一種地磚的制作方法
【專利摘要】本實用新型提供了一種地磚，所述地磚包括多邊形的板狀本體和設置在地磚所述板狀本體的至少一個邊緣上的拼接定位單元，所述拼接定位單元具有與相鄰的地磚板狀本體的邊緣或者該邊緣上的拼接定位單元相互抵靠的部分。本實用新型提供的地磚具有高強度和耐酸堿性能，鋪裝后可以應用于食品飲料以及防酸堿的工廠，密布排列的地磚縫隙減少了環(huán)氧勾縫劑的使用，節(jié)約企業(yè)的資金投入。
【專利說明】
一種地磚
技術領域
[0001 ]本實用新型涉及建筑工程技術領域，特別涉及一種地磚。
【背景技術】
[0002]通常，地磚特別是耐酸工業(yè)地磚由于使用環(huán)境的條件比較惡劣，經(jīng)常會受到酸堿的浸泡和高溫環(huán)境的熱脹冷縮的影響。工業(yè)地磚為了保證一定的強度，往往地磚采用的是含水率低于0.1 %的玻化地磚，其厚度要超過10mm，而且需要在1500度以上的高溫下進行燒結。在地磚的燒結過程中，其厚度由于超過10mm，地磚的尺寸精度很難控制。圖1所示的為最簡單的200mm X 200mm X 12mm的地磚。在控制整個地磚邊長的誤差變化是非常困難的，地磚的本身誤差為+/— 2.5mm時，在地磚安裝時必須要保證地磚I與地磚2之間的寬度達到8mm的縫隙才能保證地磚能夠正常鋪裝。
[0003]地磚間寬的勾縫經(jīng)常會造成一系列的問題:由于地磚之間縫隙較寬，需要通過填充劑來進行填充縫隙，但是填充劑的材料本身與地磚的材料本質上有差別，極易使填充劑在使用過程中出現(xiàn)裂縫和脫落的現(xiàn)象。特別是在具有有機質的工廠里，有機質會在縫隙產(chǎn)生細菌，進一步損壞縫隙和污染周圍的環(huán)境。例如，圖2示出了常見的具有有機質的工廠里的一種地面結構，圖中，3為素混凝土墊層;4為鋼筋混凝土層;5為薄膜滑動層;6為水泥砂漿找坡層;7為工業(yè)地磚面層;8為地磚之間縫隙。為了解決寬勾縫的強度問題，就需要使用質量很好的勾縫劑，尤其是采用環(huán)氧勾縫劑來保證勾縫的強度。對8mm寬的縫隙進行填充，每平方米的地面將使用2.4kg的環(huán)氧樹脂材料，以每千克50元人民幣進行計算，則勾縫劑的成本為每平方米120元人民幣，大大增加了企業(yè)的固定資產(chǎn)投入的成本。
[0004]因此，需要一種能有效地解決地磚尺寸誤差造成的勾縫不均勻、勾縫材料浪費和安裝效率低的耐酸堿工業(yè)地磚。
【實用新型內容】
[0005]本實用新型提供了一種新型的地磚，所述地磚包括多邊形的板狀本體和設置在地磚所述板狀本體的至少一個邊緣上的拼接定位單元，所述拼接定位單元具有與相鄰的地磚板狀本體的邊緣或者該邊緣上的拼接定位單元相互抵靠的部分。
[0006]優(yōu)選地，所述拼接定位單元設置于所述地磚板狀本體的各個拐角處，并且與拐角的形狀一致。
[0007]優(yōu)選地，所述地磚的拼接定位單元設置于所述地磚板狀本體的至少兩個邊緣的中部，并且在排布時所述拼接定位單元與另一個地磚的拼接定位單元相互抵靠。
[0008]優(yōu)選地，所述的拼接定位單元設置于所述地磚多邊形板狀本體整個邊緣。
[0009]優(yōu)選地，所述拼接定位單元為上方小，下方大的楔形結構。
[0010]優(yōu)選地，所述拼接定位單元為上方小，下方大的楔形結構，所述楔形結構的長度為每個邊緣的長度的I /4至I /6。
[0011 ]優(yōu)選地，所述拼接定位單元為為自所述邊緣向外突出的板狀部，厚度小于所述地磚板狀本體的厚度，該板狀部的底部與所述地磚板狀本體的底部齊平。
