本實用新型涉及洗浴用品的技術(shù)領(lǐng)域，更具體地說，本實用新型涉及一種多功能浴巾架。

背景技術(shù)：

在現(xiàn)有技術(shù)中，采用的浴巾架一般為橫桿式置物隔板架，其上層為置物臺，下層為毛巾桿，主要以物理支撐為主，沒有相應的附加功能，功能單一；另外，鋁合金強度高、密度小，作為貴金屬的替代品，在現(xiàn)有技術(shù)中，高檔的浴巾架一般采用鋁合金制成，而且為了賦予其裝飾性以及耐蝕性，鋁合金在應用于浴巾架中通常需要進行電鍍工藝處理，而在規(guī)范的鋁合金電鍍工藝中通常需要包括沉鋅、脫鋅、二次沉鋅、電鍍化學鎳、電鍍焦銅、電鍍酸銅、電鍍鉻以及后處理工序，而電鍍工藝不僅需要消耗大量的工藝水，而且各種添加劑眾多，其中還包括六價鉻、氰酸根等對環(huán)境和人體健康具有危害的物種。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

為了解決現(xiàn)有技術(shù)中的上述技術(shù)問題，本實用新型的目的在于提供一種多功能浴巾架。

為了解決實用新型所述的技術(shù)問題并實現(xiàn)實用新型目的，本實用新型采用了以下技術(shù)方案：

一種多功能浴巾架，包括浴巾架封閉框體，其特征在于：所述浴巾架封閉框體的上表面為置物臺，所述浴巾架封閉框體的下端設置有毛巾桿和與所述毛巾桿相匹配的凹槽，所述毛巾桿能夠從垂直狀態(tài)向所述凹槽方向旋轉(zhuǎn)90°至水平狀態(tài)。

其中，所述置物臺為平板狀的置物臺，例如可以為玻璃板、陶瓷板或金屬板等。

其中，所述浴巾架封閉框體內(nèi)設置有主控制板、音箱、風扇和紫外線消毒燈，所述音箱、風扇和紫外線消毒燈連接至所述主控制板；所述浴巾架封閉框體的主側(cè)表面上設置有LED顯示屏和觸摸控制鍵，所述浴巾架封閉框體的下表面上設置有溫度傳感器和濕度傳感器；所述LED顯示屏、觸摸控制鍵、溫度傳感器和濕度傳感器連接至所述主控制板。

其中，所述毛巾桿的下表面上設置有長孔出風口，所述浴巾架封閉框體的下表面上設置有紫外光窗口和出音孔。

其中，LED顯示屏(5)包括風力顯示屏、溫度和濕度顯示屏以及音樂顯示屏。

其中，所述主控制板還連接至藍牙模塊，從而可以通過手機APP軟件控制風扇、紫外線消毒燈和音箱的開閉。

其中，所述主控制板通過驅(qū)動電路板與風扇和紫外線消毒燈連接；所述主控制板通過功放電路與音箱連接，此外所述主控制板還直接與LED顯示屏、SD卡、按鍵電路、溫度傳感器和濕度傳感器連接；電源為所述主控制板、功放電路和驅(qū)動電路板供電；所述SD卡內(nèi)預先存儲有音樂，通過主控制板音頻輸出后通過功放電路輸出到音箱，而播出的音樂歌名以及歌詞通過LED顯示屏輸出；溫度傳感器和濕度傳感器測量的溫度和濕度數(shù)據(jù)傳輸給主控制板并由LED顯示屏輸出；所述按鍵電路將用戶的按鍵輸入傳輸給主控制板，用于控制電源的開關(guān)、音樂的開閉、風扇的開閉和紫外燈的開閉；所述主控制板上還連接有藍牙模塊，所述藍牙模塊通過與終端連接，并通過終端App控制來控制風扇的開閉、紫外消毒燈的開閉以及音樂的打開與關(guān)閉。

其中，所述毛巾桿采用鋁合金制成，所述鋁合金表面通過多弧離子鍍沉積有Ni金屬層，所述Ni金屬層中Ni的含量大于90wt%；所述Ni金屬層上通過反應磁控濺射沉積有阻擋層，所述阻擋層由包含Ni的金屬與選自N、O中的至少一種非金屬元素反應形成；所述阻擋層上通過反應磁控濺射沉積有耐磨表面層，所述耐磨表面層由包含Ni、Cr和B的元素，與選自N和O中的至少一種非金屬元素反應形成。

