電致變色窗制造方法
【專利摘要】描述了制造電致變色窗的方法。例如在搬運(yùn)和運(yùn)輸期間，絕緣玻璃單元(IGU)由保護(hù)緩沖墊片來保護(hù)。所述緩沖墊片可使用從所述IGU制造工具接收的IGU尺寸數(shù)據(jù)來定制。所述緩沖墊片可由環(huán)保材料制成。描述了激光隔離配置和在基板上圖案化和/或配置電致變色設(shè)備的相關(guān)方法。使用邊緣刪除來確保IGU中墊片和玻璃之間的良好密封，且從而更好地保護(hù)所述IGU中密封的電致變色設(shè)備。也描述了用于用所述主密封件保護(hù)所述電致變色設(shè)備邊緣并最大化IGU的電致變色窗格中可視區(qū)域的配置。
【專利說明】電致變色窗制造方法
[0001] 相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用
[0002] 本申請(qǐng)請(qǐng)求2012年4月25日提交的、題為"ELECTR0CHR0MI C WINDOW FABRICATION METHODS"的美國專利申請(qǐng)?zhí)?3/456, 056的權(quán)益和優(yōu)先權(quán)，美國專利申請(qǐng)?zhí)?13/456,056 是 2012年 3 月 27 日提交的、題為 "ELECTR0CHR0MIC WINDOW FABRICATION M ETHODS"的美國專利申請(qǐng)?zhí)?3/431,729的部分繼續(xù)申請(qǐng)案，美國專利申請(qǐng)?zhí)?3/431,729 是2010年11月8日提交的美國專利申請(qǐng)?zhí)?2/941,882的繼續(xù)申請(qǐng)案。美國專利申請(qǐng)?zhí)?13/456, 056 也是 2011 年 12 月 6 日提交的、題為"SPACERS FOR INSULATED GLASS UNITS" 的美國專利申請(qǐng)?zhí)?3/312,057的部分繼續(xù)申請(qǐng)案。該些申請(qǐng)都通過引用的方式整體并入 本文且用于所有目的。 發(fā)明領(lǐng)域
[0003] 本發(fā)明一般涉及電致變色設(shè)備，更具體說來，涉及電致變色窗。
[0004] 發(fā)明背景
[0005] 電致變色是當(dāng)材料被放置在不同的電子狀態(tài)下時(shí)，通常通過經(jīng)受電壓變化而展現(xiàn) 出光學(xué)特性的可逆電化學(xué)介導(dǎo)的變化的現(xiàn)象。光學(xué)特性通常是顏色、透射率、吸收率和反射 率中的一個(gè)或多個(gè)。一種公知的電致變色材料是氧化鶴（W〇3)。氧化鶴一種陰極電致變色 材料，其中顏色過渡（透明到藍(lán)色）通過電化學(xué)還原來發(fā)生。
[0006] 電致變色材料可例如并入用于家庭、商業(yè)和其它用途的窗。所述窗的顏色、透射 率、吸收率和/或反射率可通過誘導(dǎo)電致變色材料的變化來改變，即，電致變色窗是可電子 地變暗或變亮的窗。施加到窗的電致變色設(shè)備的小電壓將使其變暗；扭轉(zhuǎn)電壓使其變亮。 該種能力允許控制穿過窗的光的量，并提供了將電致變色窗用作節(jié)能設(shè)備的機(jī)會(huì)。
[0007] 雖然電致變色是在20世紀(jì)60年代被發(fā)現(xiàn)的，但是電致變色設(shè)備且尤其是電致變 色窗仍遺憾地存在各種問題，且盡管制造和/或使用電致變色設(shè)備的電致變色技術(shù)、裝置 和相關(guān)方法近期有許多進(jìn)步，但尚未開始實(shí)現(xiàn)其全部的商業(yè)潛力。 發(fā)明概要
[000引描述了制造電致變色窗的方法。電致變色（或"EC")設(shè)備被制造W基本上覆蓋玻 璃板（例如，浮法玻璃），且切割圖案是基于切割一個(gè)或多個(gè)電致變色窗格的設(shè)備中的一個(gè) 或多個(gè)區(qū)域來限定。在各種實(shí)施方案中，切割圖案至少部分只有在電致變色設(shè)備已被制造 且特征化之后才被限定。在一些情況下，在考慮電致變色設(shè)備的整體質(zhì)量和/或設(shè)備中缺 陷的位置之后，限定切割圖案。例如，可探測(cè)電致變色設(shè)備，W確定所有缺陷或某些類型或 類別缺陷的位置。切割圖案然后從可用的窗窗格排除該些缺陷，從而產(chǎn)生整體高質(zhì)量的產(chǎn) 品和高產(chǎn)量的工藝。在另一實(shí)例中，檢查完整的設(shè)備板，W確定EC設(shè)備的漏電流或EC設(shè)備 的電極層中一個(gè)或兩個(gè)的電阻率。如果漏電流高于闊值或TCO層的電阻率高于闊值，那么 就限制電致變色窗格的大小，W確保盡管設(shè)備的高漏電或TCO的高電阻率，所得窗也能適 當(dāng)?shù)貓?zhí)行。
[0009] 在某些實(shí)施方案中，檢查玻璃板和/或個(gè)別窗格是在制造工藝的一個(gè)或多個(gè)點(diǎn)執(zhí) 行的。例如，在EC設(shè)備形成之后，可使用各種光學(xué)、電學(xué)、化學(xué)和/或機(jī)械計(jì)量測(cè)試來探測(cè) 產(chǎn)品，W限定玻璃板的切割圖案，和/或在切割個(gè)別窗格之后來測(cè)試個(gè)別窗格。可檢查EC 設(shè)備的個(gè)別層、下層基板等。例如，檢查可包括檢測(cè)EC設(shè)備中的缺陷和/或玻璃的邊緣。
[0010] 去除玻璃板的一個(gè)或多個(gè)邊緣部分可在圖案化工藝之前進(jìn)行，和/或作為圖案化 工藝的部分，W去除潛在邊緣相關(guān)缺陷。另外，可例如經(jīng)由通過機(jī)械和/或光處理來去除玻 璃中的缺陷而修改邊緣的強(qiáng)度。例如可通過局部激光加熱來分別去除或減輕整個(gè)電致變色 設(shè)備中的缺陷區(qū)域。
[0011] 用于隔離個(gè)別電致變色窗格上EC設(shè)備的個(gè)別電極的激光劃線可在切割窗格之前 或之后添加。類似地，將電力輸送到EC設(shè)備電極的母線可在切割窗格之前或之后制造。已 知為邊緣刪除的技術(shù)（下文所述）也可在從玻璃板切割電致變色窗格之前或之后執(zhí)行。
[0012] 絕緣玻璃單元（IGU)從切割的電致變色窗格制造，且可選地，IGU的窗格中的一個(gè) 或多個(gè)被強(qiáng)化。在某些實(shí)施方案中，強(qiáng)化是通過把玻璃或其它加強(qiáng)基板層壓到切割窗格來 完成的。在具體實(shí)施方案中，層壓是在組裝IGU之后執(zhí)行的。
[0013] 一種制造一個(gè)或多個(gè)電致變色窗格的方法的特征可在于W下操作；(a)在玻璃板 上制造電致變色設(shè)備；化）限定切割玻璃板的切割圖案，W創(chuàng)建一個(gè)或多個(gè)電致變色窗格， 切割圖案至少部分在制造電致變色設(shè)備之后通過由一個(gè)或多個(gè)物理特征（特性）特征化玻 璃板和/或電致變色設(shè)備來限定；和（C)根據(jù)切割圖案切割玻璃板，W創(chuàng)建一個(gè)或多個(gè)電致 變色窗格。在一個(gè)實(shí)施方案中，特征化玻璃板和/或電致變色設(shè)備包括：識(shí)別一個(gè)或多個(gè)低 缺陷率區(qū)域、在玻璃板的一個(gè)或多個(gè)邊緣附近劃線一個(gè)或多個(gè)隔離溝槽、把臨時(shí)母線應(yīng)用 到電致變色設(shè)備，和激活電致變色設(shè)備W評(píng)價(jià)電致變色設(shè)備的缺陷率。在EC設(shè)備中識(shí)別缺 陷（包括非均勻性區(qū)域）的其它方法包括將偏振光應(yīng)用到玻璃窗格等。在一個(gè)實(shí)施方案中， 映射數(shù)據(jù)集是基于電致變色設(shè)備上一個(gè)或多個(gè)低缺陷率區(qū)域和/或非均勻區(qū)域創(chuàng)建的，且 數(shù)據(jù)集被進(jìn)行比較W最大限度地有效利用玻璃板。
[0014] 在一些實(shí)施方案中，電致變色設(shè)備利用個(gè)別電致變色窗格上所有的非穿透性母 線。該樣，在電致變色窗格中可獲得更多可視區(qū)域。改進(jìn)的電致變色窗格可被集成到IGU 中，且窗格中的一個(gè)或多個(gè)可包含強(qiáng)化特征，例如玻璃、塑料或其它合適材料的層壓基板。
[0015] 某些實(shí)施方案涉及用于例如在搬運(yùn)和/或運(yùn)輸期間保護(hù)IGU的邊緣的方法和裝 置。描述了邊緣緩沖墊片化umper) W及制造邊緣緩沖墊片的方法、優(yōu)勢(shì)和實(shí)施。邊緣緩沖 墊片尤其適用于保護(hù)包括退火玻璃的IGU，但也保護(hù)回火或強(qiáng)化玻璃IGU。
[0016] 各種實(shí)施方案包括激光隔離配置和在基板上圖案化和/或配置電致變色設(shè)備的 相關(guān)方法。在某些實(shí)施方案中，使用邊緣刪除來確保IGU中墊片和玻璃之間的良好密封，且 從而更好地保護(hù)IGU中密封的電致變色設(shè)備。某些實(shí)施方案包括沒有隔離劃線的EC設(shè)備。 也描述了用于用主密封件保護(hù)EC設(shè)備邊緣并最大化IGU的電致變色窗格中可視區(qū)域的配 置。該些實(shí)施方案同樣適用于退火玻璃、強(qiáng)化和回火玻璃基板W及非玻璃基板。
[0017] 下文將參考相關(guān)附圖進(jìn)一步詳細(xì)描述該些和其它特征和優(yōu)勢(shì)。
[0018] 附圖簡(jiǎn)述
[0019] 當(dāng)結(jié)合附圖考慮時(shí)，可更全面地理解W下詳細(xì)描述，在附圖中：
[0020] 圖IA-B描繪了描述本發(fā)明的制造方法的方面的工藝流程。
[0021] 圖2A-B是描繪本發(fā)明的制造方法的方面的示意圖。
[0022] 圖2C-D描繪了邊緣保護(hù)設(shè)備的方面。
[002引圖3A描繪了加強(qiáng)板到IGU的液態(tài)樹脂層壓。
[0024] 圖3B描繪了如相對(duì)于圖3A描述的層壓IGU的橫截面。
[0025] 圖4A-B是描繪電致變色設(shè)備的兩個(gè)側(cè)視圖的橫截面示意圖。
[0026] 圖4C是相對(duì)于圖4A-B描述的電致變色設(shè)備的示意頂視圖。
[0027] 圖5A是示出相對(duì)于圖4A-C描述的集成到IGU的設(shè)備的橫截面示意圖。
[002引圖5B是示出如圖5A中的IGU的橫截面示意圖，其中EC窗格通過層壓來強(qiáng)化。
[0029] 圖6A-B是電致變色設(shè)備的橫截面示意圖。
[0030] 圖6C是相對(duì)于圖6A-B描述的電致變色設(shè)備的示意頂視圖。
[003。 圖7是示出相對(duì)于圖6A-C描述的集成到IGU的設(shè)備的橫截面示意圖。
[0032] 圖8A是相對(duì)于圖8B-C描述的電致變色設(shè)備的示意頂視圖。
[0033] 圖8B-C是描繪電致變色設(shè)備的兩個(gè)側(cè)視圖的橫截面示意圖。
[0034] 圖9A-B是描繪電致變色設(shè)備的兩個(gè)側(cè)視圖的橫截面示意圖。
[0035] 圖9C是相對(duì)于圖9A-B描述的電致變色設(shè)備的示意頂視圖。
[0036] 圖10描繪了與被配置W遮蔽所有劃片線的有色電致變色窗格相比的被配置W免 遮蔽某些劃片線的有色電致變色窗格。
[0037] 圖11是示出玻璃基板、電致變色設(shè)備、母線、墊片、主密封件和次密封件的相對(duì)配 置的IGU的部分橫截面。
[00測(cè)詳細(xì)描述
[0039] 對(duì)于窗的應(yīng)用，電致變色窗格很結(jié)實(shí)并且相對(duì)無缺陷是非常重要的。傳統(tǒng)上，玻璃 窗格是通過回火來強(qiáng)化。遺憾的是，回火工藝可把缺陷引入電致變色設(shè)備。因此，對(duì)產(chǎn)生電 致變色窗的大多數(shù)的努力利用首先把玻璃窗格切割成一定尺寸、然后回火玻璃W及最后在 回火窗格上形成電致變色設(shè)備的制造順序。電致變色設(shè)備通常通過在預(yù)切割和回火玻璃窗 格的一側(cè)上沉積一系列薄層來形成。遺憾的是，切割W及之后形成EC設(shè)備的所述順序經(jīng)常 會(huì)導(dǎo)致一些低質(zhì)量的電致變色窗，因?yàn)楝F(xiàn)代制造工藝經(jīng)常在電致變色設(shè)備上產(chǎn)生一個(gè)或多 個(gè)可見缺陷。當(dāng)然，制造商可拒絕容忍低質(zhì)量的設(shè)備，但拒絕低質(zhì)量的窗格對(duì)應(yīng)于產(chǎn)量降 低。
[0040] 如本文所述，各種制造方法可改進(jìn)產(chǎn)量和質(zhì)量。在該些方法中，最初制造電致變色 設(shè)備W基本上覆蓋玻璃板。直到后來才在玻璃板上限定多個(gè)電致變色窗格的切割圖案。切 割圖案可考慮各方面的考慮，包括利用板、所制造的EC設(shè)備中的缺陷、EC窗格的特定尺寸 和形狀的經(jīng)濟(jì)需求、設(shè)備和/或玻璃板中的非均勻性等。
[0041] 通常，有問題的缺陷只在玻璃板的非常小或有限的一個(gè)或多個(gè)區(qū)域中發(fā)生。一旦 被識(shí)別，當(dāng)在切割圖案中限定電致變色窗格時(shí)就可排除該些區(qū)域。W此方式，切割圖案可能 解釋玻璃板的高（或低）缺陷率區(qū)域。雖然經(jīng)常需要在大玻璃板上探測(cè)EC設(shè)備W識(shí)別并排 除缺陷區(qū)域，但是在不探測(cè)設(shè)備的情況下排除某些區(qū)域有時(shí)可能是適當(dāng)?shù)摹＠纾袝r(shí)觀察 至IJ，缺陷集中在大玻璃板的周邊。因此，有時(shí)希望從電致變色窗格的圖案排除周邊區(qū)域。在 一個(gè)實(shí)例中，在玻璃上制造電致變色設(shè)備之后，去除玻璃板的周邊周圍的約1英寸和約10 英寸之間。在各種實(shí)施方案中，排除所述周邊區(qū)域是理所當(dāng)然的事，其中被排除的周邊區(qū)域 的確切的量基于明確定義的生產(chǎn)制造工藝的質(zhì)量控制（QC)的知識(shí)。
[0042] 在限定切割圖案之后的某個(gè)點(diǎn)提供個(gè)別窗格的劃線和/或母線。如所提及，可在 根據(jù)圖案把玻璃板切割成一個(gè)或多個(gè)電致變色窗格之前和/或之后，把該些特征提供到個(gè) 別EC窗格。切割本身可利用改進(jìn)所得切割窗格的強(qiáng)度的過程。另外，如下所述，邊緣可被 "精加工"W減輕切割產(chǎn)生的問題。另外，在一些實(shí)施方案中，IGU被從切割電致變色窗格制 造，且可選地，IGU的窗格中的一個(gè)或多個(gè)被強(qiáng)化。下文參照附圖描述了本發(fā)明的方面的更 多細(xì)節(jié)。
