一種具有自潔功能的國畫用畫架的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種畫架，具體講是涉及一種具有自潔功能的國畫用畫架，其屬于繪畫工具【技術(shù)領(lǐng)域】，其包括：支撐架，固定于支撐架上部的畫板墊板、設(shè)置于畫板墊板外圍的邊框、設(shè)置于支撐架下部的放置架，設(shè)置于畫板墊板的上部和下部的畫夾；它結(jié)構(gòu)簡單，其可以調(diào)節(jié)高度，同時在畫板底板上設(shè)有吸水層和自潔層，防止直接固定在畫板底板上作畫時，墨水浸漬畫板，污染畫板，并且設(shè)有自潔層，其具有很高的親水性，及時墨水浸漬畫板，容易清洗；在畫板底板中設(shè)有加熱元件，其可以使畫板墊板處于合適的溫度，加快畫紙上墨汁的晾干速度。
【專利說明】—種具有自潔功能的國畫用畫架
[0001]
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0002]本發(fā)明涉及一種畫架，具體講是涉及一種具有自潔功能的國畫用畫架，其屬于繪畫工具【技術(shù)領(lǐng)域】。
【背景技術(shù)】
[0003]畫架是繪畫時用來放置畫板的架子，人們繪制寫生國畫時大多是在室外，直接面對對象進行描繪，所以畫板需要使用畫架固定，這樣可以專心繪畫。目前繪畫使用的畫架其功能單一，僅具有支撐的作用。在室外繪畫環(huán)境比較復(fù)雜，目前的畫架無法滿足室外繪畫的需求。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]鑒于現(xiàn)有技術(shù)存在的問題，本發(fā)明的目的是要提供一種結(jié)構(gòu)簡單、使用方便的具有自潔功能的國畫用畫架。
[0005]為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明所采用的技術(shù)方案為一種具有自潔功能的國畫用畫架，其包括:支撐架，固定于支撐架上部的畫板墊板、設(shè)置于畫板墊板外圍的邊框、設(shè)置于支撐架下部的放置架，設(shè)置于畫板墊板的上部和下部的畫夾；其特征在于:支撐架上部設(shè)有遮擋板，支撐架與遮擋板通過旋轉(zhuǎn)軸連接，遮擋板以旋轉(zhuǎn)軸為軸，做旋轉(zhuǎn)運動；所述畫板墊板與畫板接觸面設(shè)有吸水層和自潔層，自潔層與畫板墊板相接觸，吸水層位于自潔層表層，所述畫板底板采用具有中空腔結(jié)構(gòu)，中空腔內(nèi)設(shè)有加熱元件和活性炭塊，所述加熱元件與活性炭塊均勻分布。
[0006]所述自潔層由納米級二氧化鈦和納米級二氧化硅混合溶液噴涂而成。
[0007]本發(fā)明的優(yōu)點在于:它結(jié)構(gòu)簡單，其可以調(diào)節(jié)高度，同時在畫板底板上設(shè)有吸水層和自潔層，防止直接固定在畫板底板上作畫時，墨水浸潰畫板，污染畫板，并且設(shè)有自潔層，其具有很高的親水性，及時墨水浸潰畫板，容易清洗；在畫板底板中設(shè)有加熱元件，其可以使畫板墊板處于合適的溫度，加快畫紙上墨汁的晾干速度。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0008]圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖；
圖2為畫板墊板的剖視圖；
圖中:1、支撐架，2、畫板墊板，3、邊框，4、放置架，5、遮擋板，6、畫夾，7、旋轉(zhuǎn)軸，8、自潔層，9、吸水層，10、加熱元件，11、活性炭塊。
【具體實施方式】
[0009]一種具有自潔功能的國畫用畫架，其包括:支撐架，固定于支撐架上部的畫板墊板、設(shè)置于畫板墊板外圍的邊框、設(shè)置于支撐架下部的放置架，設(shè)置于畫板墊板的上部和下部的畫夾；其特征在于:支撐架上部設(shè)有遮擋板，支撐架與遮擋板通過旋轉(zhuǎn)軸連接，遮擋板以旋轉(zhuǎn)軸為軸，做旋轉(zhuǎn)運動；所述畫板墊板與畫板接觸面設(shè)有吸水層和自潔層，自潔層與畫板墊板相接觸，吸水層位于自潔層表層，所述畫板底板采用具有中空腔結(jié)構(gòu)，中空腔內(nèi)設(shè)有加熱元件和活性炭塊，所述加熱元件與活性炭塊均勻分布。
【權(quán)利要求】
1.一種具有自潔功能的國畫用畫架，其包括:支撐架，固定于支撐架上部的畫板墊板、設(shè)置于畫板墊板外圍的邊框、設(shè)置于支撐架下部的放置架，設(shè)置于畫板墊板的上部和下部的畫夾；其特征在于:支撐架上部設(shè)有遮擋板，支撐架與遮擋板通過旋轉(zhuǎn)軸連接，遮擋板以旋轉(zhuǎn)軸為軸，做旋轉(zhuǎn)運動；所述畫板墊板與畫板接觸面設(shè)有吸水層和自潔層，自潔層與畫板墊板相接觸，吸水層位于自潔層表層，所述畫板底板采用具有中空腔結(jié)構(gòu)，中空腔內(nèi)設(shè)有加熱元件和活性炭塊，所述加熱元件與活性炭塊均勻分布。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有自潔功能的國畫用畫架，其特征在于:所述自潔層由納米級二氧化鈦和納米級二氧化硅混合溶液噴涂而成。
【文檔編號】A47B97/04GK103637574SQ201310600386
【公開日】2014年3月19日 申請日期:2013年11月25日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月25日
【發(fā)明者】陳洋 申請人:大連創(chuàng)達技術(shù)交易市場有限公司