其中，所述耐磨表面層中Cr的含量相對于Ni、Cr和B的總量為12~30wt% ，B的含量相對于Ni、Cr和B的總量為0.5~1.5wt%；N和/或O的含量相對于耐磨表面層的總量為3~15wt%。

其中，所述毛巾桿的外觀顏色以Lab表色系統(tǒng)表示，其L值為85.0~88.1，a值為0.35~1.20，b值為1.0~5.0，其具有類似于鉑金的光澤。

與最接近的現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型所述的多功能浴巾架具有以下有益效果：

（1）本實用新型的多功能浴巾架能夠快速風干并進行紫外殺菌，從而能夠減少細菌滋生，保證毛巾使用的干凈衛(wèi)生，而集成的音樂，為沐浴時提供音樂播放，使產(chǎn)品更具人性化特點，而且還可以通過手機app對浴巾架進行智能化控制。

（2）本實用新型的毛巾桿擯棄了高能耗、高污染的電鍍工藝，而采用了環(huán)保的真空鍍膜工藝，得到的毛巾桿不僅具有貴金屬般的高貴光澤，而且耐磨損和耐腐蝕性優(yōu)異。

附圖說明

圖1為本實用新型所述的多功能浴巾架的第一視圖。

圖2為本實用新型所述的多功能浴巾架的第二視圖。

圖3為本實用新型所述的多功能浴巾架的內(nèi)部結(jié)構(gòu)框圖。

具體實施方式

以下將結(jié)合具體實施例對本實用新型所述的多功能浴巾架做進一步的闡述，以幫助本領(lǐng)域的技術(shù)人員對本實用新型的發(fā)明構(gòu)思、技術(shù)方案有更完整、準確和深入的理解；需要指出的是實施例中有關(guān)結(jié)構(gòu)、功能以及材料等的描述都是示例性的，而并不是指對實用新型保護范圍的限制。

如圖1-2所示，本實用新型的多功能浴巾架，包括浴巾架封閉框體1，所述浴巾架封閉框體1的上表面為平板狀的置物臺，例如其可以為玻璃板、陶瓷板或金屬板，當然還可以是兩種或兩種材料以上的復合板，例如由金屬板和陶瓷板構(gòu)成的層狀復合板等。所述浴巾架封閉框體1的下端設置有毛巾桿3和與所述毛巾桿3相匹配的凹槽4，所述毛巾桿3能夠從垂直狀態(tài)向所述凹槽4方向旋轉(zhuǎn)90°至水平狀態(tài)。所述毛巾桿3包括兩臂，以及兩臂之間的水平桿。所述浴巾架封閉框體1內(nèi)設置有主控制板、音箱、風扇和紫外線消毒燈，所述音箱、風扇和紫外線消毒燈連接至所述主控制板。所述浴巾架封閉框體1的主側(cè)表面上設置有LED顯示屏5和觸摸控制鍵6，所述浴巾架封閉框體1的下表面上設置有溫度傳感器和濕度傳感器；所述LED顯示屏5、觸摸控制鍵6、溫度傳感器和濕度傳感器連接至所述主控制板。所述毛巾桿3的下表面上設置有長孔出風口9，所述浴巾架封閉框體1的下表面上設置有紫外光窗口7和出音孔8。其中，LED顯示屏(5)包括風力顯示屏、溫度和濕度顯示屏以及音樂顯示屏。所述主控制板還連接至藍牙模塊，從而可以通過手機APP軟件控制風扇、紫外線消毒燈和音箱的開閉。本實用新型的多功能浴巾架，增加了毛巾風干功能，風扇的出風口設計在毛巾桿3正下方，通過出風口的角度能完全作用于毛巾上，使得毛巾能夠快速風干，減少細菌滋生，安全衛(wèi)生；其次通過設置的紫外線燈管，通過紫外線的殺菌作用，能夠進一步保證毛巾的干凈衛(wèi)生。內(nèi)置的音箱能夠為沐浴時提供音樂播放，使產(chǎn)品更具人性化特點。設置的顯示屏可以用于顯示室內(nèi)溫度、濕度、音樂歌名歌詞、風力和定時等功能，設置的觸摸控制鍵6用于控制電源開關(guān)、設置、音量大小。