[0012]優(yōu)選地，所述拼接定位單元的底邊與豎邊比是1:2或1:3。
[0013]優(yōu)選地，所述拼接定位單元具有與另一地磚的拼接定位單元相配合的凹凸結構。優(yōu)選地，所述地磚為四邊形或六邊形。
[0014]優(yōu)選地，所述多邊形邊長為120mm。
[0015]優(yōu)選地，所述的地磚通過密排方式鋪裝，鋪裝的地磚拼接定位單元底部邊緣縫隙為 2mm。
[0016]優(yōu)選地，所述的多邊形板狀本體還可以是四邊形、五邊形、六邊形、七邊形或八邊形。
[0017]優(yōu)選地，所述拼接定位單元還可以具有與另一地磚的拼接定位單元相配合的凹凸結構。
[0018]優(yōu)選地，所述地磚是耐酸堿工業(yè)地磚。
[0019]本實用新型的有益效果至少在于:本實用新型的地磚，特別是根據(jù)本實用新型所制造的低誤差耐酸堿工業(yè)地磚可以大量應用于食品飲料以及防酸堿的工廠，具有高強度和耐酸堿性能，密布排列的地磚縫隙減少了環(huán)氧勾縫劑的使用，節(jié)約企業(yè)的資金投入。
[0020]應當理解，前述大體的描述和后續(xù)詳盡的描述均為示例性說明和解釋，并不應當用作對本實用新型所要求保護內容的限制。
【附圖說明】
[0021]參考隨附的附圖，本實用新型更多的目的、功能和優(yōu)點將通過本實用新型實施方式的如下描述得以闡明，其中:
[0022]圖1示意性示出傳統(tǒng)工業(yè)地磚的結構；
[0023]圖2示出了鋪設工業(yè)地磚的地質結構；
[0024]圖3示意性示出了根據(jù)本實用新型的一個實施例的地磚結構；
[0025]圖4示出了根據(jù)本實用新型的一個實施例中地磚勾縫示意圖；
[0026]圖5示出了根據(jù)本實用新型的一個實施例的地磚立體結構；
[0027]圖6示意性示出了根據(jù)本實用新型的另一個實施例中的地磚結構；
[0028]圖7示出了另一實施例中地磚勾縫示意圖；
[0029]圖8示意性示出了又一個實施例中的地磚結構；
[0030]圖9示出了又一實施例中板狀拼接定位單元的拼接示意圖；
[0031]圖10示出了又一個實施例中地磚勾縫示意圖。
【具體實施方式】
[0032]通過參考示范性實施例，本實用新型的目的和功能以及用于實現(xiàn)這些目的和功能的方法將得以闡明。然而，本實用新型并不受限于以下所公開的示范性實施例;可以通過不同形式來對其加以實現(xiàn)。說明書的實質僅僅是幫助相關領域技術人員綜合理解本實用新型的具體細節(jié)。
[0033]在下文中，將參考附圖描述本實用新型的實施例。在附圖中，相同的附圖標記代表相同或類似的部件，或者相同或類似的步驟。
[0034]根據(jù)本實用新型的一種地磚，包括多邊形的板狀本體和設置在地磚所述板狀本體的至少一個邊緣上的拼接定位單元。拼接定位單元可以具有與相鄰的地磚板狀本體的邊緣或者該邊緣上的拼接定位單元相互抵靠的部分。
[0035]優(yōu)選地，拼接定位單元可以設置于地磚板狀本體的拐角處，并且與拐角的形狀一致。拼接定位單元可以設置在各個拐角處。
[0036]在另一個實施方式中，地磚的拼接定位單元可以設置于地磚板狀本體的至少兩個邊緣的中部，并且在排布地磚時拼接定位單元與另一個地磚的拼接定位單元相互抵靠。
[0037]可選地，拼接定位單元設置于地磚的多邊形板狀本體整個邊緣。
[0038]優(yōu)選地，拼接定位單元可以為上方小，下方大的楔形結構，如圖3至圖5所示。