[0043] 圖IA描繪了工藝流程100,包括制造一個(gè)或多個(gè)電致變色窗格的一系列操作。首 先接收玻璃板，參看110。為了本文所述實(shí)施方案的目的，在該工藝的稍后階段，大玻璃板 旨在被切割成較小的窗格。通常，窗格旨在被用作窗，所W基板的物理尺寸W及光學(xué)和機(jī)械 性能應(yīng)適合于預(yù)期的窗應(yīng)用。在典型的實(shí)例中，在操作100利用的大玻璃板是至少一個(gè)側(cè) 面的長(zhǎng)度為約3米和約6米之間的一塊玻璃。在一些情況下，玻璃是矩形，為約3至6米高 且約1.5至3米寬。在【具體實(shí)施方式】中，玻璃板為約2米寬且約3米高。在一個(gè)實(shí)施方案 中，玻璃為6英尺乘10英尺。無論玻璃板的尺寸是多少，EC窗格制造設(shè)備都被設(shè)計(jì)W容納 并處理許多該樣的板，從而一個(gè)接一個(gè)連續(xù)地在所述板上制造EC設(shè)備。
[0044] 用于玻璃板的合適的玻璃包括浮法玻璃、CioriUa'"?玻璃（可購自Midland, Michigan的Dow Corning公司的商標(biāo)名堿鉛娃酸鹽玻璃板）等。本領(lǐng)域技術(shù)人員將認(rèn)識(shí) 至IJ，EC設(shè)備可在玻璃基板之外的基板上形成。本文所述的方法也意欲包括無機(jī)玻璃W外的 其它基板，例如，在一些實(shí)例中，有機(jī)玻璃也行。為了簡(jiǎn)潔的目的，本文使用的"玻璃板"包 括所有類型的窗基板，除非另有具體限定。
[0045] 在一個(gè)實(shí)施方案中，玻璃板是浮法玻璃，所述浮法玻璃可選地涂覆有透明導(dǎo)電 氧化物（TCO)和擴(kuò)散阻擋層。所述玻璃的實(shí)例包括W Toledo,化io的Pi化ington的商 標(biāo)TEC?玻璃和Pittsbur曲，化nnsylvania的PPG工業(yè)公司的商標(biāo)SUNGATE? 300和 SUNGATE'k 500出售的導(dǎo)電層涂覆的玻璃。玻璃板的尺寸至少等于預(yù)期用于制造的最大 EC玻璃窗格。teg?玻璃是涂覆有氣化氧化錫導(dǎo)電層的玻璃。所述玻璃通常也具有TCO和 浮法玻璃之間的擴(kuò)散阻擋層，W防止軸從玻璃擴(kuò)散到TCO中。在一個(gè)實(shí)施方案中，玻璃板上 不具有預(yù)成型的TCO或擴(kuò)散阻擋，例如，在一個(gè)實(shí)施方案中，擴(kuò)散阻擋、第一 TC0、電致變色 堆疊和第二TCO都在受控周圍環(huán)境下在單個(gè)裝置中形成（見下文）。在玻璃板上制造電致 變色巧C)設(shè)備之前，可熱強(qiáng)化所述玻璃板。
[0046] 接下來，在所描繪的工藝中，在玻璃板上制備電致變色巧C)設(shè)備，參看120。倘若 玻璃板包括預(yù)成型擴(kuò)散阻擋和TC0,則EC設(shè)備將TCO用作其導(dǎo)體之一。倘若玻璃板是不具 有任何預(yù)成型涂層的浮法玻璃，則120通常包括最初沉積擴(kuò)散阻擋層、然后透明導(dǎo)體（通常 TC0)層W及此后形成EC設(shè)備的剩余部分。該包括具有電致變色巧C)層、對(duì)電極仰）層 和離子導(dǎo)電（IC)層的EC堆疊。形成EC堆疊之后，另一透明導(dǎo)體層（通常為TCO層）被沉 積作為第二導(dǎo)體（W將電力傳輸給EC堆疊）。此時(shí)，EC設(shè)備完成且操作120結(jié)束。也可 涂覆一個(gè)或多個(gè)覆蓋層。在一個(gè)實(shí)例中，涂覆密封層W使設(shè)備防潮。在另一實(shí)例中，涂覆低 E(發(fā)射率）涂層。
[0047] 如本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)理解，存在許多不同類型的電致變色設(shè)備，其中每種電致變 色設(shè)備具有其自己的結(jié)構(gòu)、電極組成、電荷載體等。該些設(shè)備中的任何設(shè)備可用于本文所 述的窗中。某些實(shí)施方案結(jié)合所有固態(tài)和無機(jī)電致變色設(shè)備進(jìn)行了描述。在W下美國專 利申請(qǐng)中更詳細(xì)地描述了所述所有固態(tài)和無機(jī)電致變色設(shè)備和制造所述電致變色設(shè)備的 方法：2009年12月22日提交并命名Mark Kozlowski等人為發(fā)明人的題為"F油rication of Low-Defectivity Electroc虹omic Devices"的序列號(hào) 12/645, 111 ;2009 年 12 月 22 日提交并命名化ongchun Wang等人為發(fā)明人的題為"Electroc虹omic Devices"的序列號(hào) 12/645, 159 ;2010 年 4 月 30 日提交的序列號(hào) 12/772, 055 和 12/772, 075 W及 2010 年 6 月 11 日提交的序列號(hào)12/814, 277和12/814, 279,后四個(gè)申請(qǐng)中每一個(gè)都題為"Electroc虹omic Devices",每一個(gè)都命名化ongchun Wang等人為發(fā)明人。W上專利申請(qǐng)中的每一個(gè)都W引 用的方式并入本文W用于所有目的。在一個(gè)實(shí)施方案中，電致變色設(shè)備為如W上申請(qǐng)中描 述的低缺陷率的全固態(tài)和無機(jī)電致變色設(shè)備。在一個(gè)實(shí)施方案中，EC設(shè)備是在具有受控周 圍環(huán)境的裝置中的玻璃板上制造的，即，其中沉積層而不會(huì)離開裝置且例如不會(huì)在沉積步 驟之間破壞真空的裝置，從而減少污染并提高最終設(shè)備的性能。該種制造可包括在玻璃板 上沉積擴(kuò)散阻擋和包括兩個(gè)電極（TC0層）的EC設(shè)備。
[0048] 如所提及，檢查可在制造流程中各個(gè)點(diǎn)內(nèi)部地進(jìn)行。例如，可在處理期間檢查TC0、 EC、1C、CE層中的一個(gè)或多個(gè)?？墒褂霉?、電、化學(xué)或機(jī)械檢查來特征化層的一個(gè)或多個(gè)參 數(shù)。所述參數(shù)包括例如玻璃基板表面上的層中的任何層的光學(xué)密度、片電阻、厚度、缺陷率、 形態(tài)W及均勻性?？稍诓ＡО灞砻嫔现圃煺麄€(gè)EC設(shè)備之后，分開執(zhí)行一個(gè)或多個(gè)檢查。如 本文其它處所闡釋，所述檢查可特征化表面上各區(qū)域處的缺陷率和/或EC設(shè)備中的非均勻 性。
[0049] 本領(lǐng)域一般技術(shù)人員應(yīng)理解，除了電致變色設(shè)備W外，所述工藝中也可使用其它 可切換光學(xué)設(shè)備。許多所述設(shè)備被形成為下層基板上的層。合適的光學(xué)設(shè)備的實(shí)例包括各 種液晶設(shè)備和電泳設(shè)備，包括旋轉(zhuǎn)元件和息浮顆粒設(shè)備。該些設(shè)備中的任何設(shè)備可被制造 或W其它方式提供在大玻璃板上，且然后本文所述地處理。
[0050] 再次參看圖1A，一旦制備了 EC設(shè)備，切割圖案就被限定，參看130。如所闡釋，在 沉積電致變色設(shè)備之后限定切割圖案提供相當(dāng)大的靈活性來確定窗格中使用制造設(shè)備的 哪些區(qū)域W及未使用制造設(shè)備的哪些區(qū)域。該也提供了靈活性來基于制造電致變色設(shè)備的 整體質(zhì)量而確定窗格的適當(dāng)尺寸。當(dāng)然，有驅(qū)動(dòng)切割圖案的一系列的考慮，且只有一些考慮 涉及制造設(shè)備的質(zhì)量或條件?？傮w而言，用于限定玻璃板上EC窗格的圖案的特性可包括W 下中的任意一個(gè)或多個(gè)；（1)局部缺陷率或局部質(zhì)量的其它測(cè)量（例如，片電阻的局部非均 勻性），（2)對(duì)特定等級(jí)的產(chǎn)品的需求（例如，一些終端用戶指定EC窗格的特定等級(jí)或質(zhì) 量），（3)對(duì)特定尺寸和形狀的產(chǎn)品的需求，（4)重制需求（由某些類型的EC窗格的斷裂和 /或低產(chǎn)制造引起），（5)玻璃板和/或個(gè)別EC窗格上EC設(shè)備類型的當(dāng)前庫存，（6)利用總 體玻璃板的面積，和（7化C設(shè)備的全局屬性（例如，EC設(shè)備漏電流和電極（TCO)電阻）。全 局屬性可能決定了最終EC窗格的適當(dāng)?shù)拇笮』虻燃?jí)。例如，高EC設(shè)備漏電流或高TCO電 阻可能表明所得EC窗格必須相對(duì)較小（例如，不大于約20英寸）。換種方式說，上面具有 制造的EC設(shè)備的玻璃板基于全局屬性分檔。
[0051] 在一些實(shí)施方案中，圖案中限定的窗格中的一個(gè)或多個(gè)被調(diào)整尺寸和形狀W用于 住宅窗應(yīng)用。在一些情況下，圖案中限定的窗格中的一個(gè)或多個(gè)被調(diào)整尺寸和形狀W用于 商業(yè)窗應(yīng)用。
[0052] 基于W上的考慮，限定切割玻璃板的切割圖案W創(chuàng)建一個(gè)或多個(gè)電致變色窗格可 包括；在制造電致變色設(shè)備之后，特征化玻璃板和/或電致變色設(shè)備的一個(gè)或多個(gè)物理特 征。在一個(gè)實(shí)施方案中，特征化一個(gè)或多個(gè)物理特征包括W下中的至少一個(gè)：1)識(shí)別電致 變色設(shè)備上的一個(gè)或多個(gè)低缺陷率區(qū)域，2)識(shí)別電致變色設(shè)備中的一個(gè)或多個(gè)非均勻性區(qū) 域，3)識(shí)別用W制造電致變色設(shè)備的材料被沉積在玻璃板的背側(cè)上的一個(gè)或多個(gè)區(qū)域；4) 識(shí)別電致變色設(shè)備的一個(gè)或多個(gè)性能特性；和5)識(shí)別玻璃板中的一個(gè)或多個(gè)缺陷。下文更 詳細(xì)地描述了識(shí)別電致變色設(shè)備中的一個(gè)或多個(gè)低缺陷率區(qū)域。EC設(shè)備中的非均勻區(qū)域例 如是其中例如由于EC設(shè)備的各層的厚度的變化而產(chǎn)生的著色不均勻、例如由于EC堆疊形 成期間的不均勻加熱而產(chǎn)生的設(shè)備的特性的變化等的區(qū)域。非均勻區(qū)域因此可獨(dú)立于例如 短的相關(guān)光學(xué)缺陷的數(shù)目。可能需要從切割圖案去除該些區(qū)域，或把該些區(qū)域包括在切割 圖案中但例如將該些區(qū)域識(shí)別為將切割不同質(zhì)量的EC窗格的區(qū)域。又，取決于工藝條件， 用W制造電致變色設(shè)備的材料可能由于過噴而被沉積在玻璃板的背側(cè)。該是不希望的，且 因此在EC設(shè)備形成之后，存在背面沉積是玻璃板的有用的特性。具有背面材料的區(qū)域可被 清洗W去除不需要的材料，和/或該些區(qū)域被排除到切割圖案之外。電致變色設(shè)備的性能 特性也是用于特征化EC設(shè)備的重要參數(shù)。如上文所述，例如，EC設(shè)備可用不同的方式來使 用，該取決于它是否落入某一規(guī)范類別。例如，不論EC設(shè)備的性能怎樣，識(shí)別玻璃板中的一 個(gè)或多個(gè)缺陷都很重要，玻璃板中可能有缺陷，如被困在玻璃中的氣泡或裂縫，所述缺陷由 于其不理想的光學(xué)性質(zhì)而將被排除到切割圖案之外。
[0053] 在具體實(shí)施方案中，通過首先檢測(cè)設(shè)備的缺陷并把設(shè)備的缺陷映射到玻璃板上W 及然后從切割圖案中一個(gè)或多個(gè)電致變色窗格排除或驅(qū)除高缺陷率區(qū)域來限定切割圖案 (圖IA的操作130)。圖IB提供了該個(gè)實(shí)施方案的示范性工藝流程。首先，如方塊131中 所描繪，玻璃板的設(shè)備被劃線W限定可用區(qū)域，所述可用區(qū)域通常為玻璃板上制備的設(shè)備 的基本上整個(gè)區(qū)域。劃線可達(dá)到兩個(gè)目的。首先，劃線電隔離了兩個(gè)電極W提供功能設(shè)備， 且其次，劃線去除了 EC堆疊的明顯缺陷部分。在一些情況下，在玻璃板的邊緣區(qū)域中沉積 EC膜表現(xiàn)出無社和/或其它缺陷，且從而呈現(xiàn)短路的非常實(shí)際的問題。為了解決該個(gè)問題， 設(shè)備的邊緣區(qū)域被隔離或去除。實(shí)現(xiàn)該一點(diǎn)的技術(shù)包括劃線（在圖IB中展示）、邊緣刪除 或僅去除玻璃板和相關(guān)設(shè)備的周邊的某些部分。
[0054] 劃線之后，應(yīng)用臨時(shí)母線，參看132。然后，通過施加電能來激活設(shè)備，W著色或W 其它方式改變?cè)O(shè)備的光學(xué)性能，使得可特征化設(shè)備且可檢測(cè)任何缺陷，參看133。然后，設(shè) 備被特征化，包括識(shí)別任何缺陷和就類型和/或嚴(yán)重性而可選地分類缺陷，參看134。在一 些實(shí)施方案中，EC設(shè)備中的非均勻性也在該個(gè)階段被特征化，且當(dāng)限定切割圖案時(shí)，所述非 均勻性被納入考量。在一些實(shí)施方案中，該個(gè)特征化包括玻璃窗格W及玻璃窗格上的EC設(shè) 備。在一些實(shí)例中，識(shí)別和/或分類通過肉眼執(zhí)行。在其它實(shí)例中，該個(gè)操作通過自動(dòng)掃描 設(shè)備執(zhí)行。在一個(gè)實(shí)施方案中，較大的短型視覺缺陷通過應(yīng)用電或光能來減輕。在具體實(shí) 施方案中，所述缺陷受激光燒蝕限制，W創(chuàng)建更小的針孔型缺陷。當(dāng)識(shí)別低缺陷率區(qū)域時(shí)， 該些減輕的缺陷可被包括在缺陷計(jì)數(shù)中。在另一實(shí)施方案中，該個(gè)燒蝕或其它減輕在從玻 璃板切割窗格之后執(zhí)行。
[00巧]應(yīng)理解，激活EC設(shè)備和詳細(xì)檢查設(shè)備只是檢測(cè)并識(shí)別缺陷的一種方式。其它方法 包括：使用與EC設(shè)備互動(dòng)的各種形式的電磁福射的衍射、反射或折射，例如，偏振光和/或 鎖相紅外（IR)熱成像法。鎖相IR熱成像法是一種用于空間分辨檢測(cè)電子材料中小的漏電 流的非破壞性和非接觸技術(shù)，所述技術(shù)涉及將溫度源應(yīng)用到材料（在該種情況下為EC設(shè) 備）和使用例如紅外照相機(jī)來檢測(cè)漏電流引起的溫度變化。因此，各實(shí)施方案不僅包括激 活EC設(shè)備W識(shí)別缺陷，也可包括或替代性地使用識(shí)別缺陷的其它方法。