如圖3所示，所述主控制板10通過驅(qū)動電路板20與風扇21和紫外線消毒燈22連接；所述主控制板10通過功放電路23與音箱24連接，此外所述主控制板10還直接與LED顯示屏(5)25、SD卡26、按鍵電路27、溫度傳感器28和濕度傳感器29連接。電源30為所述主控制板10、功放電路23和驅(qū)動電路板20供電。所述風扇21和紫外線消毒燈22通過驅(qū)動電路板20的驅(qū)動，而驅(qū)動電路板20受到主控制板10的控制。所述SD卡26內(nèi)預先存儲有音樂，通過主控制板10音頻輸出后通過功放電路23（由電源供電）輸出到音箱，而播出的音樂歌名以及歌詞通過LED顯示屏5輸出。溫度傳感器28和濕度傳感器29測量的溫度和濕度數(shù)據(jù)傳輸給主控制板10，并由LED顯示屏5輸出。所述按鍵電路27將用戶的按鍵輸入傳輸給主控制板10，用于控制電源的開關(guān)、音樂的開閉（包括聲音大小）、風扇的開閉（包括大小）和紫外燈的開閉。另外，所述主控制板10上還連接有藍牙模塊40，所述藍牙模塊40通過與終端（例如內(nèi)置有APP的手機或PAD等）連接，并通過終端App控制來控制風扇的開閉、紫外消毒燈的開閉以及音樂的打開與關(guān)閉等功能。

在本實用新型中，所述毛巾桿3采用鋁合金制成，并且為了符合環(huán)保、高效和性能卓越的原則，本實用新型所述的毛巾桿3擯棄了高污染、高能耗的電鍍工藝，而是采用環(huán)保、高效的真空鍍膜工藝。具體來說，在本實用新型中所述鋁合金表面通過多弧離子鍍沉積有Ni金屬層，申請人發(fā)現(xiàn)采用多弧離子鍍工藝相比與磁控濺射或化學反應沉積法制備的Ni金屬層，其與鋁合金基材之間的粘附性更好，當然在本實用新型中所述Ni金屬層系指主要由金屬Ni構(gòu)成的金屬層，例如其中的Ni的含量通常應當在90wt%以上。另外其中還可以含有Al、Cr、Fe、Co、Cu、Si等金屬中的至少一種，并且所述Ti、Al、Cr、Fe、Co、Cu、Si的總量應控制在10wt%以內(nèi)，否則將可能顯著影響Ni金屬層與Al合金基體之間的粘附性，并且作為優(yōu)選地，Al、Cr、Fe、Co、Cu、Si中的任一種的含量可控制在5wt%以內(nèi)，所述Ni金屬層的厚度優(yōu)選為50~500nm。所述多弧離子鍍工藝可以采用常規(guī)工藝參數(shù)，采用的靶材為Ni金屬靶，所述Ni金屬靶中Al、Cr、Fe、Co、Cu、Si等金屬的含量總和不高于10wt%，采用的靶電流為20~60A，偏壓為150~250V，氬氣的壓強為0.05~0.5 Pa。在所述Ni金屬層上通過反應磁控濺射沉積有阻擋層，所述阻擋層由包含Ni的金屬與選自N、O中的至少一種非金屬元素反應形成；所述包含Ni的金屬系指主要由金屬Ni構(gòu)成的金屬層，例如其中的Ni的含量通常應當在90wt%以上。另外其中還可以含有Al、Cr、Fe、Co、Cu、Si等金屬中的至少一種，并且所述Ti、Al、Cr、Fe、Co、Cu、Si的總量應控制在10wt%以內(nèi)就不會顯著影響膜層的性能。在阻擋層中所述非金屬元素N和O的含量為1.0~10.0wt%，優(yōu)選為1.0~5.0wt%。所述阻擋層的厚度例如可以為0.1~2.0 μm，優(yōu)選為0.1~1.0μm。所述阻擋層優(yōu)選采用反應磁控濺射工藝沉積，相比于多弧離子鍍工藝，采用反應磁控濺射工藝能夠賦予膜層更高的耐損傷性和耐蝕性。所述阻擋層上通過反應磁控濺射沉積有耐磨表面層，所述耐磨表面層由包含Ni、Cr和B的元素，與選自N和O中的至少一種非金屬元素反應形成。所述耐磨表面層中Cr的含量相對于Ni、Cr和B的總量為12~30wt% ，B的含量相對于Ni、Cr和B的總量為0.5~1.5wt%，優(yōu)選為0.5~1.0wt%。N和/或O的含量相對于耐磨表面層的總量為3~15wt%，優(yōu)選為5~10 wt%。所述阻擋層的厚度例如可以為0.2~3.0 μm，優(yōu)選為0.3~3.0μm。申請人發(fā)現(xiàn)通過添加0.5~1.5wt%的B，并控制非金屬元素的總量在3~15wt%之間，可以賦予所述毛巾桿(3)具有類似于鉑金的光澤。具體來說，所述毛巾桿3的外觀顏色以Lab表色系統(tǒng)表示， L值為85.0~88.1，a值為0.35~1.20，b值為1.0~5.0。

