專利名稱：具有透明質(zhì)感及抗污染能力的拋光瓷釉磚的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及陶瓷墻地磚制造技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及具有拋光瓷釉層、坯釉中間層及坯體層三層結(jié)構(gòu)，且坯體層上表面周邊具有卷沿構(gòu)造的拋光瓷釉磚。
目前市場上流行的瓷質(zhì)拋光磚，一般僅具有坯料層，而沒有釉料層，其明顯不足之處是由于沒有適當(dāng)厚度熔融?；挠粤蠈樱谕庥^上都沒有天然石材那種透明或半透明的質(zhì)感。另外由其燒結(jié)程度較低所決定，磚體中存在著大量微細孔會吸附污物而難以清洗，這是目前眾多廠家不能克服的難題。
申請?zhí)枮?4113924的專利文獻敘述了在模具內(nèi)布施釉料和坯料，而后對其同時加壓形成磚坯，經(jīng)干燥及燒制成墻地磚制品。該專利不足之處是由于坯釉料同在一個模具內(nèi)布施并壓制成磚坯，生產(chǎn)過程極易產(chǎn)生坯釉料不同程度的相互摻雜，從而對產(chǎn)品外觀質(zhì)量及產(chǎn)品性能造成不利影響。另外由于坯釉料都必須是具有可塑性，以便壓制成型，因而都應(yīng)含有一定量揮發(fā)性組份的原料，再加上沒有坯釉中間層，坯釉料層中的揮發(fā)性組份很容易滯留在釉料層中形成大量氣泡或氣孔，這樣釉料層被拋光時，就會在產(chǎn)品表面呈現(xiàn)大量凹坑或棕孔，從而降低產(chǎn)品的外觀質(zhì)量，并容易受污染，若不進行拋光處理，則制品的釉面光澤及平整度很難與拋光瓷磚相媲美。另外該專利實施二次布料壓磚工藝，必然降低壓機的生產(chǎn)能力，從而影響全生產(chǎn)線的產(chǎn)量。
本實用新型的目的就是要有效地解決拋光瓷釉層中的氣泡，坯釉料相互摻雜及壓機二次布料壓制磚坯效率降低的難題，從而生產(chǎn)出一種具有透明質(zhì)感及抗污染能力的拋光瓷釉磚。這種拋光瓷釉磚不僅具有晶體或玉石般的透明質(zhì)感，而且還具有可靠的抗污染能力及更加豐富多彩的花色品種。
本實用新型與市場上所售拋光瓷磚、天然石材及微晶玻璃板相比，具有如下特點與目前市場上所售瓷質(zhì)拋光磚相比，這種磚除具有同樣或更多的色彩圖案外，還具有透明或半透明，如晶似玉的質(zhì)感及完全可靠的抗污染能力；與天然石材相比，這種磚沒有天然石材產(chǎn)品的微裂縫及礦物晶體解理縫，因而強度高且抗污染；與微晶玻璃板相比，這種磚節(jié)省原材料，成本低且安裝使用方便；與申請?zhí)枮?4113924專利所述產(chǎn)品相比，這種磚有效地解決了釉層中的氣泡難題，使其經(jīng)拋光處理后產(chǎn)品外觀質(zhì)量更完善，同時也避免了磚坯壓制過程坯釉原料相互混雜的問題及二次布料壓制磚坯所造成的壓機工作效率降低問題。
以下將結(jié)合附圖及實施例對本實用新型作進一步的說明


圖1及圖2是壓磚機壓制出的上表面周邊具卷沿構(gòu)造的磚坯剖面圖及俯視圖。
圖3是本實用新型拋光瓷釉磚的剖面結(jié)構(gòu)圖，其中(1)為拋光瓷釉層；(2)為坯釉中間層；(3)為坯體層。
圖4是本實用新型拋光瓷釉磚的生產(chǎn)工藝流程圖。
實施例中所述上表面周邊具有卷沿的坯體，其卷沿高1.5毫米以上，沿寬1毫米以上。這種坯體構(gòu)造既有利于釉料粒子布料并控制其布料量，又可使燒成制品的磨邊工作量大幅度減少。
實施例中所述坯體層上表面卷沿內(nèi)的坯釉中間層厚度在0.3毫米以上，其性能介于坯與釉之間，由普通坯釉原料配制而成。
實施例中所述在坯釉中間層之上形成拋光瓷釉層的釉料粒子厚度應(yīng)大于1毫米，這些釉料粒子是指已加工成0.1-5毫米的熔塊顆粒，它可以是透明、乳濁或微晶玻璃質(zhì)的單色或多色顆粒按比例混合而成。
實施例中所述粘結(jié)劑可以是具有粘結(jié)作用的有機溶液，如由聚乙烯醇、陶瓷坯體增強劑、羧甲基纖維素等配制的溶液。為了制出更加豐富多彩的產(chǎn)品可在粘結(jié)劑溶液中加入適量單色或多色熔塊釉粉。
實施例參照圖4，將由壓磚機(1)壓出上表面周邊具卷沿構(gòu)造的磚坯送入立式干燥器(2)中烘干至水份小于1％，在磚坯上表面卷沿內(nèi)由淋釉器(3)淋施0.3毫米以上的坯釉中間層，理進入立干器(4)烘干至水份小于1％，由釉料布料器(5)在坯釉中間層上攤鋪大于1毫米厚的釉料粒子，由淋釉器(6)再噴淋適量粘結(jié)劑以固定表面釉料粒子，送入窯爐(7)中經(jīng)1200℃左右燒成，出窯后送入磨邊機(8)磨邊，經(jīng)拋光機(9)拋光后，即成為具透明質(zhì)感及抗污染能力的拋光瓷釉磚。
權(quán)利要求1.一種拋光瓷釉磚，其特征是具有拋光瓷釉層、坯釉中間層及坯體層三層結(jié)構(gòu)，且坯體層上表面周邊具有卷沿構(gòu)造。
2.如權(quán)利要求1所述的拋光瓷釉磚，其特征在于上表面周邊具有卷沿的坯體，其卷沿高1.5毫米以上，沿寬1毫米以上。
3.如權(quán)利要求1所述的拋光瓷釉磚，其特征在于坯體層上表面卷沿內(nèi)的坯釉中間層厚度在0.3毫米以上。
4.如權(quán)利要求1所述的拋光瓷釉磚，其特征在于在坯釉中間層之上形成拋光瓷釉層的釉料粒子厚度應(yīng)大于1毫米。
專利摘要本實用新型屬于陶瓷墻地磚制造技術(shù)領(lǐng)域,它要解決的技術(shù)問題是如何制造具有天然石材或微晶玻璃那種透明質(zhì)感,并具有抗污染能力的拋光瓷釉磚。其主要技術(shù)特征是:通過壓制上表面具卷沿構(gòu)造的磚坯,在上表面卷沿內(nèi)淋施0.3毫米以上的坯釉中間層后再攤鋪1毫米厚以上的顆粒狀釉料粒子,噴淋適量粘結(jié)劑,烘干至水分小于1%,送入窯爐燒制,然后進行磨邊拋光,即成為具有透明質(zhì)感及抗污染能力的拋光瓷釉磚。
文檔編號E04F13/14GK2397198SQ99202778
公開日2000年9月20日 申請日期1999年2月13日 優(yōu)先權(quán)日1999年2月13日
發(fā)明者張勤善 申請人:焦作大學(xué)