[0056] 如圖所示，在玻璃板上限定的切割圖案可排除玻璃板上提供的電致變色設(shè)備的一 個(gè)或多個(gè)高缺陷率區(qū)域。因此，本文所考慮的制造順序通常涉及在限定切割圖案之前識(shí)別 低缺陷率或高缺陷率區(qū)域。在某些實(shí)施方案中，"低缺陷率"區(qū)域是低于缺陷的闊值數(shù)目或 密度的電致變色設(shè)備的區(qū)域。缺陷可用各種方式來識(shí)別和特征化。在某些實(shí)施方案中，女口 美國專利申請(qǐng)12/645, 111和12/645, 159中所述識(shí)別和/或分類缺陷，兩個(gè)美國專利申請(qǐng) 之前都W引用的方式并入。
[0057] 在某些具體實(shí)施方案中，當(dāng)限定切割圖案時(shí)，只考慮視覺缺陷。視覺缺陷包括當(dāng)設(shè) 備變暗時(shí)產(chǎn)生光環(huán)的短型缺陷。光環(huán)是設(shè)備中電致變色堆疊上的電短路使短路周圍的區(qū)域 將電流漏入短路且因此短路周圍的區(qū)域不會(huì)變暗的區(qū)域。該些短路缺陷傳統(tǒng)上在制造電致 變色設(shè)備之后處理，例如激光限制W隔離所述短路缺陷，或直接燒蝕殺死"所述短路，并 去除光環(huán)效應(yīng)，從而留下較小的短路相關(guān)針孔缺陷。在典型的實(shí)例中，肉眼可見的缺陷的直 徑為大約IOOy m。在一個(gè)實(shí)施方案中，對(duì)于尺寸范圍大于IOOiim的缺陷，在低缺陷率區(qū)域 中隔離可見短路相關(guān)缺陷所產(chǎn)生的可見缺陷、針孔和短路相關(guān)針孔的總數(shù)目小于約每平方 厘米0. 1個(gè)缺陷，在另一實(shí)施方案中，小于約每平方厘米0. 08個(gè)缺陷，在另一實(shí)施方案中， 小于約每平方厘米0. 045個(gè)缺陷（小于約每平方米電致變色窗格450個(gè)缺陷）。在一些實(shí) 施方案中，例如肉眼不可見的缺陷（大約40 ym或更?。┑妮^小缺陷在較高的密度下可為 可容忍的。
[005引在玻璃板中被檢測(cè)且可選地分類的缺陷被映射，參看圖IB的操作135。該可例如 通過標(biāo)記玻璃W示出一旦設(shè)備處于不活動(dòng)狀態(tài)缺陷位于哪里和/或通過把缺陷圖案存儲(chǔ) 在存儲(chǔ)器中作為映射來進(jìn)行。該個(gè)映射信息被分析W識(shí)別從其切割一個(gè)或多個(gè)EC窗格的 一個(gè)或多個(gè)低缺陷率區(qū)域，參看136。所描繪方法的一個(gè)實(shí)施方案通過W下動(dòng)作來限定切割 圖案（a)基于電致變色設(shè)備上的一個(gè)或多個(gè)低缺陷率區(qū)域來創(chuàng)建第一映射數(shù)據(jù)集；化）基 于第二玻璃板上的第二電致變色設(shè)備上的另一個(gè)或多個(gè)低缺陷率區(qū)域來創(chuàng)建第二映射數(shù) 據(jù)集；（C)將第一和第二映射數(shù)據(jù)集作比較；和（d)使用第一和第二映射數(shù)據(jù)集的對(duì)比來限 定切割圖案，從而最大限度地有效利用玻璃板。例如，映射可用W匹配兩個(gè)兼容EC板W用 于單個(gè)IGU中，使得各自窗格中的缺陷不對(duì)齊。在一個(gè)實(shí)施中，第一和第二映射數(shù)據(jù)集被存 儲(chǔ)在存儲(chǔ)器中，且（C)和（d)是使用合適的算法或其它邏輯來執(zhí)行。因此，該些映射數(shù)據(jù)集 及其對(duì)比限定玻璃板設(shè)備的最有效的使用。例如，兩個(gè)玻璃板的映射數(shù)據(jù)可指示玻璃的最 有效的使用將是切割兩個(gè)板W適應(yīng)不同客戶的要求，該是由于如果不存在缺陷圖案就將根 據(jù)單個(gè)客戶的要求來決定切割板。另外，邏輯可限定來自每個(gè)玻璃板的不同尺寸的窗格W 向各種窗類型和終端用戶提供電致變色窗格，例如，根據(jù)窗格尺寸、缺陷率水平等。一旦一 個(gè)或多個(gè)低缺陷率區(qū)域被用W限定切割圖案，那么工藝流程130結(jié)束。
[0059] 圖2A描繪了玻璃板200,玻璃板200例如約3米乘約2米，或約120英寸乘72英 寸，其上具有EC設(shè)備（未分開示出）。在該個(gè)實(shí)例中，根據(jù)工藝流程100,限定用于從玻璃板 200切割一個(gè)或多個(gè)電致變色窗格的切割圖案（W虛線示出）。取決于例如上述缺陷率、要 求或其它參數(shù)，切割圖案可為規(guī)則的（例如，圖案202)，或不規(guī)則的（例如，圖案204)。例 女口，圖案204示出區(qū)域206a和20化，所述區(qū)域共同構(gòu)成例如由于無社和/或比玻璃板的其 它部分高的缺陷水平而要被丟棄的玻璃帶。因?yàn)檫^噴形成的EC設(shè)備材料的背面污染，所W 該些周邊區(qū)域也可被去除。從單個(gè)玻璃板看來，一個(gè)或多個(gè)EC窗格可根據(jù)不同需要為相同 尺寸或不同尺寸。
[0060] 在一些實(shí)施方案中，在切割玻璃板之前，可去除板的一些或所有邊緣。在一些實(shí)施 方案中，去除玻璃板周邊的一些或所有周邊周圍的玻璃的約1到10英寸。可出于各種原因 進(jìn)行該種邊緣修整。例如，玻璃板的周邊周圍的EC設(shè)備的質(zhì)量可能較差。周邊周圍的該種 低質(zhì)量可能是由于EC設(shè)備堆疊的無社、玻璃板的邊緣中的缺陷（該可干擾EC設(shè)備制造）、 所述邊緣缺陷（例如，裂紋）的傳播和陰極尺寸（因?yàn)槌练e期間，陰極尺寸與玻璃板尺寸 相關(guān)）。又，由于過噴而把材料沉積到玻璃板的背面可能需要修整玻璃邊緣。EC設(shè)備中的 非均勻性可能由于在EC設(shè)備的處理期間接觸支撐巧盤或玻璃邊緣附近的非均勻加熱而發(fā) 生。可在不啟動(dòng)EC設(shè)備的情況下評(píng)價(jià)該些缺陷中的一些缺陷，且因此邊緣修整可在測(cè)試設(shè) 備之前執(zhí)行。因此，邊緣修整可作為理所當(dāng)然的事來執(zhí)行，或者例如作為執(zhí)行EC形成的測(cè) 試運(yùn)行和發(fā)現(xiàn)工藝參數(shù)需要邊緣修整在設(shè)備制造之后執(zhí)行W去除非均勻性和/或背面過 噴的結(jié)果來執(zhí)行。
[0061] 再次參看圖1A，在限定一個(gè)或多個(gè)EC窗格的切割圖案之后，根據(jù)將要從玻璃板切 割的每個(gè)個(gè)別EC窗格的需要來執(zhí)行劃線，參看140。下文與圖3A-C相關(guān)地描述了用W制 造個(gè)別EC窗格的劃線的更詳細(xì)的描述。在該個(gè)工藝流程中，劃線在從玻璃板切割個(gè)別EC 窗格之前進(jìn)行。該節(jié)省了另外劃線個(gè)別窗格所需要的時(shí)間和資源，因?yàn)榭紤]到單個(gè)玻璃板 可能出現(xiàn)各種窗格尺寸。在其它實(shí)施方案中，劃線在玻璃板被切割成個(gè)別EC窗格之后進(jìn)行 (見下文）。
[0062] 在所描繪的實(shí)例中，在玻璃板上的EC設(shè)備已被劃線之后，所述EC設(shè)備被根據(jù)切割 圖案從玻璃板切割，參看150。切割可通過任何合適的工藝來完成。在一些情況下，切割伴 隨有邊緣加工操作。機(jī)械切割通常涉及用硬的工具（例如輪上的鉆頭）來刻劃玻璃，隨后 沿刻痕線折斷玻璃。因此，機(jī)械切割包括"刻劃"和折斷。有時(shí)，術(shù)語"刻劃"在玻璃窗制造 行業(yè)稱為"劃線"。然而，為了避免混淆本文所述的其它操作，將保留"劃線"的使用W用于 該些其它操作。
[0063] 切割可在切口附近產(chǎn)生微裂紋和內(nèi)應(yīng)力。該些可導(dǎo)致玻璃的碎裂或斷裂，特別是 在邊緣附近。為了減輕切割產(chǎn)生的問題，切割玻璃可能經(jīng)受邊緣精加工，例如，通過機(jī)械和 /或激光方法。機(jī)械邊緣精加工通常涉及使用例如磨輪來研磨，所述磨輪包含粘±、石頭、 金剛石等。通常，在機(jī)械邊緣精加工期間，水在邊緣上流動(dòng)。所得邊緣表面相對(duì)圓形且無裂 紋。激光邊緣精加工通常產(chǎn)生平的、基本上無缺陷的表面。例如，垂直于玻璃表面的穿過玻 璃的初始切割可形成基本上無缺陷的切口。然而，玻璃周邊上的直角邊緣容易因搬運(yùn)破損。 在一些實(shí)施方案中，激光隨后被用W切掉該些90度的邊緣，W產(chǎn)生稍微更圓或多邊形的邊 緣。
[0064] 切割和可選邊緣精加工工藝的實(shí)例包括W下；（1)機(jī)械切割，（2)機(jī)械切割和機(jī)械 邊緣精加工，（3)激光切割，（4)激光切割和機(jī)械邊緣精加工，和（5)激光切割和激光邊緣精 加工。
[0065] 在一個(gè)實(shí)施方案中，W實(shí)際上強(qiáng)化和/或改進(jìn)所得窗格的邊緣質(zhì)量的方式從玻璃 板切割窗格。在具體實(shí)例中，該通過使用激光誘導(dǎo)的刻劃由張力來實(shí)現(xiàn)。在該個(gè)方法中，氣 體激光（例如，波長(zhǎng)為10. 6 U m的(?激光）用W沿一線加熱玻璃表面，從而沿該線在玻璃 中產(chǎn)生壓縮應(yīng)力。冷卻設(shè)備（例如，氣體噴口和/或噴水器）用W快速冷卻被加熱的線。該 使得沿該線在玻璃中形成刻痕。玻璃然后例如由常規(guī)的機(jī)械斷裂設(shè)備沿刻痕折斷。通過使 用該個(gè)方法，切割邊緣非常干凈，即，玻璃中的缺陷（如果有的話）最小，所述缺陷由于施加 到窗格的應(yīng)力可傳播并產(chǎn)生進(jìn)一步的斷裂。在一個(gè)實(shí)施方案中，邊緣隨后被機(jī)械和/或激 光精加工W去除90度邊緣，從而創(chuàng)建更圓形和/或多邊形的邊緣。
[0066] 再次參看圖1A，可選地，在個(gè)別EC窗格上執(zhí)行邊緣刪除，參看160。邊緣刪除是用 于將電致變色設(shè)備集成到例如IGU的制造工藝的一部分，其中EC設(shè)備的邊緣部分例如無社 (其中設(shè)備的各層可由于例如掩模的邊緣附近的非均勻性而進(jìn)行接觸）和/或其中形成切 口，在把設(shè)備集成到IGU或窗中之前去除所述EC設(shè)備的邊緣部分。在某些實(shí)施方案中，在 使用未屏蔽玻璃的情況下，去除另外將延伸至IGU墊片下方的涂層在集成到IGU中之前執(zhí) 行。當(dāng)從玻璃板切割窗格時(shí)，也使用邊緣刪除，因?yàn)榇案駥⒕哂醒由斓酱案竦倪吘壍腅C材 料。在一個(gè)實(shí)施方案中，切割隔離溝槽且EC設(shè)備在窗格周邊上的隔離部分通過邊緣刪除來 去除。
[0067] 在所述工藝流程中，邊緣刪除可在形成EC設(shè)備之后任何階段執(zhí)行。在一些實(shí)施方 案中，執(zhí)行邊緣刪除的工藝是機(jī)械工藝，例如研磨或噴砂工藝。砂輪可用于研磨。在一個(gè)實(shí) 施方案中，邊緣刪除由激光進(jìn)行，例如，其中激光用W從窗格的周邊燒蝕EC材料。工藝可去 除所有EC層，包括底層的TCO層，或者所述工藝可去除所有EC層，除了該個(gè)底部TCO層之 夕F。當(dāng)邊緣刪除用W向母線提供暴露的接觸時(shí)，后一種情況是適當(dāng)?shù)模霰┞兜慕佑|必須 被連接到底部TCO層。在一些實(shí)施方案中，激光劃線用W把底部TCO的延伸到玻璃邊緣的所 述部分與被連接到母線的所述部分隔離，W避免具有從玻璃邊緣到設(shè)備的導(dǎo)電路徑，W及 保護(hù)W免濕氣沿與設(shè)備層自身相同的路徑侵入IGU，因?yàn)樵O(shè)備層通常對(duì)于濕氣可滲透（盡 管速度緩慢）。
[0068] 在特定的實(shí)施方案中，電磁福射用W執(zhí)行邊緣刪除并提供基本上無EC設(shè)備的基 板的周邊區(qū)域。在一個(gè)實(shí)施方案中，如下文更詳細(xì)地描述，至少執(zhí)行邊緣刪除W去除包括底 部透明導(dǎo)體的材料。在一個(gè)實(shí)施方案中，邊緣刪除也去除任何擴(kuò)散阻擋。在某些實(shí)施方案 中，對(duì)基板（例如浮法玻璃）的表面執(zhí)行邊緣刪除，且邊緣刪除可包括去除基板表面的某一 部分。示范性電磁福射包括UV、激光等。例如，材料可使用包括248, 355皿扣V)、1030皿(IR, 例如盤狀激光）、l〇64nm (例如Nd =YAG激光）和532nm (例如綠激光）的波長(zhǎng)中的一個(gè)波長(zhǎng) 的引導(dǎo)和聚焦能量來去除。使用例如光纖或開放光束路徑來將激光照射傳遞到基板。可取 決于電磁福射波長(zhǎng)的選擇和例如基板搬運(yùn)設(shè)備配置參數(shù)，從任一基板側(cè)或EC膜側(cè)來執(zhí)行 燒蝕。燒蝕膜厚度所需的能量密度是通過使激光束穿過光學(xué)透鏡來實(shí)現(xiàn)的。透鏡將激光束 聚焦成所需的形狀和大小。在一個(gè)實(shí)施方案中，使用"平頂"光束配置，例如，所述光束配置 具有約0. 2皿2到約2皿2之間的聚焦區(qū)域。在一個(gè)實(shí)施方案中，光束的聚焦水平被用W實(shí)現(xiàn) 燒蝕EC膜堆疊所要求的能量密度。在一個(gè)實(shí)施方案中，用于燒蝕的能量密度在約2J/cm 2和 約6J/cm2之間。
[0069] 在激光邊緣刪除工藝期間，在EC設(shè)備的表面上沿周邊掃描激光光斑。在一個(gè)實(shí)施 方案中，使用掃描平場(chǎng)聚焦透鏡來掃描激光光斑。均質(zhì)去除EC膜是通過在掃描期間重疊光 斑區(qū)域達(dá)約5%和約75%之間來實(shí)現(xiàn)的。例如，在激光邊緣刪除工藝期間的第一激光掃描 可被用W去除EC設(shè)備的一部分。在激光邊緣刪除工藝期間的第二激光掃描中，激光光斑可 與第一掃描重疊（即，EC設(shè)備材料已被去除）達(dá)約5%和約75%之間，W協(xié)助實(shí)現(xiàn)均質(zhì)去除 EC膜?？墒褂酶鞣N掃描圖案，例如，沿直線或曲線的掃描，且可掃描各種圖案，例如，掃描矩 形或其它形狀的部分，該些部分一起創(chuàng)建周邊邊緣刪除區(qū)域。在一個(gè)實(shí)施方案中，掃描線重 疊了約5%和約75%之間。目P，之前掃描的線的路徑所限定的燒蝕材料的區(qū)域與之后的掃 描線重疊，使得產(chǎn)生重疊。在另一實(shí)施方案中，圖案重疊了約5%和約50%之間。目P，燒蝕的 圖案區(qū)域與后續(xù)燒蝕圖案區(qū)域重疊。對(duì)于使用重疊的實(shí)施方案，可使用例如在約IlKHz和 約500KHZ之間的范圍的較高頻率激光。為了最小化在暴露的邊緣（熱影響區(qū)域或"HAZ") 處對(duì)EC設(shè)備的熱相關(guān)的損壞，使用較短脈沖持續(xù)時(shí)間的激光。在一個(gè)實(shí)例中，脈沖持續(xù)時(shí) 間在約IOOfs (飛砂）和約l(K)ns (納砂）之間，在另一實(shí)施方案中，在約IOOfs和約IOns 之間，在又一實(shí)施方案中，在約IOOfs和約Ins之間。