采用真空鍍膜工藝相比于常規(guī)的電鍍工藝（沉鋅、電鍍化學鎳、電鍍焦銅、電鍍酸銅、電鍍鉻、鉻封）具有更好的耐磨損性能和耐蝕性。

在本實用新型中所述耐蝕性采用暴露于間歇噴灑鹽溶液和潮濕循環(huán)不受控制條件下的加速腐蝕試驗（96h）并通過觀察腐蝕面積和變色情況進行評價，鹽溶液的組成為：氯化鈉20 g/L，氯化銨17.5 g/L，尿素 5 g/L，醋酸2.5 g/L，消旋乳酸15 g/L，并用氫氧化鈉調(diào)節(jié)pH值至4.7。當腐蝕面積小于5.0%，未腐蝕部分的ΔE小于1.5%，耐腐蝕性評價為優(yōu)；當腐蝕面積小于10.0%，未腐蝕部分的ΔE大于1.5%并且小于3.0%時，耐腐蝕性評價為良；其余評價為差。附著力采用自動劃痕儀進行測試（條件：載荷200N，加載速度100N/min，劃痕長度4mm，劃痕速率2mm/min），并測試其表面的顯微硬度（Hv）。

實施例1

在本實施例中鋁合金表面依次形成有Ni金屬層、阻擋層和耐磨表面層。首先，通過多弧離子鍍沉積有Ni金屬層（Ni靶，本底真空度10^-3Pa，靶電流為25A，沉積溫度250℃以上，偏壓為200V，氬氣的壓強為0.1 Pa），厚度控制在50~60nm。在所述Ni金屬層上通過反應磁控濺射沉積（Ni靶，本底真空度10^-3Pa，沉積溫度300℃，Ar 200sccm，N₂ 10sccm，O₂ 5sccm，偏壓 200V，電流20 A）厚度為0.2 μm的阻擋層，得到的阻擋層中N的含量為1.1wt%，O的含量為0.65wt%。在所述阻擋層上通過反應磁控濺射沉積（本底真空度10^-3Pa，沉積溫度300℃，Ar 200sccm，N₂ 20sccm，O₂ 20sccm，偏壓 200V，電流20 A）有厚度為0.5μm的耐磨表面層，采用的靶材中Ni的含量為71wt%，Cr的含量為28wt%，B的含量為1wt%。沉積得到的耐磨表面層中Cr的含量23.2wt%，B的含量為1.42wt%，N的含量為1.9wt%，O的含量為2.2wt%，余量為Ni。

實施例2

在本實施例中鋁合金表面依次形成有Ni金屬層、阻擋層和耐磨表面層。首先，通過多弧離子鍍沉積有Ni金屬層（Ni靶，本底真空度10^-3Pa，靶電流為25A，沉積溫度250℃以上，偏壓為200V，氬氣的壓強為0.1 Pa），厚度控制在約300nm。在所述Ni金屬層上通過反應磁控濺射沉積（Ni靶，本底真空度10^-3Pa，沉積溫度300℃，Ar 200sccm，N₂ 10sccm，O₂ 5sccm，偏壓 200V，電流20 A）厚度為0.5μm的阻擋層，得到的阻擋層中N的含量為1.1wt%，O的含量為0.65wt%。在所述阻擋層上通過反應磁控濺射沉積（本底真空度10^-3Pa，沉積溫度300℃，Ar 200sccm，N₂ 20sccm，O₂ 20sccm，偏壓 200V，電流20 A）有厚度為3.0μm的耐磨表面層，采用的靶材中Ni的含量為71wt%，Cr的含量為28wt%，B的含量為1wt%。沉積得到的耐磨表面層中Cr的含量23.2wt%，B的含量為1.42wt%，N的含量為1.9wt%，O的含量為2.2wt%，余量為Ni。

