專利名稱:波紋瓦的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種波紋瓦。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的波紋瓦，由于兩邊的波谷處沒設(shè)較深的排水凹槽，遇到下大雨，常因排水不暢而漏雨。

實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的，是要提供一種在兩邊的波谷處設(shè)有較深的排水凹槽的波紋瓦，達(dá)到較好的排水效果。
本實(shí)用新型所述的波紋瓦，其特征是波紋瓦的兩邊的波谷處，各有一排水凹槽。
本實(shí)用新型的有益效果是，在波紋瓦的兩邊的波谷處，設(shè)較深的排水凹槽，不但排水較順暢，而且兩瓦片相互壓合，也較牢固和穩(wěn)當(dāng)。



圖1為本實(shí)用新型的示意圖。
其中1.波紋瓦，2.兩邊波谷處的排水凹槽。
具體實(shí)施方式
本實(shí)用新型所述的波紋瓦，如圖1所示，將瓦泥壓制成兩邊波谷處各有一排水凹槽2的波紋瓦1，然后入窯燒制即成。
權(quán)利要求
1.一種波紋瓦，其特征是波紋瓦兩邊的波谷處，各有一排水凹槽。
專利摘要
本實(shí)用新型所述的波紋瓦，其兩邊的波谷處各有一排水凹槽。它不但有較好的排水效果，而且兩瓦壓合時(shí)，較牢固和穩(wěn)當(dāng)。
文檔編號(hào)E04D1/02GKCN2685430SQ200420038656
公開日2005年3月16日 申請(qǐng)日期2004年2月24日
發(fā)明者吳聲團(tuán) 申請(qǐng)人:吳聲團(tuán)導(dǎo)出引文BiBTeX, EndNote, RefMan