[0070] 當(dāng)將使用邊緣刪除時(shí)，它可在從玻璃板切割EC窗格之前或之后進(jìn)行。在某些實(shí)施 方案中，邊緣刪除可在切割EC窗格之前在一些邊緣區(qū)域中執(zhí)行和在切割EC窗格之后再次 在一些邊緣區(qū)域中執(zhí)行。在某些實(shí)施方案中，所有邊緣刪除都在切割窗格之前執(zhí)行。在切 割窗格之前利用"邊緣刪除"的實(shí)施方案中，可通過預(yù)期新形成的EC窗格的切口（且因此， 邊緣）將在哪里來去除玻璃板上EC設(shè)備的部分。換句話說，還沒有實(shí)際的邊緣，只有將形 成切口 W產(chǎn)生邊緣的限定區(qū)域。因此，"邊緣刪除"意謂包括在預(yù)期存在邊緣的區(qū)域中去除 EC設(shè)備材料。
[0071] 再次參看圖1A，在可選邊緣刪除之后，母線被應(yīng)用到一個(gè)或多個(gè)EC窗格，參看 170。如對(duì)于邊緣刪除所述，添加母線可在EC窗格被從玻璃板切割之后或之前但在劃線之 后執(zhí)行。通過在從玻璃板切割窗格之前執(zhí)行劃線、邊緣刪除和母線應(yīng)用，避免了用于各種EC 窗格尺寸的相關(guān)的特殊搬運(yùn)步驟。目P，在從玻璃板切割個(gè)別窗格之前執(zhí)行各種操作和/或 部件的集成允許最大效率地使用用于搬運(yùn)均勻尺寸的玻璃板的裝置。然而，在一個(gè)實(shí)施方 案中，根據(jù)150切割玻璃板，然后根據(jù)160執(zhí)行邊緣刪除，且此后，根據(jù)140劃線EC設(shè)備。在 該個(gè)實(shí)施方案中，邊緣刪除在個(gè)別EC窗格的邊緣處執(zhí)行，且然后應(yīng)用劃線。在另一實(shí)施方 案中，根據(jù)150切割玻璃板，然后根據(jù)140劃線EC設(shè)備，且然后根據(jù)160執(zhí)行邊緣刪除。在 切割之后劃線和刪除的一個(gè)優(yōu)勢(shì)是邊緣刪除工藝中的均勻性，因?yàn)橹蝗コ藖碜詫?shí)際切割 邊緣（而不是來自預(yù)期在切割之后存在邊緣的區(qū)域）的周邊的材料。該個(gè)方法可包括較高 的質(zhì)量控制，因?yàn)椴ＡУ倪吘壙杀挥米鬟吘墑h除的導(dǎo)向。
[0072] 在完成具有完全組裝的EC設(shè)備的窗格之后，IGU是使用一個(gè)或多個(gè)EC窗格來制 造的，參看180。通常，IGU通過把密封分離器放置在玻璃板的周邊來形成，所述密封分離器 例如墊圈或密封件（例如，由PVB (聚己帰醇縮下酵）、PIB或其它合適的彈性體制成）。在 一些實(shí)施方案中，密封分離器包括金屬或其它剛性材料、墊片和墊片與每個(gè)玻璃窗格之間 的密封劑。在窗格被密封到墊片之后，在墊片的外周邊周圍提供次密封件，例如抗水并增加 了對(duì)組件的結(jié)構(gòu)支持的聚合物材料。通常，但并非必須地，在組裝過程中，IGU框或墊片中 包括干燥劑W吸收任何濕氣。在一個(gè)實(shí)施方案中，密封分離器圍繞母線，且母線的電引線延 伸穿過密封件。通常，但并非必須地，IGU填充有惰性氣體，例如氮?dú)?。完成的IGU可被安 裝在例如框或幕墻中并被連接到電力源和控制器W操作電致變色窗。
[0073] 參考圖2B，根據(jù)例如如本文所述衍生的切割圖案來切割玻璃板200。在該個(gè)實(shí)例 中，產(chǎn)生四個(gè)巧C)窗格208。另外，在該個(gè)實(shí)例中，窗格208中的兩個(gè)成對(duì)且與密封分離器 210組合，W形成IGU 212。在該個(gè)實(shí)例中，IGU 212具有兩個(gè)EC窗格。通常，但并非必須 地，窗格被設(shè)置，使得EC設(shè)備面向IGU內(nèi)側(cè)，W保護(hù)免受環(huán)境影響。2010年8月5日提交的 且題為"Multipane Electroc虹omic Windows"的美國專利申請(qǐng)序列號(hào)12/851, 514中描述 了具有兩個(gè)或更多個(gè)電致變色窗格的電致變色窗，所述美國專利申請(qǐng)W引用的方式并入本 文W用于所有目的。其中所描述的方法尤其適用于制備一個(gè)或多個(gè)電致變色窗格W用于多 窗格電致變色窗。所述多窗格電致變色窗的一個(gè)優(yōu)勢(shì)在于兩個(gè)缺陷完全對(duì)準(zhǔn)并從而可被終 端用戶觀察到的可能性相當(dāng)小。當(dāng)使用低缺陷率窗格時(shí)，該個(gè)優(yōu)勢(shì)突出。在例如單個(gè)窗中 使用兩個(gè)電致變色窗格的實(shí)施方案中，上述（缺陷）映射數(shù)據(jù)集可被用W進(jìn)一步確保當(dāng)在 IGU中探測(cè)時(shí)，個(gè)別窗格上的缺陷不對(duì)齊。該是圖案化玻璃板時(shí)可考慮的又一標(biāo)準(zhǔn)。
[0074] 在某些實(shí)施方案中，玻璃板高達(dá)5mm或甚至高達(dá)6mm厚（高達(dá)1/4英寸）。在一 些實(shí)施方案中，一個(gè)或多個(gè)窗格被強(qiáng)化。再次參看圖1A，可選地，IGU的一個(gè)或兩個(gè)窗格被 強(qiáng)化，參看190。例如，在一個(gè)實(shí)施方案中，強(qiáng)化包括用例如浮法玻璃的較厚窗格、回火玻璃 的窗格、例如有機(jī)玻璃、Gor川a"i玻璃的聚合物窗格等來層壓IGU的窗格中的一個(gè)或多個(gè)。 在另一實(shí)施方案中，強(qiáng)化包括把聚合物涂層施加到IGU的一個(gè)或多個(gè)窗格。所述聚合物涂 層的實(shí)例包括有機(jī)改性娃酸鹽聚合物涂層（環(huán)氧樹脂、胺固化劑和娃焼）、溶膠-凝膠涂層、 丙帰酸類釉料和其它安全釉料，例如符合一個(gè)或多個(gè)沖擊試驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn)的市售釉料。再次參看 圖1A，在強(qiáng)化IGU的一個(gè)或多個(gè)窗格之后，工藝流程100結(jié)束。
[00巧]在一些實(shí)施方案中，在并入IGU之后，使用邊緣緩沖墊片來保護(hù)玻璃的邊緣。例 女口，保護(hù)允許將IGU從制造商安全地運(yùn)輸?shù)桨惭b。保護(hù)性邊緣緩沖墊片可被應(yīng)用到具有 或不具有強(qiáng)化窗格的IGU。因此，例如，在強(qiáng)化一個(gè)或兩個(gè)窗格之前，可將緩沖墊片安裝到 IGU，直到需要強(qiáng)化的所述時(shí)間為止，例如，因?yàn)榭赡苡嘘P(guān)于期望哪種類型的強(qiáng)化的決定。通 過使用本文所述的方法，該個(gè)選擇可在IGU制造后任何時(shí)間做出。例如，本文所述的邊緣緩 沖墊片允許搬運(yùn)、運(yùn)輸和存儲(chǔ)IGU，直到選擇了強(qiáng)化類型（如果有的話）。在一個(gè)實(shí)施方案 中，保護(hù)緩沖墊片是裝配在IGU的周邊周圍的玻璃邊緣上的U形通道帽。所述U形通道帽可 由彈性體或塑性材料制成。在一個(gè)實(shí)例中，所述U形通道帽是己帰帽。本文所述的邊緣緩 沖墊片適用于任何IGU W保護(hù)IGU的邊緣。下文更詳細(xì)地描述了邊緣緩沖墊片實(shí)施方案。
[0076] 通常，邊緣緩沖墊片被配置W保護(hù)IGU中玻璃的邊緣。當(dāng)使用非回火玻璃時(shí)，該尤 其重要。如果未被保護(hù)就可能很容易發(fā)生對(duì)玻璃邊緣的損壞，因?yàn)樵诠S中制造之后、在運(yùn) 輸期間和在現(xiàn)場(chǎng)安裝期間，IGU被手動(dòng)和/或機(jī)械地處理。轉(zhuǎn)角特別脆弱，因?yàn)镮GU通常但 并非必須地為矩形，且因此，轉(zhuǎn)角最容易不小也撞到其它表面，從而對(duì)玻璃邊緣造成損壞。 因此，在各種實(shí)施方案中，邊緣緩沖墊片被配置W保護(hù)IGU的玻璃邊緣，尤其是轉(zhuǎn)角。由于 本文所述的邊緣緩沖墊片也覆蓋IGU的每個(gè)面的至少一些部分，所W所述邊緣緩沖墊片也 對(duì)IGU的各面給予了一定的保護(hù)。例如，如果具有邊緣緩沖墊片的IGU被面朝下放置在平坦 的表面上或面抵靠平坦的表面，那么玻璃的面不接觸平坦的表面，因?yàn)檫吘壘彌_墊片充當(dāng) 平坦的表面和玻璃的面之間的墊片。又，如果類似地，受保護(hù)IGU水平或豎直地彼此堆疊， 那么只有它們各自的邊緣緩沖墊片彼此接觸，因此避免了 IGU彼此接觸。
[0077] 如本文所述的邊緣緩沖墊片可由各種材料制成，例如，塑料、橡膠、紙、棉、紙板、淀 粉等。在一個(gè)實(shí)施方案中，邊緣緩沖墊片由塑料制成，例如聚帰化合物（polya化alene)，例 如聚己帰、聚丙帰、它們的混合物等；聚己帰化合物，例如聚氯己帰（PVC)、聚氣己帰、聚己 酸己帰醋、它們的混合物等；聚苯己帰；尼龍；人造絲；或聚醋。在一個(gè)實(shí)施方案中，邊緣緩 沖墊片由可生物降解的材料制成，尤其是可生物降解的聚合物，無論是合成的或天然的。通 常，期望可生物降解的聚合物無毒、具有良好的機(jī)械完整性，即保持它的形狀，并在不產(chǎn)生 毒性產(chǎn)物的情況下降解?？缮锝到獾木酆衔锏膶?shí)例包括聚醋，例如聚輕基焼酸醋（PHA)， 例如3-輕基丙酸、聚乳酸（PLA)、聚-3-輕基下酸醋（P皿）、聚輕基戊酸醋（PHV)和聚輕基 己酸醋（PHH);聚酢、聚己帰基醇、聚下帰玻巧酸醋（合成物）、聚己內(nèi)醋（P化，合成物）、淀 粉衍生物、纖維素醋、賽端巧等。
[0078] 在一個(gè)實(shí)施方案中，邊緣緩沖墊片由橡膠或保持其形狀的軟柔初的塑料（例如 PVC)制成。在該個(gè)實(shí)施方案中，邊緣緩沖墊片具有成形為閉環(huán)配置中U形或C形通道的整 體主體，所述整體主體裝配在IGU上并在周邊周圍符合（最外層）玻璃窗格的各面的邊緣 和至少某一部分。在該個(gè)實(shí)施方案中，邊緣緩沖墊片被拉伸或W其它方式操縱，使得其裝配 在IGU上，很像用于手持設(shè)備（如智能電話）的緩沖墊片，但是只需要覆蓋IGU的每個(gè)面的 周邊部分。
[0079] 在另一實(shí)施方案中，邊緣緩沖墊片由塑料制成，例如，如上文所述，其中塑料是剛 性或半剛性的。在一個(gè)實(shí)施方案中，邊緣緩沖墊片被擠壓成U形或C形通道，且然后被切割 成一定尺寸W保護(hù)IGU。在一個(gè)實(shí)施方案中，擠壓通道被切斷為各自保護(hù)IGU的一側(cè)的單獨(dú) 的塊。在一個(gè)實(shí)施方案中，個(gè)別通道塊的端部被成一定角度地切割，使得當(dāng)所有四個(gè)塊被裝 配到IGU上時(shí)，所述四個(gè)塊在邊緣處緊密地配合在一起W保護(hù)IGU的轉(zhuǎn)角。在一個(gè)實(shí)施方 案中，通道被擠壓成在擠壓之后圍繞IGU折疊的整體構(gòu)件。相對(duì)于圖2C和2D描述了一個(gè) 所述實(shí)施方案。
[0080] 圖2C描繪了通道214的一部分的透視圖，通道214可用W形成如本文所述的邊緣 緩沖墊片。通道214具有一般U形橫截面，通道214在通道的開口處（參看尺寸A (通道214 的橫截面，在圖2C的左下方））比通道的底部（參看尺寸B)窄。尺寸A小于將要應(yīng)用通道 214 W形成邊緣緩沖墊片的IGU的厚度。因?yàn)橥ǖ?14通常較薄，例如，包括通道214的材 料的厚度在約Imm和約IOmm之間，通常厚度在約Imm和約5mm之間，所W IGU可W通過尺 寸A被擠壓到通道中并位于通道的底部，如在圖2C的右下方的橫截面中所描繪。IGU 212 的玻璃窗格208的邊緣（也參看圖2B)(其中墊片210被描繪為周圍具有主和次密封劑，且 內(nèi)部具有干燥劑）可抵靠通道214的底部并由所述底部保護(hù)。通道214可具有唇部216,唇 部216允許IGU更容易地進(jìn)入通道，例如，通道被引導(dǎo)到IGU的邊緣，該是由通道214的開 口的另一側(cè)上的唇部的開放性質(zhì)所促進(jìn)的。通道也可具有其內(nèi)表面（通道內(nèi)部的表面）的 至少某一部分，所述至少某一部分被配置W用基本上平行的方式來接觸IGU的玻璃窗格的 各面。在該個(gè)實(shí)例中，通道214具有其內(nèi)表面的部分218,部分218與IGU的玻璃匹配W更 好地固持在玻璃上。由于通道214的剛性和尺寸A，有一個(gè)彈黃作用，使得通道214被固持 在玻璃上而不滑落。在一個(gè)實(shí)施方案中，通道214由剛性或半剛性的塑料材料制成，例如， 可生物降解的聚合物。
[0081] 圖2D示出了從通道材料（例如，如相對(duì)于圖2C描述的通道214)制備邊緣緩沖墊 片和安裝邊緣緩沖墊片的方法的各方面。例如，制造IGU 212。通道214的一部分被擠壓； 所述部分的長(zhǎng)度近似為IGU 212的周邊的長(zhǎng)度。一系列缺口 220被切割到通道214中。該 些缺口在邊緣緩沖墊片將被折疊W容納IGU 212的轉(zhuǎn)角的位置處被切割。通道的底部部分 (參看圖2C)保持完整，使得當(dāng)圍繞IGU的邊緣折疊通道時(shí)，IGU玻璃的轉(zhuǎn)角將被保護(hù)。缺口 允許該種折疊，而通道底部處剩余的材料形成折疊的頂點(diǎn)且一旦被應(yīng)用到IGU就保護(hù)IGU 的轉(zhuǎn)角。缺口從而劃定通道214的整體部分的子部分；每個(gè)子通道將各自沿IGU 212的邊 緣配合。一個(gè)實(shí)施方案是如所述的邊緣緩沖墊片，其具有折疊W容納IGU的轉(zhuǎn)角的至少H 個(gè)缺口。如果只使用H個(gè)缺口，那么緩沖墊片的端部將在未被緩沖墊片的開槽/折疊部分 覆蓋的轉(zhuǎn)角處結(jié)合。該些端部可被膠布封住W有助于在搬運(yùn)期間進(jìn)行固定。在圖2D描繪 的實(shí)施方案中，有四個(gè)缺口，使得末端可沿IGU的側(cè)面結(jié)合。該樣相同地保護(hù)了所有轉(zhuǎn)角， 因?yàn)槊總€(gè)轉(zhuǎn)角由通道的開槽部分來保護(hù)。
[0082] 在一個(gè)實(shí)施方案中，IGU的尺寸被發(fā)送到擠出機(jī)（或分配之前擠出的通道的機(jī) 器），使得當(dāng)分配缺口時(shí)，缺口 220可在擠壓時(shí)在適當(dāng)位置上被切割。該節(jié)省了寶貴的時(shí)間 和金錢，因?yàn)檫吘壘彌_墊片只有在實(shí)際制造了 IGU之后且具體而言在配合脫離IGU生產(chǎn)線 的IGU之后才使用來自制備IGU的裝置的IGU尺寸來制造。因此，不需要在預(yù)期制備大量 IGU時(shí)制造大批的邊緣緩沖墊片。通過將可生物降解的材料用于邊緣緩沖墊片，例如在將 IGU安裝到建筑物中時(shí)就不用太擔(dān)也現(xiàn)場(chǎng)處理的問題。