實施例3

在本實施例中鋁合金表面依次形成有Ni金屬層、阻擋層和耐磨表面層。首先，通過多弧離子鍍沉積有Ni金屬層（Ni靶，本底真空度10^-3Pa，靶電流為25A，沉積溫度250℃以上，偏壓為200V，氬氣的壓強為0.1 Pa），厚度控制在50~60nm。在所述Ni金屬層上通過反應磁控濺射沉積（Ni靶，本底真空度10^-3Pa，沉積溫度300℃，Ar 200sccm，N₂ 10sccm，偏壓 200V，電流20 A）厚度為0.2 μm的阻擋層，得到的阻擋層中N的含量為1.2wt%。在所述阻擋層上通過反應磁控濺射沉積（本底真空度10^-3Pa，沉積溫度300℃，Ar 200sccm，N₂ 20sccm，偏壓 200V，電流20 A）有厚度為0.5 μm的耐磨表面層，采用的靶材中Ni的含量為71wt%，Cr的含量為28wt%，B的含量為1wt%。沉積得到的耐磨表面層中Cr的含量22.3 wt%，B的含量為1.36wt%，N的含量為2.2wt%，余量為Ni。

實施例4

在本實施例中鋁合金表面依次形成有Ni金屬層、阻擋層和耐磨表面層。首先，通過多弧離子鍍沉積有Ni金屬層（Ni靶，本底真空度10^-3Pa，靶電流為25A，沉積溫度250℃以上，偏壓為200V，氬氣的壓強為0.1 Pa），厚度控制在50~60nm。在所述Ni金屬層上通過反應磁控濺射沉積（Ni靶，本底真空度10^-3Pa，沉積溫度300℃，Ar 200sccm，O₂ 10sccm，偏壓 200V，電流20 A）厚度為0.2 μm的阻擋層，得到的阻擋層中O的含量為1.3wt%。在所述阻擋層上通過反應磁控濺射沉積（本底真空度10^-3Pa，沉積溫度300℃，Ar 200sccm，O₂ 20sccm，偏壓 200V，電流20 A）有厚度為0.5 μm的耐磨表面層，采用的靶材中Ni的含量為71wt%，Cr的含量為28wt%，B的含量為1wt%。沉積得到的耐磨表面層中Cr的含量22.1wt%，B的含量為1.38wt%，O的含量為2.0wt%，余量為Ni。

實施例5

在本實施例中鋁合金表面依次形成有Ni金屬層、阻擋層和耐磨表面層。首先，通過多弧離子鍍沉積有Ni金屬層（Ni靶，本底真空度10^-3Pa，靶電流為25A，沉積溫度250℃以上，偏壓為200V，氬氣的壓強為0.1 Pa），厚度控制在50~60nm。在所述Ni金屬層上通過反應磁控濺射沉積（Ni靶，本底真空度10^-3Pa，沉積溫度300℃，Ar 200sccm，N₂ 10sccm，O₂ 5sccm，偏壓 200V，電流20 A）厚度為0.2 μm的阻擋層，得到的阻擋層中N的含量為1.1wt%，O的含量為0.65wt%。在所述阻擋層上通過反應磁控濺射沉積（本底真空度10^-3Pa，沉積溫度300℃，Ar 200sccm，N₂ 20sccm，O₂ 20sccm，偏壓 200V，電流20 A）有厚度為0.5μm的耐磨表面層，采用的靶材中Ni的含量為84.5wt%，Cr的含量為15wt%，B的含量為0.5wt%。沉積得到的耐磨表面層中Cr的含量12.2wt%，B的含量為0.62wt%，N的含量為1.8wt%，O的含量為2.1wt%，余量為Ni。

對比例1

在本對比例中鋁合金表面依次形成有Ni金屬層、阻擋層和耐磨表面層。首先，通過磁控濺射沉積有Ni金屬層（Ni靶，本底真空度10^-3Pa，偏壓為200V，電流為20A，沉積溫度300℃，Ar 200sccm），厚度控制在50~60nm。在所述Ni金屬層上通過反應磁控濺射沉積（Ni靶，本底真空度10^-3Pa，沉積溫度300℃，Ar 200sccm，N₂ 10sccm，O₂ 5sccm，偏壓 200V，電流20 A）厚度為0.2 μm的阻擋層，得到的阻擋層中N的含量為1.1wt%，O的含量為0.65wt%。在所述阻擋層上通過反應磁控濺射沉積（本底真空度10^-3Pa，沉積溫度300℃，Ar 200sccm，N₂20sccm，O₂ 20sccm，偏壓 200V，電流20 A）有厚度為0.5μm的耐磨表面層，采用的靶材中Ni的含量為71wt%，Cr的含量為28wt%，B的含量為1wt%。沉積得到的耐磨表面層中Cr的含量23.2wt%，B的含量為1.42wt%，N的含量為1.9wt%，O的含量為2.2wt%，余量為Ni。