[0039]例如，在根據(jù)本實用新型的一個實施方式中，拼接定位單元為上方小，下方大的楔形結構，該楔形結構的長度為每個邊緣的長度的1/4至1/6。優(yōu)選地，地磚為四邊形或六邊形地磚，也就是通常所說的四角形或者六角形地磚。
[0040]在根據(jù)本實用新型的另一個實施方式中，拼接定位單元為自所述邊緣向外突出的板狀部，厚度小于所述地磚板狀本體的厚度，該板狀部的底部與所述地磚板狀本體的底部齊平。
[0041]可選地，拼接定位單元還可以具有與另一地磚的拼接定位單元相配合的結構，例如可以設置凹凸結構。
[0042]優(yōu)選地，根據(jù)本實用新型的地磚是耐酸堿工業(yè)地磚。
[0043]拼接定位單元的底邊小于豎邊很重要，不但能夠起到防止地磚變形的作用，而且還節(jié)省勾縫劑，例如所述拼接定位單元的底邊與豎邊比是1:2或1: 3。
[0044]本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，為了起到最佳效果，四邊形、五邊形時，所述拼接定位單元的底邊與豎邊比是1: 3;六邊形、七邊形或八邊形時，所述拼接定位單元的底邊與豎邊比是1: 2。這樣的比例關系很好地與所述多邊形的形狀配合，便于所述工業(yè)地磚的鋪設。
[0045]對于本實用新型的一種地磚，所述的拼接定位單元設置在地磚多邊形板狀本體的整個邊緣。這樣的工藝簡單，能夠一定程度上實現(xiàn)本實用新型的效果。
[0046]優(yōu)選地，所述的拼接定位單元設置在地磚多邊形板狀本體角部邊緣。例如，拼接定位單元占每個邊的1/4至1/6。這樣的設計能夠更好地實現(xiàn)本實用新型的效果，但會稍微多地使用勾縫劑。
[0047]優(yōu)選地，所述的拼接定位單元還可以設置在地磚多邊形板狀本體的中部，并且在排布時與另一個地磚的拼接定位單元相互抵靠。
[0048]本實用新型的一種地磚，所述的拼接定位單元可以是上方小，下方大的楔形結構，也可以是板狀結構。拼接定位單元為板狀結構時的厚度小于多邊形板狀本體的厚度。
[0049]下面以六邊形，但不限于六邊形為例，對本實用新型【具體實施方式】進行描述。
[0050]實施例一:
[0051]如圖3所示，本實施例中一種低誤差耐酸堿工業(yè)地磚，包括地磚多邊形板狀本體101和拼接定位單元102。本實施例中，地磚多邊形板狀本體101采用六邊形結構，拼接定位單元102為帶有坡度的楔形結構。楔形凸塊102設置在每個地磚的角部，楔形凸塊102的底邊與豎邊比是1:2，每個楔形凸塊102占六邊形板狀本體101邊長的1/4。六邊形板狀本體101的邊長設置為10mm-150mm，優(yōu)選120mm，所述地磚采用六邊形結構可縮短地磚邊長，同時在地磚燒結時是需要控制楔形凸塊底邊的誤差，從而降低對單邊的誤差的控制。
[0052]如圖4所示，本實施例中地磚103鋪裝采用密排的方式布置，地磚在鋪裝時，不需要流出間隙，地磚楔形凸塊102下部邊緣直接對接鋪裝。密排布置的地磚下部邊緣縫隙105由8mm縮短為2mm，可以節(jié)約大量的環(huán)氧勾縫劑104。如圖5所示，六邊形地磚板狀本體101每個角部設置楔形凸塊102，在制作地磚時，對地磚只需要控制楔形凸塊底邊20_的直線誤差。
[0053]實施例二:
[0054]如圖6所示，本實施例中一種低誤差耐酸堿工業(yè)地磚，包括地磚多邊形板狀本體201和地磚拼接定位單元202，地磚多邊形板狀本體201為六邊形結構，地磚拼接定位單元202為帶有坡度的楔形結構。本實施例中，楔形凸塊設置在每個地磚的整體邊緣。六邊形地磚的邊長設置為120mm，所述地磚采用六邊形結構可縮短地磚邊長，在地磚燒結時降低單邊的誤差。