[0083] 再次參看圖2D，從附圖的頂部開始并向下移動(dòng)，適當(dāng)?shù)亻_槽適當(dāng)長(zhǎng)度的邊緣緩沖 墊片214,且邊緣緩沖墊片214被沿一個(gè)邊緣裝配到IGU 212上。緩沖墊片214的兩個(gè)相 鄰的子部分被沿著垂直于與通道214配合的第一邊緣的邊緣配合，如虛線箭頭所描繪。最 后，兩個(gè)剩余子部分被折疊W覆蓋與第一邊緣相對(duì)的IGU 212的邊緣。該是向IGU應(yīng)用通 道214的一種有效的方式，因?yàn)槠渲恍枰獌蓚€(gè)折疊操作來覆蓋IGU的四個(gè)邊緣。該些操作 可用手動(dòng)或自動(dòng)的方式來進(jìn)行，例如，其中吸盤設(shè)備適當(dāng)?shù)乇３帧⑿D(zhuǎn)和平移IGU，且例如機(jī) 械手臂、抓取器、柱、壁、滾子和/或類似設(shè)備的其它構(gòu)件被用W促進(jìn)折疊操作。
[0084] 如圖2D示出，膠帶可被應(yīng)用到通道214的端部上，W確保膠帶保持在IGU 212上， 直到期望去除膠帶為止。在該個(gè)實(shí)例中，一片膠帶被應(yīng)用到IGU的一側(cè)，越過邊緣緩沖墊 片，并到達(dá)IGU的另一側(cè)，使得邊緣緩沖墊片在IGU的兩側(cè)上都被固定到玻璃。
[0085] 本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)理解，折疊操作可用各種方式來執(zhí)行。又，例如，當(dāng)通道被擠出 并被開槽時(shí)，通道可被應(yīng)用到IGU，而不是切割整個(gè)長(zhǎng)度、開槽W及然后應(yīng)用。
[0086] 在一個(gè)實(shí)施方案中，緩沖墊片被用作在應(yīng)用到IGU期間柔初的熱或溫?cái)D壓品。例 女口，當(dāng)IGU在與IGU的玻璃窗格的各面平行的平面上旋轉(zhuǎn)時(shí)，柔初擠壓品被模制到IGU的每 個(gè)邊緣。當(dāng)應(yīng)用柔初擠壓品并將其模制到IGU的邊緣時(shí)，在轉(zhuǎn)角處，柔初材料被在玻璃窗格 的各自面中的每一個(gè)面上折疊，W容納當(dāng)圍繞轉(zhuǎn)角折疊材料時(shí)發(fā)生的額外的材料。在一個(gè) 實(shí)施方案中，柔初擠壓品被切割成足夠的長(zhǎng)度，使得柔初擠壓品的整體件的端部可結(jié)合和/ 或重疊并彼此結(jié)合。在另一實(shí)施方案中，柔初擠壓品被切割成足夠的長(zhǎng)度，使得柔初擠壓品 的整體件的端部不結(jié)合，而是有小的間隙保留（例如，如圖2D中所描繪，通道214中的間隙 (被膠帶覆蓋）），W有助于去除柔初材料。柔初材料可被硬化到一定程度，W固持到玻璃且 也有助于去除，即，材料可在無顯著或任何撕化或撕裂的情況下被剝離。
[0087] -個(gè)實(shí)施方案是一種制造絕緣玻璃單元（IGU)的方法，方法包括；(a)在透明基板 上制造電致變色設(shè)備，W創(chuàng)建電致變色窗窗格；化）制造包括所述電致變色窗窗格的絕緣 玻璃單元（IGU);和（C)把邊緣緩沖墊片應(yīng)用到所述IGU。在一個(gè)實(shí)施方案中，緩沖墊片包 括U形通道帽，所述U形通道帽裝配在所述IGU的所述周邊上的所述玻璃邊緣上。在一個(gè)實(shí) 施方案中，緩沖墊片包括彈性體或塑性材料。在一個(gè)實(shí)施方案中，方法還包括：在應(yīng)用所述 緩沖墊片的情況下，把所述IGU從制造商運(yùn)輸?shù)桨惭b者。在一個(gè)實(shí)施方案中，方法還包括： 在安裝緩沖墊片之前，強(qiáng)化電致變色窗窗格。在一個(gè)實(shí)施方案中，強(qiáng)化包括當(dāng)在所述IGU中 時(shí)，把第二窗格層壓到所述電致變色窗窗格。在一個(gè)實(shí)施方案中，把邊緣緩沖墊片應(yīng)用到 IGU包括在IGU的周邊周圍折疊包括U形通道的擠出的材料。在一個(gè)實(shí)施方案中，擠出的材 料被開槽W容納IGU的轉(zhuǎn)角處的折疊。在一個(gè)實(shí)施方案中，一片膠帶（例如覆蓋膠帶）用 W把邊緣緩沖墊片固定到IGU。在一個(gè)實(shí)施方案中，擠出的材料是可生物降解的。
[0088] 另一實(shí)施方案是一種制造用于IGU的邊緣緩沖墊片的方法，方法包括；1)從制造 IGU的單元接收IGU的尺寸，2)把U形通道材料切割到適當(dāng)?shù)拈L(zhǎng)度，W覆蓋IGU的周邊，和 3)適當(dāng)開槽U形通道材料，W把U形通道材料中的折疊容納在IGU的轉(zhuǎn)角處。在一個(gè)實(shí)施 方案中，U形通道材料具有四個(gè)缺口和五個(gè)子部分。另一實(shí)施方案是一種應(yīng)用上述開槽U形 通道材料的方法，所述方法包括：1)把開槽U形通道材料的中也子部分應(yīng)用到IGU的一個(gè) 邊緣上，2)在垂直于一個(gè)邊緣的兩個(gè)邊緣上折疊相鄰的兩個(gè)子部分，和3)在與所述一個(gè)邊 緣相對(duì)的所述剩余邊緣上折疊剩余兩個(gè)子部分。在一個(gè)實(shí)施方案中，所述方法W 1、2 W及 然后3的順序執(zhí)行。另一實(shí)施方案是一種被配置W用自動(dòng)方式執(zhí)行操作1、2和3的裝置。 在一個(gè)實(shí)施方案中，方法還包括：用一片膠帶將U形通道固定到IGU。
[0089] -個(gè)實(shí)施方案是一種被配置W執(zhí)行與邊緣緩沖墊片制造和/或安裝到IGU上相關(guān) 的本文所述的操作的裝置。
[0090] 就保護(hù)矩形IGU描述了與邊緣緩沖墊片相關(guān)的本文所述的實(shí)施方案。本領(lǐng)域技術(shù) 人員應(yīng)理解，IGU的其它形狀也是可能的，且邊緣緩沖墊片、制造并應(yīng)用所述邊緣緩沖墊片 的方法也適用于其它IGU形狀。例如，梯形IGU、H角形或其它多邊形IGU將可容納本文所 述的邊緣緩沖墊片，例如，剛性緩沖墊片將只需要具有適當(dāng)數(shù)量的缺口來在多邊形IGU周 圍折疊。在另一實(shí)例中，如果由高剛性材料制成，那么圓形或楠圓形IGU將容納例如具有許 多缺口的邊緣緩沖墊片（W在不破壞緩沖墊片的情況下形成曲線），或可使用沒有缺口的 更柔性的材料。
[0091] 并入IGU之后用加強(qiáng)基板（或窗格）層壓EC窗格具有許多益處。例如，在EC窗 格被組裝到IGU中之后進(jìn)行層壓在層壓工藝期間保護(hù)EC設(shè)備并易于處理。如果EC設(shè)備在 IGU的面向內(nèi)表面上（即，在IGU的內(nèi)部絕緣區(qū)域），那么該尤其是真的，因?yàn)閷訅汗に嚿婕?在相對(duì)惡劣的條件下接觸構(gòu)成層壓結(jié)構(gòu)的玻璃窗格的外表面。在該種條件下，如果EC設(shè)備 位于層壓結(jié)構(gòu)的外表面上，那么EC設(shè)備將被損壞。IGU因此在層壓期間保護(hù)設(shè)備。如果EC 設(shè)備位于IGU上玻璃的面向外表面上，那么EC窗格的層壓將需要用用W附接到其（層壓窗 格）的加強(qiáng)窗格和/或粘合劑來直接層壓到EC設(shè)備上。雖然可在不損壞EC設(shè)備的情況下 進(jìn)行層壓，但是該種方法有一些缺點(diǎn)。最值得注意的是，IGU將是不太有效的熱絕緣體，因 為福射僅在IGU的內(nèi)部被阻擋。另外，位于IGU周邊周圍的EC設(shè)備的暴露邊緣可在安裝之 后提供濕氣的入口點(diǎn)。
[0092] 可在公開的實(shí)施方案中利用許多不同的層壓工藝。實(shí)例包括親壓和高壓滅菌法、 真空裝袋和液態(tài)樹脂層壓，每個(gè)實(shí)例在窗制造行業(yè)都是眾所周知的。在一個(gè)實(shí)施方案中，在 EC窗格被并入IGU之后，使用液態(tài)樹脂層壓來強(qiáng)化EC窗格。
[0093] 圖3A示意性地描繪IGU 300的液態(tài)樹脂層壓的工藝流程的各方面。在圖3A中， IGU 300繪制得沒有例如相對(duì)于圖2B描述的IGU 212那么詳細(xì)。在該個(gè)實(shí)例中，IGU 300 具有EC窗格和非EC窗格。通常，雙面膠帶305被應(yīng)用到EC窗格的周邊區(qū)域。周邊膠帶中 例如在窗格的轉(zhuǎn)角中留有間隙315。加強(qiáng)窗格310被應(yīng)用到雙面膠帶，使得形成H重窗格 (也參看圖3B，在該個(gè)實(shí)例中，加強(qiáng)窗格被層壓到IGU的EC窗格，且也有不是層壓的一部分 的IGU的非EC窗格）結(jié)構(gòu)320。液態(tài)樹脂325被例如從如所描繪的底部引入到EC窗格和 加強(qiáng)窗格310之間形成的體積中。該例如可通過當(dāng)窗格310被應(yīng)用到膠帶且與EC窗格對(duì) 齊時(shí)使膠帶背襯的一小部分離開來實(shí)現(xiàn)。呈薄刀片形狀的分配噴嘴被插入窗格310和具有 背襯剩余的膠帶的一部分之間。在樹脂被引入體積且刀片被去除之后，剩余膠帶背襯被去 除，使得樹脂出口的唯一手段是間隙315。如彎曲和虛線粗箭頭所示出，單元320然后轉(zhuǎn)動(dòng)， 使得液態(tài)樹脂325流向間隙315 (如在左下圖中由粗虛線箭頭向下指示）。適量的樹脂被引 入體積，使得當(dāng)樹脂覆蓋窗格之間和膠帶內(nèi)的整個(gè)區(qū)域時(shí)，窗格基本上彼此平行。一旦體積 填充有樹脂，那么樹脂就例如通過加熱、催化劑和/或暴露于紫外線照射來固化，W形成窗 格之間的牢固的結(jié)合。在最終組裝中，如在圖3A中的右下方所示，固化樹脂具有層壓所需 的光學(xué)、機(jī)械和其它性質(zhì)。通過使用液態(tài)樹脂，在層壓過程中，層壓向EC窗格施加最?。ㄈ?果有的話）的應(yīng)力。
[0094] 圖3B是示出最終組裝320的更多細(xì)節(jié)的橫截面。IGU部分300包括第一窗格301 和EC窗格302, EC窗格302上包括EC設(shè)備303。窗格301和302被密封分離器304隔開， 密封分離器304橫跨窗格的周邊并具有其與每個(gè)窗格之間的密封件。內(nèi)部空間330由窗格 和密封分離器來限定。膠帶305位于IGU的內(nèi)部空間外面的EC窗格的面的周邊和窗格310 之間（且鄰近所述周邊）。EC窗格和窗格310之間創(chuàng)建的體積內(nèi)部是固化樹脂325。
[0095] 因?yàn)榛跇渲膶訅阂蕾囉趭A在將要層壓的兩個(gè)玻璃窗格之間的樹脂板或膜，所 W樹脂類型的選擇可給予窗單元光學(xué)特性。在某些實(shí)施方案中，樹脂可包含添加劑，所述添 加劑向所得層壓給予所需光學(xué)特性。所述光學(xué)特性的實(shí)例包括顏色、不透明度、散射和反射 率。在具體實(shí)例中，樹脂給予藍(lán)色。當(dāng)與具有天然微黃色調(diào)的一些EC設(shè)備連用時(shí)，該可能 是特別有益的。光學(xué)特性可通過在引入層壓的體積之前向液態(tài)樹脂添加染料、顏料、散射粒 子、金屬塵埃等來給予。在某些實(shí)施方案中，藍(lán)色是作為在樹脂被引入窗格之間的體積之后 發(fā)生的化學(xué)反應(yīng)的結(jié)果而獲得的。例如，反應(yīng)可由與催化樹脂的固化相同的能量或試劑來 催化。在另一實(shí)施方案中，在固化之后，樹脂例如通過暴露于正常的環(huán)境照明和/或特定的 照射和/或固化后加熱變?yōu)樗{(lán)色。
[0096] 參考圖4A-C描述了電致變色窗格的特定實(shí)例。圖4A是電致變色窗格400的橫截 面圖，電致變色窗格400的制造始于例如如工藝流程100中概述的玻璃板405。圖4B示出 EC窗格400的另一側(cè)的橫截面，且圖4C示出EC窗格400的頂視圖（圖4A是如圖4C描繪 的從右邊或左邊的視圖；且圖4B是如圖4C描繪的從底側(cè)仰視的視圖）。圖4A示出被從玻 璃板切割、邊緣刪除、激光劃線和附接母線之后的個(gè)別電致變色窗格。玻璃窗格405具有擴(kuò) 散阻擋410和擴(kuò)散阻擋上的第一透明導(dǎo)電氧化物（TC0)415。TCO層415是用W形成玻璃板 上制造的電致變色設(shè)備的電極的兩個(gè)導(dǎo)電層中的第一層。在該個(gè)實(shí)例中，玻璃板包括底層 玻璃和擴(kuò)散阻擋層。因此，在該個(gè)實(shí)例中，形成擴(kuò)散阻擋，然后是第一 TCO,然后是EC堆疊， W及然后是第二TCO。在一個(gè)實(shí)施方案中，在集成沉積系統(tǒng)中制造電致變色設(shè)備（EC堆疊和 第二TCO)，其中玻璃板在堆疊的制造過程中的任何時(shí)候都不離開集成沉積系統(tǒng)。在一個(gè)實(shí) 施方案中，也使用集成沉積系統(tǒng)來形成第一 TCO層，其中玻璃板在沉積EC堆疊和（第二） TCO層期間不離開集成沉積系統(tǒng)。在一個(gè)實(shí)施方案中，在集成沉積系統(tǒng)中沉積（擴(kuò)散阻擋、 第一 TC0、EC堆疊和第二TC0)所有層，其中玻璃板在沉積期間不離開集成沉積系統(tǒng)。
[0097] 在形成EC設(shè)備之后，執(zhí)行邊緣刪除和激光劃線。圖4A描繪了區(qū)域440,在該個(gè)實(shí) 例中，在區(qū)域440中已從圍繞激光劃線溝槽430、431、432和433的周邊區(qū)域去除了設(shè)備，所 述激光劃線溝槽穿過第二TCO和EC堆疊，但不穿過第一 TC0,所述激光劃線溝槽被制造W 隔離EC設(shè)備的部分435、436、437和438,所述部分在從可操作EC設(shè)備邊緣刪除期間很可 能受到損壞。在一個(gè)實(shí)施方案中，激光劃線430、432和433穿過第一 TCO W有助于隔離設(shè) 備（激光劃線431不穿過第一 TC0,否則會(huì)切斷母線2與第一 TCO并從而與EC堆疊的電連 通）。用于激光劃線的一個(gè)或多個(gè)激光通常但并非必須地是脈沖式激光，例如二極管粟浦固 態(tài)激光。例如，可使用來自（Oxford Massachusetts)的 IPG Photonics 或來自（Vilnius Lithuania)的化spla的合適的激光來執(zhí)行激光劃線。也可例如通過鉆頭劃線來機(jī)械地執(zhí) 行劃線。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)理解，激光劃線可在不同的深度執(zhí)行和/或用單個(gè)工藝執(zhí)行，借 此激光切割深度在EC設(shè)備的周邊周圍的連續(xù)路徑期間變化或不變化。在一個(gè)實(shí)施方案中， 邊緣刪除被執(zhí)行到第一 TCO下方的深度。在另一實(shí)施方案中，第二激光劃線被執(zhí)行W隔離 玻璃窗格的邊緣附近的第一 TCO的一部分（例如，如圖4A-C所描繪）與朝向內(nèi)部的部分。 在一個(gè)實(shí)例中，該個(gè)劃線至少沿著邊緣在母線2和邊緣之間，其中母線2被應(yīng)用到第一 TC0。 [009引在激光劃線完成之后，附接母線。非穿透性母線（1)被應(yīng)用到第二TC0。非穿透性 母線（2)被應(yīng)用到設(shè)備未被沉積的區(qū)域（例如，保護(hù)第一 TCO免受設(shè)備沉積影響的掩模）， 與第一 TCO接觸，或在該個(gè)實(shí)例中，其中邊緣刪除被用W向下去除材料到第一 TC0。在該個(gè) 實(shí)例中，母線1和母線2都是非穿透性母線。穿透性母線是通常壓入并通過EC堆疊W與堆 疊底部的TCO接觸的母線。非穿透性母線是不穿透EC堆疊層但與導(dǎo)電層（例如，TC0)的 表面形成電氣和物理接觸的母線。