對比例2

在本對比例中鋁合金表面形成有Ni金屬層和耐磨表面層。首先，通過多弧離子鍍沉積有Ni金屬層（Ni靶，本底真空度10^-3Pa，靶電流為25A，沉積溫度250℃以上，偏壓為200V，氬氣的壓強為0.1 Pa），厚度控制在50~60nm。在所述Ni金屬層上通過反應磁控濺射沉積（本底真空度10^-3Pa，沉積溫度300℃，Ar 200sccm，N₂ 20sccm，O₂ 20sccm，偏壓 200V，電流20 A）有厚度為1.0 μm的耐磨表面層，采用的靶材中Ni的含量為71wt%，Cr的含量為28wt%，B的含量為1wt%。沉積得到的耐磨表面層中Cr的含量23.2wt%，B的含量為1.42wt%，N的含量為1.9wt%，O的含量為2.2wt%，余量為Ni。

對比例3

在本對比例中鋁合金表面形成有Ni金屬層、阻擋層和耐磨表面層。首先，通過多弧離子鍍沉積有Ni金屬層（Ni靶，本底真空度10^-3Pa，靶電流為25A，沉積溫度250℃以上，偏壓為200V，氬氣的壓強為0.1 Pa），厚度控制在50~60nm。在所述Ni金屬層上通過反應磁控濺射沉積（Ni靶，本底真空度10^-3Pa，沉積溫度300℃，Ar 200sccm，N₂ 10sccm，O₂ 5sccm，偏壓 200V，電流20 A）厚度為0.2 μm的阻擋層，得到的阻擋層中N的含量為1.1wt%，O的含量為0.65wt%。在所述阻擋層上通過反應磁控濺射沉積（本底真空度10^-3Pa，沉積溫度300℃，Ar 200sccm，N₂ 20sccm，O₂ 20sccm，偏壓 200V，電流20 A）有厚度為0.5μm的耐磨表面層，采用的靶材中Ni的含量為72wt%，Cr的含量為28wt%。沉積得到的耐磨表面層中Cr的含量23.5wt%， N的含量為1.9wt%，O的含量為2.1wt%，余量為Ni。

對比例4

在本對比例中鋁合金表面依次形成有Ni金屬層、阻擋層和耐磨表面層。首先，通過多弧離子鍍沉積有Ni金屬層（Ni靶，本底真空度10^-3Pa，靶電流為25A，沉積溫度250℃以上，偏壓為200V，氬氣的壓強為0.1 Pa），厚度控制在50~60nm。在所述Ni金屬層上通過反應磁控濺射沉積（Ni靶，本底真空度10^-3Pa，沉積溫度300℃，Ar 200sccm，N₂ 10sccm，O₂ 5sccm，偏壓 200V，電流20 A）厚度為0.2 μm的阻擋層，得到的阻擋層中N的含量為1.1wt%，O的含量為0.65wt%。在所述阻擋層上通過反應磁控濺射沉積（本底真空度10^-3Pa，沉積溫度300℃，Ar 200sccm，N₂ 20sccm，O₂ 20sccm，偏壓 200V，電流20 A）有厚度為0.5μm的耐磨表面層，采用的靶材中Ni的含量為99wt%，B的含量為1wt%。沉積得到的耐磨表面層中B的含量為1.5wt%，N的含量為2.0wt%，O的含量為2.2wt%，余量為Ni。

實施例1~5以及比較例1~4制備得到的毛巾桿(3)樣品的性能如表1所示。

表1

對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，具體實施例只是對本實用新型進行了示例性描述，顯然本實用新型具體實現(xiàn)并不受上述方式的限制，只要采用了本實用新型的方法構(gòu)思和技術(shù)方案進行的各種非實質(zhì)性的改進，或未經(jīng)改進將本實用新型的構(gòu)思和技術(shù)方案直接應用于其它場合的，均在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。