通用框架，其特征在于:所述的薄板磁鐵(9)為永久磁鐵。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的通用框架，其特征在于:所述的永久磁鐵為釹鐵硼永磁鐵、鐵氧體永磁鐵或者釹鎳鈷永磁鐵。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種通用框架，包括上框架和下框架，所述的上框架的底部中間設(shè)有凹槽，所述的凹槽內(nèi)嵌有多塊薄板磁鐵，所述的下框架的橫截面為翻倒的“Z”字形形狀，下框架的內(nèi)側(cè)設(shè)有一圈向上凸起的筋邊，所述的筋邊的高度等于或低于上框架的厚度，下框架的外側(cè)設(shè)有向下折彎的折邊，筋邊與折邊之間為水平邊，水平邊的寬度等于或大于上框架的框邊寬度；或者所述的上框架的外側(cè)設(shè)有向下彎折的折邊，所述的下框架的頂部中間設(shè)有凹槽， 所述的凹槽內(nèi)嵌有多塊薄板磁鐵。本實(shí)用新型通用框架具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、使用方便、厚度薄、夾持布料穩(wěn)妥和印刷與刺繡工序通用的優(yōu)點(diǎn)。
【IPC分類】B25B11-00
【公開(kāi)號(hào)】CN204321931
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201420834221
【發(fā)明人】趙智健
【申請(qǐng)人】惠州神田精密機(jī)械有限公司
【公開(kāi)日】2015年5月13日
【申請(qǐng)日】2014年12月25日