[0099] TCO層可使用例如屏幕和光刻圖案化方法的非傳統(tǒng)的母線來進(jìn)行電連接。在一個(gè) 實(shí)施方案中，通過絲網(wǎng)印刷（或使用另一種圖案化方法）導(dǎo)電性油墨之后加熱固化或燒結(jié) 油墨來與設(shè)備的透明導(dǎo)電層建立電連通。使用上述設(shè)備配置的優(yōu)勢(shì)包括較簡(jiǎn)單的制造例如 比使用穿透性母線的常規(guī)技術(shù)少的激光劃線，和W下事實(shí)：EC設(shè)備著色到母線1(不像當(dāng)母 線1是穿透型母線時(shí)切割隔離溝槽穿過設(shè)備的常規(guī)方法）且在母線1下方，該提供了更大 的著色區(qū)域。例如，可代替非穿透性母線1而使用穿透性母線，但該會(huì)犧牲可著色區(qū)域并將 需要在玻璃上制造EC堆疊之前穿過第一 TCO的劃線。一個(gè)實(shí)施方案設(shè)想在玻璃板上制造 EC設(shè)備之前對(duì)玻璃板上的一個(gè)或多個(gè)EC設(shè)備執(zhí)行該第一劃線。在所述實(shí)施方案中，例如相 對(duì)于圖IA和IB所描述的方法流的剩余部分仍然是類似的。
[0100] 如上文所述，在連接母線之后，設(shè)備被集成到IGU，該例如包括連接母線等。在一 些實(shí)施方案中，母線中一個(gè)或兩個(gè)在精加工的IGU內(nèi)，然而，在一個(gè)實(shí)施方案中，一個(gè)母線 在IGU的密封件外面而一個(gè)母線在IGU內(nèi)。圖5A描繪了如相對(duì)于圖4A-C描述的集成到 IG呪OO的EC窗格的橫截面。使用墊片505來把EC窗格400與另一窗格510隔開。在該 個(gè)實(shí)例中，第二窗格510是非EC窗格，然而，本發(fā)明并不局限于此。窗格510上可具有EC 設(shè)備和/或一個(gè)或多個(gè)涂層，例如低E涂層等。在該個(gè)實(shí)例中，主密封件515在墊片505和 EC設(shè)備400的第一 TCO之間。該個(gè)密封件也在分離器505和第二玻璃窗格之間。次密封件 520在分離器505的周邊周圍（母線接線穿過密封件W連接到控制器）。該些密封件有助 于使IGU的內(nèi)部空間550防潮。
[0101] 圖5B描繪了與加強(qiáng)窗格530層壓之后的IGU 500。在該個(gè)實(shí)例中，使用液態(tài)樹脂 層壓，且因此固化樹脂535位于加強(qiáng)窗格和EC窗格的玻璃之間。雖然未被描繪，但是本領(lǐng) 域技術(shù)人員應(yīng)理解，如果玻璃2上也具有EC設(shè)備，那么其也可被層壓。一個(gè)實(shí)施方案是包 括由內(nèi)部空間隔開的兩個(gè)EC窗格的IGU，在一個(gè)實(shí)例中，兩個(gè)EC設(shè)備都在IGU的內(nèi)部空間 中，其中兩個(gè)EC窗格被加強(qiáng)。在一個(gè)實(shí)施方案中，EC窗格使用如本文所述的液態(tài)樹脂層壓 來加強(qiáng)。在其它實(shí)施方案中，EC窗格中一個(gè)或兩個(gè)通過施加如本文所述的涂層來加強(qiáng)或強(qiáng) 化。
[0102] 圖6A和她像圖4A和4B -樣，示出了結(jié)構(gòu)600,結(jié)構(gòu)600是在玻璃基板上制造的 EC設(shè)備。圖6C是頂視圖，示出圖6A描繪了橫截面X-X'，且圖她描繪了橫截面Y-Y'。在該 個(gè)實(shí)例中，區(qū)域640代表已從圍繞激光劃線溝槽630、631、632和633的周邊區(qū)域（在該個(gè) 實(shí)例中）去除設(shè)備的區(qū)域。在該個(gè)實(shí)例中，激光劃線630、632和633穿過第二TC0、EC堆疊 和第一 TC0,且隔離可操作EC設(shè)備、EC設(shè)備的部分635、637和638,所述部分在邊緣刪除期 間很可能受到損壞。激光劃線631穿過第二TCO和設(shè)備堆疊，但不穿過底部TC0,因?yàn)樵摮?當(dāng)與母線2電連通的下部導(dǎo)體。在該個(gè)實(shí)例中，EC堆疊、第一 TCO和擴(kuò)散阻擋被在邊緣刪除 區(qū)域640中去除。該是被執(zhí)行到第一 TCO下方深度的邊緣刪除的實(shí)例。通過去除下部TCO 且可選地去除擴(kuò)散阻擋，當(dāng)被密封在IGU中時(shí)，EC設(shè)備被更有效地與環(huán)境隔離，即，TCO的邊 緣（EC設(shè)備的一部分）不暴露于周圍環(huán)境。又，主密封件和次密封件可能是更可靠的，因?yàn)?它們不經(jīng)受擴(kuò)散阻擋或TCO的分層，而是在墊片和玻璃基板之間進(jìn)行。如圖6C所描繪，邊 緣刪除區(qū)域640橫跨EC設(shè)備的周邊，在玻璃的外周邊周圍。圖7示出如圖6A中并入IGU 700的橫截面。使用墊片705來把EC窗格600與另一窗格710隔開。在該個(gè)實(shí)例中，第二 窗格710是非EC窗格，然而，本發(fā)明并不局限于此。窗格710上可具有EC設(shè)備和/或一個(gè) 或多個(gè)涂層，例如低E涂層等。在該個(gè)實(shí)例中，主密封件715在墊片705和EC設(shè)備600的 玻璃基板之間。該個(gè)密封件也在分離器705和第二玻璃窗格之間。次密封件720在分離器 705的周邊周圍（母線接線穿過主密封件W連接到控制器）。該些密封件有助于使IGU的 內(nèi)部空間750防潮。類似于圖5B中所描繪，IGU 700可使用例如固化樹脂來層壓到另一玻 璃板。
[0103] 圖8A描繪了結(jié)構(gòu)800的頂視圖，結(jié)構(gòu)800包括玻璃板上的EC設(shè)備805,結(jié)構(gòu)800 類似于如圖6C中描繪的600,但是其中不形成隔離溝槽（劃線）W例如由于設(shè)備中邊緣刪 除造成的周邊周圍的缺陷而隔離EC設(shè)備805的部分。在該個(gè)實(shí)例中，周邊周圍的邊緣刪除 區(qū)域840是使用激光技術(shù)來形成的，所述激光技術(shù)在EC設(shè)備周圍留下干凈的邊緣，并從而 不需要進(jìn)一步的隔離溝槽（例如，使用如本文所述的激光、功率密度、光斑配置等）。隨著激 光燒蝕技術(shù)的更嚴(yán)格控制（例如，改進(jìn)的計(jì)算機(jī)算法、電源、激光聚焦和跟蹤方法）的問世， 所述干凈邊緣刪除是可能的，而不需要額外的激光隔離溝槽。一個(gè)實(shí)施方案是在透明基板 上制造的EC設(shè)備，其中EC設(shè)備的周邊部分（邊緣刪除）通過激光燒蝕來去除。在一個(gè)實(shí) 施方案中，周邊部分的寬在約Imm和約20mm之間，在另一實(shí)施方案中，寬在約5mm和約15mm 之間，且在又一實(shí)施方案中，寬在約8mm和約IOmm之間。在一個(gè)實(shí)施方案中，在設(shè)備制造過 程中，不形成額外的隔離溝槽、激光等。
[0104] 圖8B描繪了橫截面Z-Z'且圖8C描繪了橫截面W-W'。W此方式制造的設(shè)備不需 要隔離劃線。具體說來，EC設(shè)備是在例如包括所有所描繪的層的玻璃基板上制造的。執(zhí)行 邊緣刪除。又，向下去除EC設(shè)備的一部分到在該個(gè)實(shí)例中是透明的下電極，W創(chuàng)建母線2 的"著陸區(qū)"。該個(gè)著陸區(qū)有時(shí)稱為"母線墊暴露"或"B陽"，其中暴露下部導(dǎo)體的一部分， 使得可在其上形成母線?？捎萌魏雾樞騺韴?zhí)行邊緣刪除區(qū)域和BPE的形成。在一個(gè)實(shí)施方 案中，邊緣刪除在BPE之前執(zhí)行。下文更詳細(xì)地描述BPE的各種方面。
[0105] 如上文所述，在各種實(shí)施方案中，BPE是EC設(shè)備的一部分被向下去除到下部電極 (例如透明導(dǎo)電氧化物）W創(chuàng)建將要應(yīng)用母線的表面并從而與電極形成電接觸的區(qū)域。應(yīng) 用的母線可為焊接的母線和墨母線等。BPE通常具有矩形區(qū)域，但該不是必需的；BPE可為 任何幾何形狀或隨機(jī)形狀。例如，根據(jù)需要，BPE可為圓形、H角形、楠圓形、梯形和其它多 邊形形狀。形狀可取決于EC設(shè)備的配置、承載EC設(shè)備（例如，不規(guī)則形狀的窗）的基板或 甚至例如用W創(chuàng)建EC設(shè)備的更有效的激光燒蝕圖案。在一個(gè)實(shí)施方案中，BPE基本上跨越 EC設(shè)備的一側(cè)，并且足夠?qū)扺使用至少在EC設(shè)備堆疊和母線之間的空間來容納母線。在一 個(gè)實(shí)施方案中，BPE基本上為矩形，長(zhǎng)度近似EC設(shè)備的一側(cè)，且寬度在約5mm和約15mm之 間，在另一實(shí)施方案中，在約5mm和約IOmm之間，且在又一實(shí)施方案中，在約7mm和約9mm 之間。如所提及，母線的寬度可在約Imm和約5mm之間，通常為約3mm寬。
[0106] B陽通常但并非必須地足夠?qū)扺容納母線的寬度，且又在母線和EC設(shè)備之間留有 空間（因?yàn)橹挥心妇€能接觸下部電極）。母線寬度可超過BPE的寬度（且因此，會(huì)有母線材 料接觸到下部導(dǎo)體和玻璃兩者），只要母線和EC設(shè)備之間有空間。在母線寬度由BPE容納 (即，母線完全在下部導(dǎo)體頂上）的實(shí)施方案中，母線沿長(zhǎng)度的外邊緣可與BPE的外邊緣對(duì) 齊，或嵌入約Imm到約3mm。同樣地，母線和EC設(shè)備之間的空間在約Imm和約3mm之間，在 另一實(shí)施方案中，在約Imm和2mm之間，在另一實(shí)施方案中，為約1. 5mm。下文相對(duì)于具有為 TCO的下部電極的EC設(shè)備更詳細(xì)地描述了 BPE的形成。該僅僅是為了方便，電極可W是透 明的或不透明的任何合適的電極。
[0107] 為了形成BPE，需要清除底部TCO區(qū)域的沉積材料，使得可在BPE上制造母線。在 一個(gè)實(shí)施方案中，該是通過當(dāng)使底部TCO暴露在限定位置上的限定區(qū)域中時(shí)選擇性地去除 沉積膜層的激光處理來實(shí)現(xiàn)的。在一個(gè)實(shí)施方案中，利用底部電極和沉積層的吸收特性，W 在激光燒蝕期間達(dá)成選擇性，即，使得選擇性地去除TCO上的EC材料而保持TCO材料完整。 在某些實(shí)施方案中，也去除TCO層的上部分，W確保母線的良好的電接觸，從而例如去除可 能會(huì)在沉積過程中發(fā)生的TCO和EC材料的任何混合。在某些實(shí)施方案中，當(dāng)BPE邊緣被激 光加工W最小化在該些邊緣的損壞時(shí)，可避免對(duì)限制漏電流的隔離劃片線（例如，參看上 文相對(duì)于圖8A-C的描述）的需要-該消除了一個(gè)處理步驟，同時(shí)實(shí)現(xiàn)了所希望的設(shè)備性能 結(jié)果。
[010引在某些實(shí)施方案中，用W制造BPE的電磁福射與上文所述用于執(zhí)行邊緣刪除的福 射相同。（激光）磁福被使用光纖或開放光束路徑傳遞到基板。可取決于電磁福射波長(zhǎng)的 選擇來從玻璃側(cè)或膜側(cè)執(zhí)行燒蝕。燒蝕膜厚度所需的能量密度是通過使激光束穿過光學(xué)透 鏡來實(shí)現(xiàn)的。透鏡將激光束聚焦成所需的形狀和大小，例如，在一個(gè)實(shí)施方案中，具有上述 尺寸的"平頂"，具有約0. 5J/cm2和約4J/cm2之間的能量密度。在一個(gè)實(shí)施方案中，如上文 激光邊緣刪除所述般對(duì)BPE進(jìn)行激光掃描。
[0109] 通過使用上述方法，在使用邊緣刪除和BPE而無額外隔離劃線的情況下，排除了 對(duì)掩模的需要，即，在邊緣刪除時(shí)去除了 EC設(shè)備的周邊周圍的無社和/或損壞或不需要的 材料。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)理解，如果基板被例如夾子或其它裝置保持在適當(dāng)位置，那么可不 涂覆基板的部分。該意謂不需要用于圖案化設(shè)備的掩模。又，因?yàn)檫吘墑h除在設(shè)備上形成 了干凈的邊緣，所W不需要隔離劃線來進(jìn)一步"清理"邊緣，例如，其中當(dāng)暴露EC設(shè)備的個(gè) 別層時(shí)，邊緣刪除不去除材料W形成干凈邊緣。該些方法的又一個(gè)優(yōu)點(diǎn)是不需要在沉積EC 設(shè)備的個(gè)別層之間進(jìn)行圖案化。例如，在基板上涂覆形成EC設(shè)備的連續(xù)材料層。一旦制造 了 EC設(shè)備層，就執(zhí)行邊緣刪除和BPE。如本文所述，該些方法尤其適用于"涂覆并切割"技 術(shù)，即，其中EC設(shè)備被涂覆到在沉積EC設(shè)備之后可被切割的退火玻璃或其它基板上。例如， 如本文所述，EC設(shè)備被涂覆，且玻璃基板被根據(jù)如本文所述的期望的尺寸切割。然后執(zhí)行 邊緣刪除和BPE。最后，附接母線?？蛇x地，密封劑涂層可被施加到整個(gè)結(jié)構(gòu)W氣封設(shè)備，包 括母線和暴露個(gè)別層的邊緣的設(shè)備側(cè)。在具有或不具有所述密封劑涂層的情況下，設(shè)備可 被氣封在IGU中，例如，如圖5A、5B或7中所述。
[0110] 一個(gè)實(shí)施方案是一種制造EC設(shè)備的方法，所述方法包括；1)在不使用EC設(shè)備的 個(gè)別層的圖案化的情況下，用EC設(shè)備涂覆基板，2)圍繞基板的周邊邊緣刪除設(shè)備的周邊部 分，和3)去除EC設(shè)備的部分炬PE) W暴露下導(dǎo)電層；其中周邊部分（邊緣刪除）的寬度在 約Imm和約20mm之間，寬度在約5mm和約15mm之間，或?qū)挾仍诩s8mm和約IOmm之間。