[0055]如圖7所示，本實施例中地磚203鋪裝采用密排的方式布置，地磚在鋪裝時，不需要流出間隙，地磚楔形凸塊202下部邊緣直接對接鋪裝。密排布置的地磚下部邊緣縫隙205由8mm縮短為2mm，可以節(jié)約大量的環(huán)氧勾縫劑204。
[0056]實施例三:
[0057]如圖8至圖10所示，本實施例中一種低誤差耐酸堿地磚，包括地磚多邊形板狀本體301和地磚拼接定位單元302，地磚多邊形板狀本體201為六邊形結構，地磚拼接定位單元302為板狀結構并在相互拼接的拼接定位單元上分別設有設凸臺306和凹槽307。拼裝定位單元302置于地磚多邊形板狀本體301邊緣的中部，其厚度小于地磚板狀本體的厚度，位于所述地磚多邊形板狀本體的底部。拼接定位單元與另一地磚的拼接定位單元通過凸臺306和凹槽307相互配合。本實施例中，拼接定位單元的底邊與豎邊比是1:2，拼接定位單元302占六邊形板狀本體301邊長的1/4。六邊形地磚的邊長設置為120mm，所述地磚采用六邊形結構可縮短地磚邊長，同時在地磚燒結時是需要控制拼接定位單元的誤差，從而降低對單邊的誤差的控制。
[0058]本實施例中地磚303鋪裝采用密排的方式布置，地磚在鋪裝時，不需要流出間隙，地磚拼接定位單元302邊緣直接對接鋪裝。密排布置的地磚下部邊緣縫隙305由8mm縮短為2mm，可以節(jié)約大量的環(huán)氧勾縫劑304。在實施例一、實施例二和實施例三中本實用新型所述的六邊形地磚在鋪裝完成后，其縫隙與地面通過的車輛行駛方向不構成垂直，減少了對地磚的沖擊，降低地磚的損壞，減少噪聲。
[0059]結合這里披露的本實用新型的說明和實踐，本實用新型的其他實施例對于本領域技術人員都是易于想到和理解的。說明和實施例僅被認為是示例性的，本實用新型的真正范圍和主旨均由權利要求所限定。
【主權項】
1.一種地磚，其特征在于，所述地磚包括多邊形的板狀本體和設置在地磚所述板狀本體的至少一個邊緣上的拼接定位單元，所述拼接定位單元具有與相鄰的地磚板狀本體的邊緣或者該邊緣上的拼接定位單元相互抵靠的部分。2.根據(jù)權利要求1所述的地磚，其特征在于，所述拼接定位單元設置于所述地磚板狀本體的各個拐角處，并且與拐角的形狀一致。3.根據(jù)權利要求1所述的地磚，其特征在于，所述地磚的拼接定位單元設置于所述地磚板狀本體的至少兩個邊緣的中部，并且在排布時所述拼接定位單元與另一個地磚的拼接定位單元相互抵靠。4.根據(jù)權利要求1所述的地磚，其特征在于，所述的拼接定位單元設置于所述地磚多邊形板狀本體整個邊緣。5.根據(jù)權利要求1至4之一所述的地磚，其特征在于，所述拼接定位單元為上方小，下方大的楔形結構。6.根據(jù)權利要求1至3之一所述的地磚，其特征在于，所述拼接定位單元為上方小，下方大的楔形結構，所述楔形結構的長度為每個邊緣的長度的I /4至I/6。7.根據(jù)權利要求1至4之一所述的地磚，其特征在于，所述拼接定位單元為自所述邊緣向外突出的板狀部，厚度小于所述地磚板狀本體的厚度，該板狀部的底部與所述地磚板狀本體的底部齊平。8.根據(jù)權利要求5所述的地磚，其特征在于，所述地磚為四邊形或六邊形。9.根據(jù)權利要求5所述的地磚，其特征在于，所述拼接定位單元還具有與另一地磚的拼接定位單元相配合的凹凸結構。10.根據(jù)權利要求8所述的地磚，其特征在于，所述地磚是耐酸堿工業(yè)地磚。
【文檔編號】E04F15/02GK205421828SQ201620202492
【公開日】2016年8月3日
【申請日】2016年3月16日
【發(fā)明人】劉林沂
【申請人】劉林沂