[0111] 如在本文各種實(shí)施方案中所述，有時(shí)期望使用一個(gè)或多個(gè)激光隔離劃線來制造EC 設(shè)備。圖9A描繪了 EC薄片900的橫截面U-U'，且圖9B描繪了橫截面V-V'，如圖9C中所 指示，900包括玻璃板上的EC設(shè)備。參考圖9A，該個(gè)結(jié)構(gòu)的制備始于玻璃基板，所述玻璃基 板具有擴(kuò)散阻擋和沉積在所述擴(kuò)散阻擋上的第一透明導(dǎo)電氧化物。掩模可用W保護(hù)周邊區(qū) 域940,或者區(qū)域940可通過如本文所述的邊緣刪除來形成。在沉積EC堆疊之前，形成隔離 劃線920,隔離劃線920將擴(kuò)散阻擋層/TCO層分為兩個(gè)區(qū)域（參看圖9C)。然后形成EC堆 疊和頂部TC0。取決于例如姍射沉積的沉積參數(shù)，EC堆疊和頂部TCO層可具有在第一 TCO 的頂部的由掩?；蜻吘墑h除過程限定的區(qū)域的周邊周圍的無社材料930。與溝槽920平行 但在設(shè)備中與溝槽920的相對(duì)側(cè)上形成隔離劃線950。在一個(gè)實(shí)施方案中，使用BPE，且不 需要隔離劃線950。參考圖9B，也形成隔離溝槽960和970。形成隔離溝槽950、960和970 W將大塊設(shè)備與無社930在周邊的H側(cè)周圍隔開。在該個(gè)實(shí)例中，劃線960和970穿過第 一（下部）TC0和擴(kuò)散阻擋，而劃線950不穿透第一 TC0。母線1被作為非穿透性母線應(yīng)用， 而母線2是穿透型（例如，焊接型）母線，其穿過第二TCO和EC堆疊W與底部（第一）TC0 形成電連接。在一個(gè)實(shí)施方案中，當(dāng)BPE用W去除材料930的一部分時(shí)，其中將放置母線到 下部電極（在該個(gè)實(shí)例中為母線2)，使用非穿透性母線。在特定的實(shí)施方案中，在BPE中 只去除了部分930a(參看圖9C)(劃線960和970的外面上的部分930保持完整）。EC設(shè) 備運(yùn)行正常，因?yàn)橛捎跓o社930接觸第一（底部）TCO而可能發(fā)生的任何短路都被隔離溝槽 920、960和970切斷。隔離溝槽920是有效的，因?yàn)槠涮畛溆蠩C堆疊材料，且因此導(dǎo)電性比 TCO差很多。隔離溝槽950通過頂部TCO斷開了母線I和2之間的電連接。
[0112] 例如900的電致變色薄片有時(shí)是優(yōu)選的，因?yàn)槔缈蓪C設(shè)備沉積到玻璃基板上 而不必一定使用掩模。例如，EC設(shè)備的各層向下放置在玻璃基板上，而無需使用任何掩模 或邊緣刪除。然后，使用邊緣刪除來從玻璃基板的周邊部分去除材料。使用隔離溝槽來隔 離任何剩余無社，且不需要BPE，因?yàn)樵跍喜壑械囊粋€(gè)溝槽（例如950)隔離的無社區(qū)域中的 一個(gè)無社區(qū)域頂部使用穿透性母線。然而，如所提及，一個(gè)實(shí)施方案是如相對(duì)于圖9A-C描 述但具有BPE而不是隔離劃線950的設(shè)備。
[0113] 值得注意的是，當(dāng)著色EC設(shè)備時(shí)，上述隔離溝槽沒有顏色或色調(diào)。該是因?yàn)闇喜?不包含EC設(shè)備材料，或者如在溝槽920中一般，設(shè)備材料可能在溝槽中受到影響和/或沒 有底部TCO W在溝槽的區(qū)域中形成可行設(shè)備。如果該些溝槽未從包含EC薄片的窗的可視區(qū) 域遮蔽，那么當(dāng)窗被著色時(shí)，隔離溝槽將相對(duì)于有色窗的彩色背景表現(xiàn)為亮線。該種高對(duì)比 度是可能的，因?yàn)镋C窗可染成阻止透過窗的幾乎所有的傳輸，幾乎不透明。劃片線和著色 設(shè)備之間的對(duì)比從美學(xué)角度來看是不理想的。注意，例如，在圖9A-C中描繪的設(shè)備中，靠近 母線的隔離溝槽920和950不位于母線下方，且因此不會(huì)被母線遮蔽而看不見。又注意，相 對(duì)于例如圖5A、5B和7描述的實(shí)施方案描述了不覆蓋玻璃薄片上EC設(shè)備的任何部分（母 線或劃片線）的墊片。發(fā)明人已認(rèn)識(shí)到，當(dāng)制造EC窗IGU時(shí)，墊片可被配置W遮蔽組裝IGU 中的母線和任何隔離劃線。下方更詳細(xì)地描述了該些實(shí)施方案和各種相關(guān)優(yōu)勢(shì)。一個(gè)實(shí)施 方案是并入IGU的本文所述的任何EC設(shè)備，其中墊片被配置W從EC設(shè)備的可視區(qū)域遮蔽 母線和任何劃片線。在某些實(shí)施方案中，EC設(shè)備的周邊邊緣由主密封件密封。在該些實(shí)施 方案中，如果存在BPE，那么BPE也可由主密封件來密封。
[0114] 傳統(tǒng)上，避免了金屬墊片與母線的物理重疊，從而避免了母線和金屬墊片之間的 電短路。目P，通常，墊片和母線之間有粘合劑，但因?yàn)镮GU形成需要組件被壓在一起，所W墊 片和母線之間有發(fā)生電短路的機(jī)會(huì)。因此，墊片和母線被配置為不重疊。該種偏移設(shè)置減小 了 EC窗的可視區(qū)域。該違背了最大化EC窗的可視區(qū)域的理想目標(biāo)。克服該個(gè)問題的一種 方法是使用絕緣墊片（例如，聚合物（發(fā)泡或非發(fā)泡的塑料）墊片）或用電絕緣材料涂覆 金屬墊片至少否則將與母線接觸的表面，使得涂層是母線和墊片之間的插入絕緣體。2011 年12月6日提交的題為"Spacers化r Insulated Glass化its"的美國專利申請(qǐng)序列號(hào) 13/312,057中描述了所述涂覆墊片，所述美國專利申請(qǐng)W引用的方式并入本文。設(shè)想申請(qǐng) 13/312,057中描述的墊片適于本文所述的實(shí)施方案，因此，一個(gè)實(shí)施方案是描述墊片的本 文所述的任何實(shí)施方案，其中墊片是申請(qǐng)13/312, 057中描述的墊片。
[0115] 因此，通過使用適當(dāng)?shù)慕^緣保護(hù)，墊片可位于母線上方W避免電短路，且也通過從 EC窗的可視區(qū)域遮蔽母線來節(jié)省有價(jià)值的EC設(shè)備基板面。墊片可被設(shè)置W也遮蔽劃片線； 該在圖10中示出。圖10描繪了具有處于低透射率（有色）狀態(tài)下的EC設(shè)備的IGU，其中 墊片不位于劃片線上方；參看圖10的左側(cè)的IGU。該是相比于其中墊片被設(shè)置W遮蔽劃片 線的IGU ;參看圖10的右側(cè)的IGU。很明顯，變暗窗中的可見劃片線分散用戶的注意力，因?yàn)?劃片線和有色窗的暗背景之間的高對(duì)比度。遮蔽的劃片線并非視覺上分散注意力，因?yàn)樗?們被遮蔽不可見。一個(gè)實(shí)施方案是包括具有一個(gè)或多個(gè)劃片線的至少一個(gè)EC薄片的IGU， 其中所有劃片線被IGU的墊片遮蔽。在一個(gè)實(shí)施方案中，墊片由聚合物材料制成，例如，發(fā) 泡或非發(fā)泡的材料。在一個(gè)實(shí)施方案中，墊片是金屬墊片。在另一實(shí)施方案中，金屬墊片包 括至少在靠近母線的側(cè)面上的絕緣涂層。除了遮蔽劃片線之外，該種配置還有其它優(yōu)勢(shì)；該 些在下文中更詳細(xì)地進(jìn)行了描述。
[0116] 在該種情況下，各種實(shí)施方案針對(duì)IGU配置，其中IGU包含薄片上的至少一個(gè)EC 設(shè)備，且各種實(shí)施方案尤其針對(duì)IGU的玻璃窗格、墊片、EC設(shè)備、設(shè)備中的任何劃片線、母 線、主密封件和次密封件之間的相對(duì)取向和空間關(guān)系。所述IGU配置最大化EC窗的可視區(qū) 域，同時(shí)遮蔽EC設(shè)備中否則將與有色EC薄片形成高對(duì)比的母線和任何劃片線。又，該些實(shí) 施方案保護(hù)EC設(shè)備的邊緣免受IGU的主密封件內(nèi)環(huán)境的影響。下文相對(duì)于圖11更詳細(xì)地 描述了該些實(shí)施方案。
[0117] 包含在透明基板上的EC設(shè)備的常規(guī)的IGU被用相對(duì)于EC設(shè)備的兩種方式中的 一種方式來配置。在第一配置中，EC設(shè)備覆蓋基板的整個(gè)區(qū)域，且IGU的墊片位于EC設(shè) 備上。該種配置潛在地把EC設(shè)備的邊緣暴露到環(huán)境，因?yàn)镋C設(shè)備跨越主密封件和次密封 件。如果未采取額外的措施來保護(hù)EC設(shè)備的外周邊免受濕氣和環(huán)境的影響，例如允許次密 封劑或相鄰層壓粘合劑的一部分覆蓋EC設(shè)備的邊緣，那么EC設(shè)備可隨時(shí)間降級(jí)。具體說 來，該種配置允許水通過設(shè)備層的路徑進(jìn)入另外氣封的IGU內(nèi)空間并使設(shè)備的可視區(qū)域受 到影響。在第二配置中，設(shè)備被配置使得其區(qū)域位于主密封件的內(nèi)周邊中，即墊片和粘合劑 用W將墊片密封到玻璃。目P，EC設(shè)備不在墊片下方延伸，而是位于墊片的內(nèi)周邊中。換句話 說，濕氣在到達(dá)IGU的體積內(nèi)的EC設(shè)備之前將必須穿過次密封件和整個(gè)主密封件。該種配 置雖然比第一配置更多地保護(hù)EC設(shè)備，但是犧牲了 EC窗的可視區(qū)域中寶貴的EC設(shè)備占地 面積。該兩種配置出現(xiàn)的一個(gè)原因（除了第一配置中有在第二配置中被避免的水的通道之 外）是母線。由于許多原因，所W在IGU中使用金屬墊片是理想的。如上文所述，常規(guī)的金 屬墊片可缺乏母線，且因此母線被設(shè)置于主密封件的任一側(cè)，即，在次密封件區(qū)域中，或IGU 的體積內(nèi)。
[0118] 在下文所述的實(shí)施方案中，母線和任何劃片線都被主密封件遮蔽，例如，它們位于 墊片和玻璃薄片之間W免對(duì)于EC窗的終端用戶可見。EC設(shè)備的邊緣直接由主密封件保護(hù)， 母線和劃片線對(duì)于終端用戶不可見，且EC設(shè)備的可視區(qū)域被最大化。在其它實(shí)施方案中， 執(zhí)行邊緣刪除，且然后EC設(shè)備被密封在層壓密封件內(nèi)，即，EC基板與另一窗格的層壓的結(jié) 合粘合劑保護(hù)EC設(shè)備，包括邊緣刪除留下暴露的邊緣的邊緣部分。一個(gè)實(shí)施方案是一種處 理EC設(shè)備的方法，所述方法包括；1)通過如本文所述的電磁福射從基板的周邊區(qū)域去除所 述EC設(shè)備；和2)用IGU的主密封件或在層壓密封件內(nèi)密封EC設(shè)備的周邊邊緣。本文描述 了周邊區(qū)域（邊緣刪除）的尺寸。在一個(gè)實(shí)施方案中，EC設(shè)備不具有劃片線，只有邊緣刪 除和BPE。在另一實(shí)施方案中，EC設(shè)備只具有一個(gè)劃片線，例如圖9A中描繪的劃片線920。
[0119] 在某些實(shí)施方案中，例如當(dāng)IGU被部署在高海拔地區(qū)且因此壓力變化可能需要 IGU的均壓能力時(shí)，IGU可裝配有毛細(xì)呼吸管。當(dāng)使用所述毛細(xì)管時(shí)，采取措施W確保氣體 的交換不允許濕氣進(jìn)入IGU，即，使用干燥劑或干燥機(jī)制來干燥通過毛細(xì)管進(jìn)入IGU的氣 體。
[0120] 圖11是IGU 1100的部分橫截面，具體說來是靠近且包括IGU的邊緣的IGU 1100 的一部分。絕緣玻璃單元1100包含基本上彼此平行的兩個(gè)玻璃基板（薄片）（參看圖2B 的下部部分和IGU制造的通用方面的相關(guān)描述）。在該個(gè)實(shí)例中，下部薄片具有通常稱為 EC涂層的EC設(shè)備1110。通常，EC涂層大約小于1微米厚至幾微米厚，所W該個(gè)附圖不是 按比例繪制的，即，涂層的橫截面在該種規(guī)格下將不可識(shí)別（又，可能有劃片線例如靠近母 線，但所述劃片線并未示出）。墊片1120在玻璃薄片之間，在該個(gè)實(shí)例中，墊片1120是金屬 墊片。主密封劑1130在墊片1120和玻璃薄片之間，主密封劑1130例如為PIB或其它合適 的粘合劑密封劑。該種結(jié)構(gòu)被稱為IGU的主密封件；其用W氣封IGU的內(nèi)部空間1150免受 環(huán)境影響，且通常，內(nèi)部空間填充有惰性氣體，例如氮?dú)?。密封?160在主密封件的周邊周 圍和各薄片之間，密封劑1160形成IGU的次密封件。母線1170在EC涂層1110上，在墊片 1120和下部薄片之間。母線1170也可在B陽上。母線的寬度可在約Imm和約5mm之間， 通常為約3mm寬。在該個(gè)實(shí)例中，墊片1120至少在靠近母線1170的側(cè)面上涂覆有絕緣材 料，W免在金屬墊片和母線之間形成無意的電短路。在一個(gè)實(shí)施方案中，母線1170沿EC設(shè) 備的基本上所有或所有長(zhǎng)度與EC設(shè)備的邊緣重疊。目P，母線部分位于設(shè)備和/或BPE區(qū)域 (穿透型或非穿透型）上，而母線的其它部分沿其長(zhǎng)度位于設(shè)備和/或BPE外。盡管不希 望被理論束縛，但相信，該種配置可有助于通過有效地短接所述區(qū)域中的設(shè)備來防止操作 過程中在墊片下方著色。墊片1120可替代性地為聚合物墊片，或者絕緣材料可被應(yīng)用到母 線，使得金屬墊片不會(huì)在母線上短路。又，具有通道W容納母線的金屬墊片可能為合適的。 [012。 尺寸C、D、E、F和G限定用于最大化可視區(qū)域同時(shí)保護(hù)EC設(shè)備的邊緣免受主密封 件中周圍環(huán)境的影響的IGU的各實(shí)施方案的許多配置方面。一個(gè)所述實(shí)施方案是具有如下 文所述尺寸C、D、E、F和G中的至少一個(gè)的IGU。在一個(gè)實(shí)施方案中，IGU具有包括如下文 所述尺寸C、D、E、F和G中的所有尺寸的配置。
[0122] 尺寸C限定玻璃薄片的內(nèi)表面之間的距離。通常測(cè)量尺寸C，因?yàn)槔绮ＡП∑?可具有不同的厚度，所W即使薄片具有不同的厚度，尺寸C也將相同。尺寸C在約6mm和約 30mm之間，約IOmm和約20mm之間，或約12mm和約13mm之間。尺寸C也是主密封件和次密 封件的高度的測(cè)量。主密封件和次密封件的長(zhǎng)度將取決于IGU的大小，因?yàn)樵撔┟芊饧?自跨越IGU的玻璃薄片的周邊的內(nèi)部周邊。
[012引主密封件的寬度近似為墊片1120的寬度D ± 2mm，其中一些變化是由于IGU制造期 間密封劑1130從墊片和玻璃之間擠掉（負(fù)變化是由于一些密封劑不擴(kuò)大至墊片的寬度）。 在一個(gè)實(shí)施方案中，墊片的寬度在約5mm和約15mm之間。在另一實(shí)施方案中，墊片的寬度 在約5mm和約IOmm之間，在另一實(shí)施方案中，約7mm和8mm之間。
[0124] 距離E限定次密封件的寬度。在一個(gè)實(shí)施方案中，次密封件的寬度在約2mm和約 15mm之間，在另一實(shí)施方案中，寬度在約3mm和約IOmm之間，且在又一實(shí)施方案中，寬度在 約4mm和約8mm之間。次密封件的寬度可獨(dú)立于相對(duì)于圖11描述的其它尺寸設(shè)置，或者例 如可被設(shè)置為選擇尺寸D、F和G的工件。下文描述了尺寸F和G。
[0125] 距離F是潤流，其為墊片的內(nèi)邊緣和母線或劃線的內(nèi)邊緣之間的距離。潤流是對(duì) "背"母線或劃線被設(shè)置離墊片的內(nèi)邊緣有多遠(yuǎn)的測(cè)量W從EC涂層的可視區(qū)域遮蔽母線和 /或劃線。在一個(gè)實(shí)施方案中，潤流在約Imm和約5mm之間，在另一實(shí)施方案中，在約2mm和 約3mm之間，在又一實(shí)施方案中，為約2mm。潤流可在IGU的不同側(cè)不同，如在所述實(shí)施方案 中，墊片被配置W遮蔽該些特征，且該些特征不需要相對(duì)于墊片對(duì)稱地調(diào)整尺寸，墊片只需 要遮蔽它們即可。換句話說，給定特征、劃片線或母線的潤流在IGU的一側(cè)上可與IGU的另 一側(cè)上不同。圖11示出了 EC設(shè)備1110的邊緣被主密封件保護(hù)。潤流允許遮蔽任何母線 或劃片線并確保EC設(shè)備的邊緣被主密封件保護(hù)。
[0126] 在一個(gè)實(shí)施方案中，主密封件是兩部分的密封。例如，保護(hù)EC設(shè)備的邊緣的主密 封件的一部分是如所描繪的聚合物粘合劑密封件，而外側(cè)部分更靠近墊片的外側(cè)，其中墊 片在邊緣刪除區(qū)域上方，密封件是擴(kuò)散接合型密封件，其中金屬墊片和玻璃擴(kuò)散接合在墊 片的所述部分上。
[0127] 距離G是如上所述的邊緣刪除的測(cè)量。該是被去除W暴露玻璃和/或擴(kuò)散阻擋的 EC設(shè)備的周邊部分的寬度。如上文所述，在一個(gè)實(shí)施方案中，周邊部分的寬度在約Imm和約 20mm之間，在另一實(shí)施方案中，寬度在約5mm和約15mm之間，且在又一實(shí)施方案中，寬度在 約8mm和約IOmm之間。在一個(gè)實(shí)施方案中，暴露玻璃，即，EC設(shè)備和任何擴(kuò)散阻擋被在邊緣 刪除中去除。在一個(gè)實(shí)施方案中，執(zhí)行邊緣刪除，W也去除約0. 5微米（ym)和約3ym之 間的玻璃基板，例如W確保完成EC設(shè)備和擴(kuò)散阻擋的去除（從而解釋了基板的厚度和平坦 性的變化）。在一個(gè)實(shí)施方案中，執(zhí)行邊緣刪除，W也去除約Iym和約2 ym之間的玻璃基 板。在另一實(shí)施方案中，執(zhí)行邊緣刪除，W也去除約1. Sum的玻璃基板。
[012引一個(gè)實(shí)施方案是一種IGU,其中C在約12mm和約13mm之間，D在約7mm和約8mm 之間，E在約4mm和約8mm之間，F(xiàn)在約2mm和約3mm之間，和G在約8mm和約IOmm之間。 在一個(gè)實(shí)施方案中，IGU具有兩個(gè)玻璃窗格，所述玻璃窗格的寬度各自獨(dú)立地在約3mm和約 6mm之間。在一個(gè)實(shí)施方案中，每個(gè)玻璃窗格的厚度相同。在另一實(shí)施方案中，玻璃窗格的 厚度變化不超過1mm。
[0129] 雖然已經(jīng)詳細(xì)描述了本發(fā)明W便于理解，但是所述實(shí)施方案應(yīng)理解為說明性的而 不是限制性的。本領(lǐng)域技術(shù)人員將明顯，可在所附權(quán)利要求的范圍內(nèi)實(shí)踐某些變化和修改。
【權(quán)利要求】
1. 一種制造絕緣玻璃單元（IGU)的方法,所述方法包括： (a) 在透明基板上制造電致變色設(shè)備，以創(chuàng)建電致變色窗窗格； (b) 制造包括所述電致變色窗窗格的絕緣玻璃單元（IGU);和 (c) 把緩沖墊片應(yīng)用到所述I⑶。
2. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述緩沖墊片包括U形通道帽，所述U形通道帽裝配 在所述IGU的周邊上的所述玻璃邊緣上。
3. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述緩沖墊片包括彈性體或塑性材料。
4. 如權(quán)利要求3所述的方法，其中所述緩沖墊片包括乙烯基帽。
5. 如權(quán)利要求1所述的方法，其還包括：在應(yīng)用所述緩沖墊片的情況下，把所述IGU從 制造商運(yùn)輸?shù)桨惭b者。
6. 如權(quán)利要求1所述的方法，其還包括：強(qiáng)化所述電致變色窗窗格。
7. 如權(quán)利要求1所述的方法，其還包括：當(dāng)在所述IGU中時(shí)，把第二窗格層壓到所述電 致變色窗窗格。
8. -種用于I⑶的邊緣緩沖墊片，其包括： a) 整體主體，所述整體主體是由剛性或半剛性材料制成的U形或C形通道；和 b) 至少三個(gè)缺口，所述缺口被配置以允許彎曲所述U形或C形通道來容納所述I⑶的 轉(zhuǎn)角。
9. 如權(quán)利要求8所述的邊緣緩沖墊片，其包括塑料。
10. 如權(quán)利要求8所述的邊緣緩沖墊片，其為擠出成型的。
11. 如權(quán)利要求9所述的邊緣緩沖墊片，其中所述塑料包括至少一種可生物降解的聚 合物。
12. 如權(quán)利要求8所述的邊緣緩沖墊片，其中所述邊緣緩沖墊片的所述材料的厚度在 約Imm和約10mm之間。
13. 如權(quán)利要求8所述的邊緣緩沖墊片，其中所述U形或C形通道的開口比所述通道的 底部窄。
14. 一種制造用于I⑶的邊緣緩沖墊片的方法，所述方法包括： a) 接收所述IGU的尺寸； b) 把U形通道材料切割成適當(dāng)?shù)拈L(zhǎng)度，以基本上覆蓋所述IGU的周邊；和 c) 適當(dāng)?shù)亻_槽所述U形通道材料，以把所述U形通道材料中的折疊容納在所述I⑶的 轉(zhuǎn)角處。
15. 如權(quán)利要求14所述的方法，其中所述IGU的所述尺寸由IGU制造單元來提供。
16. 如權(quán)利要求15所述的方法，其中a)-c)由裝置以自動(dòng)方式來執(zhí)行，所述裝置結(jié)合所 述I⑶制造單元工作。
17. 如權(quán)利要求16所述的方法，其中所述裝置被配置以擠出所述U形通道材料。
18. 如權(quán)利要求14所述的方法，其中所述I⑶是矩形，且c)包括制造四個(gè)缺口，以容納 所述IGU的所有四個(gè)轉(zhuǎn)角。
19. 如權(quán)利要求17所述的方法，其中所述裝置還被配置以把所述邊緣緩沖墊片應(yīng)用到 所述I⑶。
20. 一種如權(quán)利要求16-19中任一權(quán)利要求所述的裝置。
21. -種將具有四個(gè)缺口和五個(gè)子部分的U形通道邊緣緩沖墊片應(yīng)用到矩形IGU的方 法，所述方法包括： 1) 把所述開槽U形通道材料的中心子部分應(yīng)用到所述IGU的一個(gè)邊緣上； 2) 在基本上垂直于所述一個(gè)邊緣的兩個(gè)邊緣上折疊相鄰的兩個(gè)子部分；和 3) 在與所述一個(gè)邊緣相對(duì)的剩余邊緣上折疊剩余兩個(gè)子部分。
22. 如權(quán)利要求21所述的方法，其以1、2以及然后3的順序執(zhí)行。
23. 如權(quán)利要求22所述的方法，其還包括：使用膠帶來把所述U形通道固定到所述 IGU。
24. -種被配置以執(zhí)行如權(quán)利要求21-23中任一權(quán)利要求所述的方法的裝置。
25. -種處理EC設(shè)備的方法，其包括： 1) 通過電磁輻射從基板的周邊區(qū)域去除所述EC設(shè)備，其中所述周邊區(qū)域的寬度在約 1mm和約20mm之間；和 2) 用IGU的主密封件或在層壓密封件內(nèi)密封所述EC設(shè)備的所述周邊邊緣。
26. 如權(quán)利要求25所述的方法，其中所述EC設(shè)備的所述周邊邊緣是用IGU的所述主密 封件來密封的。
27. 如權(quán)利要求25所述的方法，其中所述周邊區(qū)域的寬度在約5mm和約15mm之間。
28. 如權(quán)利要求25所述的方法，其中所述周邊區(qū)域的寬度在約8mm和約IOmm之間。
29. 如權(quán)利要求26所述的方法，其中也去除所述基板表面的至少一部分。
30. 如權(quán)利要求29所述的方法，其中去除約0. 5 μ m和約3 μ m之間的所述基板表面。
31. 如權(quán)利要求25所述的方法，其中所述電磁輻射包括選自248、355nm、1030nm、 1064nm和532nm的至少一個(gè)波長(zhǎng)的激光照射。
32. 如權(quán)利要求31所述的方法，其中所述激光照射的能量密度在約2J/cm2和約6J/cm2 之間。
33. 如權(quán)利要求32所述的方法，其中所述激光照射包括平頂光束配置，所述平頂光束 配置包括約0. 2mm2和約2mm2之間的聚焦區(qū)域。
34. 如權(quán)利要求32所述的方法，其中使用掃描平場(chǎng)聚焦透鏡在要被去除的所述EC設(shè)備 的所述表面上掃描所述聚焦區(qū)域。
35. 如權(quán)利要求34所述的方法，其中在掃描期間，所述聚焦區(qū)域的重疊在約5%和約 75%之間。
36. 如權(quán)利要求35所述的方法，其中所述掃描線的重疊在約5%和約75%之間。
37. 如權(quán)利要求36所述的方法，其中多個(gè)圖案被燒蝕，所述周邊區(qū)域的所述總面積的 一個(gè)子集一個(gè)圖案，其中在掃描期間所述圖案的重疊在約5%和約50%之間。
38. 如權(quán)利要求31所述的方法，其中所述激光照射具有在約IlKHz和約500KHz之間的 范圍內(nèi)的頻率。
39. 如權(quán)利要求31所述的方法，其中所述激光照射具有約IOOfs和約IOOns之間的脈 沖持續(xù)時(shí)間。
40. -種在并入IGU的基板上的電致變色設(shè)備，其中所述電致變色設(shè)備不具有隔離劃 片線。
41. 如權(quán)利要求40所述的電致變色設(shè)備，其還包括邊緣刪除和ΒΡΕ。
42. 如權(quán)利要求41所述的電致變色設(shè)備，其中母線被墊片從所述IGU的可視區(qū)域遮蔽。
43. 如權(quán)利要求42所述的電致變色設(shè)備，其中所述邊緣刪除的寬度在約5mm和約15mm 之間。
44. 如權(quán)利要求43所述的電致變色設(shè)備，其中所述BPE基本上為矩形，長(zhǎng)度近似為所述 EC設(shè)備的一側(cè)，且寬度在約5mm和約IOmm之間。
45. 如權(quán)利要求44所述的電致變色設(shè)備，其中所述BPE上所述母線和所述EC設(shè)備之間 的所述空間在約Imm和約3mm之間。
46. 如權(quán)利要求45所述的電致變色設(shè)備，其中所述EC設(shè)備的周邊邊緣由所述IGU的主 密封件來密封。
47. -種制造 EC設(shè)備的方法，其包括： 1) 用所述EC設(shè)備來涂覆基板，其中未圖案化的劃片線或僅一個(gè)基本上直的劃片線被 用以圖案化所述EC設(shè)備； 2) 邊緣刪除所述EC設(shè)備中圍繞所述基板的周邊的寬度在約5_和約15_之間的周邊 部分；和 3) 沿一個(gè)邊緣去除所述EC設(shè)備的一部分，以形成BPE，從而暴露下部導(dǎo)電層。
48. 如權(quán)利要求47所述的方法，其還包括：將第一母線應(yīng)用到所述暴露的下部導(dǎo)電層。
49. 如權(quán)利要求48所述的方法，其中所述BPE基本上為矩形，長(zhǎng)度近似為所述EC設(shè)備 的所述一個(gè)邊緣，且寬度在約5mm和約IOmm之間。
50. 如權(quán)利要求49所述的方法，其中所述BPE上所述第一母線和所述EC設(shè)備之間的空 間在約Imm和約3mm之間。
51. 如權(quán)利要求50所述的方法，其中所述第一母線為非穿透性母線。
52. 如權(quán)利要求50所述的方法，其中第二母線被應(yīng)用到所述EC設(shè)備的頂部導(dǎo)電層，且 所述基板被并入I⑶。
53. 如權(quán)利要求52所述的方法，其中所述第一和第二母線被墊片從所述IGU的可視區(qū) 域遮蔽。
54. 如權(quán)利要求53所述的方法，其中所述EC設(shè)備的周邊邊緣是用所述IGU的主密封件 來密封的。
55. 如權(quán)利要求54所述的方法，其中所述BPE是由所述IGU的所述主密封件來密封的。
56. -種I⑶，其包括： a) 兩個(gè)透明基板； b) 其間的金屬墊片，所述金屬墊片使用所述兩個(gè)透明基板之間的粘合劑來與所述兩個(gè) 透明基板形成主密封件；和 c) 所述兩個(gè)透明基板中至少一個(gè)上的EC設(shè)備； 其中所述EC設(shè)備的周邊邊緣位于所述主密封件中。
57. 如權(quán)利要求56所述的IGU，其中所述EC設(shè)備中任何圖案化線位于所述主密封件 中。
58. 如權(quán)利要求57所述的IGU，其中與所述設(shè)備相關(guān)的任何母線位于所述主密封件中。
59. 如權(quán)利要求58所述的IGU，其中所述金屬墊片涂覆有電絕緣材料。
60. 如權(quán)利要求58所述的IGU，其中所述金屬墊片的寬度在約5mm和約IOmm之間。
61. 如權(quán)利要求58所述的IGU，其還包括：具有寬度在約3mm和約IOmm之間的次密封 件。
62. 如權(quán)利要求58所述的I⑶，其中渦流在約Imm和約5mm之間。
63. 如權(quán)利要求58所述的IGU，其還包括：寬度在約5mm和約15mm之間的邊緣刪除。
64. 如權(quán)利要求63所述的IGU，其中所述邊緣刪除包括去除約0. 5 μ m和約3 μ m之間 的上面形成邊緣刪除的所述透明基板。
65. 如權(quán)利要求58所述的IGU，其中所述金屬墊片的寬度在約7mm和約8mm之間，次密 封件的寬度在約4mm和約8mm之間，渦流的寬度在約2mm和約3mm之間，邊緣刪除的寬度在 約8mm和約IOmm之間，且所述兩個(gè)透明基板為玻璃。
66. 如權(quán)利要求65所述的IGU，其中所述兩個(gè)透明基板的內(nèi)表面之間的距離在約12mm 和約13mm之間。
【文檔編號(hào)】E06B9/24GK104321696SQ201380025955
【公開日】2015年1月28日 申請(qǐng)日期:2013年4月22日 優(yōu)先權(quán)日:2012年4月25日
【發(fā)明者】羅納德·M·帕克, 羅伯特·T·羅茲比金, 拉什勞伊·巴特納格爾, 阿比什克·阿南特·迪克西特, 安舒·A·普拉丹 申請(qǐng)人:唯景公司